JPH0292603A - 案内溝付き情報記録用基板の製造方法 - Google Patents
案内溝付き情報記録用基板の製造方法Info
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- JPH0292603A JPH0292603A JP24638088A JP24638088A JPH0292603A JP H0292603 A JPH0292603 A JP H0292603A JP 24638088 A JP24638088 A JP 24638088A JP 24638088 A JP24638088 A JP 24638088A JP H0292603 A JPH0292603 A JP H0292603A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 54
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 69
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
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- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
- B29C43/021—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface
- B29C2043/023—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface having a plurality of grooves
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、案内溝付き情報記録用基板の製造方法に関す
る。
る。
［従来の技術］
従来、この種の案内溝付き情報記録用基板は、例えば特
公昭５３−３３２４４号公報に記載の如く、以下のよう
にして製造されていた。
公昭５３−３３２４４号公報に記載の如く、以下のよう
にして製造されていた。
すなわち、先ず案内溝に対応する凹凸を有するスタンパ
−上に高粘性の紫外線硬化型樹脂をデイスペンサーで滴
下する。このデイスペンサーによる樹脂の滴下は、例え
ばスタンパ−を回転させることにより、樹脂が円形のス
タンパ−の半径のほぼ中央部に同心円状に配置されるよ
うに行なわれる。
−上に高粘性の紫外線硬化型樹脂をデイスペンサーで滴
下する。このデイスペンサーによる樹脂の滴下は、例え
ばスタンパ−を回転させることにより、樹脂が円形のス
タンパ−の半径のほぼ中央部に同心円状に配置されるよ
うに行なわれる。
次に樹脂が滴下されたスタンパ−上に、例えばガラス製
の透明ディスク基板を載置した後、油圧機器等により押
圧し、樹脂をスタンパ−と透明ディスク基板との間に押
し拡げ、スタンパ−の凹部にも樹脂を充填させる。
の透明ディスク基板を載置した後、油圧機器等により押
圧し、樹脂をスタンパ−と透明ディスク基板との間に押
し拡げ、スタンパ−の凹部にも樹脂を充填させる。
次に透明ディスク基板の上から紫外線を照射して紫外線
硬化型樹脂を硬化させることにより、案内溝を形成する
とともに、この案内溝を透明ディスク基板上に固着させ
た後、透明ディスク基板をスタンパ−から剥離して、目
的とする案内溝付き情報記録用基板を得る。
硬化型樹脂を硬化させることにより、案内溝を形成する
とともに、この案内溝を透明ディスク基板上に固着させ
た後、透明ディスク基板をスタンパ−から剥離して、目
的とする案内溝付き情報記録用基板を得る。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、前述の従来の情報記録用基板の製造方法
では、一般に１００〜８００セン・チボイズという高粘
性の紫外線硬化型樹脂（例えばジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサア
クリレート等の多官能性アクリレート）を用いているた
め、スタンバ−上に押し拡げられた樹脂内に気泡が残留
してしまい、その気泡によって、スタンバ−の凹凸が転
写されることにより形成される案内溝の凸部にカケが生
じたり、最悪の場合には凸部が形成されないという事態
が生じて、スタンバ−の凹凸に忠実に対応する案内溝を
