JPS5948761A - 印刷版の製造用集成構造体 - Google Patents

印刷版の製造用集成構造体

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JPS5948761A
JPS5948761A JP58145787A JP14578783A JPS5948761A JP S5948761 A JPS5948761 A JP S5948761A JP 58145787 A JP58145787 A JP 58145787A JP 14578783 A JP14578783 A JP 14578783A JP S5948761 A JPS5948761 A JP S5948761A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)腫業上の利用分野 この発明は、レリーフ印刷版を製造するため光重合可能
な物質を受答するのに適した集成g遺体に関する。
(ロ)従来技術 レリーフ印刷版は実質的に適当な基体上に装着せる光重
合可能々・吻・ほからなる。使用に際し、この光重合可
能な物質は、像を」U持せる透明体、例えば写真ネガフ
ィルムを肌じて化学線、例えば紫外線に嬉光することに
より、像を表わすi′に先部分を硬化せしめ、非露光部
分を例えば溶剤洗浄によシ実質的に除去する。さらに詳
しくは、印刷版製造プロセスに於いて、版の互いに反対
側から照射して版の裏面と版の表面の像に同時に露光し
、次いで未重合物質を除去し、さらに照射して版を最終
的にキーアーする。
そのようなレリーフ印刷版の、1・6成におけるi9な
吹回は光重合i1’ #@な物質の基体に%Jする」妥
M性である。即ち、照射後に光重合1丁能な物質力棉り
1本から剥離することが占ってはならないし、壕だ、最
長の照射キュア〜の前および後の抗い浴しくウオツシユ
・アl> ト) fcJセスの佼で印^1」1」版を取
扱5粕呆として像の各部分か基体上をζ)I動してe」
、〃しない。(Wの部分が基体上を滑動するならばレリ
ーフ印刷版は頁の透明体とはなら々いでりろう。
未成↑再遺体における別の望゛ましい性′員は平坦性、
即ち、平らに16いた時にそのMid M&かカールし
ないことでりる。
基体と光重合可能な吻)11との間に満足すべき接フコ
性を達成するには、基体と光重合可能な物質とに接后力
を示し得る!I/)’iで基体を予(1ftj処理する
ことによっでその物質の1または2以上の層をル成する
ことが必渋なことか判明している。一般にそのような物
質は基体上に層状に減ミクロンの厚さで適用して果ha
t 441を遺体と成し、次いでこれに光中合呵能な物
質を受答せしめる。
(ハ)発明の目的 本発明はこのようなタイプの新しい集成構造体に関する
ものであって、イ重々の光重合可能な物質に対し優れた
耐剥離性を示すと共にカールし難い特性を有する。
に)発明の構成 本発明に係る集成+14115体&、1、(&)4合体
からなる基体、 (b)該基体上に形成された下塗層および(c)該下塗
層上に形成された樹脂層 を有する、レリーフ印刷版を製造するため光重合可能な
物質を受答するのに適した集成構造体でりって、該包]
崩ノΔは少くとも2ミクロン厚、好11゜くけ少く、と
も6ミクロン厚を有し、且つ、平均分子は1,000−
100,000、好′ましくは5. f、) 00〜2
5、 O+) 0を有し鳴・化ビニル60〜98東lI
L係、酢眩ビニル2〜20卓口1φ督よび8費にLl−
;じて20c[、ii1%以下の第3 i’J’−+、
+4:体からなる塩化ビニル/酢【侠ビニル共↓1【合
体<a・+脂から成ることを待畝とする。
以下余白 (ホ)実施態様の詳細 塩化ビニル7/酢酸ビニル共貞合体佃脂は比較的低分子
量の物質でりって、その平均分子は(数平均)はより好
ましくは6,000〜16. O(10、!1唇66、
000〜l(1,000である。
第3単量体を用いる場合、その、Aは爪合体樹脂車μに
対し10〜2Ofi量係、特に15東ii≠であること
が望ましい。そのような第3牟量体としてはマレイン眩
または観念的なビニルアルコール(即ち、i11合後に
重合体鎖中の酢岐ビニル早位の一部を加水分解すること
により調製されろビニルアルコール)のようなエチレン
