JPS5975109A - 薄層の厚さ測定装置 - Google Patents
薄層の厚さ測定装置Info
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- JPS5975109A JPS5975109A JP58070825A JP7082583A JPS5975109A JP S5975109 A JPS5975109 A JP S5975109A JP 58070825 A JP58070825 A JP 58070825A JP 7082583 A JP7082583 A JP 7082583A JP S5975109 A JPS5975109 A JP S5975109A
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- glass
- mirror
- microscope
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- longitudinal axis
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、王特許請求の範囲のプレアンブルに記載の装
置に関する。
置に関する。
小さい対象の薄層の厚さを測定する場合、小さい対象の
全体全測定する訳ではないので、X線ビームがぶつかる
個所全正確に知る必要がある。測定点の特性量は、十分
の数mm〜1mmである。
全体全測定する訳ではないので、X線ビームがぶつかる
個所全正確に知る必要がある。測定点の特性量は、十分
の数mm〜1mmである。
例えば、歯車の歯の7ランクの所定個所の層厚または鉗
子の接触部分の層厚を測定する場合、測定点は小さくな
る。
子の接触部分の層厚を測定する場合、測定点は小さくな
る。
もちろん、X線ビームが層にぶつかる個所は、目には見
えない。
えない。
市販の装置では、ミラーで被側面を観察し、次いで、ミ
ラーを除去して、ミラーの代わりに放射器を設置する。
ラーを除去して、ミラーの代わりに放射器を設置する。
本発明の目的は、測定点を極めて正確に、しかも、簡単
に知り得る装eを提供することにある。
に知り得る装eを提供することにある。
この目的は、本発明にもとづき、王特許請求の範囲の特
徴記載部分に開示の特徴によって達成される。
徴記載部分に開示の特徴によって達成される。
幾何学的縦軸線が貫通口の中心を通るよう、上記貫通ロ
ケ正確に調節できる。かくして、第1の誤差源が排除さ
れる。更に、幾何学的縦軸線が通り、測定点の中心をな
す層上の点を観察する。顕微鏡が双眼である場合は、1
つの眼で貫通口を観察し、別の眼で層を観察する。しか
しながら、単眼の場合は、光学素子を移動して、貫通口
および層を111M次に観察することができる。絞り装
置は、有機ガラスまたは無機ガラスから構成できる。例
えば、鉛をドーピングした有機カラスも使用できる。
ケ正確に調節できる。かくして、第1の誤差源が排除さ
れる。更に、幾何学的縦軸線が通り、測定点の中心をな
す層上の点を観察する。顕微鏡が双眼である場合は、1
つの眼で貫通口を観察し、別の眼で層を観察する。しか
しながら、単眼の場合は、光学素子を移動して、貫通口
および層を111M次に観察することができる。絞り装
置は、有機ガラスまたは無機ガラスから構成できる。例
えば、鉛をドーピングした有機カラスも使用できる。
珪酸塩ガラスの場合は、例えば、超音波によって、貫通
口を加工できる。貫通口の断面形状は、常に、等しく、
例えば、測定対象に適合した任意の形状とすることがで
きる。
口を加工できる。貫通口の断面形状は、常に、等しく、
例えば、測定対象に適合した任意の形状とすることがで
きる。
特許請求の範囲第2項の特徴にもとづき、無機ガラスで
はあるが比較的軟質であり、例えば、6mm厚であれば
、測定結果に有意な影響を与えるX線ビームを透過せず
、しかも、本質的な光の損失を招くことのない一般的な
ガラスを使用できる。
はあるが比較的軟質であり、例えば、6mm厚であれば
、測定結果に有意な影響を与えるX線ビームを透過せず
、しかも、本質的な光の損失を招くことのない一般的な
ガラスを使用できる。
鉛ガラスは、極めて良好に研摩でき、従って、汎用され
ている。
ている。
特許請求の範囲第3項の特徴にもとづき、特許請求の範
囲第2項の特徴の場合と同様の利点が得られる。しかし
ながら、鉛ガラスのPbO含量は15〜58%であるが
、フリントガラスのPbO含鉦は、平均的に云ってより
多く、46〜62チである。即ち、フリントガラスは、
厚さが同一の場合、一般に、J:り多量のX線を特徴す
る特許請求の範囲第4〜6項の特徴にもとづき、絞り装
置は、当該の測定問題に適合させることができ、計算が
よす簡単になる。
囲第2項の特徴の場合と同様の利点が得られる。しかし
ながら、鉛ガラスのPbO含量は15〜58%であるが
、フリントガラスのPbO含鉦は、平均的に云ってより
多く、46〜62チである。即ち、フリントガラスは、
厚さが同一の場合、一般に、J:り多量のX線を特徴す
る特許請求の範囲第4〜6項の特徴にもとづき、絞り装
置は、当該の測定問題に適合させることができ、計算が
よす簡単になる。
特許請求の範囲第7〜9項に記載の形状は、実験におい
て極めて良いことが冥証されており、有機ガラスを使用
すれば、技術的に容易に得ることができる。
て極めて良いことが冥証されており、有機ガラスを使用
すれば、技術的に容易に得ることができる。
特許請求の範囲第10項の特徴にもとづき、構造がより
簡単となり、測定結果の「価もより簡単となる。しかし
ながら、絞り装置1に幾何学的縦軸線に対して傾斜させ
て移動することもできる。
簡単となり、測定結果の「価もより簡単となる。しかし
ながら、絞り装置1に幾何学的縦軸線に対して傾斜させ
て移動することもできる。
特許請求の範囲第11項の特徴にもとづき、構造がより
簡単となり、所要の高精度を容易に達成できる1、更に
、各貫通ロ全ガラス部材に直線に沿って設けることがで
きる。
簡単となり、所要の高精度を容易に達成できる1、更に
、各貫通ロ全ガラス部材に直線に沿って設けることがで
きる。
特許請求の範囲第12項の特徴にもとづき、貫通口の敷
金増加しても、装置を小さく禍−成でき、妥当な経費で
且つ正確に回転移動全実施できる。
金増加しても、装置を小さく禍−成でき、妥当な経費で
