JPS63103951A - ゴミ検査装置 - Google Patents

ゴミ検査装置

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Publication number
JPS63103951A
JPS63103951A JP24987586A JP24987586A JPS63103951A JP S63103951 A JPS63103951 A JP S63103951A JP 24987586 A JP24987586 A JP 24987586A JP 24987586 A JP24987586 A JP 24987586A JP S63103951 A JPS63103951 A JP S63103951A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dust
light
pellicle film
inspection device
size
Prior art date
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Pending
Application number
JP24987586A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukihiro Muraoka
村岡 幸弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS63103951A publication Critical patent/JPS63103951A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔皿業上の利用分野〕 本発明は半導体上製造する際、使われるウェーハ、マス
ク、レチクル及びペリクル膜等の表面又は大気中に含ま
れるゴミを検出するゴミ検査装置に関するものである。
〔従来の技術〕
第1図、第2図を用いて従来の技術について説明する。
従来、この種のゴミ検査装置は第1図の様に可視(特に
He−Neレーザー光)又は赤外光で被検査物表面を照
射し、直接反射光のとない位置にセンサーを設け、第2
図の様にゴミがあった場合にその散乱光音検出していた
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし半導体の製造工程中の露光工程においては可視又
は赤外光ではなく、紫外線が露光用光源として使われる
ことが多く、ゴミの分光特性のちがいにより、可視又は
赤外光照射で発見され7ζゴミが必らずしも露光に悪影
響がなかったり、逆に可視又は赤外光照射で発見されな
かったゴミが露光に重大な悪影響を及ぼす場合があっ’
fCo又、第3図の様にペリクル膜を貼ジつけたレチク
ルの外からペリクル膜とレチクルの中間にあるゴミ?!
−恢出しようとした場合、ペリクル膜は紫外線(!4光
波長)で透過率が最高となる様にできているため、可視
又は赤外光では吸収、反射等が起こり光がレチクル上に
届きにくいたけでなく、散乱光等もセンサーに届きにく
くなり、ゴミの検出感度が低下してしまうという問題が
あった。
〔問題?解決するための手段〕
本発明によれば照射光に紫外線を用いていることにより
1ゴミの分光特性やペリクル膜の分光特性の影響上受け
ずにゴミの正確な位置、大きさ、数量等が検出できるも
のである。
〔実施例〕
本発明の実施にあたっては第1図から第3図の検査光源
と投光光学系勿紫外線片につくり、受光光学系及び受光
センサ(TVカメラも含む)盆紫外線の散乱光、又は紫
外線がゴミにあたることにより、ゴミから出る螢光上う
まく検出できるものに変えれば良い。
〔発明の効果〕
本発明は紫外線でゴミが判別される。
【図面の簡単な説明】
第1図はゴミ検査用光源及びセンサーの位置関係例を示
す。ここで矢印は検査光の光路r示す。 第2図は第1図の仮検査物上にゴミがある場合を示す。 この場合、ゴミにより検査光が散乱されその一部がセン
サーに届くことヶ示す。第3図は第2図の状態にペリク
ル膜【貼りつけである場合?示す。ペリクル膜の分光特
性により、ゴミにうまく検査光が届かないだけでなく、
ゴミによる散乱光もうまくセンサーに届かない様子を示
す。 1・・・・・・検査光光路、2・・・・・・反射光(ゴ
ミのない場合)光路、3・・・・・・検査光源及び投光
光学系、4・・・・・・受光光学系及び受光センサ、5
・・・・・・レチクル又はマスク、6・・・・・・ゴミ
による散乱元元路、7・・・・・・ゴミ、8・・・・・
・ペリクル膜、9・・・・・・ペリクル膜保持用フレー
ム、10・・・・・・ペリクル膜反射元光路。 代理人 弁理士  内  原    4 パ−日  −
1 一、−−− 澄2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体製造に使うウェーハ、マスク、レチクル及びペリ
    クル膜等の表面又は大気中のゴミ検査を行なう際、レー
    ザー光を含む紫外線(この場合波長=100〜500m
    m)を被検査物表面又は大気中のゴミに照射することに
    より得られる散乱光又は螢光により、ゴミの位置とサイ
    ズ(形状を含む)及び個数を検出することを特長とする
    ゴミ検査装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02216035A (ja) * 1989-02-16 1990-08-28 Fujitsu Ltd 微粒子の検出方法
WO1993007470A1 (en) * 1991-10-01 1993-04-15 Tadahiro Ohmi Analyzer
JP2013501228A (ja) * 2009-08-04 2013-01-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 対象検査システムおよび方法
CN113203719A (zh) * 2021-06-04 2021-08-03 河南柴油机重工有限责任公司 快速检测曲轴表面清洁度的方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5728904A (en) * 1980-05-29 1982-02-16 Shell Int Research Safety device for burner of coal gasifyer
JPS5761548B2 (ja) * 1978-10-18 1982-12-24 Daichiku Co Ltd
JPS6080745A (ja) * 1983-10-11 1985-05-08 Hitachi Ltd 異物自動検出装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5761548B2 (ja) * 1978-10-18 1982-12-24 Daichiku Co Ltd
JPS5728904A (en) * 1980-05-29 1982-02-16 Shell Int Research Safety device for burner of coal gasifyer
JPS6080745A (ja) * 1983-10-11 1985-05-08 Hitachi Ltd 異物自動検出装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02216035A (ja) * 1989-02-16 1990-08-28 Fujitsu Ltd 微粒子の検出方法
WO1993007470A1 (en) * 1991-10-01 1993-04-15 Tadahiro Ohmi Analyzer
US5578833A (en) * 1991-10-01 1996-11-26 Tadahiro Ohmi Analyzer
JP2013501228A (ja) * 2009-08-04 2013-01-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 対象検査システムおよび方法
TWI477763B (zh) * 2009-08-04 2015-03-21 Asml Netherlands Bv 物件檢測系統及方法
US9122178B2 (en) 2009-08-04 2015-09-01 Asml Netherlands B.V. Object inspection systems and methods
CN113203719A (zh) * 2021-06-04 2021-08-03 河南柴油机重工有限责任公司 快速检测曲轴表面清洁度的方法

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