JPS5988487A - ペネム誘導体の製造法 - Google Patents
ペネム誘導体の製造法Info
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- JPS5988487A JPS5988487A JP57197923A JP19792382A JPS5988487A JP S5988487 A JPS5988487 A JP S5988487A JP 57197923 A JP57197923 A JP 57197923A JP 19792382 A JP19792382 A JP 19792382A JP S5988487 A JPS5988487 A JP S5988487A
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- Japan
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- compound
- formula
- solution
- group
- fluoroethylthio
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
のである。
Ｒ１
式中 Ｒ１は水酸基の保護基乞、Ｒ２は弗素原子で置換
された直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基を、Ｒ３は
カルボキシ基の保膜基馨示す。
された直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基を、Ｒ３は
カルボキシ基の保膜基馨示す。
近年耐性菌の著しい増加に伴ない、抗菌スペクトルが広
く耐性菌に強い抗菌活性を有する化学療法剤が望まれて
いる。本発明者等は長年に亘シ前述した活性な有する新
規ペネム酵導体を１成すべく鋭意研究を重ねた結果、一
般式（ＪＤ（式中、Ｒ２＆家前述したものと同意義、、
、ｕｌおよびＲ３が水素原子を示す。）？ｒ：有する化
合物が広範囲の病原菌に対してすぐれた抗菌活性６有す
ることな見い出した。今回発明者等はこれらの化合物の
合成法を種々検削しこれらの化合物の合成中間体である
一般式■（式中、Ｒ１は水酸基の保護基な Ｒ２は弗素
原子で置換された直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基
、ｐ、−、ｕ３はカルボキシ基の保護基を示す。）を有
すペネム誘導体の新規なかつ簡便な製造法な見い出し本
発明を完成するに至った。その製造法は一般式印（式中
、Ｒ１は水酸基の保護基な、Ｒ２は弗素原子で置換され
た直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基を、Ｒ３はカル
ボキン基の保護基を、又は酸素原子又は硫黄原子を示す
。）を有する化合物を３価リンと反応させ一般式（ＩＤ
Ｃ式中 Ｒ１は水酸基の保凸基を、ＲＭ弗素原子で置
換された直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基＊、Ｒ３
はカルボキン基の保護基を示す）を有するペネムカルボ
ン酸エステルナ得る方法である。この方法は従来のヘイ
・ム誘導体の合成法たとえばＪ、Ａｍ、Ｏｈｅｍ、Ｓｏ
ｅ。
く耐性菌に強い抗菌活性を有する化学療法剤が望まれて
いる。本発明者等は長年に亘シ前述した活性な有する新
規ペネム酵導体を１成すべく鋭意研究を重ねた結果、一
般式（ＪＤ（式中、Ｒ２＆家前述したものと同意義、、
、ｕｌおよびＲ３が水素原子を示す。）？ｒ：有する化
合物が広範囲の病原菌に対してすぐれた抗菌活性６有す
ることな見い出した。今回発明者等はこれらの化合物の
合成法を種々検削しこれらの化合物の合成中間体である
一般式■（式中、Ｒ１は水酸基の保護基な Ｒ２は弗素
原子で置換された直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基
、ｐ、−、ｕ３はカルボキシ基の保護基を示す。）を有
すペネム誘導体の新規なかつ簡便な製造法な見い出し本
発明を完成するに至った。その製造法は一般式印（式中
、Ｒ１は水酸基の保護基な、Ｒ２は弗素原子で置換され
た直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基を、Ｒ３はカル
ボキン基の保護基を、又は酸素原子又は硫黄原子を示す
。）を有する化合物を３価リンと反応させ一般式（ＩＤ
Ｃ式中 Ｒ１は水酸基の保凸基を、ＲＭ弗素原子で置
換された直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基＊、Ｒ３
はカルボキン基の保護基を示す）を有するペネムカルボ
ン酸エステルナ得る方法である。この方法は従来のヘイ
・ム誘導体の合成法たとえばＪ、Ａｍ、Ｏｈｅｍ、Ｓｏ
ｅ。
± ８２１４ （１９７Ｂ） 、または特開昭５４−１
１９４８６号に開示された方法に比較して短かい工程で
効率よく一般式（ＩＩＪを有する化合物を合成できる点
ですぐれた方法である。
１９４８６号に開示された方法に比較して短かい工程で
効率よく一般式（ＩＩＪを有する化合物を合成できる点
ですぐれた方法である。
本発明は一般式■を有す新規ペネム誘導体の合成法であ
る。
る。
○Ｒ１
式中、Ｒが示す水酸基の保護基としては、例えばｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル、。
トロベンジルオキシカルボニル、。
−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンジルオキシカ
ルボニルなどのベンジルオキ７カルボニル基を；トリメ
チルシリル、トリエチルシリル〜 ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルなどのトリアルキルシＩＪル基を；アセチ
ル、１０ピオニル、ブチリル、クロルアセチルなどの低
級アルカノイル基化；メトキシメチル、エトキンメチル
、１−メチル−１−メトキシエチル、２−メトキシエト
キシメチル、２，２．２−１−リクロルエトキ７メチル
などのアルコキシアルキル基を；エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、２，
２．２−１−リクロルエトキシカルボニルなどのアルコ
キシカルボニル基をあげることができる。好適にはｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル基、トリエチルシリル
基またはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基である。
ルボニルなどのベンジルオキ７カルボニル基を；トリメ
チルシリル、トリエチルシリル〜 ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルなどのトリアルキルシＩＪル基を；アセチ
ル、１０ピオニル、ブチリル、クロルアセチルなどの低
級アルカノイル基化；メトキシメチル、エトキンメチル
、１−メチル−１−メトキシエチル、２−メトキシエト
キシメチル、２，２．２−１−リクロルエトキ７メチル
などのアルコキシアルキル基を；エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、２，
２．２−１−リクロルエトキシカルボニルなどのアルコ
キシカルボニル基をあげることができる。好適にはｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル基、トリエチルシリル
基またはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基である。
Ｒ２が示す弗素原子で置換された直鎖若しくは分岐鎖状
の１氏級アルキル基としては、例えば２−フルオロエチ
ル、３−フルオロプロピル、１−フルオロ−２−プロピ
ル、４−フルオロブチル、１．３−ジフルオロ−２−プ
ロピル、２．２．２−トリフルオロエチルをあげること
ができる。好適には２−フルオロエチル、３−フルオロ
プロピルまたは１−フルオロ−２−プロピル基であわ、
特に好適には２−フルオロエチル基でおる。Ｒ６で示さ
れるカルボキシ基の保餓基としては例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ
ｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基馨；アリル、２−クロ
ルアリル、２−メチル−２−プロペニルなどのアリル基
を；メトキンメチル、エトキシメチル、プロポキシメチ
ル、イソ１０ボキシメチル、ブトキシメチル、イソブト
キシメチルなどのアルコキシメチル基ヲ、ヘンシル、ｐ
−メトキシベンジル、０−ニトロベンジル、ｐ−ニトロ
ベンジルナトのベンジル基をあげることができる。Ｒ３
で示されるカルボキン基の保護基のうち生体内で容易に
カルボン酸に戻るものとして例えば、アセトキシメチル
、プロピオニルオキンメチル、ブチリルオキシメチル、
インブチリルオキンメチル、ビバロイルオキンメテルの
ようなアシルオキシメチル基を；１−メトキシカルボニ
ルオキシエチル、１−エトキシカルボニルオキシエチル