且つ正確に回転移動全実施できる。
特許請求の範囲第13項の特徴にもとづき、貫通口を端
面から加工でき、不可能ではないまでも極めて困難な穿
設作業を行わなくともよい。
面から加工でき、不可能ではないまでも極めて困難な穿
設作業を行わなくともよい。
特許請求の範囲第14項の特徴にもとづき、幾何学的縦
軸線に平行に間隙を設けることができ、従って、組立お
よび監視が容易とカリ、観察顕微鐘の視野が妨害される
ことはない。それにも拘らず、間隙の上記位置が、測定
結果に悪影響を与えることはない。
軸線に平行に間隙を設けることができ、従って、組立お
よび監視が容易とカリ、観察顕微鐘の視野が妨害される
ことはない。それにも拘らず、間隙の上記位置が、測定
結果に悪影響を与えることはない。
特許請求の範囲第15項にもとづき、上記間隙は、X線
ビームに関してもJ傷の観察に関しても無視できる程小
さい。接合時に分子附着力が現れ、双方のガラス部材を
手で引離すことは不可能であるので、ガラス部材は、1
つの部材として取扱うことができる。更に、端面を熱作
用で揚台することもできる。この接合操作は、現在、形
状変化を招くことな〈実施できる。この場合も、一体の
ガラス部駒が得られる。
ビームに関してもJ傷の観察に関しても無視できる程小
さい。接合時に分子附着力が現れ、双方のガラス部材を
手で引離すことは不可能であるので、ガラス部材は、1
つの部材として取扱うことができる。更に、端面を熱作
用で揚台することもできる。この接合操作は、現在、形
状変化を招くことな〈実施できる。この場合も、一体の
ガラス部駒が得られる。
特許請求の範囲第16項の特徴にもとづき、別のガラス
部材の端面が、真直ぐな境界部を形成する。更に、1つ
のガラス部材にのみ、貫通口金加工すればよく、従って
、双方のガラス部材に、例えば、各貫通口の半部をそれ
ぞれ加工する場合よりも作業が簡単となる。この場合は
、接合後、場合によっては、貫通口早部が相互に一致せ
ず、食違いを生ずる。この構成は、多角形(例えば、三
角形、四角形、正方形、 etc、)の断面形状に特に
好適である。
部材の端面が、真直ぐな境界部を形成する。更に、1つ
のガラス部材にのみ、貫通口金加工すればよく、従って
、双方のガラス部材に、例えば、各貫通口の半部をそれ
ぞれ加工する場合よりも作業が簡単となる。この場合は
、接合後、場合によっては、貫通口早部が相互に一致せ
ず、食違いを生ずる。この構成は、多角形(例えば、三
角形、四角形、正方形、 etc、)の断面形状に特に
好適である。
特許請求の範囲第17項の特徴にもとづき、ガラスが、
層の色を変色することがない。更に、透明性が良好であ
り、光源を弱くすることができる。
層の色を変色することがない。更に、透明性が良好であ
り、光源を弱くすることができる。
特許請求の範囲第18項の特徴にもとづき、ガラス部材
に複屈折が生ずることがなく、吸収ロスが最小となる。
に複屈折が生ずることがなく、吸収ロスが最小となる。
特許請求の範囲第19項の特徴にもとづき、X線ビーム
は、実際上、減衰されない。何故ならば、有機ガラスの
材料の原子番号は小さく、金属層は、ミラー効果を与え
るだけで、極めて薄いので、その吸収は無視できるから
である。
は、実際上、減衰されない。何故ならば、有機ガラスの
材料の原子番号は小さく、金属層は、ミラー効果を与え
るだけで、極めて薄いので、その吸収は無視できるから
である。
特許請求の範囲第20項の特徴にもとづき、固有の色會
有しておらず且つ反射性が極めて良いミラーを公知の方
法で作製できる。
有しておらず且つ反射性が極めて良いミラーを公知の方
法で作製できる。
特許請求の範囲第21項の特徴にもとづき、アルミニウ
ムの原子番号は銀の原子番号よりも小さいので、吸収が
更に少くなる。原理的には、例えば、研摩したアルミニ
ウムからミラー全作製することもできる。しかしながら
、このアルミニウムは、薄くすると、波打つ。一方、基
材が有機ガラスである場合は、ミラーは剛である。
ムの原子番号は銀の原子番号よりも小さいので、吸収が
更に少くなる。原理的には、例えば、研摩したアルミニ
ウムからミラー全作製することもできる。しかしながら
、このアルミニウムは、薄くすると、波打つ。一方、基
材が有機ガラスである場合は、ミラーは剛である。
特許請求の範囲第22項の特徴にもとづき、X線ビーム
に対する影響が最小となる。
に対する影響が最小となる。
特許請求の範囲第23項の特徴にもとづき、層11−
の特殊性、測定点の大きさ9貫通口の大きさなどを容易
に知ることができる。
に知ることができる。
特許請求の範囲第24項の特徴にもとづき、達成容易で
、換算容易な倍率が得られる。
、換算容易な倍率が得られる。
特許請求の範囲第25項の特徴にもとづき、幾何学的縦
軸線を十字線の交点と一致きせることができる。しかし
ながら、同心円、7字などを照準装置として使用するこ
ともできる。
軸線を十字線の交点と一致きせることができる。しかし
ながら、同心円、7字などを照準装置として使用するこ
ともできる。
特許請求の範囲第26項の特徴にもとづき、簡明な倍率
およびmm単位の目盛によって、当該の面積全容易に計
算できる。
およびmm単位の目盛によって、当該の面積全容易に計
算できる。
特許請求の範囲第27項の特徴にもとづき、観察顕微鏡
の操作が簡単となる。観察顕微鏡は、集光レンズ素子を
使用せずに、層にピントを合わせることができる。光路
内の素子によって、ガラス部材の下面全明瞭に観察でき
る。もちろん、同等の方法を選択して、観察顕微鏡のビ
ン)kガラス部材の下面に合わせ、発散レンズ素子によ
って層を鮮明に結像することもできる。この場合、関連
のすべての距離が既知であるので、ピント合せ作12− 業は不要である。
の操作が簡単となる。観察顕微鏡は、集光レンズ素子を
使用せずに、層にピントを合わせることができる。光路
内の素子によって、ガラス部材の下面全明瞭に観察でき
る。もちろん、同等の方法を選択して、観察顕微鏡のビ
ン)kガラス部材の下面に合わせ、発散レンズ素子によ
って層を鮮明に結像することもできる。この場合、関連
のすべての距離が既知であるので、ピント合せ作12− 業は不要である。
特許請求の範囲第28項の特徴にもとづき、原子番号の
小さい物質の励起確率を飛躍的に増大できる。原子番号
が、例えば、15〜26の物質(例えば、クロム、チタ
