JPS6353022B2 - - Google Patents
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- JPS6353022B2 JPS6353022B2 JP58230360A JP23036083A JPS6353022B2 JP S6353022 B2 JPS6353022 B2 JP S6353022B2 JP 58230360 A JP58230360 A JP 58230360A JP 23036083 A JP23036083 A JP 23036083A JP S6353022 B2 JPS6353022 B2 JP S6353022B2
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- photopolymer
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Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C43/50—Removing moulded articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/44—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles
- B29C33/442—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles with mechanical ejector or drive means therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、放射線硬化樹脂を用いた情報記録円
板（以下単にデイスクと称する）の製造装置に関
するものである。
板（以下単にデイスクと称する）の製造装置に関
するものである。
背景技術
この種の装置においては、ベース上に接着剤等
で固定されたスタンパーの信号面上に液状の放射
線硬化樹脂を塗布し、その上に透明な基板を置
き、これを介して放射線を照射し放射線硬化樹脂
を硬化させてスタンパーに刻まれた信号を転写
し、しかる後硬化した樹脂層を透明基板と一体に
スタンパーから剥離することにより、デイスクを
製造するようになされている。そして剥離された
デイスクにアルミ蒸着膜をつけ、更にオーバーコ
ートすることにより完成品となるのである。
で固定されたスタンパーの信号面上に液状の放射
線硬化樹脂を塗布し、その上に透明な基板を置
き、これを介して放射線を照射し放射線硬化樹脂
を硬化させてスタンパーに刻まれた信号を転写
し、しかる後硬化した樹脂層を透明基板と一体に
スタンパーから剥離することにより、デイスクを
製造するようになされている。そして剥離された
デイスクにアルミ蒸着膜をつけ、更にオーバーコ
ートすることにより完成品となるのである。
従来、硬化した樹脂層を透明基板と一体にスタ
ンパーから剥離する場合、真空パツドや透明基板
の上面を吸引して引き上げる方法や、機械的なツ
メを用いて樹脂層の外周に引つ掛けて引き上げる
方法が採られていたが、前者の方法では引上げ力
に限界があり、20cm、30cmのデイスクとなると剥
離出来ない場合があり、また後者の方法にあつて
はツメの制御が複雑であると共にデイスクを損傷
し易いという欠点があつた。
ンパーから剥離する場合、真空パツドや透明基板
の上面を吸引して引き上げる方法や、機械的なツ
メを用いて樹脂層の外周に引つ掛けて引き上げる
方法が採られていたが、前者の方法では引上げ力
に限界があり、20cm、30cmのデイスクとなると剥
離出来ない場合があり、また後者の方法にあつて
はツメの制御が複雑であると共にデイスクを損傷
し易いという欠点があつた。
発明の開示
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除
去すべくなされたもので、デイスクを損傷するこ
となく迅速かつ確実に剥離を行うことができる情
報記録円板の製造装置を提供することを目的とす
る。
去すべくなされたもので、デイスクを損傷するこ
となく迅速かつ確実に剥離を行うことができる情
報記録円板の製造装置を提供することを目的とす
る。
本発明による製造装置においては、透明基板の
外周部をスタンパーに対して押えながら、その内
周部を担持した部材により内周部をスタンパーに
対して持ち上げる構成となつている。
外周部をスタンパーに対して押えながら、その内
周部を担持した部材により内周部をスタンパーに
対して持ち上げる構成となつている。
実施例
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図において、本発明に係るデイスクの製造
装置は、スタンパーの信号面上に液状の放射線硬
化樹脂（以下フオトポリマーと称する）を塗布す
る工程を担う塗布装置１と、フオトポリマー上に
透明基板を載置し加圧して前記スタンパーに刻ま
れた信号をフオトポリマーに転写する工程及び次