系不飽和率は体が挙げられるか、好ましくは、水酸基含
有アクリル飲アルキルもしくはメタクリル威アルキル、
特に1〜6個の炭素原子を含むアルキル基(ことにメチ
ル゛まだはエチル基)を有する低級アクリルばアルキル
もしくはメタクリル畝アルキルのような水咽基含有エチ
レン系不飽和第3単畦体でしる。
水酸基官有第3単孟体を便用する場合、合h1水酵基含
有址は三元共重合体重量に基づき1.5〜25蛋量饅、
特に18〜2.2重世頭、V’Jえは2.0垂計俸であ
ることが望ましい。
好ましい樹脂は、塩化ビニル75〜85東鼠チ、酢喉ビ
ニル2〜8屯j士係および不飽和第3単批体残部%(合
計100重址%)からなる三元共重合体でめる。
また、充填剤、特に粒子状充填剤を樹脂層11叫こ配合
することによって表面を粗面にすることが望ましい。こ
の目的には金桟−士だはメタロイドの粒子状1狭化物、
例えばアルミナ及びンリカ、特に伎者が非常に不用であ
ることが判明した。
(ij脂層は少くとも2ミクロン厚、好ましくは少くと
も6ミクロン厚、より好ましくは約12ミクロン厚を有
する。集成構造体の耐剥離特性からみて+71]脂層の
厚づに格別上限はないが実用上および経済上の理由から
;30ミクロンを越える樹脂層を適用しても格別意味が
ない。
基体は、特に自己支持1生フイルムまたはノートの形態
を有するいかなる適当な組合体物質でペイ権威してもよ
い。適当な組合体物質としては、セルロー ス、:c 
:x チル(IZLjtは、酢1蚊セル「コース)、s
”)スチレン、ポリアミド、」温化ビニルの重合体オよ
び共重合体、オレフィンの重合体および共■(合体(ψ
りえはポリプロピレン)、ポリスルホンおヨヒ特に線状
・+?IJエステル類が卒げられる。この11iメ状、
+5 IJエステルは、1または2以上のジカルがン叡
−またはその低級アルキルジエステル(例t[、テレフ
タル酸、イソフタル酸、フタル(y、2.5−2.6−
および2,7−ナフタレンジカルボン酸、コハク酸、セ
バシン酸、アジピンnセ、アゼライン酸、ジフェニルジ
カルづζン岐およびヘキサ上190アL’ 7 夕Jl
、 (fl、 モL < ハヒスーp−カル+1?キン
ルフエノキンエクン)を8茨に応じて七ノカルポン版(
例えばピバル岐)と共に1またQ−1,2以上のグリコ
ール(v/lJ、tハエチレングリコール、1.3−z
’ロノ?ンジオール、1,11−ブタンジオール、イ、
オベンチルグリコールおよび1,4−シクロヘキザンー
ジメタノール)とWj 合することによりthらill
る。特に2軸配向[7熱固定ぜるポリエチレンテt/フ
タレートフィルムは本発明に係る集成h′/7遺体の般
〕Δに有用で4・)って、これは例え11、英国時計第
838.708号に記載されるようないかなる公知方法
によりNipしてもよい。
亜合体基体は50〜3.oooミクロン厚、特に50〜
300ミクロン厚、より好ましく iI:i: l O
O〜175ミクロン厚を有するのが適当である。
下塗層は、重合体からなる基体表面を該重合体に対し浴
剤またはJgン閏作用を有する。この目的で当業界にお
いて既知の薬剤で処理することにより形成される。その
ような薬剤、特に、I?リエステル基体の処理に適当な
薬剤の例としては、汎用有様浴剤に浴解せる・・ロケ゛
ン化フェノール、例えは、p−クロロ−メタクレゾール
、2,4−ジクロロフェノール、2 、−1 、5 、
もしくけ2,4.6−ドリクロロフエノールまたd′4
−クロロレゾル7ノールのアセトン−またはメタノール
浴解倚11ダが皐けられる。−L:、記にカロえて、好
゛止しくは、下便層形成浴液に、[NI i12佃脂樹
脂ついて説明したような部分的に加水分解せる鳩化ビニ
ル/酢厳ビール共車合体、特に0.5〜3乗童係の水ば
基を含有する共重合体を含南ぜしめても良い。この重合
体のカーf↓1は前記(Vj力旨層を構成−jる塩化ビ
ニル/ロト1牧ビニル共重合体の分子量より大きい分子
量をMすることが望−ましく、その分子量はl o、旧
)0〜:i 0,01) 0が適当であり、よυ好まし
くは16.50[1〜25,0旧)である。下血層の厚
さはその上に形成する樹脂層の厚さよりはか乃り薄く、
2ミクロン未満、通常1ミクロン未満で必る。
本発明に係る集成構造体の任意の婆らに好′ましい特徴