ン)は、約6〜10KeVのエネルギを有する。高エネ
ルギのxHビームで上記物質全励起する場合、ルミネセ
ンス(固有放射)の確率は、この制動放射スペクトルが
低エネルギ成分を含む場合よりも遥かに小さい。もちろ
ん、X線ルミネセンス(即ち、螢光ビーム)を励起でき
るのは、励起ビームが固有ビーム(螢光ビーム)よりも
大きいエネルギを有する場に限られる。即ち、8KeV
ビームでは、9KeVの銅を励起することはできない。
小さい物質の励起確率を飛躍的に増大できる。原子番号
が、例えば、15〜26の物質(例えば、クロム、チタ
ン)は、約6〜10KeVのエネルギを有する。高エネ
ルギのxHビームで上記物質全励起する場合、ルミネセ
ンス(固有放射)の確率は、この制動放射スペクトルが
低エネルギ成分を含む場合よりも遥かに小さい。もちろ
ん、X線ルミネセンス(即ち、螢光ビーム)を励起でき
るのは、励起ビームが固有ビーム(螢光ビーム)よりも
大きいエネルギを有する場に限られる。即ち、8KeV
ビームでは、9KeVの銅を励起することはできない。
励起電圧が50KeVであれば、確率は著しく低くなる
。励起ビームと被励起ビームとの間の電圧差が大きけれ
ば大きい程、励起確率は小さくなる。この関係は、第1
近似で、3乗の指数関数で表わされる。
。励起ビームと被励起ビームとの間の電圧差が大きけれ
ば大きい程、励起確率は小さくなる。この関係は、第1
近似で、3乗の指数関数で表わされる。
特許請求の範囲第29項の特徴にもとづき、ガラス製の
方向変更ミラーを使用でき、しかも、低エネルギのX線
ビームを使用できる。ミラーの作製および保持方式は、
変更する必要はない。この孔によって、光の減衰を小さ
くでき且つ容易に補償でき、しかも、調節に必要な解像
力が減少することはない。
方向変更ミラーを使用でき、しかも、低エネルギのX線
ビームを使用できる。ミラーの作製および保持方式は、
変更する必要はない。この孔によって、光の減衰を小さ
くでき且つ容易に補償でき、しかも、調節に必要な解像
力が減少することはない。
特許請求の範囲第30項にもとづき、孔の断面積は、有
効断面積に等しい。即ち、ミラーに比較的小さい孔を設
ければよい。別の角度にした場合は、X線発生器から漕
會見ることができるよう、孔の断面積音大きくし々すn
は々らない。
効断面積に等しい。即ち、ミラーに比較的小さい孔を設
ければよい。別の角度にした場合は、X線発生器から漕
會見ることができるよう、孔の断面積音大きくし々すn
は々らない。
実際には、特許請求の範囲第31項記載の方法が良い。
この方法は、実際上、ミラーの光学的特性音変化しない
。
。
特許請求の範囲第32項の特徴にもとづき、低エネルギ
のX線管を使用できる。
のX線管を使用できる。
更に、本発明にもとづき、測定点全撮影することもでき
る。貫通口の形状についても同様である。
る。貫通口の形状についても同様である。
従って、評価時の誤謬が避けられる。
本発明の好ましい実施例全以下に説明する。
測定テーブル11は、はぼ直方体形状のハウジング12
を有する。ハウジングの上壁13の前部には、長方形の
フランジ14が上方へ垂直に突出している。このフラン
ジ14は、水平プレート17と一体のエプロン16によ
って囲まれている。プレート17の中央部には、上面が
正確に水平で、座標目盛を有し、上方へ突出する長方形
の小さい作業プレート18が設けである。等間隔の線1
9は、X方向へ延びており、等間隔の線21は、Y方向
へ延びている。作業プレート18およびプレート17に
は、貫通口22が設けである。部材16.17.18か
ら成るこの構造体の右側には、顕微鏡テーブルとしての
作業テーブル18を矢印24.26の方向へ移動する駆
動機構23が設けである。ローレット付ネジ27を矢印
28の方向へ回転すると、2重矢印24に沿って移動が
行われる。
を有する。ハウジングの上壁13の前部には、長方形の
フランジ14が上方へ垂直に突出している。このフラン
ジ14は、水平プレート17と一体のエプロン16によ
って囲まれている。プレート17の中央部には、上面が
正確に水平で、座標目盛を有し、上方へ突出する長方形
の小さい作業プレート18が設けである。等間隔の線1
9は、X方向へ延びており、等間隔の線21は、Y方向
へ延びている。作業プレート18およびプレート17に
は、貫通口22が設けである。部材16.17.18か
ら成るこの構造体の右側には、顕微鏡テーブルとしての
作業テーブル18を矢印24.26の方向へ移動する駆
動機構23が設けである。ローレット付ネジ27を矢印
28の方向へ回転すると、2重矢印24に沿って移動が
行われる。
ローレット付ネジ29を矢印31の方向へ回転すると、
作業プレート18は、矢印26の方向へ移動する。ロー
レット付ネジ27.29’i同時に回転すると、上記移
動が重畳して行われる。かく15− して、垂直な幾何学的縦軸線32に関して貫通口22を
精密に調整できる。作業プレート1B上に、貫通口22
を横切る部材を載せ、同じく幾何学的縦軸線32に関し
て移動することができる。部材が小さく、貫通口22か
ら落下する場合は、上記貫通口に適切な箔(例えば、マ
イラ箔〕を被せ、上記苗土に部材全戦せて駆動する。こ
の場合、箔は、厚さが4〜7μmで、透明であるので、
ハウジング12の内部から部材を観察することができる
。
作業プレート18は、矢印26の方向へ移動する。ロー
レット付ネジ27.29’i同時に回転すると、上記移
動が重畳して行われる。かく15− して、垂直な幾何学的縦軸線32に関して貫通口22を
精密に調整できる。作業プレート1B上に、貫通口22
を横切る部材を載せ、同じく幾何学的縦軸線32に関し
て移動することができる。部材が小さく、貫通口22か
ら落下する場合は、上記貫通口に適切な箔(例えば、マ
イラ箔〕を被せ、上記苗土に部材全戦せて駆動する。こ
の場合、箔は、厚さが4〜7μmで、透明であるので、
ハウジング12の内部から部材を観察することができる
。
第3図には、簡略化のため、第1,2図を参照して説明
した上記部材は示してない。
した上記部材は示してない。
ハウジング12の下方には、X線ビームを発生するX線
管33が設けである。幾何学的軸線32に沿って放射さ
れたX線ビームは、縦軸32と同軸の中間底板36の貫
通口34を通過する。他のすべてのビームは、X線管3
3の上方の中間底板36によって吸収される。中間底板
