JP2705764B2 - 透明ガラス基板の欠陥検出装置 - Google Patents
透明ガラス基板の欠陥検出装置Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば集積回路製造の
フォトマスクとして使用する透明ガラス基板の傷等の欠
陥を検出する装置に関するものである。
フォトマスクとして使用する透明ガラス基板の傷等の欠
陥を検出する装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、集積回路製造の回路パターンの
露光に用いるフォトマスクには、透明なガラス基板が使
用されている。ガラス基板に傷や汚れ等の欠陥がある
と、不良発生の原因となるため、ガラス基板を検査して
欠陥を確実に検出することが必要である。
露光に用いるフォトマスクには、透明なガラス基板が使
用されている。ガラス基板に傷や汚れ等の欠陥がある
と、不良発生の原因となるため、ガラス基板を検査して
欠陥を確実に検出することが必要である。
【0003】従来、欠陥の検出は暗室内に配置したガラ
ス基板に光を照射して行なわれてきた。照射した光がガ
ラス基板の傷等に入射すると散乱光が発生するため、そ
の散乱光を目視で検出すれば欠陥の有無がわかる。傷が
微細な場合には散乱光の光量が少なくなるため、照射光
の照度を上げる必要がある。特に1μm以下の傷につい
ては、照度を非常に高くしなければ肉眼で検出すること
は難しい。しかし光の照度を高くするに従って、基板表
面からの反射光が目に入った場合の危険性が高くなるた
め、単に照射光の照度を上げることは出来ない。照射光
の照度はせいぜい20万ルクス程度までしか上げられ
ず、肉眼での検出精度向上には限界がある。
ス基板に光を照射して行なわれてきた。照射した光がガ
ラス基板の傷等に入射すると散乱光が発生するため、そ
の散乱光を目視で検出すれば欠陥の有無がわかる。傷が
微細な場合には散乱光の光量が少なくなるため、照射光
の照度を上げる必要がある。特に1μm以下の傷につい
ては、照度を非常に高くしなければ肉眼で検出すること
は難しい。しかし光の照度を高くするに従って、基板表
面からの反射光が目に入った場合の危険性が高くなるた
め、単に照射光の照度を上げることは出来ない。照射光
の照度はせいぜい20万ルクス程度までしか上げられ
ず、肉眼での検出精度向上には限界がある。
【0004】このため、人間の目を用いずに表面欠陥を
検査する各種の装置が開発された。特開昭62−105038号
公報には、ガラス基板を光ビームで照射走査し、欠陥箇
所で生ずる散乱反射光を検出するガラス基板表面検査装
置の受光系が開示されている。特開昭63−200043号公報
には、ガラス板やプラスチック板等の表面の傷や汚れ等
の欠陥を検出するシート状被検体の表面欠陥検出装置が
開示されている。また、特開昭63−208746号公報には検
査領域全面で均一な検出感度を有する欠陥検査装置が開
示されている。
検査する各種の装置が開発された。特開昭62−105038号
公報には、ガラス基板を光ビームで照射走査し、欠陥箇
所で生ずる散乱反射光を検出するガラス基板表面検査装
置の受光系が開示されている。特開昭63−200043号公報
には、ガラス板やプラスチック板等の表面の傷や汚れ等
の欠陥を検出するシート状被検体の表面欠陥検出装置が
開示されている。また、特開昭63−208746号公報には検
査領域全面で均一な検出感度を有する欠陥検査装置が開
示されている。
【0005】これらの装置は、レーザ光等をガラス基板
に照射して、その透過光または後方散乱光を検出するも
のであるが、目視による検査に比べて必ずしも有効であ
るとは限らない。フォトマスク用のガラス基板の場合、
集積回路の集積度向上に伴って許容欠陥寸法が1μm以
下に推移してきており、1μmに満たない欠陥を素ガラ
スのまま非接触で確実に検出できる欠陥検出装置が望ま
れている。
に照射して、その透過光または後方散乱光を検出するも
のであるが、目視による検査に比べて必ずしも有効であ
るとは限らない。フォトマスク用のガラス基板の場合、
集積回路の集積度向上に伴って許容欠陥寸法が1μm以
下に推移してきており、1μmに満たない欠陥を素ガラ
スのまま非接触で確実に検出できる欠陥検出装置が望ま
れている。
【0006】また、上記した欠陥検査方法以外にも電子
顕微鏡等により欠陥をとらえる方法もある。しかし、被
検体に金膜等を成膜する必要があることに加え、観察視
野が非常に狭く、基板1枚当りの検査に膨大な時間がか
かり実用的でない。非常に浅い欠陥は検出できない場合