は光重合開始剤を含む点にある。光重合uIj始剤は位
j脂層中に配合することができるが、但j脂層の」二に
さらに別の重合開始剤含有層を形成することが望−ま(
7い。光重合開始剤は、光面倉司能在物負を集成構造体
に適用した後照射した除にその正合を加速する槻能を有
する。この目的には種々の光重合開始剤を用いることが
でき、し1jえは、ベンゾイン、ベンゾインアルギルエ
ーテル(しlJえはベンゾイン・メチル−、エチル−も
しく 1−1イソプロピル−エーテル)、アルファメナ
ルーベンソイン、ベンジル−価侠ベアジル(IZLtば
p−ニドaおよびp−メトキシル−ベンジル)、ビアセ
チル。
フルオレノン、アンスラキノン、フエナンスラキノン、
カンファーキノン、ジフェニルジスルフィド、2−ナフ
タレン−スルホニル・クロリド、オメガ−ブロモアセト
フェノン、ニオ/ン、チオニン、クロロ−もしくはアル
キル−置換チオキザントン、ジベンゾスベロン、または
ジアルキルアミノ−安息香岐のアルキルエステルが挙げ
られる。
下塗層、樹脂層および光重合開始剤層を独立層として適
用する場合にはこれらを谷峨状、四で適用して、後で浴
11すを除去しイ例脂よだは光重合開始剤を残留せしめ
るのか好ましい。この目的には、一般に広く用いられる
有機浴剤、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メ
タノール並びに塩化メチレンおよび1.i、i−トリク
ロロエタンのような塩素化酊剤が用いられる。
本発明に係る集成構造体を添付図面Q(ついてIQ明す
ると、第1図は、基体、下塗層およびイ0]脂層からな
る集成[14造体の部分拡大l1fr而図で、ねり、第
2図はさらに光重合開始剤層を含む同様な集成構造体の
部分拡大断面図であり、第3図はさらに九亜合可能なj
脅を含む同様な集成構造体の部分拡大断面図であり、ま
た第4図はレリーフ印刷版の”c’?lf分拡大断面図
である。
各図面において、2輔配向ポリエナレンテI・′フタレ
ートフィルムのような基体層1の表+f+i 2上に目
下塗層3が形成される。1塗層の表面4上にOl」樹脂
層5が形成括れる。
第2図に才、いて、光■合開始剤層7は(νj脂1r、
“)り表面6上に伺尤形成される。
第3 +’21 K lj’>いて、光事合可目ヒな層
9が元皇Q’15i」始剤Jdの表面8上に形成され、
また、第4図に&J、第3図に示す集成構造体をパター
ンマスク(図示せず)を通じて紫夕1綜に嬉光し、適当
な酸^りで(A4いIgシて層9の未重合領域を除去し
、それによって四部10およびレリーフ領域11を有す
る印刷版が形成される。
(ハ))具体例 以下本発明を具体しυについて日シ乙ψ」する。こJt
らの貝1・を例においては独々の集成わt ir、’i
 トドh: f’Ii )皮し、試験した。
例1〜13 各側において基体として厚さ100ミクロンのポリエチ
レンテレフタレート(MELINEX Oグレート〔商
品名〕)を用いた。p クロロメタクレゾール(375
車気/谷量チ)とVINYLITE VAGH((17
5重jit/%縫%)のアセトン浴液を用いて下塗層を
形成した。VINYLITE VAGIIはtg化化工
ニル90屯宿φ酢r夜ビニル4■献φの共重合体で・う
って、水酸基含弔−[達2.3車量係、平均分子就23
.000で必る。コーティングのV100℃において1
分間加熱し7てアセトンを除去し、基体上に厚さ1ミク
ロン未りIP4の下塗層を形成した。
下塗層を適用した後基体上に本発明で用いるj盆化ビニ
ル/酢酵ビニル共1合体並びにその1]口偵々の!11
上体をコーティングせしめて本発明に係る集成llq遺
体並びに比較対照集成(11v造体を作成した。
代表的fr、 ニア −−j (y りIg l夜i 
V工NYLITFE VIIOHツメチルエチルケトン
m 7F!i、 (45ffi鼠/ W 4 % )で
1)ッた。VINYIJ’l’E VI’tOIIは塩
化ビ= k 81 M鼠係、げl:ばビニル←61係お
よび水j夜暴き有アクリル岐アルキルからなる三元共重
合体で4うって、名計水削基含有吐は市合体恵量に基っ
@20係でf。
す、平均分子吐け8.000であっ7C,oこのコーテ
ィング溶液にはシリカ充填AII (GASIL +P