36および貫通口34上には、同心の環状部材から成る
取付具37が載っている。−F脂環状部材の1つは、縦
軸16− 線32と交差する幾何学的縦軸線を有する軸39を軸支
し且つ鉛製ボール栓41を支持する2重軸受を有する。
管33が設けである。幾何学的軸線32に沿って放射さ
れたX線ビームは、縦軸32と同軸の中間底板36の貫
通口34を通過する。他のすべてのビームは、X線管3
3の上方の中間底板36によって吸収される。中間底板
36および貫通口34上には、同心の環状部材から成る
取付具37が載っている。−F脂環状部材の1つは、縦
軸16− 線32と交差する幾何学的縦軸線を有する軸39を軸支
し且つ鉛製ボール栓41を支持する2重軸受を有する。
このボール栓41は、貫通口42を有する。この貫通口
は、第3図の位置では、縦軸線32に対して同軸であり
、従って、X線ビームを上方へ通過せしめる。ハウジン
グ12外において、軸39には、作動レバー43が空転
しないよう結合しである。このレバーが第2図の位置に
ある場合は、貫通口42は、縦軸線32と同軸となり、
X線ビームを通過する。作動レバ−43全第2図の破線
位置に旋回すると、軸39は、2重矢印の方向へ90°
回転され、貫通口42は、軸32に対して垂直となり、
従って、X線ビームは、ボール栓41によって阻止され
る。環状部材3Bは、径の小さい上部環状部材44に移
行する(第2図)。
は、第3図の位置では、縦軸線32に対して同軸であり
、従って、X線ビームを上方へ通過せしめる。ハウジン
グ12外において、軸39には、作動レバー43が空転
しないよう結合しである。このレバーが第2図の位置に
ある場合は、貫通口42は、縦軸線32と同軸となり、
X線ビームを通過する。作動レバ−43全第2図の破線
位置に旋回すると、軸39は、2重矢印の方向へ90°
回転され、貫通口42は、軸32に対して垂直となり、
従って、X線ビームは、ボール栓41によって阻止され
る。環状部材3Bは、径の小さい上部環状部材44に移
行する(第2図)。
この上部環状部材は、縦軸線32に対して同軸であり、
その上端は、45°に斜切してあり、ミラー46を支持
している。このミラーは、アルミニウム層48を背面に
蒸着したアクリルガラス板47から成る。ミラー46は
、不動であり、45°傾斜しており、縦軸線32は、ミ
ラーの中心を通る。
その上端は、45°に斜切してあり、ミラー46を支持
している。このミラーは、アルミニウム層48を背面に
蒸着したアクリルガラス板47から成る。ミラー46は
、不動であり、45°傾斜しており、縦軸線32は、ミ
ラーの中心を通る。
ミラー46も、縦軸線32に対して45°傾斜している
。X線ビームは、減衰されずにミラー46を通過し、縦
軸?lB52に沿って進む。ミラー46の上方には、縦
軸線32に正確に垂直に、即ち、水平に、絞り装置(簡
略化のため、ガラス部材49のみを示した)が設けであ
る。このガラス部材は鉛の結晶から成り、高さ6mm、
巾15mm−,長さ50mmである。その上面51は、
その下面52に対して平面平行であり、これらの上下面
は、縦軸線32に垂直である。上下面51.52は、研
摩しである。従って、ガラス部材49によって像のひず
みが生ずることはない。可視光の減衰は、無視できる相
手さい。ガラス部材49は、2つの長方形ストリップ5
3.54から成る。ストリップ54から成る。ストリッ
プ54の端面56は、ストリップ53の端面57に接合
しである。端面56.57の間に場合によっては生ずる
間隙は、0.1μmよりも小さい。この間隙を透過する
X線ビームは、無視できる程小ない。
。X線ビームは、減衰されずにミラー46を通過し、縦
軸?lB52に沿って進む。ミラー46の上方には、縦
軸線32に正確に垂直に、即ち、水平に、絞り装置(簡
略化のため、ガラス部材49のみを示した)が設けであ
る。このガラス部材は鉛の結晶から成り、高さ6mm、
巾15mm−,長さ50mmである。その上面51は、
その下面52に対して平面平行であり、これらの上下面
は、縦軸線32に垂直である。上下面51.52は、研
摩しである。従って、ガラス部材49によって像のひず
みが生ずることはない。可視光の減衰は、無視できる相
手さい。ガラス部材49は、2つの長方形ストリップ5
3.54から成る。ストリップ54から成る。ストリッ
プ54の端面56は、ストリップ53の端面57に接合
しである。端面56.57の間に場合によっては生ずる
間隙は、0.1μmよりも小さい。この間隙を透過する
X線ビームは、無視できる程小ない。
端面56には、接合前に、超音波によって、大きさの異
なる長方形断面を有する貫通口58.59.61.62
’i加工する。これらの貫通口は、組立状態において、
縦軸線32に対して正確に平行となる。断面円形の貫通
口63が、それぞれ手分ずつ、ストリップ53.54に
設けである。貫通口58〜63の間の間隔は、ミラ−4
6上部において縦軸線32に沿って進むX線ビームの特
性中よりも遥かに大きい。即ち、縦軸線32が貫通口5
8金通る状態においては、X線ビームが他の貫通ロケ通
過することはない。
なる長方形断面を有する貫通口58.59.61.62
’i加工する。これらの貫通口は、組立状態において、
縦軸線32に対して正確に平行となる。断面円形の貫通
口63が、それぞれ手分ずつ、ストリップ53.54に
設けである。貫通口58〜63の間の間隔は、ミラ−4
6上部において縦軸線32に沿って進むX線ビームの特
性中よりも遥かに大きい。即ち、縦軸線32が貫通口5
8金通る状態においては、X線ビームが他の貫通ロケ通
過することはない。
ガラス部材49の周縁は、縦@線32に垂直に矢印66
の方向へ可動なスライダ64に固定したホルダ(図示し
てない)に埋込んである。スライダ64は、アリ溝によ
ってペット67に案内しである。ペット67は、ハウジ
ングに固定しである。
の方向へ可動なスライダ64に固定したホルダ(図示し
てない)に埋込んである。スライダ64は、アリ溝によ
ってペット67に案内しである。ペット67は、ハウジ
ングに固定しである。
スライダ64は、回転ノブ68と、軸69と、90°方
向変更用伝動機構T1と、上記伝動機構全スライダ64
に結合するシャフト72とから成る微少駆動機構によっ
て駆動する。回転ノブ6819− の回転方向に応じて、ガラス部材49は、第2図の2重
矢印に従い右方または左方へ移動する。回転角度に応じ
