JPS6097385A - 液晶表示用薄膜トランジスタ基板 - Google Patents
液晶表示用薄膜トランジスタ基板Info
- Publication number
- JPS6097385A JPS6097385A JP58205287A JP20528783A JPS6097385A JP S6097385 A JPS6097385 A JP S6097385A JP 58205287 A JP58205287 A JP 58205287A JP 20528783 A JP20528783 A JP 20528783A JP S6097385 A JPS6097385 A JP S6097385A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- thin film
- crystal display
- electrode
- film transistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶を挾持した画像表示装置の一方の基板と
しての薄膜トランジスタ基板に関するものである。
しての薄膜トランジスタ基板に関するものである。
非晶質シリコン(Fl−81)等を用いた薄膜トランジ
スタ(TPT)は大面積でしかも低温で製造できるため
、ガラス基板を用いた安価な液晶表示装置に最適である
。TPTをマトリックス状に配した表示装置は、1例と
して第1図(b)にその単位画素部を示す。第1図(a
)には、その等価回路が示さ 、れる。単位画素は、T
PT5、液晶3、対向電極4よシ成シ、電荷保持用容量
6がTPTのドレイン62と共通電極61との間に組み
こまれている。
スタ(TPT)は大面積でしかも低温で製造できるため
、ガラス基板を用いた安価な液晶表示装置に最適である
。TPTをマトリックス状に配した表示装置は、1例と
して第1図(b)にその単位画素部を示す。第1図(a
)には、その等価回路が示さ 、れる。単位画素は、T
PT5、液晶3、対向電極4よシ成シ、電荷保持用容量
6がTPTのドレイン62と共通電極61との間に組み
こまれている。
この容量6はTPTのリーク電流や、ゲート・ドレイン
容量の存在による電圧のレベルシフ)K対する信号電圧
の保持のため大切で、通常数prO値金有す。対向電極
4は酸化インジウム・スズ(ITO)等の明導電膜から
成りガラス板2−ヒに形成され、TPT5及び容量6は
他方のガラス基板1上に形成されている。後者を薄膜ト
ランジスタ基板(TPT基板)と呼ぶことにする。この
TPT基板は第1図(b)の様に、ガラス基板1.−ヒ
に構成されるTFT5と容量6よ構成υ、Tll’T6
はゲート電極52(Xライン)、ソース電極51(Xラ
イン)、8−81膜53、ドレイン電極54、ゲート絶
縁膜55からg#)、容量6は共通゛電極61、絶縁膜
63、表示電極62から成っている。
容量の存在による電圧のレベルシフ)K対する信号電圧
の保持のため大切で、通常数prO値金有す。対向電極
4は酸化インジウム・スズ(ITO)等の明導電膜から
成りガラス板2−ヒに形成され、TPT5及び容量6は
他方のガラス基板1上に形成されている。後者を薄膜ト
ランジスタ基板(TPT基板)と呼ぶことにする。この
TPT基板は第1図(b)の様に、ガラス基板1.−ヒ
に構成されるTFT5と容量6よ構成υ、Tll’T6
はゲート電極52(Xライン)、ソース電極51(Xラ
イン)、8−81膜53、ドレイン電極54、ゲート絶
縁膜55からg#)、容量6は共通゛電極61、絶縁膜
63、表示電極62から成っている。
表示電極62は透過型液晶表示の場合、ITO等の透明
導電膜が用いられ、ドレイン電極54が結線されている
。透過型液晶表示のときには、共通電極61も透明導電
膜が用いられる。反射型の場合には、両電極共に透明で
ある必要はない。通常ゲート絶縁膜55、絶縁膜63に
はプラズマ0VD等による5102膜が用いられている
。しかしながら、基板1として安価なソーダガラス等ア
ルカリ金属を含むガラスを用いると、製造工程中にアル
カリ金属が810?膜中やa−81膜中に入ったりして
TPTの特性に影響を及はし、初期特性と共に信頼性に
問題を生じている。
導電膜が用いられ、ドレイン電極54が結線されている
。透過型液晶表示のときには、共通電極61も透明導電
膜が用いられる。反射型の場合には、両電極共に透明で
ある必要はない。通常ゲート絶縁膜55、絶縁膜63に
はプラズマ0VD等による5102膜が用いられている
。しかしながら、基板1として安価なソーダガラス等ア
ルカリ金属を含むガラスを用いると、製造工程中にアル
カリ金属が810?膜中やa−81膜中に入ったりして
TPTの特性に影響を及はし、初期特性と共に信頼性に
問題を生じている。
本発明は親王の問題点を解決するためになされたもので
、ガラス基板からのアルカリ金属の拡散を阻止するシリ