得ることができない。そしてこのような案内溝に欠陥の
ある情報記録用基板を用いて光磁気ディスクを作製する
と、光磁気ディスクの記録特性等の悪化という問題が生
じる。
では、一般に１００〜８００セン・チボイズという高粘
性の紫外線硬化型樹脂（例えばジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサア
クリレート等の多官能性アクリレート）を用いているた
め、スタンバ−上に押し拡げられた樹脂内に気泡が残留
してしまい、その気泡によって、スタンバ−の凹凸が転
写されることにより形成される案内溝の凸部にカケが生
じたり、最悪の場合には凸部が形成されないという事態
が生じて、スタンバ−の凹凸に忠実に対応する案内溝を
得ることができない。そしてこのような案内溝に欠陥の
ある情報記録用基板を用いて光磁気ディスクを作製する
と、光磁気ディスクの記録特性等の悪化という問題が生
じる。
本発明はこのような問題点乃至欠点を除去するためにな
されたものであり、その目的は、硬化型樹脂内の気泡の
残留を防止することにより、スタンバ−の凹凸に忠実に
対応する案内溝を形成することが可能な案内溝付き情報
記録用基板の製造方法を提供することにある。
されたものであり、その目的は、硬化型樹脂内の気泡の
残留を防止することにより、スタンバ−の凹凸に忠実に
対応する案内溝を形成することが可能な案内溝付き情報
記録用基板の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明は、上述の目的を達成するためになされたもので
あり、本発明の案内溝付き情報記録用基板の製造方法は
、基板上及び／又は案内溝に対応する凹凸形状を有する
スタンバ−の前記凹凸形状面上に硬化型樹脂を塗布した
後、前記基板と前記スタンバ−とを、これらの間に前記
硬化型樹脂が配置されるように積層し、次いで前記基板
と前記スタンバ−との間を減圧にして、前記基板と前記
スタンバ−の少なくとも一方の側から加圧し、しかる後
、前記硬化型樹脂を硬化させ、前記スタンバ−の凹凸形
状が転写された硬化済み樹脂膜が固着された前記基板を
前記スタンバ−から剥離することを特徴とする。
あり、本発明の案内溝付き情報記録用基板の製造方法は
、基板上及び／又は案内溝に対応する凹凸形状を有する
スタンバ−の前記凹凸形状面上に硬化型樹脂を塗布した
後、前記基板と前記スタンバ−とを、これらの間に前記
硬化型樹脂が配置されるように積層し、次いで前記基板
と前記スタンバ−との間を減圧にして、前記基板と前記
スタンバ−の少なくとも一方の側から加圧し、しかる後
、前記硬化型樹脂を硬化させ、前記スタンバ−の凹凸形
状が転写された硬化済み樹脂膜が固着された前記基板を
前記スタンバ−から剥離することを特徴とする。
［作用］
本発明によれば、基板とスタンバ−との間を減圧にする
ことにより、これらの間に存在する硬化型樹脂中の気泡
の残留を防止することができる。
ことにより、これらの間に存在する硬化型樹脂中の気泡
の残留を防止することができる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
実施例１
ソーダライムガラスからなり、外径１３０■、中心部孔
径１５ｍｍのディスク基板１上に、紫外線硬化型樹脂２
（大日本インキ■製ダイキュアクリアＳＴＭ−４０１，
粘度３２０センチポイズ）をデイスペンサーによりディ
スク基板１の半径方向のほぼ中央部に塗布した（第１図
（ａ）参照）。
径１５ｍｍのディスク基板１上に、紫外線硬化型樹脂２
（大日本インキ■製ダイキュアクリアＳＴＭ−４０１，
粘度３２０センチポイズ）をデイスペンサーによりディ
スク基板１の半径方向のほぼ中央部に塗布した（第１図
（ａ）参照）。
次に、ディスク基板１を紫外線硬化型樹脂２が下向きに
なるよに裏返した後、紫外線硬化型樹脂２とスタンバ−
３の凹凸形状面が向かい合うようにディスク基板１とス
タンバ−３とを積層した（第１図（ｂ）参照）。
なるよに裏返した後、紫外線硬化型樹脂２とスタンバ−
３の凹凸形状面が向かい合うようにディスク基板１とス
タンバ−３とを積層した（第１図（ｂ）参照）。
なお、スタンバ−は凸部の幅が０．６〜０．８μ■、凹
部の幅が０．８〜１．０μ履、凹部の深さが約７５０人
のものを用いた。
部の幅が０．８〜１．０μ履、凹部の深さが約７５０人
のものを用いた。
次に、積層されたディスク基板１とスタンバ−３とを処
理容器４内に入れた後、ディスク基板１とスタンバ−３
との間をＩ Ｔｏｒｒの減圧にすることにより紫外線硬