て、貫通口58〜63の1つを縦軸縁32と同軸状態と
することができる。ガラス部材49のホルダは、Z字状
アングル73に剛に結合しであるので、上記アングルに
結合した有孔板74全いっしょに@線運動させることが
できる。
向変更用伝動機構T1と、上記伝動機構全スライダ64
に結合するシャフト72とから成る微少駆動機構によっ
て駆動する。回転ノブ6819− の回転方向に応じて、ガラス部材49は、第2図の2重
矢印に従い右方または左方へ移動する。回転角度に応じ
て、貫通口58〜63の1つを縦軸縁32と同軸状態と
することができる。ガラス部材49のホルダは、Z字状
アングル73に剛に結合しであるので、上記アングルに
結合した有孔板74全いっしょに@線運動させることが
できる。
この有孔板には、貫通孔列76が設けである。1つの側
にランプを有し別の側に光感性ダイオードを有する光学
式読取装置77が、ハウジングに固定しである。貫通孔
列T6は、どの貫通口58〜63が縦軸線32と同軸に
なったかを読取り得るよう、コーディングしである。
にランプを有し別の側に光感性ダイオードを有する光学
式読取装置77が、ハウジングに固定しである。貫通孔
列T6は、どの貫通口58〜63が縦軸線32と同軸に
なったかを読取り得るよう、コーディングしである。
調節せるガラス部材49が不測に移動されることのない
よう、回転ノブ6Bの代わりに、特殊レンチで作動する
ネジヘッドケ設けることもできる。
よう、回転ノブ6Bの代わりに、特殊レンチで作動する
ネジヘッドケ設けることもできる。
観察用顕微鏡装置78は、1つの対眼レンズ79を有す
る。そのハウジングには、水平な光束を対眼レンズ79
および観察者の眼に向ける方向変更ミラー81が設けで
ある。顕微鏡装置T8の水平20− 鏡筒部分の内側端には、対物レンズ82が設けである。
る。そのハウジングには、水平な光束を対眼レンズ79
および観察者の眼に向ける方向変更ミラー81が設けで
ある。顕微鏡装置T8の水平20− 鏡筒部分の内側端には、対物レンズ82が設けである。
対物レンズの前に集光レンズ83全置くと、ガラス部材
4Sの下面52を鮮明に観察できる。
4Sの下面52を鮮明に観察できる。
顕微鏡装置T8には、顕微鏡装#、78の光軸8T上に
交点86全有する十字線84が組込んである。
交点86全有する十字線84が組込んである。
この光軸8Tの水平部分は、縦軸線32にぶつかる。光
軸8Tがミラー46にぶつかる点の上方では、光軸8T
は、縦軸IfM32と正確に一致する。
軸8Tがミラー46にぶつかる点の上方では、光軸8T
は、縦軸IfM32と正確に一致する。
従って、十字線84の交点86を貫通口61の中央に置
くと、X線ビームの中心も貫通ロ61内に位置し、従っ
て、X線ビームは、貫通口の全断面を通る。
くと、X線ビームの中心も貫通ロ61内に位置し、従っ
て、X線ビームは、貫通口の全断面を通る。
集光レンズ83は、ハウジングに固定のガイド89内七
光軸8Tに垂直に2重矢印91の方向へ移動できるスタ
ンド88に載せである。集光レンズ83は、図示の位置
では、作動状態であり、第2図の右方の位置では、非作
動状態である。
光軸8Tに垂直に2重矢印91の方向へ移動できるスタ
ンド88に載せである。集光レンズ83は、図示の位置
では、作動状態であり、第2図の右方の位置では、非作
動状態である。
集光レンズの非作動位置では、顕微鏡装置78の光学系
は、観察者の眼のために、作業プレート1B上の層93
を鮮明に結像する。この層93とガラス部材49との間
の距離は大きいので、調節せる貫通口または端面56,
57は観察されない。
は、観察者の眼のために、作業プレート1B上の層93
を鮮明に結像する。この層93とガラス部材49との間
の距離は大きいので、調節せる貫通口または端面56,
57は観察されない。
下面92の照明には、ハウジングに固定してあって貫通
口22を下方から照明する光源94(第3図)?使用す
る。
口22を下方から照明する光源94(第3図)?使用す
る。
かくして、下面上には十字縁84が見える(第6図)。
かくして、交点86が、X線ビームの中心の位置を示す
。十字0i184の111+線には目盛95゜97が設
けである。貫通口61の輪郭96+ゴ既に観察しである
ので、下面92會観察すrしば、X線ビームの輪郭が、
輪郭96(第6図9に正偽に対応するか否かも知ること
ができる。目盛95に依拠して、XI%!ビームを受け
る範囲?正確に測定することができる。
。十字0i184の111+線には目盛95゜97が設
けである。貫通口61の輪郭96+ゴ既に観察しである
ので、下面92會観察すrしば、X線ビームの輪郭が、
輪郭96(第6図9に正偽に対応するか否かも知ること
ができる。目盛95に依拠して、XI%!ビームを受け
る範囲?正確に測定することができる。
層93は、X線ビーム全放射する。このX線ビームは、
絞り装置に向く側を趣蔽材98で遮蔽した比例計数管9
7に受光する。
絞り装置に向く側を趣蔽材98で遮蔽した比例計数管9
7に受光する。
ガラス部材に貫通口を設ける代わりに、可視光は透過す
るがX線ビームを透過しないガラスから成る2つの絞り
半部99,101’を使用することもできる。絞り半部
101 は、運動時に絞り半部99.101 がこすり
合わないよう僅かな間隔を置いて、絞り半部99の上方
に設けである。絞り半部99の隣接辺には、中心面10
7に関して対称な■字形切欠きが設けである。絞り半部
99/101 ′に逆平行に移動すれば、貫通口108
を拡犬寸たは縮少できる。この場合、貫通口108の正
方形輪郭の交点の対角線が、中心面107 から逸脱す
ることは彦い。
るがX線ビームを透過しないガラスから成る2つの絞り
半部99,101’を使用することもできる。絞り半部
101 は、運動時に絞り半部99.101 がこすり
合わないよう僅かな間隔を置いて、絞り半部99の上方
に設けである。絞り半部99の隣接辺には、中心面10
7に関して対称な■字形切欠きが設けである。絞り半部
99/101 ′に逆平行に移動すれば、貫通口108
を拡犬寸たは縮少できる。この場合、貫通口108の正
方形輪郭の交点の対角線が、中心面107 から逸脱す
ることは彦い。
かくして、異なる正方形輪郭を連続的に形成できる。V
字状切欠き104,106 ’に直角でなく、鋭角また
に、鈍角とすれば、菱形輪郭を形成できる。
