JPS60246393A - エトポシドの新規製造法 - Google Patents

エトポシドの新規製造法

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JPS60246393A
JPS60246393A JP59101766A JP10176684A JPS60246393A JP S60246393 A JPS60246393 A JP S60246393A JP 59101766 A JP59101766 A JP 59101766A JP 10176684 A JP10176684 A JP 10176684A JP S60246393 A JPS60246393 A JP S60246393A
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正 藤井
Yukio Chikui
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/04Ortho-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H17/00Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H17/04Heterocyclic radicals containing only oxygen as ring hetero atoms

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は下記式(Jl 1 で表わされるエトポシドの新規製造法に関する。
エトポシドは抗腫瘍活性を示し、制癌剤として有用な物
質である。
〔従来の技術〕
化合物mの製造法としては次の工程によるものが既に知
られている。(特公昭46−37837号公報参照) (式中Aはホルミル又はアセチル、B ハペンジルオキ
シカルホ゛ニルヲyr4) 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、上記の方法は、Aを除去した後、Bを除去ると
いう2工程を必要とし、しかもAの除去には長時間(例
えば20〜30時間反応させても完結しない)を必要と
し、又、着色物などの副生物が増加するため得られるエ
トポシドの品質が悪く、収率も低いという欠点がある。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで本発明者らはエトポシドの新規製法につき種々検
討した結果、ジ又はトリハロゲノアセチルハロゲン化物
を利用して得られる式(In) 原子を示す。)を示す。〕 で表わされる化合物を原料とし、それにアルコール類、
アミン類及び/又はアンモニアを反応させるとR1とR
2が一挙に除去されてエトボンドが得られること、得ら
れたエトポシドは不純物が少なく、精製も容易であるこ
とを見い出した。
本発明は上記知見により完成されたものである。
本発明をさらに詳しく説明すると、本発明の原料として
用いられる式<fJI)のR1,几2におけるXとして
は例えばフン素、塩素、臭素、ヨウ素などがあげられる
が、塩素又は臭素が実用的に好ましい。R,、R,2と
しては例えばジフルオロアセチル、ジクロロアセチル、
ジブロモアセチル、ジヨウドアセチル、トリフルオロア
セチル、トリクロロアセチル、トリブロモアセチル、ト
リヨードアセチルなどがあげられる。
本発明において、使用されるアルコール類としては例え
ばメタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール
などの2価アルコール、エチレングリコール、グリセリ
ンなどの多価アルコール、モノエタノールアミン、ジメ
タツールアミン、トリプロパツールアミンなどのアミン
アルコールなどがあげられ、メタノール、エタノールな
どの低級−価アルコールが好ましい。
本反応においてはこれらのアルコール類を溶媒として用
いるのが好ましいが、他の溶媒を使用してもよく、この
場合にはアルコール類の使用量は化合物(III) K
対して通常当量以上であればよい。
本発明で使用するアミン類としてはメチルアミン、エチ
ルアミン、n−グロビルアミン、rl−ブチルアミンな
どの脂肪族−級アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−n−ブチルアミンな
どの脂肪族二級アミン、ピロリジン、ピペリジン、モル
ホリンなどの環状アミン及びエチレンジアミンなどの脂
肪族ジアミン等が挙げられ、メチルアミン、ジエチルア
ミンなどの低級アルキル1級又は2級アミンが好ましい
。これらのアミン類及び/又はアンモニアを使用する場
合、アミン類又はアンモニアはこれらを溶媒として用い
てもよいが通常溶媒としては他のものを使用するりが好
まし℃・。
この場合、それらの使用量は化合物(JJυに対して通
常当量以上好ましくは1〜3当量程度が適当である。又
、アミン類又はアンモニアはそのまま反応系に加えても
よ(・のけ当然であるが、例えばピリジン、トリエチル
アミンなどの塩基共存下に、アミン及び/又はアンモニ