、１−プロポキシカルボニルオキ／エチル、１−インプ
ロホキ７カルボニルオキシエチル、１−プトキ７カルポ
ニルオキシエチル、１−インブトキシカルボニルオキシ
エチルなどのアルコキシカルボニルオキシエチル基を；
フタリジル基ｔａ０：；（２−オキソ−５−メチル−１
，３−ジオキソレン−４−イルコメチル基をあげること
ができる。
の１氏級アルキル基としては、例えば２−フルオロエチ
ル、３−フルオロプロピル、１−フルオロ−２−プロピ
ル、４−フルオロブチル、１．３−ジフルオロ−２−プ
ロピル、２．２．２−トリフルオロエチルをあげること
ができる。好適には２−フルオロエチル、３−フルオロ
プロピルまたは１−フルオロ−２−プロピル基であわ、
特に好適には２−フルオロエチル基でおる。Ｒ６で示さ
れるカルボキシ基の保餓基としては例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ
ｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基馨；アリル、２−クロ
ルアリル、２−メチル−２−プロペニルなどのアリル基
を；メトキンメチル、エトキシメチル、プロポキシメチ
ル、イソ１０ボキシメチル、ブトキシメチル、イソブト
キシメチルなどのアルコキシメチル基ヲ、ヘンシル、ｐ
−メトキシベンジル、０−ニトロベンジル、ｐ−ニトロ
ベンジルナトのベンジル基をあげることができる。Ｒ３
で示されるカルボキン基の保護基のうち生体内で容易に
カルボン酸に戻るものとして例えば、アセトキシメチル
、プロピオニルオキンメチル、ブチリルオキシメチル、
インブチリルオキンメチル、ビバロイルオキンメテルの
ようなアシルオキシメチル基を；１−メトキシカルボニ
ルオキシエチル、１−エトキシカルボニルオキシエチル
、１−プロポキシカルボニルオキ／エチル、１−インプ
ロホキ７カルボニルオキシエチル、１−プトキ７カルポ
ニルオキシエチル、１−インブトキシカルボニルオキシ
エチルなどのアルコキシカルボニルオキシエチル基を；
フタリジル基ｔａ０：；（２−オキソ−５−メチル−１
，３−ジオキソレン−４−イルコメチル基をあげること
ができる。
好適には、アリル、ｐ−ニトロベンジル、（２−オキソ
−５−メチル−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチ
ル基である。
−５−メチル−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチ
ル基である。
なお前記一般式（ＩＩ）を有する化合物においては不斉
炭素原子に基く光学、異性体が存在し、これらの異性体
がすべて単一式で示きれている。これらの異性体のうち
で好適なものとしては（５Ｒ，５Ｂ）および６−［１−
（Ｒ））配位の化合物をあげることができる。
炭素原子に基く光学、異性体が存在し、これらの異性体
がすべて単一式で示きれている。これらの異性体のうち
で好適なものとしては（５Ｒ，５Ｂ）および６−［１−
（Ｒ））配位の化合物をあげることができる。
一般式（ＩＤ ’に有するペネム誘導体は新規な一般式
中 （式中Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は前述したものと同意萩を
示し、又は酸素原子または硫黄原子を示す。
中 （式中Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は前述したものと同意萩を
示し、又は酸素原子または硫黄原子を示す。
を有する化合物を溶媒中、２〜４当社の３価の有機リン
化合物を用いて環化することによって得られる。本反応
に使用する溶媒としては、反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、クロロホルム、メチレンクロライ
ドのよ５なハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、
゛ジオキサンのよ５なエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のようなエステル類、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミドのようなジアルキルアセトアミ
ド類その他、アセトニトリル、ジメスルホキシドなどで
ありこれらの混合溶媒も使用できる。好適にはベンゼン
トルエン、キシレンなどである。
化合物を用いて環化することによって得られる。本反応
に使用する溶媒としては、反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、クロロホルム、メチレンクロライ
ドのよ５なハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、
゛ジオキサンのよ５なエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のようなエステル類、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミドのようなジアルキルアセトアミ
ド類その他、アセトニトリル、ジメスルホキシドなどで
ありこれらの混合溶媒も使用できる。好適にはベンゼン
トルエン、キシレンなどである。
３価の有機リン化合物としては亜リン酸トリアルキル、
環式および／または脂環式亜リン酸トリアルキル、亜す
ン酸トリアリ〜ル、混合亜リン酸アルキルアリールおよ
び亜すン畝トリアミドなどが使用できる。好適には亜リ
ン酸トリ）アルキルである。
環式および／または脂環式亜リン酸トリアルキル、亜す
ン酸トリアリ〜ル、混合亜リン酸アルキルアリールおよ
び亜すン畝トリアミドなどが使用できる。好適には亜リ
ン酸トリ）アルキルである。
反応温度は特に限定はなく、通常２０°〜２００℃で行
うが好適には５０＠〜１５０℃である。
うが好適には５０＠〜１５０℃である。
反応に要する時間は一般式（１）を有する化合物の種類
および反応温度によシ異なるが２時間〜４日間である。
および反応温度によシ異なるが２時間〜４日間である。
反応終了後ペネム誘導体（ｎ）は常法に従って反応混合
物から単離する。例えば反応混合物を必要ならば不溶物
をＦ別後、水洗、乾燥し７６媒および試薬を留去し得ら
れる目的化合物を必要ならば再結晶、薄層クロマトグラ
フィーまだはカラムクロマトグラフィーなどによシ精製
する。
物から単離する。例えば反応混合物を必要ならば不溶物
をＦ別後、水洗、乾燥し７６媒および試薬を留去し得ら
れる目的化合物を必要ならば再結晶、薄層クロマトグラ
フィーまだはカラムクロマトグラフィーなどによシ精製
する。
本発明によって得られだペネム誘導体（ＩＩＪの水酸基
の１呆役基Ｒおよびカルボキン基の保欣基Ｒ３を通常の
方法、例えば特開昭５７−２２８９号に記載の方法に従
って除去することにより強い抗菌活性を示すペネム誘導
体へ導ける。又一般式（ＩＩ）においてＲが水素原子Ｒ
か前述した生体内でカルホン敞へ戻る化合物はエステル
型のま＼経日用抗菌剤として用いることができる。
の１呆役基Ｒおよびカルボキン基の保欣基Ｒ３を通常の
方法、例えば特開昭５７−２２８９号に記載の方法に従
って除去することにより強い抗菌活性を示すペネム誘導
体へ導ける。又一般式（ＩＩ）においてＲが水素原子Ｒ
か前述した生体内でカルホン敞へ戻る化合物はエステル
型のま＼経日用抗菌剤として用いることができる。
本発明に使用した一般式（１）ヲ有する化合物は以下に
示す方法により！！！造することができる。
示す方法により！！！造することができる。
特開昭５４−８８２９１号に開示されたアセトキンアゼ
チジノン［相］に二硫化炭素及び弗素置換アルキルメル
カプタンを反応させ化合物（財）とし次いでアルコキシ
オキサリルクロリドを反応させることによシ化合物（１
）を得ることができる。
チジノン［相］に二硫化炭素及び弗素置換アルキルメル
カプタンを反応させ化合物（財）とし次いでアルコキシ
オキサリルクロリドを反応させることによシ化合物（１
）を得ることができる。
（ＩＪ
又、ＵＫ Ｐａｔｅｎｔ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｇ
Ｂ ２０４２５１４ 。
Ｂ ２０４２５１４ 。
（１９８０年）に開示された方法によって得られるアゼ
チジノン銹導体（■をＢ、Ｇ、０ｈｒｉｅｔｅｎｓｅｎ
等（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ １ｅｔｌｅｒｓ ３
５３５ （ｆ ９ ８ ２ ） ） の方法に
従って化合物（１）（Ｘ−０）を製造することができる
。
チジノン銹導体（■をＢ、Ｇ、０ｈｒｉｅｔｅｎｓｅｎ
等（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ １ｅｔｌｅｒｓ ３
５３５ （ｆ ９ ８ ２ ） ） の方法に
従って化合物（１）（Ｘ−０）を製造することができる
。
Ｘり０
（Ｖ）巾
実施例１゜
（３ｓ、４Ｒ）−Ｎ−アリルオキシオキサリル−３−〔
１−（５）−ｔａｒｔ−ブチ／ｌ／ジメチルシリルオキ
シエチル）−４Ｃ（２−フルオロエチルチオ）カルボッ
チオイルチオ〕アゼチジン−２−オン１１２ｍ９と亜リ
ン酸トリエチルγγμｔのトルエン３ ｍｌ？溶液を窒