もある。
顕微鏡等により欠陥をとらえる方法もある。しかし、被
検体に金膜等を成膜する必要があることに加え、観察視
野が非常に狭く、基板1枚当りの検査に膨大な時間がか
かり実用的でない。非常に浅い欠陥は検出できない場合
もある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、透明ガラス基板の表面に
存在する欠陥を高感度で且つ確実に検出する検査装置を
提供することを目的とする。
解決するためなされたもので、透明ガラス基板の表面に
存在する欠陥を高感度で且つ確実に検出する検査装置を
提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに本発明者らは図3に示す検査装置を用い、透明ガラ
ス基板2の欠陥3に様々な方位および角度から検査光を
照射し、検査光の入射方位と散乱光との関係を検討し
た。
めに本発明者らは図3に示す検査装置を用い、透明ガラ
ス基板2の欠陥3に様々な方位および角度から検査光を
照射し、検査光の入射方位と散乱光との関係を検討し
た。
【0009】図3の装置は、X−Yテーブル(不図示)
に載置された回転ステージ10に透明ガラス基板2を載
せ、その片側に散乱光検出器(CCDカメラ)18を配
置したものである。光源14は移動可能で、透明ガラス
基板2に対して様々な方位から検査光を照射可能になっ
ている。基板2表面の欠陥3により生じた散乱光は散乱
光検出器18で検出される。
に載置された回転ステージ10に透明ガラス基板2を載
せ、その片側に散乱光検出器(CCDカメラ)18を配
置したものである。光源14は移動可能で、透明ガラス
基板2に対して様々な方位から検査光を照射可能になっ
ている。基板2表面の欠陥3により生じた散乱光は散乱
光検出器18で検出される。
【0010】本発明者らは、先ず、検査光を透明ガラス
基板2に対して散乱光検出器18側から照射した場合
と、その反対側から照射した場合とで何れが強い散乱光
を得られるかという試験を行なった。表面に1×5μ
m、5×100μm、1×2μmの欠陥がある透明ガラ
ス基板2を用意し、その法線6に対して45°をなす検
査光を照射して生じた散乱光を散乱光検出器18で捕え
た。
基板2に対して散乱光検出器18側から照射した場合
と、その反対側から照射した場合とで何れが強い散乱光
を得られるかという試験を行なった。表面に1×5μ
m、5×100μm、1×2μmの欠陥がある透明ガラ
ス基板2を用意し、その法線6に対して45°をなす検
査光を照射して生じた散乱光を散乱光検出器18で捕え
た。
【0011】図4、図5および図6は検査光を散乱光検
出器18側から照射して生じた後方散乱光7による傷ま
たは汚れの欠陥の画像、図7、図8および図9はその反
対側から検査光を照射して生じた前方散乱光7による欠
陥の画像である。図4および図7の欠陥の大きさは1×
5μm、図5および図8の欠陥の大きさは5×100μ
m、図6および図9の欠陥の大きさは1×2μmであ
る。なお、1×2μmのような微細な欠陥の場合、後方
散乱光は検出されなかった(図6参照)。図4〜図9の
散乱光量の比較により、検査光を散乱光検出器18と反
対側から照射した方がより強い散乱光7が得られること
がわかる。
出器18側から照射して生じた後方散乱光7による傷ま
たは汚れの欠陥の画像、図7、図8および図9はその反
対側から検査光を照射して生じた前方散乱光7による欠
陥の画像である。図4および図7の欠陥の大きさは1×
5μm、図5および図8の欠陥の大きさは5×100μ
m、図6および図9の欠陥の大きさは1×2μmであ
る。なお、1×2μmのような微細な欠陥の場合、後方
散乱光は検出されなかった(図6参照)。図4〜図9の
散乱光量の比較により、検査光を散乱光検出器18と反
対側から照射した方がより強い散乱光7が得られること
がわかる。
【0012】次に、検査光とガラス基板2の法線6とが
なす角θ(図3参照)、および、ガラス基板2に対する
検査光の入射方位を変化させ、散乱光7の入射方位依存
性および入射角度依存性を検討した。検査光の入射方位
は、図10に示すようにガラス基板2の表面に任意に設
定した基準方位17と、検査光の光路をガラス基板2へ
垂直に投影した投影線15とのなす角φで示してある。
図11には1×3μmの欠陥に検査光を照射した際の散
乱光検出可能範囲11、図12には0.5×20μmの
欠陥に検査光を照射した際の散乱光検出可能範囲12を
示す。これらの結果によれば、散乱光強度は検査光と透