アの酢酸塩、塩酸塩などを加えて反応系内で遊離のアミ
ン及び/又はアンモニアを調製して反応させてもよい。
本発明において上記アルコール類、アミン類又はアンモ
ニアは単独で使用してもよく、又、2種以上を併用して
もよい。併用の場合、アルコール類を溶媒とする方が好
ましく、この場合アミン類又はアンモニアを化合物(I
II) K対し1〜10当量、好ましくは 1〜3当量
程度使用すればよい。
なお、アルコール類、アミン類又はアンモニア以外のも
のを溶媒として使用する場合、溶媒としては、反応に悪
影響を与えな(・ものであれは特忙制限なく、例えばク
ロロホルム、エーテル、I、2−ジクロロエチレン、ジ
メチルホルムアミド、ピリジンなどがあげられる。
本発明の反応、特にアルコール類との反応の際K、反応
系に触媒としてトリメチルアミン、トリエチルアミンな
どの第三級低級アルキルアミン、ピリジンなどのピリジ
ン類、有機カルボン酸塩などを共存させておくと反応は
スムースに進行する。有機カルボン酸の塩としては例え
ば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム、
プロピオン酸ナトリウム、コハク酸ナトリウムなどの一
価以上の脂肪族カルボン酸金属塩、ギ酸アンモニア、酢
酸アンモニウム、マロン酸アンモニウム、コハク酸アン
モニウム、酢酸アルキルアンモニウムなどの一価以上の
脂肪族カルボン酸のアンモニウム塩、安息香酸ナトリウ
ムなどの芳香族カルボン酸の金属塩、イソニコチン酸ア
ンモニウム、安息香酸アンモニウム、アントラニル酸ア
ンモニウム、安息香酸アルキルアンモニウムなどの芳香
族カルボン酸のアンモニウム塩、カルボキシル基を交換
基とする弱酸性陽イオン交換樹脂のアンモニウム塩型、
金属塩型のものなどがあげられるが、工業的製造にはア
ンモニウム塩特に酢酸アンモニウムやギ酸アンモニウム
が好ましく、それらの使用量は一般式<m)の化合物に
対し5 ’ 100w/w%、より好ましくは30〜5
 Q w/w%程度で十分である。
本発明に用いる温度は、使用する溶媒及び触媒により異
なるので、特に限定するものではないが、−10〜10
0℃、好ましくは0〜90℃とりわけ20〜70℃で行
うのが好ましく、概ね0゜1〜7時間時間子反応は完結
する。
本発明において出発原料として使用する式(Tlの化合
物は、文献未載の新規物質であり、公知の4−デメチル
−エピポドフィロトキシン(rV)(特公昭43−64
69号公報参照)を原料として、例えば次の反応経路を
経て合成することができる。
(tV) (V) (III) (式中R1およびR2は前記に同じである。)即ち、4
−デメチルーエピボドフイロトキシンヌ (IV) K不活性溶媒中でジノ・ロゲノkGまトIJ
 /・ロゲノアセチルクロライド(n2 C1)を反応
させて得られる4−ノ・ログノアセチル−4−デメチル
−エピポドフィロトキシンMを、不活性溶媒中玉フッ化
ホウ素エチルエーテラートの存在下、0℃より低い温度
で4.6−〇−エチリデンー2.3−ジー0−ハロゲノ
アセチル−β−D−4ルコビラノース(Vl)と縮合さ
せることにより化合物(11を得ることができる。
ここで化合物(Vl)は新規化合物であり、公知の4.
6−0−エチリデン−1−0−ベンジルオキシカルボニ
ル−β−D−グルコヒラノース(vIDを原料として、
例えば次の反応経路を経て合成される。
(■)H LL。
(■) (式中R1は前記に同じである。) 即ち、4.6−0−エチリデン−1−0−ベンジルオキ
シカルボニル−β−D−グルコビラノース(■)を不活
性溶媒中、ジノ・ロゲノLはトリハロゲノアセチルクロ
ライドを反応させて得られる4、 6−0−エチリデン
−1−〇−ベンジルオキシカルボニルー2.3−ジー0
−ノ\ロゲノアセチルーβ−D−グルコビラノース(V
lll)を水素化分解することKより、化合物CVI)
を得ることができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ハロゲノアセチル基の除去が温和な条
件下で、しかも短時間に行われるため着色物などの副生
成物が少なく、化合物(III)からエトポシド(11
を高収率で得ることができる。
そのため、着色物の除去などの反応終了後の精製も容易
であり、例えば、反応液にクロロホルム等の疎水性溶媒
を加えて水洗し、溶媒を留去した後再結晶を行うと純粋
なエトポシドが得られる。
本発明においてアルコール類を酢酸アンモニウム等の低
級脂肪酸のアンモニウム塩又は三級アミンの存在下に反
応させるか、アルコール類とアミン類又はアンモニアと
を併用する場合、反応は室温で短時間のうちに完結し、
溶媒を濃縮するだけでエトポシドが得られるので、反応
操作や反応後の後処理が容易であり工業的製法として極
めて有利な方法である。特に後者の場合、反応は短時間
で完結する。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1 4−ジクロロアセチル−4−デメチル−エピポドフィロ
トキシン−β−1)−2,3−ジーO−ジクロロアセチ
ル−4,6−0−エチリデングルコシド(In) (R