化型樹脂２中に残留する気泡を除去し、かつディスク基
板１とスタンバ−３との間を減圧にした状態で、ディス
ク基板１とスタンバ−３の両側からそれぞれ圧力０．５
ｋｇ／ｃ−で加圧し、ディスク基板１とスタンバ−３と
の間に、気泡がなく均一な紫外線硬化型樹脂膜２ａを形
成させた（第１図（ｃ）参照）。この処理容器４内の減
圧及び加圧操作を更に説明すると、処理容器４中の内室
５は、内室５の内壁に固着されているＯリング６によっ
て、減圧される空間部分Ａと加圧される空間部分Ｂとが
互いに隔離されており、ディスク基板１とスタンバ−３
との間の減圧化は、前記空間部分Ａに連絡して設けられ
た真空ポンプを作動することにより達成される。またデ
ィスク基板１とスタンバ−３の両側からの加圧化は、Ｎ
２ガス等の加圧用ガスを前記空間部分Ｂに導入すること
により達成される。
理容器４内に入れた後、ディスク基板１とスタンバ−３
との間をＩ Ｔｏｒｒの減圧にすることにより紫外線硬
化型樹脂２中に残留する気泡を除去し、かつディスク基
板１とスタンバ−３との間を減圧にした状態で、ディス
ク基板１とスタンバ−３の両側からそれぞれ圧力０．５
ｋｇ／ｃ−で加圧し、ディスク基板１とスタンバ−３と
の間に、気泡がなく均一な紫外線硬化型樹脂膜２ａを形
成させた（第１図（ｃ）参照）。この処理容器４内の減
圧及び加圧操作を更に説明すると、処理容器４中の内室
５は、内室５の内壁に固着されているＯリング６によっ
て、減圧される空間部分Ａと加圧される空間部分Ｂとが
互いに隔離されており、ディスク基板１とスタンバ−３
との間の減圧化は、前記空間部分Ａに連絡して設けられ
た真空ポンプを作動することにより達成される。またデ
ィスク基板１とスタンバ−３の両側からの加圧化は、Ｎ
２ガス等の加圧用ガスを前記空間部分Ｂに導入すること
により達成される。
次に、ディスク基板１とスタンバ−３とが圧着された状
態で、処理装置４の外部の紫外線８（紫外線ランプ使用
、出力３００Ｗ）をガラス製の上板７を透過させてディ
スク基板１上に３０秒間照射して紫外線硬化型樹脂膜２
ａを硬化させて案内溝９を形成した（第１図（ｃ）参照
）。なお、この硬化により、紫外線硬化型樹脂膜２ａと
ディスク基板１とが固着された。
態で、処理装置４の外部の紫外線８（紫外線ランプ使用
、出力３００Ｗ）をガラス製の上板７を透過させてディ
スク基板１上に３０秒間照射して紫外線硬化型樹脂膜２
ａを硬化させて案内溝９を形成した（第１図（ｃ）参照
）。なお、この硬化により、紫外線硬化型樹脂膜２ａと
ディスク基板１とが固着された。
次に、処理装置４から、積層されたディスク基板１とス
タンパ−３とを取り出した後、前者を後者から剥離する
ことにより、目的とする案内溝９付きディスク基板１を
得た（第１図（ｄ）参照）。
タンパ−３とを取り出した後、前者を後者から剥離する
ことにより、目的とする案内溝９付きディスク基板１を
得た（第１図（ｄ）参照）。
なお、紫外線硬化型樹脂２がディスク基板１の側面に金
分に付着しているときは、例えば薄刃等で除去すればよ
い。
分に付着しているときは、例えば薄刃等で除去すればよ
い。
本実施例１においては、ディスク基板１とスタンパ−３
との間を減圧にすることにより、これらの間に存在する
硬化型樹脂中の気泡の残留を防止したために、得られた
案内溝９付きディスク基板１は、スタンパ−の凹凸に忠
実に対応する凹凸が形成されており、上述の従来法と異
なり、案内溝に欠陥は認められなかった。従ってこのよ
うな案内溝付きディスク基板から得られた光磁気ディス
クは記録特性等がすぐれたものであった。
との間を減圧にすることにより、これらの間に存在する
硬化型樹脂中の気泡の残留を防止したために、得られた
案内溝９付きディスク基板１は、スタンパ−の凹凸に忠
実に対応する凹凸が形成されており、上述の従来法と異
なり、案内溝に欠陥は認められなかった。従ってこのよ
うな案内溝付きディスク基板から得られた光磁気ディス
クは記録特性等がすぐれたものであった。
実施例２
実施例１で用いたと同一のディスク基板を用い、このデ
ィスク基板上に紫外線硬化型樹脂として、イソプロピル
アルコールで希釈したポリウレタンアクリレート（大日
本インキ■製、ＳＴＭ−４０１゜希釈後の粘度３０〜５
０センチポイズ）を定量供給ポンプ等によってディスク
基板の中心部の孔側にほぼ同心円状に滴下した。
ィスク基板上に紫外線硬化型樹脂として、イソプロピル
アルコールで希釈したポリウレタンアクリレート（大日
本インキ■製、ＳＴＭ−４０１゜希釈後の粘度３０〜５