の照射工程を経て硬化した樹脂層を前記透明基板
と一体にスタンパーから剥離する工程を担う転
写・剥離装置２と、スタンパーと透明基板との間
に充填されている液状のフオトポリマーを紫外線
照射によつて硬化させる工程を担う照射装置３と
からなり、各装置に亘つて設けられたリニアスラ
イド軌道台４上をテーブル本体５が移動すること
によつて上記一連の工程を連続して行い、デイス
クを製造する構成となつている。
装置は、スタンパーの信号面上に液状の放射線硬
化樹脂（以下フオトポリマーと称する）を塗布す
る工程を担う塗布装置１と、フオトポリマー上に
透明基板を載置し加圧して前記スタンパーに刻ま
れた信号をフオトポリマーに転写する工程及び次
の照射工程を経て硬化した樹脂層を前記透明基板
と一体にスタンパーから剥離する工程を担う転
写・剥離装置２と、スタンパーと透明基板との間
に充填されている液状のフオトポリマーを紫外線
照射によつて硬化させる工程を担う照射装置３と
からなり、各装置に亘つて設けられたリニアスラ
イド軌道台４上をテーブル本体５が移動すること
によつて上記一連の工程を連続して行い、デイス
クを製造する構成となつている。
塗布装置１において、ベース板６上に直立した
ロツド７，７には基台８が上下動自在に取り付け
られ、この基台８には軸９が回転自在に取り付け
られている。第２図から明らかな様に、軸９はそ
の上端に固定されたプーリ１０に架設されたベル
ト１１を介して、基台８上に担持されたモータ１
２により回転駆動される。軸９の下端には吐出装
置１３が取り付けられている。吐出装置１３は軸
９の軸芯から所定距離Ｌだけ離れて設けられたニ
ードル部１４を備え、このニードル部１４を後述
するスタンパー１５（第２図参照）の信号面上に
液状のフオトポリマーを一定量吐出する。このと
き吐出装置１３がモータ１２の回転に伴つて軸９
と一体に回転し、かつニードル部１４が軸９の軸
芯から所定距離Ｌだけ離れているので、スタンパ
ー１５の信号面上に吐出されるフオトポリマーは
上記所定距離Ｌを半径とする環状となる。上記所
定距離Ｌはニードル部１４の位置を調整する調整
機構１６によつて可変であり、スタンパー１５の
信号面の面積、フオトポリマーの粘度等に応じて
適当に設定される。調整機構１６は、ニードル部
１４の本体に螺合した螺旋軸１７及びこれを回転
せしめるハンドル１８等により構成される。
ロツド７，７には基台８が上下動自在に取り付け
られ、この基台８には軸９が回転自在に取り付け
られている。第２図から明らかな様に、軸９はそ
の上端に固定されたプーリ１０に架設されたベル
ト１１を介して、基台８上に担持されたモータ１
２により回転駆動される。軸９の下端には吐出装
置１３が取り付けられている。吐出装置１３は軸
９の軸芯から所定距離Ｌだけ離れて設けられたニ
ードル部１４を備え、このニードル部１４を後述
するスタンパー１５（第２図参照）の信号面上に
液状のフオトポリマーを一定量吐出する。このと
き吐出装置１３がモータ１２の回転に伴つて軸９
と一体に回転し、かつニードル部１４が軸９の軸
芯から所定距離Ｌだけ離れているので、スタンパ
ー１５の信号面上に吐出されるフオトポリマーは
上記所定距離Ｌを半径とする環状となる。上記所
定距離Ｌはニードル部１４の位置を調整する調整
機構１６によつて可変であり、スタンパー１５の
信号面の面積、フオトポリマーの粘度等に応じて
適当に設定される。調整機構１６は、ニードル部
１４の本体に螺合した螺旋軸１７及びこれを回転
せしめるハンドル１８等により構成される。
第３図において、転写・剥離装置２は、先述し
たテーブル本体５上に担持されて各装置間を移動
する下部ハウジング２０と、上下動自在に設けら
れ下部ハウジング２０とによつて適宜密閉室を形
成する上部ハウジング２１とを含んでいる。下部
ハウジング２０の上面凹部２０ａにはスタンパー
ベース２２が嵌着され、下部ハウジング２０の中
心孔２０ｂには駆動部本体２３が嵌着されてい
る。駆動部本体２３の中心部にはシヤフト２４が
上下動自在に挿通され、このシヤフト２４の上端
には担持部材としてのセンターボス２５が嵌着さ
れている。駆動部本体２３とシヤフト２４との間
にはスクレーパ２６及びシール２７が介在し、ベ
ース２２の内周部においてＯリング５２ａ，５２
ｂと協働してベース２２と後述するサブストレー
トとの間の気密性を維持し、かつ加圧気体を緩衝
させる手段すなわち加圧室３６ａを構成する。シ
ヤフト２４の下端にはカム押え２８を介してカム
フオロア２９が回転自在に設けられており、この
カムフオロア２９はシヤフト３０に固定されたカ
ム３１のカム面に、スプリング３２の弾発力によ
り圧接している。シヤフト３０は図示せぬ駆動源
により適宜駆動され、これによりセンターボス２
５が上下動するが、通常は上昇位置にある。スタ
ンパーベース２２上にはスタンパー１５が接着剤
等により固着されている。スタンパー１５最外周
部及び最内周部に沿つて環状溝３３ａ，３３ｂが
形成されており、これら環状溝３３ａ，３３ｂは
下部ハウジング２０及び駆動部本体２３にそれぞ
れ形成された連通路３４ａ，３４ｂ及び真空配管