コン窒化膜を利用する。本発明では特に、この7リコン
窒化膜を画素内の容量形成に用い、特別な工程増加を必
要としない利点をも有する。
、ガラス基板からのアルカリ金属の拡散を阻止するシリ
コン窒化膜を利用する。本発明では特に、この7リコン
窒化膜を画素内の容量形成に用い、特別な工程増加を必
要としない利点をも有する。
以下に図面を用いて本発明を詳述する。第2図は本発明
の1笑施例に基いた単位画素の断面図を示す。アルカリ
金属を含むガラス基板1上には、共通電極61が直接形
成され、これらの表面を窒化膜56が被っている。表示
電極62は窒化膜56゜ゲート絶縁膜55を介して共通
電極62上に配され、容量6全形成している。TFT5
は窒化膜62上にゲート電極52、ゲート絶縁膜55、
a−81膜55、ソース電極51、ドレイ/電極54に
よって形成される。この構造によれば、TFT5は基板
1と窒化膜56によって分離されているので、基板1の
含有物の影響を受けにくい。この窒化膜56の厚みは、
容量6の値によってきめられるが、典型的にはcL1〜
05μmであり、P +! V Dや光OVDによって
堆積される。
の1笑施例に基いた単位画素の断面図を示す。アルカリ
金属を含むガラス基板1上には、共通電極61が直接形
成され、これらの表面を窒化膜56が被っている。表示
電極62は窒化膜56゜ゲート絶縁膜55を介して共通
電極62上に配され、容量6全形成している。TFT5
は窒化膜62上にゲート電極52、ゲート絶縁膜55、
a−81膜55、ソース電極51、ドレイ/電極54に
よって形成される。この構造によれば、TFT5は基板
1と窒化膜56によって分離されているので、基板1の
含有物の影響を受けにくい。この窒化膜56の厚みは、
容量6の値によってきめられるが、典型的にはcL1〜
05μmであり、P +! V Dや光OVDによって
堆積される。
第5図は、本発明の他の実施例による単位画素の断面図
である。この例では、ガラス基板1をコートする窒化膜
56はTFT5のゲート絶縁膜の一部として働くと共に
、容量6のための絶縁膜としても役割を果たしている。
である。この例では、ガラス基板1をコートする窒化膜
56はTFT5のゲート絶縁膜の一部として働くと共に
、容量6のための絶縁膜としても役割を果たしている。
基板1上に直接形成されたゲート電極52、共通電極6
1はたとえアルカリ金属に汚染されても問題なく、窒化
膜56上の酸化膜55やa−Bi膜53はその影響が少
ない。
1はたとえアルカリ金属に汚染されても問題なく、窒化
膜56上の酸化膜55やa−Bi膜53はその影響が少
ない。
以上、a−8iTFTを例に説明してきたが、他の構造
材料のTPTにおいても、p−8iTFT。
材料のTPTにおいても、p−8iTFT。
ビームアニール等で結晶化した半導体薄膜を用いたTP
Tについても本発明は適用される。共通・電極61及び
表示電極62に透明導電膜(例えば工TOやs n O
t )を用いれば、透過型液晶表示装置として、両電極
の少なくとも一方を金属等で不透明にすれば反射型とし
て本基板は用いることができる。
Tについても本発明は適用される。共通・電極61及び
表示電極62に透明導電膜(例えば工TOやs n O
t )を用いれば、透過型液晶表示装置として、両電極
の少なくとも一方を金属等で不透明にすれば反射型とし
て本基板は用いることができる。
第1図(a)及び第1図(b)は従来の液晶表示装置用
TPTマトリックスアレイの単位画素の等価回路図と断
面構造例を示す図であυ、第2図及び第5図はそれぞれ
本発明による単位画素の断面構造例を示すしjである。 1・・・基板、2・・・対向基板、3・・・液晶、4・
・・対向電極、5・・・TFT、6・・・容量、61・
・・共通電極、62・・・表示電極、56川窒化膜、5
5・・・ゲート絶縁膜。 以上 出願人 セイコー市子工業株式会社 代理人 弁理士 最 上 荀 第1図co) 第1図(I)) 〜、2 5 b 第2図 6を 第3図
TPTマトリックスアレイの単位画素の等価回路図と断
面構造例を示す図であυ、第2図及び第5図はそれぞれ
本発明による単位画素の断面構造例を示すしjである。 1・・・基板、2・・・対向基板、3・・・液晶、4・
・・対向電極、5・・・TFT、6・・・容量、61・
・・共通電極、62・・・表示電極、56川窒化膜、5
5・・・ゲート絶縁膜。 以上 出願人 セイコー市子工業株式会社 代理人 弁理士 最 上 荀 第1図co) 第1図(I)) 〜、2 5 b 第2図 6を 第3図
Claims (1)
- (1)薄膜トランジスタと該トランジスタのドレインに
接続された表示電極と、該表示電極と容量を形成する共
通電極とから成る画素をマトリックス状に配した液晶表
示用薄膜トランジスタ基板において、前記共通電極はア
ルカリ金属を含むガラス基板上に直接形成され、前記共
通電極上には少なく共シリコン窒化膜を一部に含む絶縁
膜が設けられ、該絶縁膜上に前記表示電極と少なくとも
