JPS60158421A - マトリクス液晶表示装置 - Google Patents
マトリクス液晶表示装置Info
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- JPS60158421A JPS60158421A JP1405684A JP1405684A JPS60158421A JP S60158421 A JPS60158421 A JP S60158421A JP 1405684 A JP1405684 A JP 1405684A JP 1405684 A JP1405684 A JP 1405684A JP S60158421 A JPS60158421 A JP S60158421A
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- Japan
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- display device
- crystal display
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- matrix liquid
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液晶と薄膜トランジスタを組み合わせたことに
より構成されるマトリクス液晶表示装置に関するもので
あシ、透明導電、膜を薄膜トランジスタを設けた基板の
裏面に設けることにより、外来ノイズを遮断し、安定な
動作を図ることを目的とする。
より構成されるマトリクス液晶表示装置に関するもので
あシ、透明導電、膜を薄膜トランジスタを設けた基板の
裏面に設けることにより、外来ノイズを遮断し、安定な
動作を図ることを目的とする。
液晶と薄膜トランジスタを組み合わせて構成さnる液晶
表示装置の等何回路の1例を第1図で示す。単位画素は
、絶縁ゲート型電界効果トランジスタである薄膜トラン
ジスタ1、蓄積用コンデンサ2と液晶セル3からなる。
表示装置の等何回路の1例を第1図で示す。単位画素は
、絶縁ゲート型電界効果トランジスタである薄膜トラン
ジスタ1、蓄積用コンデンサ2と液晶セル3からなる。
画像表示装置としての動作原理は以下のとうりである。
例えば、xj端子にゲート信号が印加さtて横方向群の
薄膜トランジスタがONとなると映像信号はYi端子か
らトランジスタ1を通ってコンデンサ2を充電する。ゲ
ート信号が消滅してトランジスタ1がOFFしてもコン
デンサ2に貯えられた電荷が液晶セル3に電圧を印加し
続けるので、液晶セル3を通過する光は映像信号によっ
て変調を受け続けるこができる。第1図に示したように
多数の単位画素をマトリクヌ状に配列し、縦方向CXj
eXj+100.)にゲート信号を走査することにより
テレビ画像の表示も可能で、横方向に一斉にトランジス
タ群をONさして映像信号群をコンデンサ群に書き込ま
せ、縦方向に線順次走査しORTと同等のテレビ画像が
得られる。第2図は、薄膜トランジスタを用いた従来の
マトリクヌ液晶表示装置の単位画素の断面を示す回であ
る。ガラス基板4の上には、ゲート電極5、ゲート絶縁
層6、半導体層7、ソース8、ドレイン9、ソース電極
10、ドレイン電極11、層間絶縁膜12、遮光膜13
からなる薄膜トランジスタと、透明導電層からなる液晶
駆動電極14が形成されている。ガラス基板4と対向す
るガラス基板15の上には、透明導電層からなる、液晶
駆動用共通電極16が形成さしておシ、ガラス基板4と
15の間には液晶層17が挾持されている。
薄膜トランジスタがONとなると映像信号はYi端子か
らトランジスタ1を通ってコンデンサ2を充電する。ゲ
ート信号が消滅してトランジスタ1がOFFしてもコン
デンサ2に貯えられた電荷が液晶セル3に電圧を印加し
続けるので、液晶セル3を通過する光は映像信号によっ
て変調を受け続けるこができる。第1図に示したように
多数の単位画素をマトリクヌ状に配列し、縦方向CXj
eXj+100.)にゲート信号を走査することにより
テレビ画像の表示も可能で、横方向に一斉にトランジス
タ群をONさして映像信号群をコンデンサ群に書き込ま
せ、縦方向に線順次走査しORTと同等のテレビ画像が
得られる。第2図は、薄膜トランジスタを用いた従来の
マトリクヌ液晶表示装置の単位画素の断面を示す回であ