明ガラス基板2の法線とがなす角θおよび検査光の入射
方位φにより大きな影響を受け、散乱光7は検査光が欠
陥の形状に応じた特定の条件を満たして入射したときに
のみ発生していることがわかる。例えば、検査光が欠陥
の長手方向に直交して入射した場合には強い散乱光が得
られ、欠陥の長手方向と平行に入射した場合には弱い散
乱光しか得られない。欠陥が浅い場合には散乱光が全く
検出できないこともある。
なす角θ(図3参照)、および、ガラス基板2に対する
検査光の入射方位を変化させ、散乱光7の入射方位依存
性および入射角度依存性を検討した。検査光の入射方位
は、図10に示すようにガラス基板2の表面に任意に設
定した基準方位17と、検査光の光路をガラス基板2へ
垂直に投影した投影線15とのなす角φで示してある。
図11には1×3μmの欠陥に検査光を照射した際の散
乱光検出可能範囲11、図12には0.5×20μmの
欠陥に検査光を照射した際の散乱光検出可能範囲12を
示す。これらの結果によれば、散乱光強度は検査光と透
明ガラス基板2の法線とがなす角θおよび検査光の入射
方位φにより大きな影響を受け、散乱光7は検査光が欠
陥の形状に応じた特定の条件を満たして入射したときに
のみ発生していることがわかる。例えば、検査光が欠陥
の長手方向に直交して入射した場合には強い散乱光が得
られ、欠陥の長手方向と平行に入射した場合には弱い散
乱光しか得られない。欠陥が浅い場合には散乱光が全く
検出できないこともある。
【0013】本発明者らは以上の試験結果を検討したと
ころ、散乱光検出器側の少なくとも3方位から検査光を
ガラス基板に照射し、検査光とガラス基板の法線とのな
す角θを10°〜40°にすれば、ガラス基板の表面に
存在する微小な欠陥をも確実に検出できることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
ころ、散乱光検出器側の少なくとも3方位から検査光を
ガラス基板に照射し、検査光とガラス基板の法線とのな
す角θを10°〜40°にすれば、ガラス基板の表面に
存在する微小な欠陥をも確実に検出できることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
【0014】即ち、本発明の透明ガラス基板の欠陥検出
装置は、一実施例に対応する図1に示すように、被検査
体である透明ガラス基板2の片側に、透明ガラス基板2
の一点に向けて少なくとも3つの入射方位から、集光さ
せた検査光51・52・53 を同時に照射する複数の光源4
1・42・43が配置されている。検査光51・52・53と透明
ガラス基板2の法線6となす角θ1・θ2・θ3は10〜4
0°である。透明ガラス基板2のもう一方の側には透明
ガラス基板2の欠陥3により生じた前方散乱光7を検出
する1つの散乱光検出器8が配置されている。
装置は、一実施例に対応する図1に示すように、被検査
体である透明ガラス基板2の片側に、透明ガラス基板2
の一点に向けて少なくとも3つの入射方位から、集光さ
せた検査光51・52・53 を同時に照射する複数の光源4
1・42・43が配置されている。検査光51・52・53と透明
ガラス基板2の法線6となす角θ1・θ2・θ3は10〜4
0°である。透明ガラス基板2のもう一方の側には透明
ガラス基板2の欠陥3により生じた前方散乱光7を検出
する1つの散乱光検出器8が配置されている。
【0015】被検査体である透明ガラス基板2として
は、例えばフォトマスク用のガラス基板がある。
は、例えばフォトマスク用のガラス基板がある。
【0016】光源41・42・43 は、ガラス基板の表面に
光をスポット照射できる集光作用を有するものを使用す
る。例えばハロゲンランプヘリウムネオン等のレーザ光
発生装置や水銀ランプが挙げられる。集光作用のない光
源を用いると、欠陥3による散乱光7が検出しにくくな
り、検出感度が低下してしまう。
光をスポット照射できる集光作用を有するものを使用す
る。例えばハロゲンランプヘリウムネオン等のレーザ光
発生装置や水銀ランプが挙げられる。集光作用のない光
源を用いると、欠陥3による散乱光7が検出しにくくな
り、検出感度が低下してしまう。
【0017】検査光51・52・53は透明ガラス基板2に
少なくとも3方位から照射する。照射方位は多い方が良
い。照射方位が3方位未満であると欠陥3の形状によっ
ては散乱光7が発生せず、欠陥3を検出できないことが
ある。また、検査光51・52・53の照度は高いほうが好
ましい。リング状の光を収束できるリング照明系の使用
も可能である。
少なくとも3方位から照射する。照射方位は多い方が良