1、FLz =−COCI−1cI2) I P及び酢
酸アンモニウム11をメタノール20m1に溶解し、室
温で15時間攪拌する。反応終了後メタノールを10m
1まで濃縮し、冷却することによりエトポシドの結晶0
551を得た(収率861%)。
ここで得た結晶のTLCのR,f値 (シリカゲル、展
開溶媒クロロホルム゛メタノール−9+1)、IR,N
Mll、及び旋光度は特公昭46−37837号の方法
により得られた物質のそれと同一であつ1こ。
tn、p−259” 260℃、R,f=o。44件下
で反応した後実施例1と同様に処理してエトポシド結晶
を得た。
実施例10 ム11をメタノール20m1中で4時間還流する。
反応終了後メタノールを留去し、クロロホルム30m1
を加えて水洗後無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を減圧下に留去して残漬をメタノールから再結晶してエ
トポシド結晶0.49S’を得た(収率76.7係)。
実施例11゜ 実施例1において化合物(m)(R+、几2−COCH
CI□)の代りに、4′−ジブロモアセチル−4−デメ
チル−エピポドフィロトキシン−β−D−2.3−シー
0−ジブq、モアセチル−4,6−0−エチリデングル
コシド(III) (R,1,R,2= COCl4B
rz )を用いて実施例Iと同様にして反応を行ってエ
トポシド結晶4.75を得た(収率64,6%)。
実施例12 化合物(III) (R1、R2=−COCI−ICI
□)M7をメタノール20m1に溶解した後ジエチルア
ミン0641を加えて室温で10分間攪拌する。反応終
了後減圧下に溶媒を留去し、残漬にクロロホルム20罰
を加えて2N塩酸で中和、ついで水洗後無水硫酸マグネ
シウムで乾燥する。減圧下に10#l/!まで濃縮して
エトポシド結晶0.537(収率831%)を得た。
実施例13 実施例12にお(・てジエチルアミンのかわりに1(収
率80.0%)を得た。
実施例14゜ 化合物(用)(R,、几2ニーC0CJ(C12) I
 tをアンモニアガス0.15Pを溶かしているメタノ
ール20m1VC加え、室温で30分間攪拌する。反応
終了後減圧下に溶媒を留去し、残aKクロロホルム10
m1を加キでエトポシド結晶0.54g(収率847%
)を得た。
実施例15 実施例12においてメタノールのがわりにジエチルアミ
ン2(:)mlを用いて実施例12と同様にして反応を
行いエトポシドの結晶0.40!i’(収率627%)
を得た。
同様に実施例12においてメタノールのがワリ忙ピリジ
ン20m1を用いても同様に行うことができる。
実施例16 4−ジクロロアセチル−4−デメチル−エピポドフィロ
トキシン−β−D〜2,3−ジー0−ジク00アセチル
−4,6−0−エチリデングルコシド<IR) (R1
、Ftz −−COCHCI□)の製造(al 4−ジ
クロロアセチル−4′−デメチル−エビホト7 イOト
キシン(V) (R2= −COCHCI□)4−デメ
チル−エピポドフィロトキシン(JV)8グをアセトン
160m1K溶解し、ピリジン321を加えた後−5〜
−10℃に冷却する。
これにジクロロアセチルクロライド411を約15時間
かけて滴下し、更に05時間攪拌する。
ついで、減圧下にアセトンを留去し、得られ1こ固体を
1.2−ジクロロエタン] 60mlKfgMI。
1こ抜水洗スる。次いでこの1,2−ジクロロエタン溶
液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に濃縮して化
合物(Vl (R2=−COClIC+2 ) 9.5
 Pを得た(収率934%)。
mp・207〜208℃ ■]11..KBr max 3540,1775.1600,1,485゜
1235.1.]30crn−’ (bl 4.6−0−エチリデン−1−〇−ベンジルオ
キシカルボニルー2.3−ジー0−ジクロロアセ−F−
ルーβ−J) −クルコビラ/ −y、 (141) 
(R+ −−COCHCI□) 4、6−0−エチリデン−1−0−ベンジルオキシカル
ボニル−β−D−グルコヒラノース(Vll)340g
−を1,2−ジクooxタフ340m1i懸濁し、ピリ
ジン237ノを加えた後0〜5℃に冷却する。これ罠ジ
クロロアセチルクロライド324ノを約1時間かけて滴
下した後、更に05時間攪拌を続ける。ついで反応液を
水洗し有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した稜減圧
濃縮して化合物0’1ll) (R+−COCHCIz
) 51.07を得1こ(収率90.7%)。
m−p、150〜151℃ IR,vKBr 1770,1255,1100.82
0Crnax (C14,6−0−エチリデン−2,3−ジー0−ジク
ロロアセチル−β−D−グルコビラノース(Vl)(R
,=−COCI−ICI□) 化合物(■) (R,=−COCHC12) 10.0
9−をアセトン50M/に溶解し、パラジウム黒10P
を加えて−5〜−10℃で加圧下に水素化分解を行う。
反応終了後触媒を炉別し、溶媒を減圧下に留去して化合
物CVI) (几、 =−COCJ−]Cl2) 7.