３５，３６を介して減圧手段である図示せぬ真空
ポンプに連通している。
たテーブル本体５上に担持されて各装置間を移動
する下部ハウジング２０と、上下動自在に設けら
れ下部ハウジング２０とによつて適宜密閉室を形
成する上部ハウジング２１とを含んでいる。下部
ハウジング２０の上面凹部２０ａにはスタンパー
ベース２２が嵌着され、下部ハウジング２０の中
心孔２０ｂには駆動部本体２３が嵌着されてい
る。駆動部本体２３の中心部にはシヤフト２４が
上下動自在に挿通され、このシヤフト２４の上端
には担持部材としてのセンターボス２５が嵌着さ
れている。駆動部本体２３とシヤフト２４との間
にはスクレーパ２６及びシール２７が介在し、ベ
ース２２の内周部においてＯリング５２ａ，５２
ｂと協働してベース２２と後述するサブストレー
トとの間の気密性を維持し、かつ加圧気体を緩衝
させる手段すなわち加圧室３６ａを構成する。シ
ヤフト２４の下端にはカム押え２８を介してカム
フオロア２９が回転自在に設けられており、この
カムフオロア２９はシヤフト３０に固定されたカ
ム３１のカム面に、スプリング３２の弾発力によ
り圧接している。シヤフト３０は図示せぬ駆動源
により適宜駆動され、これによりセンターボス２
５が上下動するが、通常は上昇位置にある。スタ
ンパーベース２２上にはスタンパー１５が接着剤
等により固着されている。スタンパー１５最外周
部及び最内周部に沿つて環状溝３３ａ，３３ｂが
形成されており、これら環状溝３３ａ，３３ｂは
下部ハウジング２０及び駆動部本体２３にそれぞ
れ形成された連通路３４ａ，３４ｂ及び真空配管
３５，３６を介して減圧手段である図示せぬ真空
ポンプに連通している。
一方、上部ハウジング２１は通常下部ハウジン
グ２０から離間した位置に保持されており、塗布
工程から転写工程への移行が完了すると、下降し
て下部ハウジング２０とによつて密閉室を形成す
る。上部ハウジング２１にはその中心に関して等
角度にて例えば６個の真空パツド３７が後述する
サブストレートの上面に吸着する吸着手段として
設けられ、更にこれら真空パツド３７の外側には
これら真空パツド３７間に位置するように例えば
６個の真空パツド３８がそれぞれ上下動自在に設
けられている。これら真空パツド３７，３８は真
空配管３９，４０を介して図示せぬ真空ポンプに
連通しており、上部ハウジング２１の上面に設け
られたジグシリンダ４１，４２によつて上下動せ
しめられる。ジグシリンダ４１は、空−油変換を
行つた油駆動のもので、微速度送りが可能であ
る。上部ハウジング２１の中央突出部２１ａに
は、センターボス２５上に載置された透明基板
（以下サブストレートと称する）４３の中央部を
押えるためのセンター押え４４が上下動自在に嵌
合している。このセンター押え４４はスプリング
４５により下方に付勢され、ストツパー４６によ
つて離脱防止が図られている。真空パツド３７は
ハウジング密閉状態の初期においてサブストレー
ト４３の上面に接触する高さ位置に保持されてい
る。
グ２０から離間した位置に保持されており、塗布
工程から転写工程への移行が完了すると、下降し
て下部ハウジング２０とによつて密閉室を形成す
る。上部ハウジング２１にはその中心に関して等
角度にて例えば６個の真空パツド３７が後述する
サブストレートの上面に吸着する吸着手段として
設けられ、更にこれら真空パツド３７の外側には
これら真空パツド３７間に位置するように例えば
６個の真空パツド３８がそれぞれ上下動自在に設
けられている。これら真空パツド３７，３８は真
空配管３９，４０を介して図示せぬ真空ポンプに
連通しており、上部ハウジング２１の上面に設け
られたジグシリンダ４１，４２によつて上下動せ
しめられる。ジグシリンダ４１は、空−油変換を
行つた油駆動のもので、微速度送りが可能であ
る。上部ハウジング２１の中央突出部２１ａに
は、センターボス２５上に載置された透明基板
（以下サブストレートと称する）４３の中央部を
押えるためのセンター押え４４が上下動自在に嵌
合している。このセンター押え４４はスプリング
４５により下方に付勢され、ストツパー４６によ
つて離脱防止が図られている。真空パツド３７は
ハウジング密閉状態の初期においてサブストレー
ト４３の上面に接触する高さ位置に保持されてい
る。
スタンパー１５の最外周部に沿つて形成された
環状溝３３ａを覆うための環状シール４７が設け
られている。この環状シール４７は石英ガラス、
アクリル樹脂等の紫外線透過性の材質からなり、
その上面凹部に固着された磁性板４８が、上記ハ
ウジング２１に適当な間隔で埋設されたマグネツ
ト４９に吸着されることにより、上部ハウジング
２１に取り付けられた状態に保持される。この環
状シール４７は真空パツド３８が減圧状態で上下
動するときに、これに吸引された状態で一体に上
下動し、降下状態にあるときには、真空パツド３
８と協働してサブストレート４３の外周部をスタ
ンパー１５に対して押しつける手段を構成すると
共に、ベース２２の外周部においてＯリング５１
と協動してベース２２とサブストレート４３との
間の気密性を維持する手段を構成する。