い。照射方位が3方位未満であると欠陥3の形状によっ
ては散乱光7が発生せず、欠陥3を検出できないことが
ある。また、検査光51・52・53の照度は高いほうが好
ましい。リング状の光を収束できるリング照明系の使用
も可能である。
【0018】検査光51・52・53と透明ガラス基板2の
法線となす角θ1・θ2・θ3は10〜40°に設定する。
なす角θ1・θ2・θ3は10°に満たない場合や、40°
を越える場合には、欠陥3の形状によっては散乱光7が
発生せず、欠陥3を検出できないことがある。例えば3
方位から検査光51・52・53を照射する場合、検査光51
・52・53とガラス基板2の法線となす角θ1・θ2・θ3は
10〜25°に設定することがより好ましい。
法線となす角θ1・θ2・θ3は10〜40°に設定する。
なす角θ1・θ2・θ3は10°に満たない場合や、40°
を越える場合には、欠陥3の形状によっては散乱光7が
発生せず、欠陥3を検出できないことがある。例えば3
方位から検査光51・52・53を照射する場合、検査光51
・52・53とガラス基板2の法線となす角θ1・θ2・θ3は
10〜25°に設定することがより好ましい。
【0019】なお、3方位から検査光51・52・53を照
射する場合、各検査光51・52・53の光路をガラス基板
2へ垂直に投影した投影線同士のなす角δが60°を越
えないように光源41・42・43を配置することが好まし
い。60°を越えると欠陥3を検出できないことがあ
る。また、各検査光51・52・53の光路をガラス基板2
へ垂直に投影した投影線同士のなす角δと、180°を
検査光51・52・53の本数を割った角度とが一致するよ
うに光源41・42・43を配置することが望ましい。例え
ば4方位の場合はなす角δを45°、5方位の場合はな
す角δを36°に設定する。
射する場合、各検査光51・52・53の光路をガラス基板
2へ垂直に投影した投影線同士のなす角δが60°を越
えないように光源41・42・43を配置することが好まし
い。60°を越えると欠陥3を検出できないことがあ
る。また、各検査光51・52・53の光路をガラス基板2
へ垂直に投影した投影線同士のなす角δと、180°を
検査光51・52・53の本数を割った角度とが一致するよ
うに光源41・42・43を配置することが望ましい。例え
ば4方位の場合はなす角δを45°、5方位の場合はな
す角δを36°に設定する。
【0020】
【作用】光源41・42・43 から照射された検査光51・5
2・53 が透明ガラス基板2を透過する際、透過部分に欠
陥3があると検査光51・52・53が散乱される。その散
乱光7を散乱光検出器8で検出することにより欠陥3が
検出される。検査光51・52・53 は透明ガラス基板2の
法線6と10〜40°の角度をなして散乱光検出器8の
反対側から透明ガラス基板2に入射するために散乱光7
が発生し易く、欠陥3が微細な場合でも散乱光7が生じ
る。欠陥3の形状が細長い場合でも、光源41・42・43
から照射された検査光51・52・53 のうち何れかは欠陥
3にその長手方向と交わって入射するため、散乱光7が
発生する。そのためどのような形状の欠陥3も確実に検
出することが出来る。
2・53 が透明ガラス基板2を透過する際、透過部分に欠
陥3があると検査光51・52・53が散乱される。その散
乱光7を散乱光検出器8で検出することにより欠陥3が
検出される。検査光51・52・53 は透明ガラス基板2の
法線6と10〜40°の角度をなして散乱光検出器8の
反対側から透明ガラス基板2に入射するために散乱光7
が発生し易く、欠陥3が微細な場合でも散乱光7が生じ
る。欠陥3の形状が細長い場合でも、光源41・42・43
から照射された検査光51・52・53 のうち何れかは欠陥
3にその長手方向と交わって入射するため、散乱光7が
発生する。そのためどのような形状の欠陥3も確実に検
出することが出来る。
【0021】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図1は本
発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装置の一実施
例の側面図、図2はその平面図である。この装置は、X
−Yテーブル(不図示)に載置された顕微鏡用回転ステ
ージ10((株)ニコン製)の上面に被検体である透明
ガラス基板2を載せ、その上方に散乱光検出器8を配置
したものである。散乱光検出器8は、実体顕微鏡
((株)ニコン製)にCCDカメラ(プロテックジャパ
