JP2705764B2 - 透明ガラス基板の欠陥検出装置 - Google Patents
透明ガラス基板の欠陥検出装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば集積回路製造の
フォトマスクとして使用する透明ガラス基板の傷等の欠
陥を検出する装置に関するものである。
フォトマスクとして使用する透明ガラス基板の傷等の欠
陥を検出する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、集積回路製造の回路パターンの
露光に用いるフォトマスクには、透明なガラス基板が使
用されている。ガラス基板に傷や汚れ等の欠陥がある
と、不良発生の原因となるため、ガラス基板を検査して
欠陥を確実に検出することが必要である。
露光に用いるフォトマスクには、透明なガラス基板が使
用されている。ガラス基板に傷や汚れ等の欠陥がある
と、不良発生の原因となるため、ガラス基板を検査して
欠陥を確実に検出することが必要である。
【０００３】従来、欠陥の検出は暗室内に配置したガラ
ス基板に光を照射して行なわれてきた。照射した光がガ
ラス基板の傷等に入射すると散乱光が発生するため、そ
の散乱光を目視で検出すれば欠陥の有無がわかる。傷が
微細な場合には散乱光の光量が少なくなるため、照射光
の照度を上げる必要がある。特に１μｍ以下の傷につい
ては、照度を非常に高くしなければ肉眼で検出すること
は難しい。しかし光の照度を高くするに従って、基板表
面からの反射光が目に入った場合の危険性が高くなるた
め、単に照射光の照度を上げることは出来ない。照射光
の照度はせいぜい２０万ルクス程度までしか上げられ
ず、肉眼での検出精度向上には限界がある。
ス基板に光を照射して行なわれてきた。照射した光がガ
ラス基板の傷等に入射すると散乱光が発生するため、そ
の散乱光を目視で検出すれば欠陥の有無がわかる。傷が
微細な場合には散乱光の光量が少なくなるため、照射光
の照度を上げる必要がある。特に１μｍ以下の傷につい
ては、照度を非常に高くしなければ肉眼で検出すること
は難しい。しかし光の照度を高くするに従って、基板表
面からの反射光が目に入った場合の危険性が高くなるた
め、単に照射光の照度を上げることは出来ない。照射光
の照度はせいぜい２０万ルクス程度までしか上げられ
ず、肉眼での検出精度向上には限界がある。
【０００４】このため、人間の目を用いずに表面欠陥を
検査する各種の装置が開発された。特開昭62−105038号
公報には、ガラス基板を光ビームで照射走査し、欠陥箇
所で生ずる散乱反射光を検出するガラス基板表面検査装
置の受光系が開示されている。特開昭63−200043号公報
には、ガラス板やプラスチック板等の表面の傷や汚れ等
の欠陥を検出するシート状被検体の表面欠陥検出装置が
開示されている。また、特開昭63−208746号公報には検
査領域全面で均一な検出感度を有する欠陥検査装置が開
示されている。
検査する各種の装置が開発された。特開昭62−105038号
公報には、ガラス基板を光ビームで照射走査し、欠陥箇
所で生ずる散乱反射光を検出するガラス基板表面検査装
置の受光系が開示されている。特開昭63−200043号公報
には、ガラス板やプラスチック板等の表面の傷や汚れ等
の欠陥を検出するシート状被検体の表面欠陥検出装置が
開示されている。また、特開昭63−208746号公報には検
査領域全面で均一な検出感度を有する欠陥検査装置が開
示されている。
【０００５】これらの装置は、レーザ光等をガラス基板
に照射して、その透過光または後方散乱光を検出するも
のであるが、目視による検査に比べて必ずしも有効であ
るとは限らない。フォトマスク用のガラス基板の場合、
集積回路の集積度向上に伴って許容欠陥寸法が１μｍ以
下に推移してきており、１μｍに満たない欠陥を素ガラ
スのまま非接触で確実に検出できる欠陥検出装置が望ま
れている。
に照射して、その透過光または後方散乱光を検出するも
のであるが、目視による検査に比べて必ずしも有効であ
るとは限らない。フォトマスク用のガラス基板の場合、
集積回路の集積度向上に伴って許容欠陥寸法が１μｍ以
下に推移してきており、１μｍに満たない欠陥を素ガラ
スのまま非接触で確実に検出できる欠陥検出装置が望ま
れている。
【０００６】また、上記した欠陥検査方法以外にも電子
顕微鏡等により欠陥をとらえる方法もある。しかし、被
検体に金膜等を成膜する必要があることに加え、観察視
野が非常に狭く、基板１枚当りの検査に膨大な時間がか
かり実用的でない。非常に浅い欠陥は検出できない場合