０センチポイズ）を定量供給ポンプ等によってディスク
基板の中心部の孔側にほぼ同心円状に滴下した。
次にＮ−ＴＥＣＨ社製スピナーを用いてスピンコード（
回転数２０００ｒｐｍ）により滴下樹脂をディスク基板
の全面に拡布した。
回転数２０００ｒｐｍ）により滴下樹脂をディスク基板
の全面に拡布した。
以下、実施例１と同様に、ディスク基板の樹脂塗布面と
スタンパ−の凹凸形状面とが向かい合うようにディスク
基板とスタンパ−とを積層した後、実施例１で用いたと
同一の処理容器内でディスク基板とスタンパ−との間を
減圧にしつつ、ディスク基板とスタンパ−の両側から加
圧し、次いで紫外線照射により紫外線硬化型樹脂を硬化
させた後、積層されたディスク基板とスタンパ−とを前
記処理容器から取り出し、前者を後者から剥離すること
により、目的とする案内溝付きディスク基板を得た。
スタンパ−の凹凸形状面とが向かい合うようにディスク
基板とスタンパ−とを積層した後、実施例１で用いたと
同一の処理容器内でディスク基板とスタンパ−との間を
減圧にしつつ、ディスク基板とスタンパ−の両側から加
圧し、次いで紫外線照射により紫外線硬化型樹脂を硬化
させた後、積層されたディスク基板とスタンパ−とを前
記処理容器から取り出し、前者を後者から剥離すること
により、目的とする案内溝付きディスク基板を得た。
本実施例２では、硬化型樹脂として、前記実施例１で用
いた紫外線硬化型樹脂よりも低粘性のものを用いている
ため、スピンコード法によりディスク基板上に均一な紫
外線硬化型樹脂膜を形成することができたので、ディス
ク基板とスタンパ−との積層による樹脂のスタンパ−四
部への充填を円滑に行なうことができた。従って本実施
例２においては、樹脂内の気泡の残留は前記実施例１に
おけるよりも少なく、しかもその少ない残留気泡もその
後のディスク基板とスタンパ−との間の減圧処理により
除去されるので、スタンパ−の凹凸に極めて忠実に対応
する案内溝を得ることができた。なお本実施例２で用い
た紫外線硬化型樹脂は希釈剤としてのイソプロピルアル
コール溶剤を含むが、この溶剤は上記減圧処理により揮
散除去されるので、硬化済み樹脂中に溶剤残留の問題は
起らない。
いた紫外線硬化型樹脂よりも低粘性のものを用いている
ため、スピンコード法によりディスク基板上に均一な紫
外線硬化型樹脂膜を形成することができたので、ディス
ク基板とスタンパ−との積層による樹脂のスタンパ−四
部への充填を円滑に行なうことができた。従って本実施
例２においては、樹脂内の気泡の残留は前記実施例１に
おけるよりも少なく、しかもその少ない残留気泡もその
後のディスク基板とスタンパ−との間の減圧処理により
除去されるので、スタンパ−の凹凸に極めて忠実に対応
する案内溝を得ることができた。なお本実施例２で用い
た紫外線硬化型樹脂は希釈剤としてのイソプロピルアル
コール溶剤を含むが、この溶剤は上記減圧処理により揮
散除去されるので、硬化済み樹脂中に溶剤残留の問題は
起らない。
以上、実施例により本発明を説明してきたが、本発明は
以下の応用例や変形例を含むものである。
以下の応用例や変形例を含むものである。
（１）実施例では、紫外線硬化型樹脂を用いたが、電子
線硬化型や熱硬化型等の硬化型樹脂を用いることもでき
る。
線硬化型や熱硬化型等の硬化型樹脂を用いることもでき
る。
（２）実施例では、樹脂をディスク基板上に塗布したが
、スタンパ−上に塗布しても良い。また基板上およびス
タンパ−上に塗布しても良い。塗布方法として、実施例
で用いたデイスペンサーを用いる方法やスピンコード法
以外に、樹脂の性状等に応じてロールコート法等を用い
ることができる。
、スタンパ−上に塗布しても良い。また基板上およびス
タンパ−上に塗布しても良い。塗布方法として、実施例
で用いたデイスペンサーを用いる方法やスピンコード法
以外に、樹脂の性状等に応じてロールコート法等を用い
ることができる。
（３）実施例では、ディスク基板としてソーダライムガ
ラス製のものを用いたが、その他のガラス基板や、エポ
キシ樹脂、ポリカーボネート等のプラスチック基板を用
いても良い。紫外線硬化型樹脂を用いる場合、基板は、
その上から紫外線を照射できるように、透明である必要
があるが、スタンパ−として透明なものを用いれば、ス
タンパ−側から紫外線照射が可能であるので、非透明の
ものでも良い。
ラス製のものを用いたが、その他のガラス基板や、エポ
キシ樹脂、ポリカーボネート等のプラスチック基板を用
いても良い。紫外線硬化型樹脂を用いる場合、基板は、