ン社製)を取り付けたもので、その光学系には×5のレ
ンズが挿入されている。透明ガラス基板2の下方には3
個のハロゲンランプ41・42・43 (山田光学製)が設け
られている。各ハロゲンランプ41・42・43 は、照射さ
れる検査光51・52・53が透明ガラス基板2の法線6と
25°の角度をなし、透明ガラス基板2表面の一点で交
差するように配置される。各検査光51・52・53 の光路
をガラス基板2へ垂直に投影した投影線同士のなす角δ
は60°に設定されている。
発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装置の一実施
例の側面図、図2はその平面図である。この装置は、X
−Yテーブル(不図示)に載置された顕微鏡用回転ステ
ージ10((株)ニコン製)の上面に被検体である透明
ガラス基板2を載せ、その上方に散乱光検出器8を配置
したものである。散乱光検出器8は、実体顕微鏡
((株)ニコン製)にCCDカメラ(プロテックジャパ
ン社製)を取り付けたもので、その光学系には×5のレ
ンズが挿入されている。透明ガラス基板2の下方には3
個のハロゲンランプ41・42・43 (山田光学製)が設け
られている。各ハロゲンランプ41・42・43 は、照射さ
れる検査光51・52・53が透明ガラス基板2の法線6と
25°の角度をなし、透明ガラス基板2表面の一点で交
差するように配置される。各検査光51・52・53 の光路
をガラス基板2へ垂直に投影した投影線同士のなす角δ
は60°に設定されている。
【0022】ハロゲンランプ41・42・43 から照射され
た検査光51・52・53 は、透明ガラス基板2の表面で交
差するとともに透明ガラス基板2に入射する。透明ガラ
ス基板2に欠陥3がない場合には、各検査光51・52・5
3はそのまま透明ガラス基板2を透過し、散乱光は発生
しない。検査光51・52・53 が欠陥3に入射すると散乱
光7が発生し、CCDカメラ8により検出される。
た検査光51・52・53 は、透明ガラス基板2の表面で交
差するとともに透明ガラス基板2に入射する。透明ガラ
ス基板2に欠陥3がない場合には、各検査光51・52・5
3はそのまま透明ガラス基板2を透過し、散乱光は発生
しない。検査光51・52・53 が欠陥3に入射すると散乱
光7が発生し、CCDカメラ8により検出される。
【0023】以下、フォトマスク用合成石英ガラス基板
2の欠陥検出を行なった実施例を説明する。
2の欠陥検出を行なった実施例を説明する。
【0024】実施例1 透明ガラス基板2として精密研磨実施後に精密洗浄を施
した127×127×2.3mmのフォトマス用合成石
英ガラス基板2を10枚用意する。各ガラス基板2は、
夫々2×20μm、2×2μm、1×10μm、1×3
μm、1×1μm、0.5×20μm、0.5×5μ
m、0.5×1μm、0.3×0.7μm、0.3×
0.3μmの傷3を有している。
した127×127×2.3mmのフォトマス用合成石
英ガラス基板2を10枚用意する。各ガラス基板2は、
夫々2×20μm、2×2μm、1×10μm、1×3
μm、1×1μm、0.5×20μm、0.5×5μ
m、0.5×1μm、0.3×0.7μm、0.3×
0.3μmの傷3を有している。
【0025】各ハロゲンランプ41・42・43 からの検査
光51・52・53 は、基板2の表面で20万ルクスになる
ように調整した後、これらのフォトマス用合成石英ガラ
ス基板2を順に回転ステージ10に載せ、欠陥検出の可
否を判定した。
光51・52・53 は、基板2の表面で20万ルクスになる
ように調整した後、これらのフォトマス用合成石英ガラ
ス基板2を順に回転ステージ10に載せ、欠陥検出の可
否を判定した。
【0026】実施例2 基板2表面の照度を60万ルクスとする他は実施例1と
同様にして欠陥検出を試みた。
同様にして欠陥検出を試みた。
【0027】次に、比較のため本発明を適用以外の方法
で欠陥検出を試みた。 比較例1 実施例1の検査に使用したガラス基板2をクリーンルー
ム内に入れ、基板2の表面で20万ルクスになるように
照明を当て、欠陥の有無を目視で検査した。
で欠陥検出を試みた。 比較例1 実施例1の検査に使用したガラス基板2をクリーンルー
ム内に入れ、基板2の表面で20万ルクスになるように
照明を当て、欠陥の有無を目視で検査した。
【0028】比較例2 ハロゲンランプの本数を2本にする以外は実施例1と同
様にして欠陥を検出した。
様にして欠陥を検出した。
【0029】比較例3 ハロゲンランプ41・42・43 を散乱光検出器8側に移し