もある。
顕微鏡等により欠陥をとらえる方法もある。しかし、被
検体に金膜等を成膜する必要があることに加え、観察視
野が非常に狭く、基板１枚当りの検査に膨大な時間がか
かり実用的でない。非常に浅い欠陥は検出できない場合
もある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、透明ガラス基板の表面に
存在する欠陥を高感度で且つ確実に検出する検査装置を
提供することを目的とする。
解決するためなされたもので、透明ガラス基板の表面に
存在する欠陥を高感度で且つ確実に検出する検査装置を
提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに本発明者らは図３に示す検査装置を用い、透明ガラ
ス基板２の欠陥３に様々な方位および角度から検査光を
照射し、検査光の入射方位と散乱光との関係を検討し
た。
めに本発明者らは図３に示す検査装置を用い、透明ガラ
ス基板２の欠陥３に様々な方位および角度から検査光を
照射し、検査光の入射方位と散乱光との関係を検討し
た。
【０００９】図３の装置は、Ｘ−Ｙテーブル（不図示）
に載置された回転ステージ１０に透明ガラス基板２を載
せ、その片側に散乱光検出器（ＣＣＤカメラ）１８を配
置したものである。光源１４は移動可能で、透明ガラス
基板２に対して様々な方位から検査光を照射可能になっ
ている。基板２表面の欠陥３により生じた散乱光は散乱
光検出器１８で検出される。
に載置された回転ステージ１０に透明ガラス基板２を載
せ、その片側に散乱光検出器（ＣＣＤカメラ）１８を配
置したものである。光源１４は移動可能で、透明ガラス
基板２に対して様々な方位から検査光を照射可能になっ
ている。基板２表面の欠陥３により生じた散乱光は散乱
光検出器１８で検出される。
【００１０】本発明者らは、先ず、検査光を透明ガラス
基板２に対して散乱光検出器１８側から照射した場合
と、その反対側から照射した場合とで何れが強い散乱光
を得られるかという試験を行なった。表面に１×５μ
ｍ、５×１００μｍ、１×２μｍの欠陥がある透明ガラ
ス基板２を用意し、その法線６に対して４５°をなす検
査光を照射して生じた散乱光を散乱光検出器１８で捕え
た。
基板２に対して散乱光検出器１８側から照射した場合
と、その反対側から照射した場合とで何れが強い散乱光
を得られるかという試験を行なった。表面に１×５μ
ｍ、５×１００μｍ、１×２μｍの欠陥がある透明ガラ
ス基板２を用意し、その法線６に対して４５°をなす検
査光を照射して生じた散乱光を散乱光検出器１８で捕え
た。
【００１１】図４、図５および図６は検査光を散乱光検
出器１８側から照射して生じた後方散乱光７による傷ま
たは汚れの欠陥の画像、図７、図８および図９はその反
対側から検査光を照射して生じた前方散乱光７による欠
陥の画像である。図４および図７の欠陥の大きさは１×
５μｍ、図５および図８の欠陥の大きさは５×１００μ
ｍ、図６および図９の欠陥の大きさは１×２μｍであ
る。なお、１×２μｍのような微細な欠陥の場合、後方
散乱光は検出されなかった（図６参照）。図４〜図９の
散乱光量の比較により、検査光を散乱光検出器１８と反
対側から照射した方がより強い散乱光７が得られること
がわかる。
出器１８側から照射して生じた後方散乱光７による傷ま
たは汚れの欠陥の画像、図７、図８および図９はその反
対側から検査光を照射して生じた前方散乱光７による欠
陥の画像である。図４および図７の欠陥の大きさは１×
５μｍ、図５および図８の欠陥の大きさは５×１００μ
ｍ、図６および図９の欠陥の大きさは１×２μｍであ
る。なお、１×２μｍのような微細な欠陥の場合、後方
散乱光は検出されなかった（図６参照）。図４〜図９の
散乱光量の比較により、検査光を散乱光検出器１８と反
対側から照射した方がより強い散乱光７が得られること
がわかる。
【００１２】次に、検査光とガラス基板２の法線６とが
なす角θ（図３参照）、および、ガラス基板２に対する
検査光の入射方位を変化させ、散乱光７の入射方位依存
性および入射角度依存性を検討した。検査光の入射方位
は、図１０に示すようにガラス基板２の表面に任意に設
定した基準方位１７と、検査光の光路をガラス基板２へ
垂直に投影した投影線１５とのなす角φで示してある。
図１１には１×３μｍの欠陥に検査光を照射した際の散
乱光検出可能範囲１１、図１２には０．５×２０μｍの
欠陥に検査光を照射した際の散乱光検出可能範囲１２を
示す。これらの結果によれば、散乱光強度は検査光と透
明ガラス基板２の法線とがなす角θおよび検査光の入射