素気流下７５°〜８０℃で２０時間攪拌し、溶剤および
揮発性物質な減圧上留去し、残渣なローバーカラム（メ
ルク社製シリカゲル θ１ｚｅＡ ＊展開溶剤、ベンゼ
ン−酢酸エチル（３０：ｌ）を用いて精製するとｍｌ）
６３’〜５℃を有する目的化合物３２〜が得られた。
１−（５）−ｔａｒｔ−ブチ／ｌ／ジメチルシリルオキ
シエチル）−４Ｃ（２−フルオロエチルチオ）カルボッ
チオイルチオ〕アゼチジン−２−オン１１２ｍ９と亜リ
ン酸トリエチルγγμｔのトルエン３ ｍｌ？溶液を窒
素気流下７５°〜８０℃で２０時間攪拌し、溶剤および
揮発性物質な減圧上留去し、残渣なローバーカラム（メ
ルク社製シリカゲル θ１ｚｅＡ ＊展開溶剤、ベンゼ
ン−酢酸エチル（３０：ｌ）を用いて精製するとｍｌ）
６３’〜５℃を有する目的化合物３２〜が得られた。
赤外線吸収スペクトル νＬ１ｑＣ１１！−に１１６０
゜ａｘ １６γ５ １ｔＯＨ 紫外線吸収スペクトル λ ｎｍ ： ２６０ ＋ａ
ｘ ３４ 核磁気共鳴吸収スペクトル δ ０ＤＯ７３ｐｍ （ｌｉＱＭＨ２）； ０．９０（９Ｈｊｓ）、Ｌ２５（３Ｈ，ａ、Ｊ−６，０
Ｈ２）。
゜ａｘ １６γ５ １ｔＯＨ 紫外線吸収スペクトル λ ｎｍ ： ２６０ ＋ａ
ｘ ３４ 核磁気共鳴吸収スペクトル δ ０ＤＯ７３ｐｍ （ｌｉＱＭＨ２）； ０．９０（９Ｈｊｓ）、Ｌ２５（３Ｈ，ａ、Ｊ−６，０
Ｈ２）。
３．２２（２Ｈ，ｄｔ、Ｊ−ＩＢ、０，６．０ｌ−１ｚ
）、３．６７（ｉＨ，ａａ、ｙ−２，０，４，０Ｈｚ）
、４．６０（２Ｈ。
）、３．６７（ｉＨ，ａａ、ｙ−２，０，４，０Ｈｚ）
、４．６０（２Ｈ。
ｄｔ、Ｊ−４６，０，６，０Ｈ２）、４．０〜４．４８
（ＩＨ。
（ＩＨ。
ｍ）、４．６６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、５．５
７（１Ｈ，ｄ、、Ｔｍ２．０Ｈｚ）、５．１２〜６．２
２（３Ｈ，ｍ）実施例２゜ （ＳＲ，６Ｂ）−２−（２−フルオロエチルチオ）
６−（１−（Ｒ）−ｔａｒｔ−ブチルジメチル（３Ｂ、
４Ｒ）−Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル−３
−〔１−（５）−ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル）−４−［（２−フルオロエチルチオ）カルボ
ッチオイルチオ〕アゼチジン−２−オン１２９ｑと亜リ
ン酸トリエチルγ５μｔのトルエン３ ｍｌ溶液を窒素
気流下、１５６〜８０℃で１９時間攪拌し、溶剤および
ｊＪ■発性物質を減圧上留去し、残渣をローバーカラム
（メルク社製シリガゲル 日１ｚｅＡ ；展開剤ベンゼ
ン−酢酸エチル（ｚｓ：１））ｐｔ用いて４’：ｆ 製
すると目的化合物１８ｍ９が得られた。
７（１Ｈ，ｄ、、Ｔｍ２．０Ｈｚ）、５．１２〜６．２
２（３Ｈ，ｍ）実施例２゜ （ＳＲ，６Ｂ）−２−（２−フルオロエチルチオ）
６−（１−（Ｒ）−ｔａｒｔ−ブチルジメチル（３Ｂ、
４Ｒ）−Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル−３
−〔１−（５）−ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル）−４−［（２−フルオロエチルチオ）カルボ
ッチオイルチオ〕アゼチジン−２−オン１２９ｑと亜リ
ン酸トリエチルγ５μｔのトルエン３ ｍｌ溶液を窒素
気流下、１５６〜８０℃で１９時間攪拌し、溶剤および
ｊＪ■発性物質を減圧上留去し、残渣をローバーカラム
（メルク社製シリガゲル 日１ｚｅＡ ；展開剤ベンゼ
ン−酢酸エチル（ｚｓ：１））ｐｔ用いて４’：ｆ 製
すると目的化合物１８ｍ９が得られた。
赤外線吸収スペクトル νに乏’４：ｔｙ９０ｍ１６９
０．１６０５ 核磁気共鳴スペクトル（ａ：ｏｏｚ５）δｐｐｍ ’０
．９０（９Ｈ，８）、１．３５（３Ｈ，ａ、Ｊ−６，０
Ｈ２）。
０．１６０５ 核磁気共鳴スペクトル（ａ：ｏｏｚ５）δｐｐｍ ’０
．９０（９Ｈ，８）、１．３５（３Ｈ，ａ、Ｊ−６，０
Ｈ２）。
３．３２（２Ｈ，ｉｔ、Ｊ−１９，０，６、ＱＨｚ）。
３．８０（ＩＨ、ａａ、Ｊ−４，０，２，０Ｈ２）、４
．００〜４．６Ｇ（？Ｈ，ｍ）、４．７０（２Ｈ，ａｔ
、、Ｔ、−４７，０゜６．０Ｈｚ） 、５．２５ ｊ５
．５０（２Ｈ，ＡＢ−ｑｕａｒｔｅｔ 。
．００〜４．６Ｇ（？Ｈ，ｍ）、４．７０（２Ｈ，ａｔ
、、Ｔ、−４７，０゜６．０Ｈｚ） 、５．２５ ｊ５
．５０（２Ｈ，ＡＢ−ｑｕａｒｔｅｔ 。
：ｆ−１４，０Ｈｚ）、５．７２（ＩＨ，ｄ、、Ｔ−２
，ＱＨｇ）。
，ＱＨｇ）。
７．６８ 、８．２４（４Ｈ、Ａ２Ｂ２．Ｊ−９，０Ｈ
ｚ）参考例１゜ ２−フルオロエチルチオアセテートｃ２６８ｍｇ）を無
水メタノ−ｋ ４ ｍｌに溶解し約−１５℃に冷却する
。窒素気流中、０．５Ｍナトリウムメトキシドのメタノ
ール溶液（４Ｍ）を滴下し約５分間攪拌しく１３２μｔ
）の二硫化炭素を加え、約−１５℃で約１５分間攪拌し
た。（３Ｂ、４Ｒ）−３−（１−い） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエテル）−４−アセトキシア
ゼチジン−２−オン（６０４■〕を加え一１５°〜−１
０℃で２．５時間、さらに０６〜５℃で１５分間攪拌し
た後酢酸（Ｑ、２１ ｍｌ ）を加え、酢酸エチル、食
塩水馨加えて抽出した。食塩水で洗浄した後、無水硫酸
マクネシュウムで乾燥し溶剤な留去した後残竹ケシリカ
ゲルを用いだカラムクロマトグラフィー（展開剤、ベン
セン−酢酸エチルｔａｘｉ）で精製すると、融点１０６
〜？０７ ℃Ｙ有する目的化合物（３４５１％＋）と原
料化合物である（ ３ Ｂ 、 ４ Ｒ）−３−［１−
（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
）−４−アセトキシアセテジン−２−オン（１３１ｒｎ
９）が得られた。
ｚ）参考例１゜ ２−フルオロエチルチオアセテートｃ２６８ｍｇ）を無
水メタノ−ｋ ４ ｍｌに溶解し約−１５℃に冷却する
。窒素気流中、０．５Ｍナトリウムメトキシドのメタノ
ール溶液（４Ｍ）を滴下し約５分間攪拌しく１３２μｔ
）の二硫化炭素を加え、約−１５℃で約１５分間攪拌し
た。（３Ｂ、４Ｒ）−３−（１−い） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエテル）−４−アセトキシア
ゼチジン−２−オン（６０４■〕を加え一１５°〜−１
０℃で２．５時間、さらに０６〜５℃で１５分間攪拌し
た後酢酸（Ｑ、２１ ｍｌ ）を加え、酢酸エチル、食
塩水馨加えて抽出した。食塩水で洗浄した後、無水硫酸
マクネシュウムで乾燥し溶剤な留去した後残竹ケシリカ
ゲルを用いだカラムクロマトグラフィー（展開剤、ベン
セン−酢酸エチルｔａｘｉ）で精製すると、融点１０６
〜？０７ ℃Ｙ有する目的化合物（３４５１％＋）と原
料化合物である（ ３ Ｂ 、 ４ Ｒ）−３−［１−
（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
）−４−アセトキシアセテジン−２−オン（１３１ｒｎ
９）が得られた。
赤外線吸収スペクトル νＫＢｒＣ１ｎ＝ ： ３０５
０ 。
０ 。
ａｘ
１７６５．１７２５
核磁気共鳴吸収スペクトル δ ０ＤＯｔ５ｐｍ
（６０ＭＨｚ）：
０．８９（９Ｈ，Ｓ）、１．２１（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，
０Ｈ２）。
０Ｈ２）。
３．２０（１）１．ｔ、Ｊ−２，０Ｈ５）、３．６８（
２Ｈ。
２Ｈ。
ｄｔｓ Ｊ−２１，０、６，ＯＨｚ ） 、 ４、ＤＯ
〜４．５０（ｉＨ。
〜４．５０（ｉＨ。
ｍ）＊４ｓ９（２Ｈ，ｄｔ、Ｊ−４７，０，６，０Ｈ２
）。
）。
５．６５（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２，［１Ｈ２）、６．６５（
ＩＨ，ｂｒ）Ｂ法（共存法） ２−フルオロエチルチオアセテート（ｚｅａ雫）と二硫
化炭素（１３２μｔ〕を無水メタノール（４献〕に溶解
し約−１５℃に冷却する。窒素気流中、０．５Ｍナトリ
ウムメトキシドのメタノール溶液（４ｄ〕を約１５分か
かってゆっくシ滴下し約−１５℃で３０分間攪拌した。
ＩＨ，ｂｒ）Ｂ法（共存法） ２−フルオロエチルチオアセテート（ｚｅａ雫）と二硫
化炭素（１３２μｔ〕を無水メタノール（４献〕に溶解
し約−１５℃に冷却する。窒素気流中、０．５Ｍナトリ
ウムメトキシドのメタノール溶液（４ｄ〕を約１５分か
かってゆっくシ滴下し約−１５℃で３０分間攪拌した。
（３８，４Ｒ） −−３−［１−（ＲＪ −ｔａｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエテル）−４−アセトキン
アセチジン−２−オン（６０４ｒｎ９）を加え、−１５
°〜−１０℃で約１時間攪拌すると目的化合物の結晶が
析出しはじめる。反応液なそのまま約−２０℃の冷凍庫
中に１夜放置した後Ａ法と同様に処理、精製して目的化
合物（５３６叩）を得た。
ブチルジメチルシリルオキシエテル）−４−アセトキン
アセチジン−２−オン（６０４ｒｎ９）を加え、−１５
°〜−１０℃で約１時間攪拌すると目的化合物の結晶が
析出しはじめる。反応液なそのまま約−２０℃の冷凍庫
中に１夜放置した後Ａ法と同様に処理、精製して目的化