環状溝３３ａを覆うための環状シール４７が設け
られている。この環状シール４７は石英ガラス、
アクリル樹脂等の紫外線透過性の材質からなり、
その上面凹部に固着された磁性板４８が、上記ハ
ウジング２１に適当な間隔で埋設されたマグネツ
ト４９に吸着されることにより、上部ハウジング
２１に取り付けられた状態に保持される。この環
状シール４７は真空パツド３８が減圧状態で上下
動するときに、これに吸引された状態で一体に上
下動し、降下状態にあるときには、真空パツド３
８と協働してサブストレート４３の外周部をスタ
ンパー１５に対して押しつける手段を構成すると
共に、ベース２２の外周部においてＯリング５１
と協動してベース２２とサブストレート４３との
間の気密性を維持する手段を構成する。
転写工程が終了すると、上部ハウジング２１が
上昇し、下部ハウジング２０は第１図に示す照射
装置３の下方に移動する。そして照射装置３から
紫外線が照射され、これによりスタンパー１５と
サブストレート４３との間に充填されている液状
のフオトポリマーが硬化し、樹脂層を形成する。
照射工程が終了すると、下部ハウジング２０は再
び上部ハウジング２１の下方に移動し、剥離工程
に移行する。
上昇し、下部ハウジング２０は第１図に示す照射
装置３の下方に移動する。そして照射装置３から
紫外線が照射され、これによりスタンパー１５と
サブストレート４３との間に充填されている液状
のフオトポリマーが硬化し、樹脂層を形成する。
照射工程が終了すると、下部ハウジング２０は再
び上部ハウジング２１の下方に移動し、剥離工程
に移行する。
スタンパー１５の内周部及び外周部には、第４
図から特に明らかな様に、好ましくは45゜の傾き
を有する傾斜部１５ａ，１５ｂが形成されてい
る。スタンパー１５の信号面上に環状に吐出され
た液状のフオトポリマーは、その上にサブストレ
ート４３が載置されると、スタンパー１５とサブ
ストレート４３との間をスタンパー１５の信号面
全面に亘つて広がるのであるが、このとき、スタ
ンパー１５の内周部においては、フオトポリマー
が傾斜部１５ａの位置で表面張力と段差により円
形状に停止することになる。また、スタンパーの
外周部においては、硬化したフオトポリマーを剥
離するときに、はみ出したフオトポリマーが残り
易いのであるが、傾斜部１５ｂが略45゜の傾斜角
度をなしているので、剪断応力によるすべり破壊
により、硬化後のフオトポリマーを残すことなく
剥離が行え、フオトポリマーの最外周部の剥離性
を向上できることになる。
図から特に明らかな様に、好ましくは45゜の傾き
を有する傾斜部１５ａ，１５ｂが形成されてい
る。スタンパー１５の信号面上に環状に吐出され
た液状のフオトポリマーは、その上にサブストレ
ート４３が載置されると、スタンパー１５とサブ
ストレート４３との間をスタンパー１５の信号面
全面に亘つて広がるのであるが、このとき、スタ
ンパー１５の内周部においては、フオトポリマー
が傾斜部１５ａの位置で表面張力と段差により円
形状に停止することになる。また、スタンパーの
外周部においては、硬化したフオトポリマーを剥
離するときに、はみ出したフオトポリマーが残り
易いのであるが、傾斜部１５ｂが略45゜の傾斜角
度をなしているので、剪断応力によるすべり破壊
により、硬化後のフオトポリマーを残すことなく
剥離が行え、フオトポリマーの最外周部の剥離性
を向上できることになる。
次に、本発明による製造装置の動作について説
明する。
明する。
まず、第１図において、下部ハウジング２０が
テーブル本体５と一体に吐出装置１３の下方まで
移動し、塗布工程となる。塗布工程では、吐出装
置１３が基台８と一体に下降し、ニードル部１４
の先端がスタンパー１５（第３図参照）の信号面
に近接した位置で停止し、しかる後モータ１２の
駆動力によつて軸９と一体に回転する。これに伴
いニードル部１４が軸９の周りを回動しつつ液状
のフオトポリマーをスタンパー１５の信号面上に
吐出する。フオトポリマーとしては、例えば、粘
度が数10〜1000cps程度で、真空中においても粘
性や重量等の変化がないアクリルモノマーのもの
が用いられる。吐出されたフオトポリマーは軸９
とニードル部１４との間の距離Ｌ（第２図参照）
を半径とする環状となる。吐出装置１３が一回転
すると、フオトポリマーの吐出を停止し、初期位
置まで上昇する。塗布工程が終了すると、下部ハ
ウジング２０が上部ハウジング２１の下方まで移
動し、転写工程に移行する。
テーブル本体５と一体に吐出装置１３の下方まで
移動し、塗布工程となる。塗布工程では、吐出装
置１３が基台８と一体に下降し、ニードル部１４
の先端がスタンパー１５（第３図参照）の信号面
に近接した位置で停止し、しかる後モータ１２の
駆動力によつて軸９と一体に回転する。これに伴
いニードル部１４が軸９の周りを回動しつつ液状
のフオトポリマーをスタンパー１５の信号面上に
吐出する。フオトポリマーとしては、例えば、粘
度が数10〜1000cps程度で、真空中においても粘
性や重量等の変化がないアクリルモノマーのもの
が用いられる。吐出されたフオトポリマーは軸９