て検査光を照射し、後方散乱光を検出する他は実施例1
と同様にして欠陥を検出した。
て検査光を照射し、後方散乱光を検出する他は実施例1
と同様にして欠陥を検出した。
【0030】比較例4 検査光51・52・53 とガラス基板2の法線とのなす角を
5°にする他は実施例1と同様にして欠陥を検出した。
5°にする他は実施例1と同様にして欠陥を検出した。
【0031】表1に各実施例および比較例の検出結果を
示す。
示す。
【0032】
【表1】
【0033】表1に示す結果によれば、本発明の透明ガ
ラス基板の欠陥検出装置は1μm以下のガラス表面の欠
陥をも検出可能なことがわかる。
ラス基板の欠陥検出装置は1μm以下のガラス表面の欠
陥をも検出可能なことがわかる。
【0034】なお、上記の実施例では散乱光検出器8と
してCCDカメラを使用したが、撮像管を使用しても良
い。散乱光検出器8の光学系に拡大レンズを取付ければ
欠陥検出力をさらに高めることも可能である。
してCCDカメラを使用したが、撮像管を使用しても良
い。散乱光検出器8の光学系に拡大レンズを取付ければ
欠陥検出力をさらに高めることも可能である。
【0035】また、本発明の装置とガラス基板2の自動
スキャンを組合わせれば、信頼性が高く且つ高感度の自
動欠陥検出装置を組み上げることも可能である。さら
に、欠陥3の光照射角度による散乱光強度の違いによ
り、汚れか傷かの判別も可能となる。
スキャンを組合わせれば、信頼性が高く且つ高感度の自
動欠陥検出装置を組み上げることも可能である。さら
に、欠陥3の光照射角度による散乱光強度の違いによ
り、汚れか傷かの判別も可能となる。
【0036】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
透明ガラス基板の欠陥検出装置は、欠陥により生じる散
乱光強度が大きいため、1μm以下の微小な欠陥の検出
が可能である。また、ガラス基板に対して3方向以上か
ら検査光を同時に照射するために欠陥の形状にかかわら
ず散乱光が発生し、欠陥を高感度で確実に検出すること
が出来る。
透明ガラス基板の欠陥検出装置は、欠陥により生じる散
乱光強度が大きいため、1μm以下の微小な欠陥の検出
が可能である。また、ガラス基板に対して3方向以上か
ら検査光を同時に照射するために欠陥の形状にかかわら
ず散乱光が発生し、欠陥を高感度で確実に検出すること
が出来る。
【図1】本発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装
置の一実施例を示す側面図である。
置の一実施例を示す側面図である。
【図2】図1に示した透明ガラス基板の欠陥検出装置の
平面図である。
平面図である。
【図3】透明ガラス基板の欠陥検出条件を求める装置の
概略側面図である。
概略側面図である。
【図4】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図5】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図6】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図7】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図8】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図9】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図10】検査光の入射方位の説明図である。
【図11】散乱光を検出可能な範囲を示す図である。
【図12】散乱光を検出可能な範囲を示す図である。
2は透明ガラス基板、3は欠陥、41・42・43・14は光
源、51・52・53 は検査光、6は透明ガラス基板の法
線、7は散乱光、8・18は散乱光検出器、10は回転
ステージ、11・12は散乱光検出可能範囲、15は投
影線、17は基準方位である。
源、51・52・53 は検査光、6は透明ガラス基板の法
線、7は散乱光、8・18は散乱光検出器、10は回転
ステージ、11・12は散乱光検出可能範囲、15は投