合物（５３６叩）を得た。
参考例２゜
チオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−２−オン
（３ｆ３．４Ｒ）−３（１−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）−４−４（２−フルオロ
エチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アセチジン−２−
オン１００Ｆｎ９とトリエチルアミン３６μｔの塩化メ
チレン溶液（３Ｍ）を０−５℃に冷却し、アリルオキシ
オキサリルクロリド３９ｇ夕のｏ、 ｓ ｍｉ塩化メチ
レン溶液を加え、〇−５℃で約３０分攪拌した。反応液
を塩化メチレン３０ｍ１で希釈し、飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグイ・シュラムで乾燥し、溶剤を留去する
とｍｐ５８°−６０℃な有する目的化合物１１６ ｍ９
が得られた。
ジメチルシリルオキシエチル）−４−４（２−フルオロ
エチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アセチジン−２−
オン１００Ｆｎ９とトリエチルアミン３６μｔの塩化メ
チレン溶液（３Ｍ）を０−５℃に冷却し、アリルオキシ
オキサリルクロリド３９ｇ夕のｏ、 ｓ ｍｉ塩化メチ
レン溶液を加え、〇−５℃で約３０分攪拌した。反応液
を塩化メチレン３０ｍ１で希釈し、飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグイ・シュラムで乾燥し、溶剤を留去する
とｍｐ５８°−６０℃な有する目的化合物１１６ ｍ９
が得られた。
Ｎｕｊｏｔ−１。
赤外線吸収スペクトル ν ｃｖｒ 、１８１０゜
ａｘ １７４５．１６９５ 核磁気共鳴吸収スペクトル δ ａｎｃｔ３ｐｍ （６０ＭＨｚ）； ０．８５（９Ｈ，８）、１２２（３Ｈ，ａ、、Ｔ−５，
０Ｈｚ）。
ａｘ １７４５．１６９５ 核磁気共鳴吸収スペクトル δ ａｎｃｔ３ｐｍ （６０ＭＨｚ）； ０．８５（９Ｈ，８）、１２２（３Ｈ，ａ、、Ｔ−５，
０Ｈｚ）。
３．４１〜４．０５（ａＨ，ｍ）、４．６ｏ（ｚＨ，ａ
ｔ。
ｔ。
Ｊ−４７，０，６，０Ｈ２）、４．３５（ＩＩ（、ｍ）
、４．７５（２ｕ、ａ、Ｊ＝６、ＧＨｚ）、５．１１〜
６．２２Ｃ３Ｈ。
、４．７５（２ｕ、ａ、Ｊ＝６、ＧＨｚ）、５．１１〜
６．２２Ｃ３Ｈ。
ｍ）、６．７０（ＩＨ，ａ、、Ｔ−４，ｒＪ１’Ｉｚ）
参考例３゜ （３１３１４Ｒ）−３−［１−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル〕−４−４（２−フルオ
ロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アセチジン−２
−オン１００ｍ９とトリエチルアミン３６μｔの塩化メ
チレン溶液（３ｆｆｌ／）ＹＯ−５℃に冷却し、ｐ−ニ
トロベンジルオキシオキサリルクロリド６３．５〜の０
．５Ｍ塩化メチレン溶液を加え０−５℃で約３０分攪拌
し、実施例１と同様に処理すると１２９１ｎ＆の目的化
合物が得られた。
参考例３゜ （３１３１４Ｒ）−３−［１−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル〕−４−４（２−フルオ
ロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アセチジン−２
−オン１００ｍ９とトリエチルアミン３６μｔの塩化メ
チレン溶液（３ｆｆｌ／）ＹＯ−５℃に冷却し、ｐ−ニ
トロベンジルオキシオキサリルクロリド６３．５〜の０
．５Ｍ塩化メチレン溶液を加え０−５℃で約３０分攪拌
し、実施例１と同様に処理すると１２９１ｎ＆の目的化
合物が得られた。
赤外Ｗ吸収スペクトル ｖＬｌｑｃｍ−’ ：１８ｔ５
゜ｍａｘ １７７０．１ γ１０ 疹考例４゜ ステル （５Ｒ，６８）−２−（２−フルオロエチルチオ）−６
−［１−（至）−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルノリルオキ
シエチル）ペネム−３−カルボンばｐ−ニトロベンジル
エステル（８２ｍｇ）のテトラヒドロフラン溶＃ （２
ｍＡ ）に酢ば（８６μｔ）とテトラブチルアンモニウ
ムフルオライドの１モルナトラヒドロフラン俗液（０，
６０４ｍｌ ） ？！′加ん、室温で一夜（，１を拌、
３０℃の油浴上１０時間憶拌する。酢酸エチルで反応液
を希釈した後、飽和食塩水、５％Ｍ替水、飽和食塩水で
順次洗砂し、俗ハ１」欠留去して得られる残渣なローバ
カラム（メルク社製、サイズＡ１展開溶剤：ベンゼン：
酢酸エチル−〇５：３５）を用いて精製すると目的化合
物（４０ｍｇ）が得られた。
゜ｍａｘ １７７０．１ γ１０ 疹考例４゜ ステル （５Ｒ，６８）−２−（２−フルオロエチルチオ）−６
−［１−（至）−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルノリルオキ
シエチル）ペネム−３−カルボンばｐ−ニトロベンジル
エステル（８２ｍｇ）のテトラヒドロフラン溶＃ （２
ｍＡ ）に酢ば（８６μｔ）とテトラブチルアンモニウ
ムフルオライドの１モルナトラヒドロフラン俗液（０，
６０４ｍｌ ） ？！′加ん、室温で一夜（，１を拌、
３０℃の油浴上１０時間憶拌する。酢酸エチルで反応液
を希釈した後、飽和食塩水、５％Ｍ替水、飽和食塩水で
順次洗砂し、俗ハ１」欠留去して得られる残渣なローバ
カラム（メルク社製、サイズＡ１展開溶剤：ベンゼン：
酢酸エチル−〇５：３５）を用いて精製すると目的化合
物（４０ｍｇ）が得られた。
融点１６８〜１１０℃
ｔＯＨ
紫外線吸収スペクトル λ ｎｍ：２６１＋ａｘ
３９
核磁気共鳴スペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ ’
１１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，ＯＨｌ、２．９〜３．７（
２Ｈ，ｍ）、３．８６（ＩＨ，ｄｄｌ、Ｊ−６，０，２
，０Ｈｚ）、３．８〜４．１５（ＩＨ，ｍ）、４．６６
（２Ｈ。
１１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，ＯＨｌ、２．９〜３．７（
２Ｈ，ｍ）、３．８６（ＩＨ，ｄｄｌ、Ｊ−６，０，２
，０Ｈｚ）、３．８〜４．１５（ＩＨ，ｍ）、４．６６
（２Ｈ。
ａｔ、Ｊ−４乙０，６．０Ｈ２）、５．１９（’ＩＨ，
ｄ。
ｄ。
Ｊ＝＝４．０Ｈｚ）、５．３０．５．４８（２Ｈ，ＡＢ
−ｑ 。
−ｑ 。
Ｊ＝１４．０Ｈｚ）、５．７７（ｉＨ，ｄ、Ｊ−２，Ｏ
Ｈ１゜？、７２，８．２５（４Ｈ，Ａ２Ｂ２ｊＪ−９，
０Ｈｚ）参考例５゜ （５Ｒ，６Ｂ）−２−（２−フルオロエチルチオ）−６
−（１−（Ｒ１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カル
ボン酸 ｐ−ニトロベンジルエステル（３９ｍｇ）をテ
トラヒドロフラン（３Ｍ）ニ溶カシ、’ｌ ン酸緩１ｒ
ｌｉ（ｐＨ−７，１，３ｍｌりおよび１０％パラジウム
炭素（７８ｍ９）を加え、水素気流下、室温で２．５時
間攪拌する。触媒を沖去した後、酢酸エチルで洗浄し、
水層な約２ｍｌにまで減圧濃縮する。これをダイアイオ
ンＨＰ−２０ＡＧ（三菱化成工業製）のカラムに付し、
５乃アセトン水で溶出される部分から、減圧濃縮、凍結
乾燥して白色粉末の目的化合物（１７ｆｆｌを得た。
Ｈ１゜？、７２，８．２５（４Ｈ，Ａ２Ｂ２ｊＪ−９，
０Ｈｚ）参考例５゜ （５Ｒ，６Ｂ）−２−（２−フルオロエチルチオ）−６
−（１−（Ｒ１−ヒドロキシエチル）ペネム−３−カル
ボン酸 ｐ−ニトロベンジルエステル（３９ｍｇ）をテ
トラヒドロフラン（３Ｍ）ニ溶カシ、’ｌ ン酸緩１ｒ
ｌｉ（ｐＨ−７，１，３ｍｌりおよび１０％パラジウム
炭素（７８ｍ９）を加え、水素気流下、室温で２．５時
間攪拌する。触媒を沖去した後、酢酸エチルで洗浄し、
水層な約２ｍｌにまで減圧濃縮する。これをダイアイオ
ンＨＰ−２０ＡＧ（三菱化成工業製）のカラムに付し、
５乃アセトン水で溶出される部分から、減圧濃縮、凍結
乾燥して白色粉末の目的化合物（１７ｆｆｌを得た。
赤外線吸収スペクトル νＨＨＨｃｍ” ： ３４２５
。
。
１７６５．１６００
３２１．５
核磁気共鳴スペクトル（Ｄ２０）δｐｐｍ ’１．３０
（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，９Ｉｉｚ） 、２．９〜３．５（
２Ｈ，ｍ）、３．９０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−６，０，２，
０Ｈ２）。
（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，９Ｉｉｚ） 、２．９〜３．５（
２Ｈ，ｍ）、３．９０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−６，０，２，
０Ｈ２）。
４．０〜４．４５（ＩＨ，ｍ）、４．７０（２Ｈ，ａｔ
。
。
参考例６゜
（５Ｒ，６Ｂ）−２−（２−フルオロエテルチオ）−６
−［１−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル〕ペネム−３−カルボン酸アリルエステル６４