方位φにより大きな影響を受け、散乱光７は検査光が欠
陥の形状に応じた特定の条件を満たして入射したときに
のみ発生していることがわかる。例えば、検査光が欠陥
の長手方向に直交して入射した場合には強い散乱光が得
られ、欠陥の長手方向と平行に入射した場合には弱い散
乱光しか得られない。欠陥が浅い場合には散乱光が全く
検出できないこともある。
なす角θ（図３参照）、および、ガラス基板２に対する
検査光の入射方位を変化させ、散乱光７の入射方位依存
性および入射角度依存性を検討した。検査光の入射方位
は、図１０に示すようにガラス基板２の表面に任意に設
定した基準方位１７と、検査光の光路をガラス基板２へ
垂直に投影した投影線１５とのなす角φで示してある。
図１１には１×３μｍの欠陥に検査光を照射した際の散
乱光検出可能範囲１１、図１２には０．５×２０μｍの
欠陥に検査光を照射した際の散乱光検出可能範囲１２を
示す。これらの結果によれば、散乱光強度は検査光と透
明ガラス基板２の法線とがなす角θおよび検査光の入射
方位φにより大きな影響を受け、散乱光７は検査光が欠
陥の形状に応じた特定の条件を満たして入射したときに
のみ発生していることがわかる。例えば、検査光が欠陥
の長手方向に直交して入射した場合には強い散乱光が得
られ、欠陥の長手方向と平行に入射した場合には弱い散
乱光しか得られない。欠陥が浅い場合には散乱光が全く
検出できないこともある。
【００１３】本発明者らは以上の試験結果を検討したと
ころ、散乱光検出器側の少なくとも３方位から検査光を
ガラス基板に照射し、検査光とガラス基板の法線とのな
す角θを１０°〜４０°にすれば、ガラス基板の表面に
存在する微小な欠陥をも確実に検出できることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
ころ、散乱光検出器側の少なくとも３方位から検査光を
ガラス基板に照射し、検査光とガラス基板の法線とのな
す角θを１０°〜４０°にすれば、ガラス基板の表面に
存在する微小な欠陥をも確実に検出できることを見いだ
し本発明を完成するに至った。
【００１４】即ち、本発明の透明ガラス基板の欠陥検出
装置は、一実施例に対応する図１に示すように、被検査
体である透明ガラス基板２の片側に、透明ガラス基板２
の一点に向けて少なくとも３つの入射方位から、集光さ
せた検査光５1・５2・５3 を同時に照射する複数の光源４
1・４2・４3が配置されている。検査光５1・５2・５3と透明
ガラス基板２の法線６となす角θ1・θ2・θ3は１０〜４
０°である。透明ガラス基板２のもう一方の側には透明
ガラス基板２の欠陥３により生じた前方散乱光７を検出
する１つの散乱光検出器８が配置されている。
装置は、一実施例に対応する図１に示すように、被検査
体である透明ガラス基板２の片側に、透明ガラス基板２
の一点に向けて少なくとも３つの入射方位から、集光さ
せた検査光５1・５2・５3 を同時に照射する複数の光源４
1・４2・４3が配置されている。検査光５1・５2・５3と透明
ガラス基板２の法線６となす角θ1・θ2・θ3は１０〜４
０°である。透明ガラス基板２のもう一方の側には透明
ガラス基板２の欠陥３により生じた前方散乱光７を検出
する１つの散乱光検出器８が配置されている。
【００１５】被検査体である透明ガラス基板２として
は、例えばフォトマスク用のガラス基板がある。
は、例えばフォトマスク用のガラス基板がある。
【００１６】光源４1・４2・４3 は、ガラス基板の表面に
光をスポット照射できる集光作用を有するものを使用す
る。例えばハロゲンランプヘリウムネオン等のレーザ光
発生装置や水銀ランプが挙げられる。集光作用のない光
源を用いると、欠陥３による散乱光７が検出しにくくな
り、検出感度が低下してしまう。
光をスポット照射できる集光作用を有するものを使用す
る。例えばハロゲンランプヘリウムネオン等のレーザ光
発生装置や水銀ランプが挙げられる。集光作用のない光
源を用いると、欠陥３による散乱光７が検出しにくくな
り、検出感度が低下してしまう。
【００１７】検査光５1・５2・５3は透明ガラス基板２に
少なくとも３方位から照射する。照射方位は多い方が良
い。照射方位が３方位未満であると欠陥３の形状によっ
ては散乱光７が発生せず、欠陥３を検出できないことが
ある。また、検査光５1・５2・５3の照度は高いほうが好
ましい。リング状の光を収束できるリング照明系の使用
も可能である。
少なくとも３方位から照射する。照射方位は多い方が良
い。照射方位が３方位未満であると欠陥３の形状によっ
ては散乱光７が発生せず、欠陥３を検出できないことが