3 g−ヲ得た(収率959%)。
m−p、 133翫135℃ Br ■Rν 3445,1775,1305.1165゜m
;lX 1095.1005,815crn (d)i−ジクロロアセチル−4−デメチル−エピポド
フィロトキシン−β−D−2.3−ジー0−ジクロロア
セチル−4,6−0−エチリデングルコシド(IIυ(
R+ 、 R2ニーC0CJIC+2)化合物(V) 
(R2−COClIC+2 ) 30 ¥を1.2−ジ
クロロエタン60m1に溶解し、ついで化合物(VD(
R,=−COCHCI□)25g−を加えて一10℃に
冷却する。三フッ化ホウ素エチルエーテラート1.15
’を約15時間かけて滴下し、終了後更に05時間攪拌
を続ける。ピリジン0.8!?−を内温に −5〜−10℃を保ちながら滴下した抜水を加えて洗浄
する。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下
に濃縮し、残渣をメタノールから再結晶して化合物(I
II) (R,、Rz =−COCHC1□)441を
得た(収率81.4%)。
m、p、2Q7〜208℃  Br IRν 1880.1610.+490.1240゜m
ax 1130.935.820crn 実施例17゜ 4−ジブロモアセチル−4−デメチル−エピポドフィロ
トキシン−β−D−2.3−ジーO−ジブロモアセチル
−4,6−0−エチリデングルコシド(III) (R
+ 、 R2= C0CHBr2)(al 4−ジブロ
モアセチル−4−デメチル−エピポドフィロトキシンC
VI(R2= C0CHBrz)4−デメチルーエビボ
ドフィロトキシ(IV)5.01を1.2−ジクロロエ
タン150IIIeに溶解し、ピリジン1.51を加え
た後−5〜−10℃に冷却する。これにジブロモアセチ
ルクロライド381を約15時間かけて滴下し、更に0
5時間攪拌する。ついで反応液を水洗し、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後50m1になるまで減圧
濃縮すること罠より化合物(V) (R2−−COCI
(Br2)の1.2−ジクロロエタン溶液を得た。
(bl 4.6−0−エチリデン−1−0−ベンジルオ
キシカルボニル−2,3−ジー0−ジブロモアセチに−
1−D−fk’:1ビラ/−スO’1ll) (Rz 
−COCI(Br2 ) 4.6−0−エチリデン−1−0−ベンジルオキシカル
ボニル−β−D−グルコヒラノース(■)5.11を1
.2−ジクロロエタン51m1に懸濁しピリジン361
を加えた後0〜5℃に冷却する。
これにジブロモアセチルクロライド7.8Pを約1時間
かけて滴下した後火に30分間攪拌を続ける。ついで、
反応液を水洗し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後25m1になるまで減圧濃縮することにより化合
物(vm) (R,・C0CHBr2)の1.2−ジク
ロロエタン溶液を得た。
(C14,6−0−エチリデン−2,3−ジー〇−ジブ
ロモアセチル−β−D−グルコビラノース(Vl)(R
1= C0CHBrz) fbl ノ化合物(vI)<几、 =−C0CHBr2
)の1.2−ジクロロエタン溶液25 mlにパラジウ
ム黒0.45/”を加えて−10〜−5℃で加圧下に水
素添加を行う。反応終了後触媒を炉別して化合物(vl
)(R,=−C0CHBr2)の1.2−ジクロロエタ
ン溶液を得た。
(d)4−ジブロモアセチル−4−デメチル−エピポド
フィロトキシン−β−D −2,3−ジー〇−ジブロモ
アセチル−4,6−0−エチリデングルコシド(■)(
几3.几2−−C0CI−IB「2)化合物(SA (
R2= C0CI−HBr2)の1,2−ジクo。
エタン溶液25m1と化合物(VD (R+ −−C0
CHBr2)の1.2−ジクロロエタン溶液50m1を
あわせ一10℃に冷却する。三フッ化ホウ素エチルニー
テラー)2.814を約15時間かけて滴下し、終了援
受[30分間攪拌を続ける。ピリジン2.0几2−−C
OCHBrz )が得られる。
実施例18 4−ジクロロアセチル−4−デメチル−エピポドフィロ
トキシン−β−D −2,3−ジー0−)ジクロロアセ
チル−4,6−0−エチリデングルコシド(In) (
II、、 =−C0CCl5. R2=−COCHCI