とニードル部１４との間の距離Ｌ（第２図参照）
を半径とする環状となる。吐出装置１３が一回転
すると、フオトポリマーの吐出を停止し、初期位
置まで上昇する。塗布工程が終了すると、下部ハ
ウジング２０が上部ハウジング２１の下方まで移
動し、転写工程に移行する。
転写工程については、第３図及び第５図ａ〜ｅ
に基づいて説明する。転写工程の初期状態におい
ては、第５図ａに示す様に、下部ハウジング２０
に対して上部ハウジング２１が離間しており、ま
たサブストレート４３を担持したセンターボス２
５及び真空パツド３７，３８は上昇している。こ
の初期状態から上部ハウジング２１が下降し、第
５図ｂに示す様に、下部ハウジング２０との間に
密閉室を形成する。上部、下部ハウジング２１，
２０の外縁部間にはＯリング５０が介在し、密閉
室の気密性を維持する。このとき、センター押え
４４はスプリング４５の弾発力によつてサブスト
レート４３をセンターボスに２５に押しつけ、ま
た真空パツド３７はサブストレート４３の上面に
接触し、更に負圧−650mmHg程度の真空度の減圧
状態とされることによりサブストレート４３を吸
着する。その後、前記密閉室が下部ハウジング２
０に形成された連通路３４ａ，３４ｂ及び真空配
管３５，３６を介して図示せぬ真空ポンプによ
り、負圧−500mmHg程度の真空度に減圧され、そ
の状態が保たれる。この状態では、真空パツド３
７内と密閉室内との間には約150mmHgの差圧があ
り、この差圧によりサブストレート４３は真空パ
ツド３７に吸着されている。
に基づいて説明する。転写工程の初期状態におい
ては、第５図ａに示す様に、下部ハウジング２０
に対して上部ハウジング２１が離間しており、ま
たサブストレート４３を担持したセンターボス２
５及び真空パツド３７，３８は上昇している。こ
の初期状態から上部ハウジング２１が下降し、第
５図ｂに示す様に、下部ハウジング２０との間に
密閉室を形成する。上部、下部ハウジング２１，
２０の外縁部間にはＯリング５０が介在し、密閉
室の気密性を維持する。このとき、センター押え
４４はスプリング４５の弾発力によつてサブスト
レート４３をセンターボスに２５に押しつけ、ま
た真空パツド３７はサブストレート４３の上面に
接触し、更に負圧−650mmHg程度の真空度の減圧
状態とされることによりサブストレート４３を吸
着する。その後、前記密閉室が下部ハウジング２
０に形成された連通路３４ａ，３４ｂ及び真空配
管３５，３６を介して図示せぬ真空ポンプによ
り、負圧−500mmHg程度の真空度に減圧され、そ
の状態が保たれる。この状態では、真空パツド３
７内と密閉室内との間には約150mmHgの差圧があ
り、この差圧によりサブストレート４３は真空パ
ツド３７に吸着されている。
次いで、センターボス２５がカム３１の回転に
応動して下降する。このとき、サブストレート４
３の外周部は真空パツド３７に吸着されており、
サブストレート４３の内周部のみがセンターボス
２５と一体に下降し、第５図ｃに示す様に、まず
サブストレート４３の内周がスタンパー１５上の
フオトポリマー2Pに接触する。これによりフオ
トポリマー2Pはその表面張力によりスタンパー
１５の信号面の内周部全面に亘つて広がる。次い
で、第５図ｄに示す如く、真空パツド３７が下降
すると、フオトポリマー2Pがスタンパー１５と
サブストレート４３との間に全面に亘つて充填さ
れることになる。このように、負圧−500mmHg程
度の真空度に減圧された密閉室内において、サブ
ストレート４３をスタンパー１５に対してその内
周部から外周部にかけて徐々に下降させることに
より、フオトポリマー2P内への泡の巻き込みを
極めて少なくすることができる。
応動して下降する。このとき、サブストレート４
３の外周部は真空パツド３７に吸着されており、
サブストレート４３の内周部のみがセンターボス
２５と一体に下降し、第５図ｃに示す様に、まず
サブストレート４３の内周がスタンパー１５上の
フオトポリマー2Pに接触する。これによりフオ
トポリマー2Pはその表面張力によりスタンパー
１５の信号面の内周部全面に亘つて広がる。次い
で、第５図ｄに示す如く、真空パツド３７が下降
すると、フオトポリマー2Pがスタンパー１５と
サブストレート４３との間に全面に亘つて充填さ
れることになる。このように、負圧−500mmHg程
度の真空度に減圧された密閉室内において、サブ
ストレート４３をスタンパー１５に対してその内
周部から外周部にかけて徐々に下降させることに
より、フオトポリマー2P内への泡の巻き込みを
極めて少なくすることができる。
フオトポリマー2Pがスタンパー１５とサブス
トレート４３との間に充填されると、第５図ｅに
示す様に、環状シール４７が真空パツド３８によ
り吸着された状態で真空パツド３８と共に下降
し、サブストレート４３の外縁部を押えると共
に、スタンパー１５の最外周部に沿つて形成され
た環状溝３３ａを覆う。このとき環状シール４７
と下部ハウジング２０との間にＯリング５１が介
在し、これにより環状溝３３ａの気密性が維持さ
れる。次いでサブストレート４３の上方の密閉室
内が大気圧に戻されるが、環状溝３３ａ，３３ｂ