ある。また、検査光５1・５2・５3の照度は高いほうが好
ましい。リング状の光を収束できるリング照明系の使用
も可能である。
【００１８】検査光５1・５2・５3と透明ガラス基板２の
法線となす角θ1・θ2・θ3は１０〜４０°に設定する。
なす角θ1・θ2・θ3は１０°に満たない場合や、４０°
を越える場合には、欠陥３の形状によっては散乱光７が
発生せず、欠陥３を検出できないことがある。例えば３
方位から検査光５1・５2・５3を照射する場合、検査光５1
・５2・５3とガラス基板２の法線となす角θ1・θ2・θ3は
１０〜２５°に設定することがより好ましい。
法線となす角θ1・θ2・θ3は１０〜４０°に設定する。
なす角θ1・θ2・θ3は１０°に満たない場合や、４０°
を越える場合には、欠陥３の形状によっては散乱光７が
発生せず、欠陥３を検出できないことがある。例えば３
方位から検査光５1・５2・５3を照射する場合、検査光５1
・５2・５3とガラス基板２の法線となす角θ1・θ2・θ3は
１０〜２５°に設定することがより好ましい。
【００１９】なお、３方位から検査光５1・５2・５3を照
射する場合、各検査光５1・５2・５3の光路をガラス基板
２へ垂直に投影した投影線同士のなす角δが６０°を越
えないように光源４1・４2・４3を配置することが好まし
い。６０°を越えると欠陥３を検出できないことがあ
る。また、各検査光５1・５2・５3の光路をガラス基板２
へ垂直に投影した投影線同士のなす角δと、１８０°を
検査光５1・５2・５3の本数を割った角度とが一致するよ
うに光源４1・４2・４3を配置することが望ましい。例え
ば４方位の場合はなす角δを４５°、５方位の場合はな
す角δを３６°に設定する。
射する場合、各検査光５1・５2・５3の光路をガラス基板
２へ垂直に投影した投影線同士のなす角δが６０°を越
えないように光源４1・４2・４3を配置することが好まし
い。６０°を越えると欠陥３を検出できないことがあ
る。また、各検査光５1・５2・５3の光路をガラス基板２
へ垂直に投影した投影線同士のなす角δと、１８０°を
検査光５1・５2・５3の本数を割った角度とが一致するよ
うに光源４1・４2・４3を配置することが望ましい。例え
ば４方位の場合はなす角δを４５°、５方位の場合はな
す角δを３６°に設定する。
【００２０】
【作用】光源４1・４2・４3 から照射された検査光５1・５
2・５3 が透明ガラス基板２を透過する際、透過部分に欠
陥３があると検査光５1・５2・５3が散乱される。その散
乱光７を散乱光検出器８で検出することにより欠陥３が
検出される。検査光５1・５2・５3 は透明ガラス基板２の
法線６と１０〜４０°の角度をなして散乱光検出器８の
反対側から透明ガラス基板２に入射するために散乱光７
が発生し易く、欠陥３が微細な場合でも散乱光７が生じ
る。欠陥３の形状が細長い場合でも、光源４1・４2・４3
から照射された検査光５1・５2・５3 のうち何れかは欠陥
３にその長手方向と交わって入射するため、散乱光７が
発生する。そのためどのような形状の欠陥３も確実に検
出することが出来る。
2・５3 が透明ガラス基板２を透過する際、透過部分に欠
陥３があると検査光５1・５2・５3が散乱される。その散
乱光７を散乱光検出器８で検出することにより欠陥３が
検出される。検査光５1・５2・５3 は透明ガラス基板２の
法線６と１０〜４０°の角度をなして散乱光検出器８の
反対側から透明ガラス基板２に入射するために散乱光７
が発生し易く、欠陥３が微細な場合でも散乱光７が生じ
る。欠陥３の形状が細長い場合でも、光源４1・４2・４3
から照射された検査光５1・５2・５3 のうち何れかは欠陥
３にその長手方向と交わって入射するため、散乱光７が
発生する。そのためどのような形状の欠陥３も確実に検
出することが出来る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図１は本
発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装置の一実施
例の側面図、図２はその平面図である。この装置は、Ｘ
−Ｙテーブル（不図示）に載置された顕微鏡用回転ステ
ージ１０（（株）ニコン製）の上面に被検体である透明
ガラス基板２を載せ、その上方に散乱光検出器８を配置
したものである。散乱光検出器８は、実体顕微鏡
（（株）ニコン製）にＣＣＤカメラ（プロテックジャパ
ン社製）を取り付けたもので、その光学系には×５のレ
ンズが挿入されている。透明ガラス基板２の下方には３
個のハロゲンランプ４1・４2・４3 （山田光学製）が設け