る。ガラス基板4の上には、ゲート電極5、ゲート絶縁
層6、半導体層7、ソース8、ドレイン9、ソース電極
10、ドレイン電極11、層間絶縁膜12、遮光膜13
からなる薄膜トランジスタと、透明導電層からなる液晶
駆動電極14が形成されている。ガラス基板4と対向す
るガラス基板15の上には、透明導電層からなる、液晶
駆動用共通電極16が形成さしておシ、ガラス基板4と
15の間には液晶層17が挾持されている。
液晶M17に、電極14と16の間で電圧を刃口えるこ
とによシ、表示が可能となる。ここでは、ガラス基板4
,15を挾む偏光板は図から省いてちるが、液晶層17
がTNiJか、ゲストホスト型かなどによって適当に選
ぶことかで蕪る。ゲート電極5としては、アルミニウム
、クロム等の金属が、ゲート絶縁層6としてFOVD法
などで形成さnる酸化シリコン、チツ化シリコンなどが
、半導体層7としてはPOVD法などで形成さnる非晶
質シリコンが、ソース8、ドレイン9としてはPOVD
法で形成されるドープさnたアモルファヌシリコンが、
ソース電極10、ドレイン電極11としてはアルミニウ
ムが、層間絶縁膜12としてはPOVD法などで形成さ
nた酸化シリコン、チツ化シリコンなどが、トランジス
タの光リーク電流を防ぐ、遮光膜13はクロムなどで形
成さnる。透明導電層14 、16は工TO(インヂウ
ム、ヌズの酸化物)などで形成さnる。以上各5〜16
の各層の厚さは、典型的には0.05μ惜〜1μ常程度
である。液晶層17は5μ憤〜15μ常の厚さが普通用
いらnる。単位画素の平面同法としては、50μ常〜1
000μ偽程度のタテ、ヨコ寸法が用いらn1典盤的な
値は〜200μ悟である。第2図の従来の画素では、第
1図の等価回路でのキャパシタンス2は、液晶駆動電極
14と16の間に形成されていて〜0.1pFである。
とによシ、表示が可能となる。ここでは、ガラス基板4
,15を挾む偏光板は図から省いてちるが、液晶層17
がTNiJか、ゲストホスト型かなどによって適当に選
ぶことかで蕪る。ゲート電極5としては、アルミニウム
、クロム等の金属が、ゲート絶縁層6としてFOVD法
などで形成さnる酸化シリコン、チツ化シリコンなどが
、半導体層7としてはPOVD法などで形成さnる非晶
質シリコンが、ソース8、ドレイン9としてはPOVD
法で形成されるドープさnたアモルファヌシリコンが、
ソース電極10、ドレイン電極11としてはアルミニウ
ムが、層間絶縁膜12としてはPOVD法などで形成さ
nた酸化シリコン、チツ化シリコンなどが、トランジス
タの光リーク電流を防ぐ、遮光膜13はクロムなどで形
成さnる。透明導電層14 、16は工TO(インヂウ
ム、ヌズの酸化物)などで形成さnる。以上各5〜16
の各層の厚さは、典型的には0.05μ惜〜1μ常程度
である。液晶層17は5μ憤〜15μ常の厚さが普通用
いらnる。単位画素の平面同法としては、50μ常〜1
000μ偽程度のタテ、ヨコ寸法が用いらn1典盤的な
値は〜200μ悟である。第2図の従来の画素では、第
1図の等価回路でのキャパシタンス2は、液晶駆動電極
14と16の間に形成されていて〜0.1pFである。
第2図の従来の画素の動作は、ゲート電極5に電圧が腑
見られると、絶縁層6と半導体層7の界面にチャ/ふル
が形成されて、ソース電極10から映像信号をドレイン
電極11を界して、液晶駆動電極14に書き込むことが
できる。
見られると、絶縁層6と半導体層7の界面にチャ/ふル
が形成されて、ソース電極10から映像信号をドレイン
電極11を界して、液晶駆動電極14に書き込むことが
できる。
以上に説明した、従来の薄膜トランジスタを用いたマト
リクヌ液晶表示パネルは以下の欠点を有する。即ち (1)ガラス基板4の裏面は、絶縁物でおるので外来の
電気的雑音の影響を受け易い。特に各画素のキャパシタ
ンスは〜0 、 i pIPなので、ガラス基板■の裏
面の静電気、電圧などで、電極14の電位が変動し、画
像の濃淡も変調を受ける。特に照明用光源が基板4の近
くにあるとき、その電源の影響を受け易い。
リクヌ液晶表示パネルは以下の欠点を有する。即ち (1)ガラス基板4の裏面は、絶縁物でおるので外来の
電気的雑音の影響を受け易い。特に各画素のキャパシタ
ンスは〜0 、 i pIPなので、ガラス基板■の裏
面の静電気、電圧などで、電極14の電位が変動し、画
像の濃淡も変調を受ける。特に照明用光源が基板4の近