字状切欠き104,106 ’に直角でなく、鋭角また
に、鈍角とすれば、菱形輪郭を形成できる。
V字状切欠き104のみを設ければ、形状の異なる三角
形全形成できる。この場合、中心面107は、常に、縦
軸線32が通る優先面である。
形全形成できる。この場合、中心面107は、常に、縦
軸線32が通る優先面である。
即ち、本発明にもとづき、極めて小さい質量が低速で移
動されるだけであるので、装置の全寿命にわたって、高
い精度が保持される。
動されるだけであるので、装置の全寿命にわたって、高
い精度が保持される。
摩耗する当接面[械的衝撃、補助保持部材。
バネなどがない。
23−
第8図の実施例では、ミラー46は、銀層またはアルミ
ニウム層111 を蒸着した有機ガラス部材109から
成る。ミラー46には、径1mmの円筒形貫通口112
が縦軸線32に同軸に設けである。ミラー46は、縦軸
線32に対して45゜ケなすので、貫通口112は、ミ
ラー46に対して45°をなす。貫通口112の上面の
中心は、縦軸線32と光軸87との交点と一致する。
ニウム層111 を蒸着した有機ガラス部材109から
成る。ミラー46には、径1mmの円筒形貫通口112
が縦軸線32に同軸に設けである。ミラー46は、縦軸
線32に対して45゜ケなすので、貫通口112は、ミ
ラー46に対して45°をなす。貫通口112の上面の
中心は、縦軸線32と光軸87との交点と一致する。
貫通口112の輪郭は、卵形または多角形であってLい
。縦軸線32に沿って十分に低エネルギのX線ビームが
進むよう、X線管33は、べIJ リウム窓113 を
有する。
。縦軸線32に沿って十分に低エネルギのX線ビームが
進むよう、X線管33は、べIJ リウム窓113 を
有する。
X線ビームが、上記範囲において、貫通口112によっ
て散乱されることはない。この第2実施例にもとづき、
貫通口58,59,61,62.63 ′を小さ
くできる。これらのうち最小の貫通口は、小さ々対象を
測定できるよう、例えば、0.05mmとすることがで
きる。
て散乱されることはない。この第2実施例にもとづき、
貫通口58,59,61,62.63 ′を小さ
くできる。これらのうち最小の貫通口は、小さ々対象を
測定できるよう、例えば、0.05mmとすることがで
きる。
第1図は、装置全体の斜視図、第2図は、第124−
図の面2−2に沿う斜視断面図、第3図は、面2−2に
北直な略断面図、第4図は、ガラス部材の平面図、第5
図は、第4圀のA矢視図、記6図は、被測J會の下面の
部分図、第7図は、絞り装置の別の実施例の略平面図、
第8図は、ミラーの第2実施例の横断面図である。 11・・・・測定テーブル、12・・・・ハウジング、
32・・・・幾何学的縦軸緋、33・・・・X線1g、
46・・・・方向変更ミラー、49・・・・絞V装置、
58:59:61;62;63 : 10B ・・・
・貫通口、78・・・・顕微鏡装置、84・・・・照準
装置、86・・・・照準点、87・・・・光路、93・
・・・被測鳩、94・・・・光W0 イテユート・フユア・エレクトロニーク・ラント争メス
テヒニーり 代理人山川政樹(はか1名) 26−
北直な略断面図、第4図は、ガラス部材の平面図、第5
図は、第4圀のA矢視図、記6図は、被測J會の下面の
部分図、第7図は、絞り装置の別の実施例の略平面図、
第8図は、ミラーの第2実施例の横断面図である。 11・・・・測定テーブル、12・・・・ハウジング、
32・・・・幾何学的縦軸緋、33・・・・X線1g、
46・・・・方向変更ミラー、49・・・・絞V装置、
58:59:61;62;63 : 10B ・・・
・貫通口、78・・・・顕微鏡装置、84・・・・照準
装置、86・・・・照準点、87・・・・光路、93・
・・・被測鳩、94・・・・光W0 イテユート・フユア・エレクトロニーク・ラント争メス
テヒニーり 代理人山川政樹(はか1名) 26−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)幾何学的縦軸線に沿ってX線ビーム全放射するX
線発生器と、被測層のホルダとしてのテーブル装置と、
本質的に、X #i!k 5e全に吸収する材料から成
り、幾何学的縦軸線に合致させ得る通過口を有する絞り
装置と、被測層の設置個所に向は得る可視光の光源と、
Xiビームがぶつかる層部分全観察する顕微鏡装置と、
顕微鏡装置と層部分との間の光路に設けた方向変更ミラ
ーとを有する、X線螢光法にもとづき薄層の厚さを測定
する装置において、a)絞り装置(49)が、可視光を
透過するガラスから成り、断面形状の異なる複数の貫通
口(58,59,61,62,63,108)を有し、
貫通口(58,59,61,62,63,108)の1
つが幾何学的縦軸線(32)に一致するよう、移動させ
ることができ、b)方向変更ミラー(46)が、XSを
実際上吸収しない材料から成り、幾何学的縦軸線(32
)と交差し、C)顕微鏡装置(78)が、絞り装置(4
9)鳳び層(93)の部分(92)を鮮明に結線し、d
)顕微鏡装置には、照準装置(84)が設けてあり、そ
の照準点は、光路方向(87)へ見て、幾何学的縦軸線
(32)と方向変更ミラー(46)との交点に一致する
ことを特徴とする装置。 (2)該ガラスが、鉛ガラスであることを特徴とする將
1Fi−蒔求の範囲第1項記載の装置。 (3)該ガラスが、フリントカラスであることを特徴と
する%if硝求の範囲第1項記載の装置。 (4)該断面形状が、矩形であること全特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の装置。 (5)該断面形状が、正方形であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の装置。 (6)該断面形状が、円形であること全特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の装置。 (7)該断面寸法が、約O12に0.2mmおよびまた
は0.6X0.6mmおよびまたは1.2 K 1.2
mmであることを特徴とする特許18求の範囲第5項記
載の装置。 (8)該断面寸法が、0.4 x O,2mmおよびま
たは1xo、6mmおよびまたは1.8x1.2mmで
あることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の装置