られている。各ハロゲンランプ４1・４2・４3 は、照射さ
れる検査光５1・５2・５3が透明ガラス基板２の法線６と
２５°の角度をなし、透明ガラス基板２表面の一点で交
差するように配置される。各検査光５1・５2・５3 の光路
をガラス基板２へ垂直に投影した投影線同士のなす角δ
は６０°に設定されている。
発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装置の一実施
例の側面図、図２はその平面図である。この装置は、Ｘ
−Ｙテーブル（不図示）に載置された顕微鏡用回転ステ
ージ１０（（株）ニコン製）の上面に被検体である透明
ガラス基板２を載せ、その上方に散乱光検出器８を配置
したものである。散乱光検出器８は、実体顕微鏡
（（株）ニコン製）にＣＣＤカメラ（プロテックジャパ
ン社製）を取り付けたもので、その光学系には×５のレ
ンズが挿入されている。透明ガラス基板２の下方には３
個のハロゲンランプ４1・４2・４3 （山田光学製）が設け
られている。各ハロゲンランプ４1・４2・４3 は、照射さ
れる検査光５1・５2・５3が透明ガラス基板２の法線６と
２５°の角度をなし、透明ガラス基板２表面の一点で交
差するように配置される。各検査光５1・５2・５3 の光路
をガラス基板２へ垂直に投影した投影線同士のなす角δ
は６０°に設定されている。
【００２２】ハロゲンランプ４1・４2・４3 から照射され
た検査光５1・５2・５3 は、透明ガラス基板２の表面で交
差するとともに透明ガラス基板２に入射する。透明ガラ
ス基板２に欠陥３がない場合には、各検査光５1・５2・５
3はそのまま透明ガラス基板２を透過し、散乱光は発生
しない。検査光５1・５2・５3 が欠陥３に入射すると散乱
光７が発生し、ＣＣＤカメラ８により検出される。
た検査光５1・５2・５3 は、透明ガラス基板２の表面で交
差するとともに透明ガラス基板２に入射する。透明ガラ
ス基板２に欠陥３がない場合には、各検査光５1・５2・５
3はそのまま透明ガラス基板２を透過し、散乱光は発生
しない。検査光５1・５2・５3 が欠陥３に入射すると散乱
光７が発生し、ＣＣＤカメラ８により検出される。
【００２３】以下、フォトマスク用合成石英ガラス基板
２の欠陥検出を行なった実施例を説明する。
２の欠陥検出を行なった実施例を説明する。
【００２４】実施例１ 透明ガラス基板２として精密研磨実施後に精密洗浄を施
した１２７×１２７×２．３ｍｍのフォトマス用合成石
英ガラス基板２を１０枚用意する。各ガラス基板２は、
夫々２×２０μｍ、２×２μｍ、１×１０μｍ、１×３
μｍ、１×１μｍ、０．５×２０μｍ、０．５×５μ
ｍ、０．５×１μｍ、０．３×０．７μｍ、０．３×
０．３μｍの傷３を有している。
した１２７×１２７×２．３ｍｍのフォトマス用合成石
英ガラス基板２を１０枚用意する。各ガラス基板２は、
夫々２×２０μｍ、２×２μｍ、１×１０μｍ、１×３
μｍ、１×１μｍ、０．５×２０μｍ、０．５×５μ
ｍ、０．５×１μｍ、０．３×０．７μｍ、０．３×
０．３μｍの傷３を有している。
【００２５】各ハロゲンランプ４1・４2・４3 からの検査
光５1・５2・５3 は、基板２の表面で２０万ルクスになる
ように調整した後、これらのフォトマス用合成石英ガラ
ス基板２を順に回転ステージ１０に載せ、欠陥検出の可
否を判定した。
光５1・５2・５3 は、基板２の表面で２０万ルクスになる
ように調整した後、これらのフォトマス用合成石英ガラ
ス基板２を順に回転ステージ１０に載せ、欠陥検出の可
否を判定した。
【００２６】実施例２ 基板２表面の照度を６０万ルクスとする他は実施例１と
同様にして欠陥検出を試みた。
同様にして欠陥検出を試みた。
【００２７】次に、比較のため本発明を適用以外の方法
で欠陥検出を試みた。 比較例１ 実施例１の検査に使用したガラス基板２をクリーンルー
ム内に入れ、基板２の表面で２０万ルクスになるように
照明を当て、欠陥の有無を目視で検査した。
で欠陥検出を試みた。 比較例１ 実施例１の検査に使用したガラス基板２をクリーンルー
ム内に入れ、基板２の表面で２０万ルクスになるように
照明を当て、欠陥の有無を目視で検査した。
【００２８】比較例２ ハロゲンランプの本数を２本にする以外は実施例１と同
様にして欠陥を検出した。
様にして欠陥を検出した。
【００２９】比較例３ ハロゲンランプ４1・４2・４3 を散乱光検出器８側に移し
て検査光を照射し、後方散乱光を検出する他は実施例１
と同様にして欠陥を検出した。
て検査光を照射し、後方散乱光を検出する他は実施例１
と同様にして欠陥を検出した。
