JPS60237051A - 2−フルオロニトロベンゼン誘導体の製造方法 - Google Patents

2−フルオロニトロベンゼン誘導体の製造方法

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JPS60237051A
JPS60237051A JP59090200A JP9020084A JPS60237051A JP S60237051 A JPS60237051 A JP S60237051A JP 59090200 A JP59090200 A JP 59090200A JP 9020084 A JP9020084 A JP 9020084A JP S60237051 A JPS60237051 A JP S60237051A
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JP
Japan
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derivative
reaction
chloronitrobenzene
containing compound
active halogen
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JP59090200A
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JPS6350339B2 (ja
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Seisaku Kumai
清作 熊井
Takashi Seki
隆司 関
Hitoshi Matsuo
仁 松尾
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、活性ハロゲン含有化合物の存在下に、クロロ
ニトロベンゼン誘導体を金属フルオライドによりF化し
、2−フルオロニトロベンゼン誘導体を得る方法に関す
る。
クロロニトロベンゼン誘導体を、ジメチルスルホキサイ
ド(DNSO)等の非プロトン性極性溶媒中で、弗化カ
リウム等の金属フルオライドと反応させフルオロニトロ
ベンゼン誘導体を得る際、塩素がニトロ基のオルト位に
ある場合は、パラ位にある場合に比べ、フッ素化反応収
率が低いことが知られている。
80%(収率) 38%(収率) 塩素とニトロ基がオルト位に隣接した場合、ニトロ基が
脱離し易く、ニトロ基が脱離するとKNO2が生成し、
KNO2やその分解物であるに20がフッ素化反応に悪
影響を及ぼすため、収率が低いと考えられている。すな
わち、K2Oは原料及び生成物と反応し、カリウムフェ
ノキサイド誘導体を与え、このカリウムフェノキサイド
誘導体はさらに原料及び生成物と反応し、ジフェニルエ
ーテルタイプの生成物を与え、収率低下となると考えら
れている。
木発明者等は、このような副反応を抑制し好収−Vでク
ロロニトロベンセン誘導体からフルオロニトロベンゼン
誘導体を得る方法について。
鋭意研究を積み重ねたところ、活性ハロゲン含有化合物
の存在下にフッ素化反応を行なうことが効果的であるこ
とを見も・出すに至った。すなわち本発明は下記一般式
(I)で表わされるクロロニトロベンゼン誘導体を、非
プロトン性極性溶媒中で活性ハロゲン含有化合物の存在
下に金属フルオライドと反応させ、下記一般式(II 
)で表わされる2−フルオロニトロベンゼン誘導体をイ
」iることを特徴とする2−フルオロニトロベンゼン誘
導体の製造方法に関するものである。
(式中、X’はCI又はH,X2はF又+fH,Y、Z
はCI、NO2,又はHを示す。) 本発明におけるクロロニトロベンセン誘導体は、前記一
般式(I)で表わされ、オルト位に隣接した塩素とニト
ロ基を少なくとも1個所有する化合物である。前記一般
式(II )で表わされフルオロニトロベンゼン誘導体
は、クロロニトロベンセン誘導体におけるニドロス(に
隣接した塩素が弗素に置換した化合物であり、具体的以
下 な反応例は1子漏の通りである。
一11ht(D σ)イIsMr!s −真試 (IT
)(TABインφす反応溶媒である非プロント性極性溶
媒としては、例えばアセトニ!・リル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキサイド、スルホラン。
N−メチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル−2
−ピロリドン、ヘキサメチルホスホルトリアミ1” 、
 1.3−、;’メチルー2−イミダゾリジノン等が挙
げられ、特にスルホラン、ジメチルスルホキサイドが好
ましい。溶媒の使用量は特に限定されないか、出発原料
のクロロニトロベンゼン誘導体に対して重量部で0.2
〜20倍量好ましくは1〜5倍量が適当である。弗素化