。 (9)該断面寸法が、0.3mmおよび?に、たtrJ
’、 0.5 mmおよびまたは0.6mmおよびまた
は0.8 mmであること全特徴とする特許g1を求の
範囲第6項記載の装置。 (10)絞り装fit (,49)が、幾何学的縦軸線
(32)に対して正確に垂直に変位させ得るよう案内し
であること全特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装
置。 (11)絞り装置t(49)が、直線状に変位させ得る
よう案内しであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項または第10項記載の装置。 (12)絞り装f (49)が、回転可能なよう案内し
であること全特徴とする特許請求の範囲第1項または第
10項記載の装置。 (I3)絞り装置(49)が、各端面(56、57)で
接する少くとも2つの部分ガラス(53,54)k含み
、貫通口(58,59,61,62,63)が、少くと
も1りの端面(5G)から部分ガラス(53,59,1
の内部へ向って加工しであること全特徴とするも許詩求
の範囲第1〜12項の1つまたは複数に記載の装置。 (14)端面(56,57)が、貢直ぐな平坦面であり
、端面(56,57)の間の間隙を透過するX線量は、
最少の貫通口(5日)に分けるゴ汚過ψの1/10以下
であることを特徴とする特許請求の範囲第13項記載の
装置。 (15)端面(56,57)が、接合するのに必要な程
度に平坦に研摩しであること金%徴とする特許請求の範
囲第14項記載の装置。 (16)、)f通口(58,59,61,62)が、1
つの部分ガラス(54)の端面(56)にのみ穿設しで
あることを特徴とする特許請求の範囲第4項、第5項ま
たは第14項記載の装置。 (17)該ガラスが、無色透明であることを特徴とする
特許請求の範囲第り項記載の装置。 (18)上記ガラスから成るガラス部材(49)の上面
(51)および下面(52)が、幾何学的縦軸線(32
)に垂直であり、上面(51)および下面(52)が、
高光沢を呈するよう研摩しであることを特徴とする%−
杵J青求のん′え囲第1項NQ賊の装置。 (19)ミラー(46)か、金属(48)全被覆した有
機ガラス層(47)を有することを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の装置。 (加)金属(48)が、銀であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の装置。 (21)金属(48〕が、アルミニウムであることを特
徴とする特許請求の範囲第19項記載の装置。 (22)被覆層(48)は、蒸着しであることt%徴と
する特許請求の範囲第19項記載の装置。 (23)観基顕微鏡(78)の倍率が、9より大きく4
1よりも小さい整数であること全特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の装R6 (冴)該整数が、20であることを特徴とする特許請求
の範囲第23項記載の装置。 (5)照準装置が、十字線(84)であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の装置。 (26)十字線(84)の軸線には、目盛(95,97
)が附しであることを特徴とする特許請求の範囲第25
項記載の装置。 (27)観察顕微鈴(78)が、唯一つの対眼レンズ(
γ9〕を有し、顕微鏡(78)の光路(87)内にレン
ズ素子(83)ケ選択的に設置できることを特徴とする
特許tカ永の範囲第1項記載の装部。 (28)方向変更ミラー(46)が、X線ビームの低エ
ネルギ成分を透過することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の装置。 (29)方向変更ミラー(46)が、ガラス製であり、
幾例学的軸# C32Jと同心の孔全有すること全特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の装置。 (30)孔の幾何学的縦軸線が、方向変更ミラー(46
)の平面に対して45°をなすことを特徴とする特許請
求の8FIJi第29項記載の装置。 (31)孔の横方向寸法が、0.5〜2mm(好ましく
は、約1mm)であることを特徴とする特許請求の範囲
第30項記載の装置。 (az)Xi発生器(33)が、ベリリウム窓を有する
ことt%徴とする特許請求の範囲第1項および第28〜
30項の1つまたは複数に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3239379.2 | 1982-10-23 | ||
DE19823239379 DE3239379A1 (de) | 1982-10-23 | 1982-10-23 | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2027320A Division JPH02236106A (ja) | 1982-10-23 | 1990-02-08 | 薄層の厚さ測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5975109A true JPS5975109A (ja) | 1984-04-27 |
JPH0244363B2 JPH0244363B2 (ja) | 1990-10-03 |
Family
ID=6176500
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58070825A Granted JPS5975109A (ja) | 1982-10-23 | 1983-04-21 | 薄層の厚さ測定装置 |
JP2027320A Granted JPH02236106A (ja) | 1982-10-23 | 1990-02-08 | 薄層の厚さ測定装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2027320A Granted JPH02236106A (ja) | 1982-10-23 | 1990-02-08 | 薄層の厚さ測定装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4597093A (ja) |