□)(al 4.6−0−エチリデン−1−0−ベンジ
ルオキシカルボニル−2,3−ジー0−IJり01:1
7セチルーβ−D−グルコビラノース<Vm) (几1
−−COCCh ) 実施例17(blにおいてジブロモアセチルクロライド
の代りにトリクロロアセチルクロライド35グを用(・
て化合物([)(山−−C0CC1a )の1.2−ジ
クロロエタン溶液25m6を得1こ。
fbl 4.6−0−エチリデン−2,3−〇−)リク
ロロアセチルーβ−D−グルコビラノース(Vl)(R
1= C0CCl5) (alで得られ1こ溶液25m1を用い、実施例]7(
C)と同様にして化合物(M) CIも+ = C0C
C’+3)の1.2−ジクロロエタン溶液25m1tt
得1こ。
(C14’−)クロロアセチル−4′−テメチル−エビ
ボドフィロトキシンーβ−D−2,3−ジー〇−]・ジ
クロロアセチル−4,6−0−エチリデングルコシド(
In) (R1=−C0CCl5.142−COCIr
Cl、)(blで得られた溶液25m1及び実施例16
(alで得られた化合物M(Aも2=−COCHCI□
)を含む1.2=ジクロロ工タン溶液50m1を用い、
実施例16(d)と同様にすると化合物(川) (L 
−C0CC’+3゜R2” C0CI(C12)が得ら
れる。
特許出願人 日本化薬株式会社 手 続 補 正 書 昭和5?年7月(?臼 特許庁長官 志 賀 学 殿 1 事件の表示 昭和59年特許願第101766号7
、発明の名称 エトポシド°の新規製造法1 補正をす
る者 事件との関係 出願人東京都千代田区富士見−丁
目11番2号(408)日本化薬株式会社 □瞬嶽坂野常和 4 代 理 人 東京都千代田区富士見−丁目11番2
号5 補正命令の日付 (自 発) 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明
の詳細な説明の欄 &補正の内容 別紙の通り 補 正 の 内 容 1 明細書、1〜3ページの特許請求の範囲を次のよう
に訂正する。
記 11式 〔式中、R+および几2は同じか異なって−CQ CH
X2または−cocx、 (xはハロゲン原子を示す。
〕を示す。〕 で表わされる4′−ハロゲノアセチル−4′−テメチル
エピボドフィロトキシンーβ−D−2゜3−ジー0−ハ
ロゲノアセチル−4,6−0−エチリデングルコシドに
アルコール類、アミン類及び/又はアンモニアを反応さ
せてハロゲノアセチル基を除去することを特徴とする式 で表わされるエトポシドの製造法。
〔式中、R1及びR2は同じか異なって−COCHX 
2又はC0CX3(Xはハロゲン原子を示す。)を示す
。〕 で表わされる4′−ハロゲノアセチル−4′−デメチル
エピポドフィロトキシン−β−D−2゜3−ジー0−ハ
ロゲノアセチル−4,6−0−エチリデングルコシド。
3式 2、同、13ページ、10行目の「できる。」を[でき
る。なお、水素化分解に際し若干のα一体の生成は避け
られないが、化合物(Vl)は反応液からβ一体のみが
選択的に結晶化してくるので、α一体とβ一体の分離が
容易であるという性質を有する。又、化合物(Vl)の
β一体は安定性が良好でα一体への異性化がほとんどみ
られないので、長期間の保存が可能である。」3 同、
21ページ、下から7行目の「留去して」を「留去する
。残漬にジイソプロピルエーテル】7mtを加えて0℃
迄全冷却後吸引濾過て」に訂正する。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1式 〔式中、亀およびR2は同じか異なって−COCHX2
    または一〇〇〇X3 (Xはハロゲン原子を示す。)を
    示す。〕 で表わされる4−ハロゲノアセチル−4−デメチルエピ
    ポドフィロトキシン−β−D−2゜3−ジー0−ハロゲ
    ノアセチル−4,6−0−エチリデングルコシド忙アル
    コール類、アミン類及び/又はアンモニアを反応させて
    ・・ロゲノアセチル基を除去することを特徴とする式 テ表ワされるエトポシドの製造法。 メチルエピポドフィロトキシン−β−D−2゜3−ジー
    0−ハロゲノアセチル−4,6−0−エチリデングルコ
    シド。
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