【００３０】比較例４ 検査光５1・５2・５3 とガラス基板２の法線とのなす角を
５°にする他は実施例１と同様にして欠陥を検出した。
５°にする他は実施例１と同様にして欠陥を検出した。
【００３１】表１に各実施例および比較例の検出結果を
示す。
示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】表１に示す結果によれば、本発明の透明ガ
ラス基板の欠陥検出装置は１μｍ以下のガラス表面の欠
陥をも検出可能なことがわかる。
ラス基板の欠陥検出装置は１μｍ以下のガラス表面の欠
陥をも検出可能なことがわかる。
【００３４】なお、上記の実施例では散乱光検出器８と
してＣＣＤカメラを使用したが、撮像管を使用しても良
い。散乱光検出器８の光学系に拡大レンズを取付ければ
欠陥検出力をさらに高めることも可能である。
してＣＣＤカメラを使用したが、撮像管を使用しても良
い。散乱光検出器８の光学系に拡大レンズを取付ければ
欠陥検出力をさらに高めることも可能である。
【００３５】また、本発明の装置とガラス基板２の自動
スキャンを組合わせれば、信頼性が高く且つ高感度の自
動欠陥検出装置を組み上げることも可能である。さら
に、欠陥３の光照射角度による散乱光強度の違いによ
り、汚れか傷かの判別も可能となる。
スキャンを組合わせれば、信頼性が高く且つ高感度の自
動欠陥検出装置を組み上げることも可能である。さら
に、欠陥３の光照射角度による散乱光強度の違いによ
り、汚れか傷かの判別も可能となる。
【００３６】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
透明ガラス基板の欠陥検出装置は、欠陥により生じる散
乱光強度が大きいため、１μｍ以下の微小な欠陥の検出
が可能である。また、ガラス基板に対して３方向以上か
ら検査光を同時に照射するために欠陥の形状にかかわら
ず散乱光が発生し、欠陥を高感度で確実に検出すること
が出来る。
透明ガラス基板の欠陥検出装置は、欠陥により生じる散
乱光強度が大きいため、１μｍ以下の微小な欠陥の検出
が可能である。また、ガラス基板に対して３方向以上か
ら検査光を同時に照射するために欠陥の形状にかかわら
ず散乱光が発生し、欠陥を高感度で確実に検出すること
が出来る。
【図１】本発明を適用する透明ガラス基板の欠陥検出装
置の一実施例を示す側面図である。
置の一実施例を示す側面図である。
【図２】図１に示した透明ガラス基板の欠陥検出装置の
平面図である。
平面図である。
【図３】透明ガラス基板の欠陥検出条件を求める装置の
概略側面図である。
概略側面図である。
【図４】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図５】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図６】欠陥により生じた後方散乱光を示す図である。
【図７】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図８】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図９】欠陥により生じた前方散乱光を示す図である。
【図１０】検査光の入射方位の説明図である。
【図１１】散乱光を検出可能な範囲を示す図である。
【図１２】散乱光を検出可能な範囲を示す図である。
２は透明ガラス基板、３は欠陥、４1・４2・４3・１４は光
源、５1・５2・５3 は検査光、６は透明ガラス基板の法
線、７は散乱光、８・１８は散乱光検出器、１０は回転
ステージ、１１・１２は散乱光検出可能範囲、１５は投
影線、１７は基準方位である。
源、５1・５2・５3 は検査光、６は透明ガラス基板の法
線、７は散乱光、８・１８は散乱光検出器、１０は回転
ステージ、１１・１２は散乱光検出可能範囲、１５は投
影線、１７は基準方位である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡部 厚 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地 の１ 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (56)参考文献 特開 昭57−37253（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−25042（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−186806（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】 被検査体である透明ガラス基板の片側
