JPS5998524A - 透明体の検査装置 - Google Patents
透明体の検査装置Info
- Publication number
- JPS5998524A JPS5998524A JP57206174A JP20617482A JPS5998524A JP S5998524 A JPS5998524 A JP S5998524A JP 57206174 A JP57206174 A JP 57206174A JP 20617482 A JP20617482 A JP 20617482A JP S5998524 A JPS5998524 A JP S5998524A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- transmits
- glass mask
- mask
- deflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、透明体の検査装置に関する。
一般に、半導体装置の製造に不可欠なホトリソグラフィ
（写真処理）にはウェハに塗布したホトレジスト膜を選
択的に感光させる工程が必要になる。この感光処理は透
明ガラス板の表面にクロム等からなる不透明膜を所要の
パターンに形成してなるガラスマスクを使用し、ホトレ
ジスト膜を形成したウェハに密着させた状態で露光して
感光させることによシ行なわれる。
（写真処理）にはウェハに塗布したホトレジスト膜を選
択的に感光させる工程が必要になる。この感光処理は透
明ガラス板の表面にクロム等からなる不透明膜を所要の
パターンに形成してなるガラスマスクを使用し、ホトレ
ジスト膜を形成したウェハに密着させた状態で露光して
感光させることによシ行なわれる。
このようなガラスマスクに欠陥（傷、異物、汚れ等）が
あると、ホトレジスト膜が所要とするパターンと異なる
パターンを感光せしめて不良発生の原因になる。そして
、このマスクは数百枚のウェハに対する感光処理に繰シ
返えして使用されるため、半導体装置の製造上重大な問
題になる。したがって、マスクの検査が実施される。特
に透明体の傷はガラスマスクの洗浄等を行なっても除却
できず、よシ厳密な検査が必要とされている。
あると、ホトレジスト膜が所要とするパターンと異なる
パターンを感光せしめて不良発生の原因になる。そして
、このマスクは数百枚のウェハに対する感光処理に繰シ
返えして使用されるため、半導体装置の製造上重大な問
題になる。したがって、マスクの検査が実施される。特
に透明体の傷はガラスマスクの洗浄等を行なっても除却
できず、よシ厳密な検査が必要とされている。
従来、この種の透明体の傷検査装置として、例えば、第
１図に示すようなものが提案されている。
１図に示すようなものが提案されている。
この装置は、ガラスマスクｌの端面から平行光線を入射
させ、マスクの傷２において乱反射した光を検出するこ
とにより、傷２を検査するようにしたものである。
させ、マスクの傷２において乱反射した光を検出するこ
とにより、傷２を検査するようにしたものである。
しかしながら、このような透明体の傷検査装置にあって
は、ガラスマスクの端面がすシガラス状になっているも
のが多く、平行光線が端面で乱反射して入射光量が少な
くなるため、傷の検出感度が悪いという欠点がおった。
は、ガラスマスクの端面がすシガラス状になっているも
のが多く、平行光線が端面で乱反射して入射光量が少な
くなるため、傷の検出感度が悪いという欠点がおった。
本発明の目的は、前記従来技術の欠点を解決し。
特に傷の検出感度が良好な透明体の検査装置を提供する
にある。
にある。
以下５本発明を図面に示す実施例にしたがって説明する
。
。
第２図および第３図は本発明による透明体の検査装置の
一実施例を示す各縦断面図である。
一実施例を示す各縦断面図である。
本実施例において、欠陥を検査すべき透明体としてのガ
ラスマスク１はほぼ水平に支持されておシ、マスク１の
下方にはレーザ光源４がマスク面に直角に光線を照射す
るように設けられている。
ラスマスク１はほぼ水平に支持されておシ、マスク１の
下方にはレーザ光源４がマスク面に直角に光線を照射す
るように設けられている。
レーザ光源４とマスク１の裏面との間には偏光板（ポー
ラロイド板）５が介設されておシ、この偏光板５はレー
ザ光源４からの一般光（振動方向の限定されない光）の
うち振動方向の限定された光（偏光光）のみを透過させ
る。ガラスマスク１の上方には第２偏光板６が設けられ
、この偏光板６は前記第１偏光板５で作られた偏光光を
遮ぎるように構成されている。第２偏光板６の真上には
スリット板７が設けられ、スリット板７の真上には受光
器８がスリット板７を透過した光を検出し得るように設
けられている。
ラロイド板）５が介設されておシ、この偏光板５はレー
ザ光源４からの一般光（振動方向の限定されない光）の
うち振動方向の限定された光（偏光光）のみを透過させ
る。ガラスマスク１の上方には第２偏光板６が設けられ
、この偏光板６は前記第１偏光板５で作られた偏光光を
遮ぎるように構成されている。第２偏光板６の真上には
スリット板７が設けられ、スリット板７の真上には受光
器８がスリット板７を透過した光を検出し得るように設
けられている。
図示しないが、ガラスマスク１への光の照射がＸＹ方向
に相対的に走査されるようにガラスマスクの支持機構お
よびレーザ光源や偏光板等の光学系は構成されている。
に相対的に走査されるようにガラスマスクの支持機構お
よびレーザ光源や偏光板等の光学系は構成されている。
次に特に傷の検出作用を説明する。
レーザ光源４からの一般光９は第１偏光板５を透過する
と、偏光光１０になり、ガラスマスク１に直角に入射し
て上方に透過する。
と、偏光光１０になり、ガラスマスク１に直角に入射し
て上方に透過する。
第２図に示すように、偏光光１０はガラスマスク１の傷
の無い箇所を透過するときはそのままの振動方向のみで
透過する。この偏光光１０は第２偏光板６で遮られるの
で、受光器８は所定値以上の光量を検出しない。これに
より、ガラスマスク１の当該走査点には傷が無いことが
検査されることになる。
の無い箇所を透過するときはそのままの振動方向のみで
透過する。この偏光光１０は第２偏光板６で遮られるの
で、受光器８は所定値以上の光量を検出しない。これに
より、ガラスマスク１の当該走査点には傷が無いことが
検査されることになる。
第３図に示すように、偏光光１０はガラスマスク１の傷
２を透過するときは他の振動方向の光１１を含む（一般
光に戻る。）ことになる。この光１１は第２偏光板６で
一部は遮られることなく透過し、スリット板７を透過し
て受光器８に検出される。
２を透過するときは他の振動方向の光１１を含む（一般
光に戻る。）ことになる。この光１１は第２偏光板６で
一部は遮られることなく透過し、スリット板７を透過し
て受光器８に検出される。
この検出によシ、ガラスマスク１０当該走査点に傷があ
ることが検査されることになる。なおこの現象は傷取外
の異物、汚れ等がガラスマスクに付着した場合でも一部
発生する。
ることが検査されることになる。なおこの現象は傷取外
の異物、汚れ等がガラスマスクに付着した場合でも一部
発生する。
本実施例によれば、ガラスマスクに偏光光を照射してマ
スクの欠陥での偏光光の乱れを検出することにより欠陥
を検査するので、異質の光を検出することになシ、検査
感度が極めて高くなシ、特に微細な傷も検出することが
できる。したがって。
スクの欠陥での偏光光の乱れを検出することにより欠陥