が連通路３４ａ，３４ｂを介して減圧されてお
り、フオトポリマー2Pによる樹脂層が真空状態
になり、かつサブストレート４３がスタンパー１
５に大気圧で押しつけられるので、樹脂層内に巻
き込まれた泡が真空源方向すなわちサブストレー
ト４３の内周及び外周方向に押し出されて除去さ
れる。同時に樹脂層の厚さが約10μｍ以下に均一
に保たれる。その後上部ハウジング２１が上昇
し、同時に真空パツド３７も上部ハウジング２１
に対して上昇する。環状シール４７は環状溝３３
ａを覆つた状態を持続する。
トレート４３との間に充填されると、第５図ｅに
示す様に、環状シール４７が真空パツド３８によ
り吸着された状態で真空パツド３８と共に下降
し、サブストレート４３の外縁部を押えると共
に、スタンパー１５の最外周部に沿つて形成され
た環状溝３３ａを覆う。このとき環状シール４７
と下部ハウジング２０との間にＯリング５１が介
在し、これにより環状溝３３ａの気密性が維持さ
れる。次いでサブストレート４３の上方の密閉室
内が大気圧に戻されるが、環状溝３３ａ，３３ｂ
が連通路３４ａ，３４ｂを介して減圧されてお
り、フオトポリマー2Pによる樹脂層が真空状態
になり、かつサブストレート４３がスタンパー１
５に大気圧で押しつけられるので、樹脂層内に巻
き込まれた泡が真空源方向すなわちサブストレー
ト４３の内周及び外周方向に押し出されて除去さ
れる。同時に樹脂層の厚さが約10μｍ以下に均一
に保たれる。その後上部ハウジング２１が上昇
し、同時に真空パツド３７も上部ハウジング２１
に対して上昇する。環状シール４７は環状溝３３
ａを覆つた状態を持続する。
下部ハウジング２０は、環状溝３３ａ，３３ｂ
が減圧された状態で、第１図に示す照射装置３の
下方まで移動し、照射工程に移行する。照射工程
では、環状溝３３ａ，３３ｂの減圧によりフオト
ポリマー2Pからなる樹脂層はその厚みが約10μｍ
以下に保たれた状態でサブストレート４３を介し
て照射装置３により紫外線照射を受け、硬化す
る。硬化した樹脂層の厚みは約10μｍ以下とな
る。サブストレート４３の外縁部上には環状シー
ル４７が存在するが、当該シール４７は紫外線透
過性の材質からなつているので、樹脂層全体に亘
つて良好に紫外線が照射されることになる。照射
工程が終了すると、下部ハウジング２０が再び上
部ハウジング２１の下方まで移動し、剥離工程に
移行する。
が減圧された状態で、第１図に示す照射装置３の
下方まで移動し、照射工程に移行する。照射工程
では、環状溝３３ａ，３３ｂの減圧によりフオト
ポリマー2Pからなる樹脂層はその厚みが約10μｍ
以下に保たれた状態でサブストレート４３を介し
て照射装置３により紫外線照射を受け、硬化す
る。硬化した樹脂層の厚みは約10μｍ以下とな
る。サブストレート４３の外縁部上には環状シー
ル４７が存在するが、当該シール４７は紫外線透
過性の材質からなつているので、樹脂層全体に亘
つて良好に紫外線が照射されることになる。照射
工程が終了すると、下部ハウジング２０が再び上
部ハウジング２１の下方まで移動し、剥離工程に
移行する。
剥離工程については、第３図及び第６図ａ〜ｂ
に基づいて説明する。剥離工程に移行すると、上
部ハウジング２１が下降し、第６図ａに示す様
に、下部ハウジング２０との間に再び密閉室を形
成し、また真空パツド３８が下降状態にあるので
環状シール４７の上面に当接し、サブストレート
４３の外縁部を押しつける。次いでカム３１が回
転し、これに応動してセンターボス２５が、サブ
ストレート４３と一体に硬化したフオトポリマー
2P（樹脂層）の最内周をスタンパー１５から剥離
できる程度、例えば１〜３mm程度上昇する。これ
により樹脂層の最内周が剥離される。なお、セン
ターボス２５の最大ストロークは例えば８mm程度
である。
に基づいて説明する。剥離工程に移行すると、上
部ハウジング２１が下降し、第６図ａに示す様
に、下部ハウジング２０との間に再び密閉室を形
成し、また真空パツド３８が下降状態にあるので
環状シール４７の上面に当接し、サブストレート
４３の外縁部を押しつける。次いでカム３１が回
転し、これに応動してセンターボス２５が、サブ
ストレート４３と一体に硬化したフオトポリマー
2P（樹脂層）の最内周をスタンパー１５から剥離
できる程度、例えば１〜３mm程度上昇する。これ
により樹脂層の最内周が剥離される。なお、セン
ターボス２５の最大ストロークは例えば８mm程度
である。
この状態において、図示せぬ空気圧送手段から
真空配管３６及び連通路３４ｂさらに加圧室３６
ａを介して圧縮空気（１〜５Kg程度）を樹脂層の
最内周に送ることにより、サブストレート４３の
外縁部が環状シール４７で押えられているので、
圧縮空気はサブストレート４３の外縁部から漏れ
ることなく全面に亘つて流れ、これにより樹脂層
は第６図ｂに示す如く、環状シール４７で押えら
れた最外縁部を除く全面に亘つて剥離する。次い
で、真空パツド３８が減圧され、環状シール４７
を吸引後上昇する。同時に、真空パツド３７が下
降し、第６図ｃに示す如く、サブストレート４３
の上面に当接する。そして真空パツド３７は負圧