くにあるとき、その電源の影響を受け易い。
(2) ガラス基板4の上に薄膜トランジスタを形成す
る工程中、全体が絶縁物であると、静電気を帯び易く、
チリ、ホコリ等が基板表面に集t!l。
る工程中、全体が絶縁物であると、静電気を帯び易く、
チリ、ホコリ等が基板表面に集t!l。
欠陥の原因になる。
(3)同じく、ガラス基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程中では、ガラス基板4の裏面は、何回にも及び
フッ酸等の薬品による腐食を受ける。
する工程中では、ガラス基板4の裏面は、何回にも及び
フッ酸等の薬品による腐食を受ける。
この為、ガラス基板4の裏面には、微細な凹凸が生じ、
表示装置として用いるには見苦しいものとなる。
表示装置として用いるには見苦しいものとなる。
本発明は、上記のような従来の欠点を除去するためにな
さnたものでちゃ、欠陥が無く、安定に動作する。薄膜
トランジスタを用いたマトリクヌ液晶表示装置を提供す
ることを目的としたものである。以下具体的実施例をも
とに説明する。
さnたものでちゃ、欠陥が無く、安定に動作する。薄膜
トランジスタを用いたマトリクヌ液晶表示装置を提供す
ることを目的としたものである。以下具体的実施例をも
とに説明する。
第3図は、本発明の一実施例を示す図であり、第2図と
同様、薄膜トランジスタを用いたマトリクヌ液晶表示装
置の単位画一、の断面を示す図である。透明導電層32
がガラス基板18の裏面に設けらしている以外は落2図
と同様の構成である。即ち、第3図の画素も、ガラス基
板18、ゲート電極19、ゲート絶級層頷、半導体層2
1、ソース22、ドレイン31ソース電極冴、ドレイン
電極25、層間絶縁膜あ、遮光H27、液晶、駆動電極
列、30、ガラス基板四、液晶層31からなっている。
同様、薄膜トランジスタを用いたマトリクヌ液晶表示装
置の単位画一、の断面を示す図である。透明導電層32
がガラス基板18の裏面に設けらしている以外は落2図
と同様の構成である。即ち、第3図の画素も、ガラス基
板18、ゲート電極19、ゲート絶級層頷、半導体層2
1、ソース22、ドレイン31ソース電極冴、ドレイン
電極25、層間絶縁膜あ、遮光H27、液晶、駆動電極
列、30、ガラス基板四、液晶層31からなっている。
本発明による透明導電層32に酸化スズ(B%O°2)
を用い、薄膜トランジスタを形成するブロセヌの前に、
ガラス基板18の裏面に設けておくことによフ、プロセ
ス中に静電気が基板上に発生することを防ぐことができ
る。更に、s%o、はフッ酸等に対する耐食性は充分に
あるのでブロセヌ中での腐食に耐えることができ、ガラ
ス基板18の裏面に凹凸ができることはない。更に、第
3図のごとく完成した装置においても裏面に導電H!X
32がおることにより外来の電気的雑音、静電気を防ぐ
ことができる。
を用い、薄膜トランジスタを形成するブロセヌの前に、
ガラス基板18の裏面に設けておくことによフ、プロセ
ス中に静電気が基板上に発生することを防ぐことができ
る。更に、s%o、はフッ酸等に対する耐食性は充分に
あるのでブロセヌ中での腐食に耐えることができ、ガラ
ス基板18の裏面に凹凸ができることはない。更に、第
3図のごとく完成した装置においても裏面に導電H!X
32がおることにより外来の電気的雑音、静電気を防ぐ
ことができる。
以上に記した本発明の、透明導電膜を基板裏面に設けた
マトリクス液晶表示装置は 1、外来雑音、静電気にの影響を受けない2、ゴミ、ホ
コリ等の付着せず、欠陥が無い3、腐食による、裏面の
凹凸が無い などの特徴を有している。
マトリクス液晶表示装置は 1、外来雑音、静電気にの影響を受けない2、ゴミ、ホ
コリ等の付着せず、欠陥が無い3、腐食による、裏面の
凹凸が無い などの特徴を有している。
第1図は、薄膜トランジスタを用いたマトリクス液晶表
示装置の等価回路図。第2図は従来の薄膜トランジスタ
を用いたマトリクス液晶表示装置の単位画素の断面図、
第3図は本発明の薄膜トランジスタを用いたマトリクス
液晶表示装置の単位画素の断面図である。 1、、薄膜トランジスタ、2゜。キヤパシタンス、3゜
、液晶セル、46.ガラス基板、5.。 ゲート電極、60.ゲート絶縁層、71.半導体層、8
0.ソース、9.、ドレイン、100.ソース′llE
極、11.、ドレイン電極、12.、絶縁層、130.