剤としての金属フルオライドとしては、KF、RbF、
CsF等が好ましく、その使用量はクロロニトロベンゼ
ン誘導体中の弗素置換すべき塩素基が弗素に置換するた
めに必要な反応理論量及び活性ハロゲン含有化合物が弗
素化されるのに必要な反応理論量の0.5〜lO倍、好
ましくは1.1〜2倍が適当である。
ニトロ基に対してオルト位に隣接する塩素の弗素置換反
応を促進し、かつ副反応を抑制するために、活性ハロゲ
ン含有化合物の存在は効果的である。好ましい活性ハロ
ゲン含有化合物は、下記一般式(I[r)〜(IX)で
表される化合物を挙げることができ、特にフタル酸クロ
ライドが好ましい。
RCOA −−−(III) R8O2A −−−(IV) (イリし、式中Rはアルキル基、AはCI、Br、F等
のハロゲン原子) 活性ハロゲン含有化合物の添加量は、出発原料のクロロ
ニトロベンゼン誘導体100、重量部に対し1〜100
重量部、好ましくは5〜40重量部の範囲から選定すれ
ばよい。
本発明の反応温度、時間あるいは圧力等の反応条件は適
宜最適な条件を選定すればよいが、およそ100〜25
0℃の温度、1〜20時間の反応時間及び1〜10kg
/ craの圧力で実施し得る。本発明に従えば、農医
薬中間体の原料として有用な2−フルオロニトロベンゼ
ン誘導体を好収率で得ることができる。
以下、本発明の実施例について、さらに具体的に説明す
る。
実施例1 200ccのガラス製反応器に、2−クロロニトロベン
ゼン31.5g、乾燥KF23.2g、フタル酸クロラ
イド8.1g、およびスルホラン80ccを入れ、21
0℃で10時間反応させた。反応液をガスクロマトグラ
フィで分析した処、原料の反応率85L2−フルオロニ
トロベンゼンへの選択率87%であった。
比較例1 フタル酸クロライドを添加しないこと以外、実施例1と
同様の条件で反応を行なった処、原料の反応率81]$
、2−フルオロニトロベンゼンへの選択率61%であっ
た。
実施例2 200ccのガラス製反応器に、2,3−ジクロロニト
ロベンゼン38.4g、乾燥KF23.2g、フタル酸
クロライド8.1g、およびスルホラン80ccを入れ
190°Cで11時間反応させた。反応液をガスクロマ
トグラフィで分析した処、原料の反゛・終車84%。
□・″ 3−クロロ−2−フルオロニトロベンゼンへの選択率8
8%であった。
比較例2 フタル酸クロライドを添加しないこと以外、11 実施例7 200ccのガラス製反応器に、2,5−ジクロロニト
ロベンゼン38.4g、乾燥KF23.2g、フタル酸
クロライドを10g、およびジメチルスルホキシド80
ccを入れ、190℃で10時間反応させた。反応液を
分析した処、原料の反応率78%、5−クロロ−2−7
J1ztロニトロベンゼンへの選4j188%であった
実施例8 200ccのガラス製反応器に、l−クロロ−2,トジ
ニトロベンゼン30.4g、乾燥KF21g、フタル厳
クロライド6g、およびスルホラン80ccを入れ、1
80℃で10時間反応させた0反応液を分析した処、!
−フルオロ“−2,4−ジニトロベンゼンノ収率85%
であった拳 2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l、 下記一般式(I)で表わされるクロロニトロベン
    ゼン誘導体を、非プロトン性極性溶媒中で、活性ハロゲ
    ン含有化合物の存在下に、金属フルオライドと反応させ
    、下記一般式(II )で表わされる2−フルオロニト
    ロベンゼン誘導体を得ることを特徴とする2−フルオロ
    ニトロベンゼン誘導体の製造方法。 CI (式中、XIはC,I又はH,X2.jl又は)l、Y
     。 ZはCI、NO□、又はHを示す、)
JP59090200A 1984-05-08 1984-05-08 2−フルオロニトロベンゼン誘導体の製造方法 Granted JPS60237051A (ja)

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JPS6350339B2 JPS6350339B2 (ja) 1988-10-07

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JPS617217A (ja) * 1984-06-20 1986-01-13 Shinakita Kasei Kk フツ素化芳香族化合物の新規な製法
EP3696156A1 (en) 2019-02-15 2020-08-19 Fujian Yongjing Technology Co., Ltd. New process for the manufacture of fluoroaryl compounds and derivatives

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