−650mmHg程度の真空度に減圧され、これにより
サブストレート４３を吸引し、この状態で上昇す
ることにより樹脂層の最外周部を剥離する。その
後減圧状態が解除される。続いてカム３１の回転
に応動してセンターボス２５がサブストレート４
３を担持して上昇し、第６図ｄに示す初期状態に
戻る。しかる後上部ハウジング２１が上昇し、剥
離工程を終了する。以後アルミ蒸着膜を付け、更
にオーバーコートすることにより、光学式デイス
クの完成品となる。
真空配管３６及び連通路３４ｂさらに加圧室３６
ａを介して圧縮空気（１〜５Kg程度）を樹脂層の
最内周に送ることにより、サブストレート４３の
外縁部が環状シール４７で押えられているので、
圧縮空気はサブストレート４３の外縁部から漏れ
ることなく全面に亘つて流れ、これにより樹脂層
は第６図ｂに示す如く、環状シール４７で押えら
れた最外縁部を除く全面に亘つて剥離する。次い
で、真空パツド３８が減圧され、環状シール４７
を吸引後上昇する。同時に、真空パツド３７が下
降し、第６図ｃに示す如く、サブストレート４３
の上面に当接する。そして真空パツド３７は負圧
−650mmHg程度の真空度に減圧され、これにより
サブストレート４３を吸引し、この状態で上昇す
ることにより樹脂層の最外周部を剥離する。その
後減圧状態が解除される。続いてカム３１の回転
に応動してセンターボス２５がサブストレート４
３を担持して上昇し、第６図ｄに示す初期状態に
戻る。しかる後上部ハウジング２１が上昇し、剥
離工程を終了する。以後アルミ蒸着膜を付け、更
にオーバーコートすることにより、光学式デイス
クの完成品となる。
なお、上記実施例においては、サブストレート
４３の内周部及び外周部の両方の気密性を維持し
かつサブストレート４３の内周部を僅かに持ち上
げた後、加圧室３６ａを介して緩衝された加圧空
気を圧送して樹脂層をサブストレート４３と一体
に剥離する構成としたが、基本的には、樹脂層と
スタンパーとの結合力が各々の材質上から比較的
弱いので、サブストレート４３の内周部の気密性
を維持するのみで空気を圧送することにより、樹
脂層の剥離を行えるのである。
４３の内周部及び外周部の両方の気密性を維持し
かつサブストレート４３の内周部を僅かに持ち上
げた後、加圧室３６ａを介して緩衝された加圧空
気を圧送して樹脂層をサブストレート４３と一体
に剥離する構成としたが、基本的には、樹脂層と
スタンパーとの結合力が各々の材質上から比較的
弱いので、サブストレート４３の内周部の気密性
を維持するのみで空気を圧送することにより、樹
脂層の剥離を行えるのである。
しかしながら、圧送空気のみの剥離では高加圧
空気が必要となるので高加圧の空気を導入する場
合においては、サブストレートの内周部を機械的
に持ち上げ剥離させかつ加圧室により緩衝された
空気を送り込むことにより、樹脂層表面に転写さ
れた微少ピツトの保護を確実に行うことができ
る。
空気が必要となるので高加圧の空気を導入する場
合においては、サブストレートの内周部を機械的
に持ち上げ剥離させかつ加圧室により緩衝された
空気を送り込むことにより、樹脂層表面に転写さ
れた微少ピツトの保護を確実に行うことができ
る。
効 果
以上説明したように、本発明によれば、サブス
トレートの外周部をスタンパーに対して押えなが
ら、その内周部を担持した部材により内周部をス
タンパーに対して持ち上げるようにしたので、デ
イスクを損傷することなく迅速かつ確実に剥離を
行うことができるデイスク製造装置が得られる。
トレートの外周部をスタンパーに対して押えなが
ら、その内周部を担持した部材により内周部をス
タンパーに対して持ち上げるようにしたので、デ
イスクを損傷することなく迅速かつ確実に剥離を
行うことができるデイスク製造装置が得られる。
第１図は本発明に係る製造装置の一部断面図を
含む正面図、第２図は第１図における塗布装置の
一部断面を含む側面図、第３図は第１図における
転写・剥離装置の断面図、第４図は第３図の要部
拡大図、第５図ａ〜ｅは転写工程における動作説
明図、第６図ａ〜ｄは剥離工程における動作説明
図である。 主要部分の符号の説明、１……塗布装置、２…
…転写・剥離装置、３……照射装置、１３……吐
出装置、１４……ニードル部、１５……スタンパ
ー、２０……下部ハウジング、２１……上部ハウ
ジング、２５……センターボス、３１……カム、
３７，３８……真空パツド、４３……サブストレ
ート、４７……環状シール、４９……マグネツ
ト。
含む正面図、第２図は第１図における塗布装置の
一部断面を含む側面図、第３図は第１図における
転写・剥離装置の断面図、第４図は第３図の要部
拡大図、第５図ａ〜ｅは転写工程における動作説
明図、第６図ａ〜ｄは剥離工程における動作説明
図である。 主要部分の符号の説明、１……塗布装置、２…
…転写・剥離装置、３……照射装置、１３……吐
出装置、１４……ニードル部、１５……スタンパ
ー、２０……下部ハウジング、２１……上部ハウ
ジング、２５……センターボス、３１……カム、
３７，３８……真空パツド、４３……サブストレ
ート、４７……環状シール、４９……マグネツ