その上から紫外線を照射できるように、透明である必要
があるが、スタンパ−として透明なものを用いれば、ス
タンパ−側から紫外線照射が可能であるので、非透明の
ものでも良い。
（４）実施例では、スタンバ−としてニッケル製のもの
を用いたが、その他の材質のものであっても良い。上述
の如く、透明のスンタバーを用いればスタンバ−側から
紫外線照射が可能である。
を用いたが、その他の材質のものであっても良い。上述
の如く、透明のスンタバーを用いればスタンバ−側から
紫外線照射が可能である。
（５）実施例では、基板とスタンバ−とを積層した後の
加圧を基板とスタンバ−の両側から行なったが、基板又
はスタンバ−の一方を固定すれば、片側のみの加圧でも
良い。加圧手段は加圧用ガスを用いる方法以外に油圧機
器を用いる等の任意の方法を採用することができる。
加圧を基板とスタンバ−の両側から行なったが、基板又
はスタンバ−の一方を固定すれば、片側のみの加圧でも
良い。加圧手段は加圧用ガスを用いる方法以外に油圧機
器を用いる等の任意の方法を採用することができる。
［発明の効果コ
以上述べたように、本発明の方法によれば、基板とスタ
ンバ−との間を減圧にすることにより、硬化型樹脂内の
気泡の残留が抑えられ、スタンバ−の凹凸に忠実に対応
する案内溝を有する情報記録用基板を得ることができる
。
ンバ−との間を減圧にすることにより、硬化型樹脂内の
気泡の残留が抑えられ、スタンバ−の凹凸に忠実に対応
する案内溝を有する情報記録用基板を得ることができる
。
第１図は、本発明の実施例を示す工程図である。
１・・・ディスク基板、２・・紫外線硬化型樹脂、２ａ
・・・紫外線硬化型樹脂層、３・・・スタンバ−４・・
・処理装置、５・・・内室、６・・・Ｏリング、７・・
・ガラス製上板、８・・・紫外線、９・・・案内溝、Ａ
・・・減圧される空間部分、Ｂ・・・加圧される空間部
分。
・・・紫外線硬化型樹脂層、３・・・スタンバ−４・・
・処理装置、５・・・内室、６・・・Ｏリング、７・・
・ガラス製上板、８・・・紫外線、９・・・案内溝、Ａ
・・・減圧される空間部分、Ｂ・・・加圧される空間部
分。
Claims (1)
- （１）基板上及び／又は案内溝に対応する凹凸形状を有
するスタンパーの前記凹凸形状面上に硬化型樹脂を塗布
した後、前記基板と前記スタンパーとを、これらの間に
前記硬化型樹脂が配置されるように積層し、次いで前記
基板と前記スタンパーとの間を減圧にして、前記基板と
前記スタンパーの少なくとも一方の側から加圧し、しか
る後、前記硬化型樹脂を硬化させ、前記スタンパーの凹
凸形状が転写された硬化済み樹脂膜が固着された前記基
板を前記スタンパーから剥離することを特徴とする案内
溝付き情報記録用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24638088A JPH0292603A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 案内溝付き情報記録用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24638088A JPH0292603A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 案内溝付き情報記録用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0292603A true JPH0292603A (ja) | 1990-04-03 |
Family
ID=17147681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24638088A Pending JPH0292603A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 案内溝付き情報記録用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0292603A (ja) |
Cited By (26)
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-
1988
- 1988-09-30 JP JP24638088A patent/JPH0292603A/ja active Pending
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