に、前記透明ガラス基板の一点に向けて少なくとも３つ
の入射方位から、集光させた検査光を同時に照射する複
数の光源が配置され、かつ該検査光と透明ガラス基板の
法線とが１０〜４０°の角度をなし、前記透明ガラス基
板のもう一方の側に透明ガラス基板の欠陥により生じた
前方散乱光を検出する１つの散乱光検出器が配置されて
いることを特徴とする透明ガラス基板の欠陥検出装置。 - 【請求項２】 前記透明ガラス基板がフォトマスク用ガ
ラス基板であることを特徴とする請求項１に記載の透明
ガラス基板の欠陥検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11713791A JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11713791A JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04344447A JPH04344447A (ja) | 1992-12-01 |
| JP2705764B2 true JP2705764B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=14704372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11713791A Expired - Fee Related JP2705764B2 (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 透明ガラス基板の欠陥検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2705764B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100532238B1 (ko) | 1997-03-10 | 2006-02-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 박판막 검사방법, 이에 사용되는 장치 및 검사시스템 |
| JP4961541B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-06-27 | レーザーテック株式会社 | 欠陥修正方法及び装置 |
| JP5578708B2 (ja) * | 2010-04-19 | 2014-08-27 | Ｈｏｙａ株式会社 | Ｆｐｄ製造用再生フォトマスク基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクの製造方法、ペリクル付再生フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 |
| JP6925299B2 (ja) | 2018-04-24 | 2021-08-25 | 株式会社日立産機システム | 安全キャビネット |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5737253A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-01 | Asahi Glass Co Ltd | Defect detection device for transparent body |
| JPS6125042A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 表面欠陥検査装置 |
| JPS61186806A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-20 | Nec Corp | 透明体の欠点検出装置 |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP11713791A patent/JP2705764B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04344447A (ja) | 1992-12-01 |
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