JP (2) | JPS5975109A (ja) |
DE (1) | DE3239379A1 (ja) |
GB (1) | GB2129127B (ja) |
HK (1) | HK25787A (ja) |
SG (1) | SG10386G (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS6258749U (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-11 | ||
JPS6446608A (en) * | 1987-04-01 | 1989-02-21 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Thin layer thickness measuring apparatus |
JP2016509231A (ja) * | 2013-03-07 | 2016-03-24 | ヘルムート・フィッシャー・ゲーエムベーハー・インスティテュート・フューア・エレクトロニク・ウント・メステクニク | 光学ミラー、x線蛍光分析デバイス及びx線蛍光分析のための方法 |
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---|---|---|---|---|
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DE3444270A1 (de) * | 1984-12-05 | 1986-06-05 | Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
US4860329A (en) * | 1986-02-24 | 1989-08-22 | Upa Technology, Inc. | X-ray fluorescence thickness measuring device |
DE3731973A1 (de) * | 1987-09-23 | 1989-04-13 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Vorrichtung zur stabilisierung fuer roentgenfluoreszenzschichtdicken-messgeraete und verfahren hierzu |
US4962518A (en) * | 1987-12-07 | 1990-10-09 | Twin City International, Inc. | Apparatus for measuring the thickness of a coating |
US4979203A (en) * | 1989-06-19 | 1990-12-18 | Princeton X-Ray Laser | X-ray laser microscope apparatus |
DE4021388A1 (de) * | 1990-07-05 | 1992-01-16 | Twin City Int Inc | Vorrichtung zum messen der staerke eines ueberzuges |
DE4203887C2 (de) * | 1992-02-11 | 1998-07-23 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Positioniervorrichtung für ein Meßgerät |
US5309495A (en) * | 1992-03-18 | 1994-05-03 | Helmut Fischer | Positioning device for an x-ray thickness measuring system |
DE19710420C2 (de) * | 1997-03-13 | 2001-07-12 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicken dünner Schichten mittels Röntgenfluoreszenz |
DE19739321C2 (de) * | 1997-09-09 | 2001-09-27 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Verfahren und Einrichtung zum Bestimmen der Meßunsicherheit bei Röntgenfluoreszenz-Schichtdickenmessungen |
GB9906011D0 (en) | 1999-03-16 | 1999-05-12 | Whiley Foils Ltd | Fluorescent materials |
US6345086B1 (en) | 1999-09-14 | 2002-02-05 | Veeco Instruments Inc. | X-ray fluorescence system and method |
JP3811089B2 (ja) * | 2002-04-15 | 2006-08-16 | 株式会社東芝 | 摩耗量測定方法 |
DE10259696B4 (de) * | 2002-12-18 | 2018-07-05 | Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zum Messen der Dicke dünner Schichten |
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DE102004020370B4 (de) * | 2004-04-23 | 2006-11-16 | Sirona Dental Systems Gmbh | Röntgenstrahler und Verfahren zur Erzeugung und Darstellung von Röntgenbildern |
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