ｍｇの１．６ ｍＡのテトラヒドロフラン溶液に酢酸８
２μｔとテトラブチルアンモニウムフルオライドの１モ
ルテトラヒドロフラン溶液０．５７ｍ１を加え、室温で
１８時間投拌する。
−［１−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル〕ペネム−３−カルボン酸アリルエステル６４
ｍｇの１．６ ｍＡのテトラヒドロフラン溶液に酢酸８
２μｔとテトラブチルアンモニウムフルオライドの１モ
ルテトラヒドロフラン溶液０．５７ｍ１を加え、室温で
１８時間投拌する。
酢酸エチルで反応液を希釈した後、飽和食塩水、５％重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶剤を留去すると（ＳＲ，６Ｂ）−２−［
２−フルオロエチルチオ） −５−Ｃ１−（Ｒ）−ヒド
ロキンエチル］ペネムー３−カルボン酸 アリルエステ
ル４３ｍ９得られた。
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶剤を留去すると（ＳＲ，６Ｂ）−２−［
２−フルオロエチルチオ） −５−Ｃ１−（Ｒ）−ヒド
ロキンエチル］ペネムー３−カルボン酸 アリルエステ
ル４３ｍ９得られた。
次いで（５Ｒ，６Ｂ） −２−（２−フルオロル〕ペネ
ムー３−カルボン酸 アリルエステル４３ ｍ９を塩化
メチレンＴ ｍｌに溶解し、２−エチルヘキ→ノ゛ン酸
ナトリウム２３ηの酢酸エチル０、５ ｍｌ！溶液え加
え、次いでトリフェニルホスフィン５ｍ？、テトラキス
（トリフェニルホスフィン〕パラジウムｓ ｍｙ ＠加
え、この溶液？望素気流中約１時間攪拌した。この反応
液を酢酸エチル１０ｍ１で希釈し、水（ｓｍ／ｘ３回）
で抽出し水ノ鍔馨約２ ｍｌ、まで減圧濃縮した。これ
をタイアイオンＨＰ−２０Ａ（）（三菱化成工業製）の
カラムに付し５％アセトン水で溶出すれる部分から、減
圧−ＭＩ？ｉ 、凍結して白色粉末の目的化合物２４ｍ
ｇぞ（４？た。このものは先の参力例梓で得たものと赤
外線吸収スペクトル、紫外線吸収スペクトルおよＯ・核
イ＝気共１１歇吸収スペクトルにおいて一致した。
ムー３−カルボン酸 アリルエステル４３ ｍ９を塩化
メチレンＴ ｍｌに溶解し、２−エチルヘキ→ノ゛ン酸
ナトリウム２３ηの酢酸エチル０、５ ｍｌ！溶液え加
え、次いでトリフェニルホスフィン５ｍ？、テトラキス
（トリフェニルホスフィン〕パラジウムｓ ｍｙ ＠加
え、この溶液？望素気流中約１時間攪拌した。この反応
液を酢酸エチル１０ｍ１で希釈し、水（ｓｍ／ｘ３回）
で抽出し水ノ鍔馨約２ ｍｌ、まで減圧濃縮した。これ
をタイアイオンＨＰ−２０Ａ（）（三菱化成工業製）の
カラムに付し５％アセトン水で溶出すれる部分から、減
圧−ＭＩ？ｉ 、凍結して白色粉末の目的化合物２４ｍ
ｇぞ（４？た。このものは先の参力例梓で得たものと赤
外線吸収スペクトル、紫外線吸収スペクトルおよＯ・核
イ＝気共１１歇吸収スペクトルにおいて一致した。
特許出願人 三共株式会社
代理人 弁理士 樫出庄治
手続補正書（自発）
昭和５８年１月１７日
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
１、事件の表示
昭和５７年特許願第１９７９２３号
２、発明の名称
ベネム誘導体の製造法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目］一番地
の６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 明細＠第１４頁第４行と第５行の間に次の文を加入する
。
の６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 明細＠第１４頁第４行と第５行の間に次の文を加入する
。
■）出発原料の製造
（３８，４Ｒ） −３−［１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−４−（（２−フル
オロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−
２−オン３８４１〜の塩化メチレン溶液（４０ｍｅ）を
（）−５℃に冷却し、炭酸カルシウム４．００ｇ−とア
リルオキシオキサリルクロリド１．７８７の５ ｍｌ塩
化メチレン溶液を加え、ｏ−５℃で約３０分攪拌した。
チルジメチルシリルオキシエチル］−４−（（２−フル
オロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−
２−オン３８４１〜の塩化メチレン溶液（４０ｍｅ）を
（）−５℃に冷却し、炭酸カルシウム４．００ｇ−とア
リルオキシオキサリルクロリド１．７８７の５ ｍｌ塩
化メチレン溶液を加え、ｏ−５℃で約３０分攪拌した。
反応液をクロロポルム３０゜ｍｅで希釈し、冷水で２回
洗浄稜、無水硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、クロロ
ホルムで容量全調節することによって、（３８，４Ｒ）
−Ｎ−アリルオキシオキサリル−３−［１−（Ｒ）
−ｔｅｒｔ −ブチルジメチルシリルオキシエチル］−
４−〔（２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチ
オ〕アゼチジン−２−オンの３７０ ｍｌ溶液を得た。
洗浄稜、無水硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過し、クロロ
ホルムで容量全調節することによって、（３８，４Ｒ）
−Ｎ−アリルオキシオキサリル−３−［１−（Ｒ）
−ｔｅｒｔ −ブチルジメチルシリルオキシエチル］−
４−〔（２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチ
オ〕アゼチジン−２−オンの３７０ ｍｌ溶液を得た。
２−Ａ）
上述の（３８，４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシオキザリル
−３−（１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル］−４−［（ｚ−フルオロエチルチオ）
カルボッチオイルチオ〕アゼチソン−２−オンの３７
（ｌ ｍｌクロロポルム溶液に１１！、リン酸トリエチ
ル３．４３ ｍｌを加えた後約１６時問屋素気流下加熱
還流した。溶剤および揮発性物質を減圧下留去し、残液
をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（展開
剤、ベンゼン−酢酸エチル３０：１およびベンゼン−酢
酸エチル５：１）で精製するとベンゼン−酢酸エチル３
０：１の溶出部より目的化合物２．６６７が無色の結晶
として得られた。このものは先に実施例１で得たものと
赤外線吸収スペクトル、紫外線吸収スペクトルおよび核
磁気共鳴ス４クト、＋１／において一致した。又、ベン
ゼン−酢酸エテル５；１の溶出部よシ（３ｓ、４ｎ）
−Ｎ −Ｃ（アリルオキシカルビニル）トリエトキシホ
スホラニリデンメチル］ −３−Ｃ１−（Ｒ） −ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−［（
２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼ
チジン−２−オンｏ、４９ｔｙ（赤外線吸収スペクトル
ニジ銖を旨７５０ ｒ １６３５ｃｒｎ−’ ＋ 薄層
クロマトグラフィー（メルク社製、シリカケ９ルｆｉＯ
Ｆ−２５４）：展開液ベンゼン−酢酸エチル５： Ｉ
Ｒ，＝０．２６ ）を得た。このもの０．４９ｉをクロ
ロホルム５０ ｍｌ中１８時間加熱Ｋｉ １ｉｆｔ、
しても目的化合物は得られないが、乾燥キシレン（３０
ｍｇ ）中５ ｍｇのハイドロキノンを加え、屋素気流
Ｆ’ １２５℃で７時間加熱した後、溶剤を留去し、前
述と同様にシリカケ９ルを用いたカラムクロマトグラフ
ィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチル３０ ：１ ）で
精製すると１６１ ｍｇの目的化合物及び（５Ｓ、６Ｓ
） −２−（２−フルオロエチルチオ）−６−［１−（
Ｒ） −ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
）ベネム−３−カルｄ？ン酸アリルエステル（５Ｒ体：
５Ｓ体＝４：１）が得られた。
−３−（１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル］−４−［（ｚ−フルオロエチルチオ）
カルボッチオイルチオ〕アゼチソン−２−オンの３７
（ｌ ｍｌクロロポルム溶液に１１！、リン酸トリエチ
ル３．４３ ｍｌを加えた後約１６時問屋素気流下加熱
還流した。溶剤および揮発性物質を減圧下留去し、残液
をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（展開
剤、ベンゼン−酢酸エチル３０：１およびベンゼン−酢
酸エチル５：１）で精製するとベンゼン−酢酸エチル３
０：１の溶出部より目的化合物２．６６７が無色の結晶
として得られた。このものは先に実施例１で得たものと