遮光層、14.。透明導電層、15. 、 、ガラス基
板、160.透明導電層、170.液晶層、180.ガ
ラス基板、19 、 、ゲート電極、旬、。ゲート絶縁
層、21.。半導体層、n、。ソース、乙0.ドレイン
、冴0.ソーヌ電極、50.ドレイン電極、部、。絶縁
層、27.、遮光膜、280.透明導電層、29 、
、ガラス基板、30.、透明導電層、31.。 液晶層、32.、透明導is、 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 第1図 第2図 第3図 2’l/’?;?0?328 3ど
示装置の等価回路図。第2図は従来の薄膜トランジスタ
を用いたマトリクス液晶表示装置の単位画素の断面図、
第3図は本発明の薄膜トランジスタを用いたマトリクス
液晶表示装置の単位画素の断面図である。 1、、薄膜トランジスタ、2゜。キヤパシタンス、3゜
、液晶セル、46.ガラス基板、5.。 ゲート電極、60.ゲート絶縁層、71.半導体層、8
0.ソース、9.、ドレイン、100.ソース′llE
極、11.、ドレイン電極、12.、絶縁層、130.
遮光層、14.。透明導電層、15. 、 、ガラス基
板、160.透明導電層、170.液晶層、180.ガ
ラス基板、19 、 、ゲート電極、旬、。ゲート絶縁
層、21.。半導体層、n、。ソース、乙0.ドレイン
、冴0.ソーヌ電極、50.ドレイン電極、部、。絶縁
層、27.、遮光膜、280.透明導電層、29 、
、ガラス基板、30.、透明導電層、31.。 液晶層、32.、透明導is、 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 第1図 第2図 第3図 2’l/’?;?0?328 3ど
Claims (3)
- (1)透明絶縁性基板上に、薄膜トランジスタを二次元
のマトリクヌ状に配列した第一の板と、透明絶縁性基板
の一生面上に第一の透明導電膜を設けた第二の板をそれ
ぞt1前記薄膜トランジスタを配列した面と透明導電膜
のある面を向かい合わせ、その間に液晶層を挾持したマ
トリクス液晶表示装置において、前記第一の板の液晶層
と接する面と反対側の面に、第二の透明導電膜を設けた
ことを特徴とするマトリクス液晶表示装置。 - (2)第二の透明導電膜は二酸化スズよりなることを特
徴とする特許請求の範囲第一項記載のマトリクス液晶表
示装置。 - (3)薄膜トランジスタは、非晶質シリコンの絶縁ゲー
ト型電界効果トランジスタであることを特徴とする特許
請求の範vJJ第一項記載のマトリクス液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1405684A JPS60158421A (ja) | 1984-01-28 | 1984-01-28 | マトリクス液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1405684A JPS60158421A (ja) | 1984-01-28 | 1984-01-28 | マトリクス液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60158421A true JPS60158421A (ja) | 1985-08-19 |
Family
ID=11850429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1405684A Pending JPS60158421A (ja) | 1984-01-28 | 1984-01-28 | マトリクス液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60158421A (ja) |
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KR100565736B1 (ko) * | 1998-12-10 | 2006-05-25 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사형 액정표시장치의 반사판 |
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-
1984
- 1984-01-28 JP JP1405684A patent/JPS60158421A/ja active Pending
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