ト。
Claims (1)
- １ ベース上に固定されたスタンパーの信号面と
透明基板との間にて放射線照射により硬化した樹
脂層を、前記透明基板と一体に前記スタンパーか
ら剥離するようになすべく、前記透明基板の外周
部を前記スタンパーに対して押しつける環状部材
と、前記透明基板の内周部を担持する環状フラン
ジを有しかつ前記ベースの中央において囲繞され
かつ前記スタンパーに対して前記内周部を離間せ
しめるように移動するセンターボスと、前記セン
ターボスと共に移動しかつ前記環状フランジと協
働して前記内周部を気密的に挾持するセンター押
え部材と、加圧気体供給手段とを備えた情報記録
円板の製造装置であつて、前記センターボスの周
囲の前記ベースとの間に加圧室を形成しかつ前記
センターボスを移動させつつ前記加圧気体供給手
段から前記加圧室を介して前記内周部の全縁と前
記スタンパの間に加圧気体が圧送されることを特
徴とする情報記録円板の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23036083A JPS60122140A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23036083A JPS60122140A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122140A JPS60122140A (ja) | 1985-06-29 |
| JPS6353022B2 true JPS6353022B2 (ja) | 1988-10-20 |
Family
ID=16906634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23036083A Granted JPS60122140A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 情報記録円板の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122140A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0626823B2 (ja) * | 1987-10-15 | 1994-04-13 | パイオニア株式会社 | 光ディスク製造装置 |
| US5112205A (en) * | 1989-05-15 | 1992-05-12 | Sony Corporation | Optical-disk manufacturing apparatus |
| NL8903010A (nl) * | 1989-12-07 | 1991-07-01 | Philips & Du Pont Optical | Werkwijze en inrichting voor het verwijderen van een buigzaam produkt van een draagplaat. |
| NL9002517A (nl) * | 1990-11-19 | 1992-06-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een optisch uitleesbare plaat, alsmede inrichting voor de uitvoering van de werkwijze. |
| US7695667B2 (en) | 2006-03-01 | 2010-04-13 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method and apparatus for separating a stamper from a patterned substrate |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58122828A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-07-21 | トムソン−セ−・エス・エフ | デイスク盤離型方法およびその離型装置 |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23036083A patent/JPS60122140A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58122828A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-07-21 | トムソン−セ−・エス・エフ | デイスク盤離型方法およびその離型装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60122140A (ja) | 1985-06-29 |
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