を検査するので、異質の光を検出することになシ、検査
感度が極めて高くなシ、特に微細な傷も検出することが
できる。したがって。
欠陥のあるガラスマスクが感光処理工程に流れることを
未然に、かつ確実に防止でき、ウェハの歩留を向上させ
、しいては半導体装置の生産性や品質を向上させること
ができる。
未然に、かつ確実に防止でき、ウェハの歩留を向上させ
、しいては半導体装置の生産性や品質を向上させること
ができる。
なお、スリット板は受光器のＳ／Ｎ比を高めるものであ
るので、省略することも可能である。また、光源が偏光
光を照射できる装置である場合には第１偏光板を省略す
ることができるし、受光器が振動方向の変化を正確に検
出できるものでおれば、第２偏光板も省略することがで
きる。
るので、省略することも可能である。また、光源が偏光
光を照射できる装置である場合には第１偏光板を省略す
ることができるし、受光器が振動方向の変化を正確に検
出できるものでおれば、第２偏光板も省略することがで
きる。
本発明はガラスマスクの欠陥を検査する場合に限らず、
板ガラスやレンズ等あらゆる分野の透明体の欠陥を検査
する装置全般に適用することができる。
板ガラスやレンズ等あらゆる分野の透明体の欠陥を検査
する装置全般に適用することができる。
以上説明したように、本発明によれば、透明体の傷を正
確に検査することができる。
確に検査することができる。
第１図は従来例を示す縦断面図。
第２図および第３図は本発明の一実施例を示す原理的な
各縦断面図である。 １・・・ガラスマスク、２・・・傷、４・・・レーザ光
源、５・・・第１偏光板、６・・・第２偏光板、７・・
・スリット板、８・・・受光器。
各縦断面図である。 １・・・ガラスマスク、２・・・傷、４・・・レーザ光
源、５・・・第１偏光板、６・・・第２偏光板、７・・
・スリット板、８・・・受光器。
Claims (1)
- １、透明体に偏光光を照射し、透明体を透過した偏光光
の中から透明体に存在することがある欠陥での乱れを検
出して欠陥を検査するようにした透明体の検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57206174A JPS5998524A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 透明体の検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57206174A JPS5998524A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 透明体の検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998524A true JPS5998524A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=16519031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57206174A Pending JPS5998524A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 透明体の検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998524A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61134646A (ja) * | 1984-12-05 | 1986-06-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 結晶評価装置 |
| JPS6435418A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for evaluating liquid crystal orientational capacity of oriented film |
-
1982
- 1982-11-26 JP JP57206174A patent/JPS5998524A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61134646A (ja) * | 1984-12-05 | 1986-06-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 結晶評価装置 |
| JPS6435418A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for evaluating liquid crystal orientational capacity of oriented film |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4595289A (en) | Inspection system utilizing dark-field illumination | |
| JP3259331B2 (ja) | 表面状態検査装置 | |
| JPH075115A (ja) | 表面状態検査装置 | |
| JPS61100932A (ja) | 露光装置 | |
| JPH0815169A (ja) | 異物検査装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造 方法 | |
| JPS5965428A (ja) | 異物検査装置 | |
| JPS5998524A (ja) | 透明体の検査装置 | |
| JPH06258237A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2705764B2 (ja) | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 | |
| JP2603078B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP3336392B2 (ja) | 異物検査装置及び方法 | |
| JPS58204344A (ja) | パタ−ンの欠陥検査装置 | |
| JPS63103951A (ja) | ゴミ検査装置 | |
| JPH07128250A (ja) | 半導体装置製造用フォトマスクの異物検査装置 | |
| JPS63193041A (ja) | 異物検査装置 | |
| JPH04103144A (ja) | 異物検査方法 | |
| JP2006313107A (ja) | 検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法 | |
| JPS59117117A (ja) | ペリクル保護膜用フレ−ム | |
| KR19980048011A (ko) | 마스크 검사장치 | |
| JP3064459B2 (ja) | マスクの異物検査方法 | |
| JPH11183151A (ja) | 透明シート検査装置 | |
| JPH06258235A (ja) | 面検査装置 | |
| JPH0582933B2 (ja) | ||
| JPS59161028A (ja) | 傷検査装置 | |
| JPH10274840A (ja) | マスクの欠陥検査装置 |