赤外線吸収スペクトル、紫外線吸収スペクトルおよび核
磁気共鳴ス４クト、＋１／において一致した。又、ベン
ゼン−酢酸エテル５；１の溶出部よシ（３ｓ、４ｎ）
−Ｎ −Ｃ（アリルオキシカルビニル）トリエトキシホ
スホラニリデンメチル］ −３−Ｃ１−（Ｒ） −ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−［（
２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼ
チジン−２−オンｏ、４９ｔｙ（赤外線吸収スペクトル
ニジ銖を旨７５０ ｒ １６３５ｃｒｎ−’ ＋ 薄層
クロマトグラフィー（メルク社製、シリカケ９ルｆｉＯ
Ｆ−２５４）：展開液ベンゼン−酢酸エチル５： Ｉ
Ｒ，＝０．２６ ）を得た。このもの０．４９ｉをクロ
ロホルム５０ ｍｌ中１８時間加熱Ｋｉ １ｉｆｔ、
しても目的化合物は得られないが、乾燥キシレン（３０
ｍｇ ）中５ ｍｇのハイドロキノンを加え、屋素気流
Ｆ’ １２５℃で７時間加熱した後、溶剤を留去し、前
述と同様にシリカケ９ルを用いたカラムクロマトグラフ
ィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチル３０ ：１ ）で
精製すると１６１ ｍｇの目的化合物及び（５Ｓ、６Ｓ
） −２−（２−フルオロエチルチオ）−６−［１−（
Ｒ） −ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
）ベネム−３−カルｄ？ン酸アリルエステル（５Ｒ体：
５Ｓ体＝４：１）が得られた。
２−Ｂ）
（３Ｓ、４Ｒ） −３−Ｃ１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−［（２−フル
オロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−
２−オン６、Ｏｆ！−より１）と同様にして調製した（
３８．４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシオキツリル−３−（
１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）−４−（（２−フルオロエチルチオ）カルプツ
チオイルチオ〕アゼチジン−２−オンの４７０−のクロ
ロホルム溶液を窒素気流中、加熱還流し、亜リン酸トリ
エチル５、３６ ｍｌの１３０ ｍｌのクロロホルム溶
′ｇ！、を約４時***してゆつくシ滴下した。滴下終了
後、約１６時間還流した。溶剤および揮発性物質を減圧
下に留去し、残渣をシリカダルを用いたカラムクロマト
グラフィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチル３（）二１
）で精製すると４．９６３７の目的化合物が無色の結晶
として得られた。このものけ先に実施例１で得たものと
赤外線吸収スペクトル、紫外緑吸収スペクトルおよび核
磁気共鳴スペクトルにおいて一致した。
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−［（２−フル
オロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−
２−オン６、Ｏｆ！−より１）と同様にして調製した（
３８．４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシオキツリル−３−（
１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）−４−（（２−フルオロエチルチオ）カルプツ
チオイルチオ〕アゼチジン−２−オンの４７０−のクロ
ロホルム溶液を窒素気流中、加熱還流し、亜リン酸トリ
エチル５、３６ ｍｌの１３０ ｍｌのクロロホルム溶
′ｇ！、を約４時***してゆつくシ滴下した。滴下終了
後、約１６時間還流した。溶剤および揮発性物質を減圧
下に留去し、残渣をシリカダルを用いたカラムクロマト
グラフィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチル３（）二１
）で精製すると４．９６３７の目的化合物が無色の結晶
として得られた。このものけ先に実施例１で得たものと
赤外線吸収スペクトル、紫外緑吸収スペクトルおよび核
磁気共鳴スペクトルにおいて一致した。
２−Ｃ）
（３８，４Ｒ） −３ＣＩ −（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−［：（２−フ
ルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン
−２−オン３８４ Ｔｎ？より１）と同様にしテ調製し
た（３８．４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシオキサリル−３
−［１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル］−４−４（２−フルオロエテルチオ）カル
ボッチオイルチオ〕アゼチゾン−２−オンの３０ｍ１の
クロロホルム溶液に亜リン酸トリメチル２３６μ乙の１
０ｍ１クロロホルム溶ｉｉｉを加え、窒素気流中、１８
時間加熱還流した。溶剤および揮発性物質を減圧下留去
し、残渣−１２−Ｂ）と同様に精製すると２０７ ｍ９
の目的化合物が無色の結晶として得られた。このものは
先に実施例１で得たものと赤外線吸収スペクトル、紫外
線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペクトルにおいて
一致した。
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−［：（２−フ
ルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン
−２−オン３８４ Ｔｎ？より１）と同様にしテ調製し
た（３８．４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシオキサリル−３
−［１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル］−４−４（２−フルオロエテルチオ）カル
ボッチオイルチオ〕アゼチゾン−２−オンの３０ｍ１の
クロロホルム溶液に亜リン酸トリメチル２３６μ乙の１
０ｍ１クロロホルム溶ｉｉｉを加え、窒素気流中、１８
時間加熱還流した。溶剤および揮発性物質を減圧下留去
し、残渣−１２−Ｂ）と同様に精製すると２０７ ｍ９
の目的化合物が無色の結晶として得られた。このものは
先に実施例１で得たものと赤外線吸収スペクトル、紫外
線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペクトルにおいて
一致した。
２−Ｄ）
（３８，４Ｒ） −３−Ｃ１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−４−Ｃ（２−フル
オロエチルチオ）カルがノチオイルチオ〕アゼチジンー
２−オン３８４ｍＱよ＃）１）と同様にして調製した（
３８．４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシオキツリルー３−
［１−（Ｒ） −ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル］−４−（（２−フルオロエチルチオ）カル？
ノチオイルチオ〕アゼチノン−２−オンの３０ｍｇのク
ロロホルム溶液に用影リン酸トリーｎ−ブチル５４１μ
ｔの１ （ｌ ｍｅジクロロルム溶液を加え、窒素気流
中、１８８．７間加熱還流した。溶剤および揮発性物ダ
↓を減圧下留去し、残渣を２−Ｂ）と同様に精製すると
２１１ ｍＬｉの目的化合物が無色の結晶としてイｉ手
られた。このものは先に実施例１で得たものと赤外線吸
収スペクトル、紫外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴
スペクトルにおいて一致した。」以上 手続補正書（自発） 昭和９？年ｑ月１５日 特許庁長官若杉和夫殿 １、事件の表示 昭和５７年特許願第１９７９２３号 ２、発明の名称 ペネム誘導体の製造法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 ５、補正により増加する発明の数 なし６、補正の対
象 明細書の発明の詳細な説明１、 明細書第１２頁
第１４行の ｒ （Ｉ Ｈｌ ６４ 、 Ｊ −２，０、４，ＯＨｚ
） 、 ｊを［（Ｉ Ｈ、ｄｄ、 Ｊ −４，０、２
，０Ｈｚ ） 、 Ｊと訂正する。
チルジメチルシリルオキシエチル］−４−Ｃ（２−フル
オロエチルチオ）カルがノチオイルチオ〕アゼチジンー
２−オン３８４ｍＱよ＃）１）と同様にして調製した（
３８．４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシオキツリルー３−
［１−（Ｒ） −ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル］−４−（（２−フルオロエチルチオ）カル？
ノチオイルチオ〕アゼチノン−２−オンの３０ｍｇのク