前記トランジスタの半導体薄膜領域が形成されている仁
とを特徴とする液晶表示用薄膜トランジスタ基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58205287A JPS6097385A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 液晶表示用薄膜トランジスタ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58205287A JPS6097385A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 液晶表示用薄膜トランジスタ基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6097385A true JPS6097385A (ja) | 1985-05-31 |
Family
ID=16504473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58205287A Pending JPS6097385A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 液晶表示用薄膜トランジスタ基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6097385A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61184517A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-18 | Sharp Corp | 薄膜素子 |
JPH0210333A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Sharp Corp | アクティブ型液晶表示素子 |
JPH0339935A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-20 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JPH04265945A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-22 | Sharp Corp | アクティブマトリクス基板 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5638095A (en) * | 1979-09-06 | 1981-04-13 | Canon Kk | Display cell |
JPS58164268A (ja) * | 1982-03-25 | 1983-09-29 | Seiko Epson Corp | 薄膜シリコントランジスタ |
-
1983
- 1983-11-01 JP JP58205287A patent/JPS6097385A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5638095A (en) * | 1979-09-06 | 1981-04-13 | Canon Kk | Display cell |
JPS58164268A (ja) * | 1982-03-25 | 1983-09-29 | Seiko Epson Corp | 薄膜シリコントランジスタ |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61184517A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-18 | Sharp Corp | 薄膜素子 |
JPH0580651B2 (ja) * | 1985-02-12 | 1993-11-09 | Sharp Kk | |
JPH0210333A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Sharp Corp | アクティブ型液晶表示素子 |
JPH0339935A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-20 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
JPH04265945A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-22 | Sharp Corp | アクティブマトリクス基板 |
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