影線、17は基準方位である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡部 厚 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地 の1 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (56)参考文献 特開 昭57−37253(JP,A) 特開 昭61−25042(JP,A) 特開 昭61−186806(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】 被検査体である透明ガラス基板の片側
に、前記透明ガラス基板の一点に向けて少なくとも3つ
の入射方位から、集光させた検査光を同時に照射する複
数の光源が配置され、かつ該検査光と透明ガラス基板の
法線とが10〜40°の角度をなし、前記透明ガラス基
板のもう一方の側に透明ガラス基板の欠陥により生じた
前方散乱光を検出する1つの散乱光検出器が配置されて
いることを特徴とする透明ガラス基板の欠陥検出装置。 - 【請求項2】 前記透明ガラス基板がフォトマスク用ガ
ラス基板であることを特徴とする請求項1に記載の透明
ガラス基板の欠陥検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11713791A JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11713791A JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04344447A JPH04344447A (ja) | 1992-12-01 |
JP2705764B2 true JP2705764B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=14704372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11713791A Expired - Fee Related JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2705764B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100532238B1 (ko) | 1997-03-10 | 2006-02-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 박판막 검사방법, 이에 사용되는 장치 및 검사시스템 |
JP4961541B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-06-27 | レーザーテック株式会社 | 欠陥修正方法及び装置 |
JP5578708B2 (ja) * | 2010-04-19 | 2014-08-27 | Hoya株式会社 | Fpd製造用再生フォトマスク基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクの製造方法、ペリクル付再生フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 |
JP6925299B2 (ja) | 2018-04-24 | 2021-08-25 | 株式会社日立産機システム | 安全キャビネット |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5737253A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-01 | Asahi Glass Co Ltd | Defect detection device for transparent body |
JPS6125042A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 表面欠陥検査装置 |
JPS61186806A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-20 | Nec Corp | 透明体の欠点検出装置 |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP11713791A patent/JP2705764B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04344447A (ja) | 1992-12-01 |
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