ロロホルム溶液に用影リン酸トリーｎ−ブチル５４１μ
ｔの１ （ｌ ｍｅジクロロルム溶液を加え、窒素気流
中、１８８．７間加熱還流した。溶剤および揮発性物ダ
↓を減圧下留去し、残渣を２−Ｂ）と同様に精製すると
２１１ ｍＬｉの目的化合物が無色の結晶としてイｉ手
られた。このものは先に実施例１で得たものと赤外線吸
収スペクトル、紫外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴
スペクトルにおいて一致した。」以上 手続補正書（自発） 昭和９？年ｑ月１５日 特許庁長官若杉和夫殿 １、事件の表示 昭和５７年特許願第１９７９２３号 ２、発明の名称 ペネム誘導体の製造法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 ５、補正により増加する発明の数 なし６、補正の対
象 明細書の発明の詳細な説明１、 明細書第１２頁
第１４行の ｒ （Ｉ Ｈｌ ６４ 、 Ｊ −２，０、４，ＯＨｚ
） 、 ｊを［（Ｉ Ｈ、ｄｄ、 Ｊ −４，０、２
，０Ｈｚ ） 、 Ｊと訂正する。
２、 明細書第１４頁第４行と第５行の間に、かつ１）
出発原料の製造 （３Ｂ、４Ｒ） −３−（１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−［（２−フル
オロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−
２−オン２．３１の塩化メチレン溶液（２４−）を０−
５℃に冷却し、炭酸カルシウム２、４．９ ＋！： ｐ
−ニトロベンジルオキシオキサリルクロリド１．７５．
９の６−塩化メチレン溶液を加え、０−５℃で約３０分
攪拌した。反応液をクロロホルム１５０−で希釈し、冷
水で２回洗浄後、無水硫酸マグネシュウムで乾燥、ｒ過
し、クロロホルムで容量を調節することによって、（３
Ｓ。
出発原料の製造 （３Ｂ、４Ｒ） −３−（１−（Ｒ） −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−［（２−フル
オロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−
２−オン２．３１の塩化メチレン溶液（２４−）を０−
５℃に冷却し、炭酸カルシウム２、４．９ ＋！： ｐ
−ニトロベンジルオキシオキサリルクロリド１．７５．
９の６−塩化メチレン溶液を加え、０−５℃で約３０分
攪拌した。反応液をクロロホルム１５０−で希釈し、冷
水で２回洗浄後、無水硫酸マグネシュウムで乾燥、ｒ過
し、クロロホルムで容量を調節することによって、（３
Ｓ。
４Ｒ） −Ｎ −ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル
−３−〔１−但） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシエチル］−４−（２−フルオロエチルチオ）カル
ボッチオイルチオ〕アゼチジン−２−オンの１８０ｍ１
溶液を得た。
−３−〔１−但） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
オキシエチル］−４−（２−フルオロエチルチオ）カル
ボッチオイルチオ〕アゼチジン−２−オンの１８０ｍ１
溶液を得た。
２−Ａ）
上述の（３８，４Ｒ） −Ｎ −ｐ−二トロベンジルオ
キシオキサリ＃ −３−（１−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］−４−４（２−フルオ
ロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−２
−オンの１８０−クロロホルム溶液を蟹素気流下に加熱
還流し、その溶液に亜リン酸トリエチル２．０６ｍ１の
６０−クロロホルム溶液を約４時間かかつて滴下し、滴
下後約１６時間還流した。溶剤および揮発性物質を減圧
留去し、残漬をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラ
フィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチル３０：１および
ベンゼン−酢酸エチル５；１）で精製するとベンゼン−
酢酸エチル３０：１（７）溶出部よシ目的化合物１．６
８．９が無色の結晶として得られた。このものは先に実
施例２で得たものと赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴
スペク） ルＫ オイて一致した。又、ベンゼン−酢酸
エチル５：１の溶出部よυ（３”’＋４Ｒ） −Ｎ−Ｃ
（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）トリエトキシ
ホスホラニリデンメチ、ル） −３−（１−（Ｒ）−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−４−［
（２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕ア
ゼチジン−２−オン５１ｏｌｌｙ（赤外線吸収スペクト
ル＋ ｖ ”１ｑ： １７５０ 、１６３０ａｘ ｍ−１，薄層クロマトグラフィー（メルク社製。
キシオキサリ＃ −３−（１−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］−４−４（２−フルオ
ロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕アゼチジン−２
−オンの１８０−クロロホルム溶液を蟹素気流下に加熱
還流し、その溶液に亜リン酸トリエチル２．０６ｍ１の
６０−クロロホルム溶液を約４時間かかつて滴下し、滴
下後約１６時間還流した。溶剤および揮発性物質を減圧
留去し、残漬をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラ
フィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチル３０：１および
ベンゼン−酢酸エチル５；１）で精製するとベンゼン−
酢酸エチル３０：１（７）溶出部よシ目的化合物１．６
８．９が無色の結晶として得られた。このものは先に実
施例２で得たものと赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴
スペク） ルＫ オイて一致した。又、ベンゼン−酢酸
エチル５：１の溶出部よυ（３”’＋４Ｒ） −Ｎ−Ｃ
（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）トリエトキシ
ホスホラニリデンメチ、ル） −３−（１−（Ｒ）−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−４−［
（２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオ〕ア
ゼチジン−２−オン５１ｏｌｌｙ（赤外線吸収スペクト
ル＋ ｖ ”１ｑ： １７５０ 、１６３０ａｘ ｍ−１，薄層クロマトグラフィー（メルク社製。
シＩＪ カケル６０Ｆ −２５４） ：展開液 ベンゼ
ン酢酸ｘイル５ ： Ｉ Ｒｆ−０，３０）を得た。
ン酢酸ｘイル５ ： Ｉ Ｒｆ−０，３０）を得た。
このもの１００■をクロロホルム２ｏ−中１６時間加熱
還流しても目的化合物は得られないが、このもの１９１
１＋１Ｆヲ乾燥キシレン（１２ｔｄ）中３誘ｇのハイド
ロキノンを加え、窒紫気流下１２５℃でＴ時間加熱した
後、溶剤を留去し、前述と同様にシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチ
ル３０：１）で精製すると７０１９の目的化合物及び（
５８，６８） −２−（２−フルオロエチルチオ）−６
−［１−但）−ｔｅｒｔ−７’チルジメチルシリルオキ
シエチル）ベネム−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジ
ルエステル（５Ｒ体：５８体−３．５ ： １ ）が得
られた。」３、 明細書第２３頁第１２行の 「凍結して・・・・・・・・・」を 「凍結乾燥して・・・・・・・・・」と訂正する。
還流しても目的化合物は得られないが、このもの１９１
１＋１Ｆヲ乾燥キシレン（１２ｔｄ）中３誘ｇのハイド
ロキノンを加え、窒紫気流下１２５℃でＴ時間加熱した
後、溶剤を留去し、前述と同様にシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフィー（展開剤、ベンゼン−酢酸エチ
ル３０：１）で精製すると７０１９の目的化合物及び（
５８，６８） −２−（２−フルオロエチルチオ）−６
−［１−但）−ｔｅｒｔ−７’チルジメチルシリルオキ
シエチル）ベネム−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジ
ルエステル（５Ｒ体：５８体−３．５ ： １ ）が得
られた。」３、 明細書第２３頁第１２行の 「凍結して・・・・・・・・・」を 「凍結乾燥して・・・・・・・・・」と訂正する。
以上
手続補正書（自発）
昭和５８年１２月６日
特許庁長官若杉相夫殿
■、事件の表示
昭和５１年特許願第１９７９２３ 号２、発明の名称
ペネム誘導体の製造法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁月１番地の
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町Ｊ丁目２番５８号三共
株式会社内 １ 昭和５８年１月１γ日付の手に洸補正■第１真下か
ら第一１］σ）あと、かつ昭和５８年７月１５日付の平
和１；補正１の第２貞第Ｔ竹とよ８行の間に次の字句を
加入する。
６名称 （１８５）三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 ４、代理人 居所 〒１４０東京部品川区広町Ｊ丁目２番５８号三共
株式会社内 １ 昭和５８年１月１γ日付の手に洸補正■第１真下か
ら第一１］σ）あと、かつ昭和５８年７月１５日付の平
和１；補正１の第２貞第Ｔ竹とよ８行の間に次の字句を
加入する。
［２−Ｅ）
（３Ｂ、４Ｒ） −３−［１−（Ｒ〕−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］−４−Ｅ（２−フルメ
ロエチルチオフカルボノチオイルチメ］アゼチジン−２
−オン９６９ｍ９より１）と同４Ｊ２にして調製した（
３８，４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシメキザリル−３−［
１−σｔ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル］−４−４（２−フルオロエチルチオ）カルボノ
チメイルチメ〕アゼチジン−２−メンの７０ ｍｅのク
ロロホルム溶液に亜リン酸トリー１ｓｏ−プロピル１．
１４−の２５ ｍｅジクロロルム浴液を加え窒素気流中
１８時間還回しした。浴剤および揮発注物質ン減圧下留
去し残／ｉ！１を２−Ｂ）と同様に精製すると３５０１
１？の目的化合物が無色の結晶として得られた。このも
のは先に実施例１で得たものと赤外線吸収スペクトル、
紫外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペク］・ルに
おいて一致した。」 ２８ 昭和５８年Ｔ月１５日付の手続袖止胃紀５負第
５頁第８１］と第９行の間に次の字句を加入する。
ルジメチルシリルオキシエチル］−４−Ｅ（２−フルメ
ロエチルチオフカルボノチオイルチメ］アゼチジン−２
−オン９６９ｍ９より１）と同４Ｊ２にして調製した（
３８，４Ｒ） −Ｎ−アリルオキシメキザリル−３−［
１−σｔ） −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル］−４−４（２−フルオロエチルチオ）カルボノ
チメイルチメ〕アゼチジン−２−メンの７０ ｍｅのク
ロロホルム溶液に亜リン酸トリー１ｓｏ−プロピル１．
１４−の２５ ｍｅジクロロルム浴液を加え窒素気流中
１８時間還回しした。浴剤および揮発注物質ン減圧下留
去し残／ｉ！１を２−Ｂ）と同様に精製すると３５０１
１？の目的化合物が無色の結晶として得られた。このも
のは先に実施例１で得たものと赤外線吸収スペクトル、
紫外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペク］・ルに
おいて一致した。」 ２８ 昭和５８年Ｔ月１５日付の手続袖止胃紀５負第
５頁第８１］と第９行の間に次の字句を加入する。
ｒ ２−Ｂ）
（３８，４Ｒ） −３−（： １− （Ｒ） −ｔｅｒ
ｔ；−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−４−ＣＣ
２−フルオロエチルチオ）カルボノチオイルヂオ〕アセ
チジン−２−オン９５１１１１ｉ＋より１）と同４３ｋ
にして調ｍ シｙｔ （３Ｅ＋、４Ｒ） −Ｎ −ｐ−
ニトロベンジルオギシオキサリル−３−［１−（Ｒ）−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−
［（２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオシ
ー１ゼチジン−２−オンの７０ｍ１クロロホルム治液を
窒素気流下に加熱還流し、その溶液に亜リン酸トリー１
ｓｏ−プロピル１．１４ｍ１の２５ｍｅクロロホルム溶
液を約２．５時間かかって滴−トし、滴下後約１７時間
還流した。溶剤および揮発性物質を減圧留去し残置をシ
リカ゛ゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（展開剤
、ベンゼン−酢敵工チル３０１）で精製すると１０１１
１ｇの目的化合物が無色の結晶として得られた。このも
のは先に実施例２で得たものと赤外線吸収スペクトル、
核磁気共鳴スペクトルにおいて−ｉした。」以上
ｔ；−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−４−ＣＣ
２−フルオロエチルチオ）カルボノチオイルヂオ〕アセ
チジン−２−オン９５１１１１ｉ＋より１）と同４３ｋ
にして調ｍ シｙｔ （３Ｅ＋、４Ｒ） −Ｎ −ｐ−
ニトロベンジルオギシオキサリル−３−［１−（Ｒ）−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−
［（２−フルオロエチルチオ）カルボッチオイルチオシ
ー１ゼチジン−２−オンの７０ｍ１クロロホルム治液を
窒素気流下に加熱還流し、その溶液に亜リン酸トリー１
ｓｏ−プロピル１．１４ｍ１の２５ｍｅクロロホルム溶
液を約２．５時間かかって滴−トし、滴下後約１７時間
還流した。溶剤および揮発性物質を減圧留去し残置をシ
リカ゛ゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（展開剤
、ベンゼン−酢敵工チル３０１）で精製すると１０１１
１ｇの目的化合物が無色の結晶として得られた。このも
のは先に実施例２で得たものと赤外線吸収スペクトル、
核磁気共鳴スペクトルにおいて−ｉした。」以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 （式中、Ｒ１は水酸基の保護基を、Ｒ騒弗素原子で置換
された直鎖若しくは分岐鎖状低級アルキル基な、Ｒ３は
カルボキシ基の１Ｍ穫基を、又は酸素原子又は硫黄原子
を示す）を有する化合物に三価のリン化合物を反応させ
ること乞特徴とする 一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前述したものと同意義
を示す）を有するペネムｄ導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197923A JPS5988487A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | ペネム誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57197923A JPS5988487A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | ペネム誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5988487A true JPS5988487A (ja) | 1984-05-22 |
| JPH045037B2 JPH045037B2 (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=16382518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57197923A Granted JPS5988487A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | ペネム誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5988487A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6299379A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-05-08 | フアイザ−・インコ−ポレ−テツド | ２−（１−オキソ−３−チオラニル）−２−ペネム抗生物質の製法 |
-
1982
- 1982-11-11 JP JP57197923A patent/JPS5988487A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6299379A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-05-08 | フアイザ−・インコ−ポレ−テツド | ２−（１−オキソ−３−チオラニル）−２−ペネム抗生物質の製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH045037B2 (ja) | 1992-01-30 |
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