BN ) /、−2■A/屯叶多配合し、その粘度は1
〜2醪イスであっだ◇最後に空気を吹きつけながら80
〜90℃において20秒間カ11熱しで基体から#JA
’l ’i除去し、基イ4上に厚さ11ミクロンの南廂
コーチ・fングハjを形成した。
いくつかの例においては第3のブ[、重合開始1QIJ
層を1.]、]−トリクロロエタンを用いて同峰外方法
により恒1脂層十に適用し、この層は8o−・90℃に
おいて7分間乾・祿した。便用した&C市合開始剤は2
−イソゾロビル−9H−チ]ギサンテ7−9− オフ 
(QTJANTACURE I’[’X) iだけ・[
ソノロビル・ベンゾイン−エーテルとp−ジメチル−ア
ミノベンツアルデヒドとの7昆合9勿でちっゾこ、。
ます、各集成槁遺体に1インチの間隔でほぼ′″1′行
な多数の引掻鶴をつけ、次いで、市販光+1i合可能物
質(FFFW 、バーキーレス社製)ヲコーティングし
て約40ミクロン厚の光重合可能な層を形成した。次い
で、この光重合可能な物質の自由人1m上に別の集成構
造体を適用して、光重合可能な物質がサンドインチ構造
の中心を形成し、その両表面に集成構造体の引掻傷形成
面が接触せしめられたサンドイッチ構造体としだ。
次いでサンドイッチ(14造体をガラス板上に平らに置
き、6個のノーンUV灯を用いて800マイクロワツト
/aI12 の強さで30秒間ガラス板を通じて照射し
た。次いで、サンドインチ構造体を裏返し、反対側に3
,000〜4,0 (10マイクロワット10n2の強
さで12分間照射した。
次いで、ギーアせるサンドイッチ構造体をインストロン
引張試(倹機のンヨウに置きサンドイッチ構造体を引き
はがすことによって接着力の試験を行った。この剥離力
は引掻傷を横切る方向に5cm1分の速度で適用した。
剥離が起こった際の耐重を記録した。結果Q、v第1表
の通りであった。
例14−18 レリlで用いた集成構造体を用い試験を繰返した。
出し、異なる光重合可能な重合体を用いた。この例では
光重合可能な重合体をコートせる集成構造体を同一光重
合可能な重合体でコートせる市販東14に構造体と比較
した。結果は下記第2表の通りであった。
第2表 この試験ではノートを平らに14いて積重ね/こ状態で
数週間貯蔵しだ例1の集成構造体と同様に貯蔵した市販
集成構造体と比較した。各試料は20℃、相対湿度60
チの条件下[6時間平らに置いた。
シートの端の捷くれ]二かった高さを記録した。次のデ
ータは厚さ100ミクロン、A4サイズの基体シートの
まくれ上がった高さくミリメートル)である。
例1の集成構造体    5 市販集成構造体     8 例20〜27 種々の樹脂層を用いて、数ケ月の間隔で例1の手法を繰
返した。処方の詳細および試験結果は第3表の通りであ
った。
以T6白 例20および21の結果全それぞJLi2111および
2の結呆と比IIIりずれば、♂)る期間客おい゛C緑
返した時v t1/こ肖り、件がイlられることがわか
る。
また、第3表のデータは、11111強さは樹脂J−の
ノ9さに鱈存すること、低分子MIN脂VINYLIT
EVROHは晶分子量拉l用1′VINYLITE V
AGITと比ii+)して優れたイ・II扉強さを与え
ること、シリカ粒子を配合してもVINYIJTE V
ROi(による、q1昆W弾さに悪影響t・及ぼさない
こと、及びQUANTACUI I’l’X  を含有
夕□−る別の光重合r:Ii4飴剤層を設けることによ
ってIIJMC強さが増大することを示している。
4、  n;1面の1jン]単な説明 第1[シ]は21占1ト、下塗NJiよびj・【fBa
1iンiからなる集成格迄体の+’+lS分拡大凹面+
tjでをノリ、第2 +:= tt−、しさらに光1.
(1合開始剤層を含む同様な祐成+、°4造「トの部分
拡大ド11而l;’/iであり、行木3図に1さらにう
Y; M Fw ”丁j止ム層を含む凹庫4果ハ1う構
造fトe)部分JHi(人お1t 1ii11?、1で
あり、′また第41ン1(づl/ !7−7印刷版の部
分拡大断面図である。
1・・・−bi; r−+、:、3・・・下便層、5・
・・樹脂層、7・・・光重合開始剤層、9・・・光重合
可能な層。
特許出願人 イン被リアル ケミカル インダストリーズノ母ブリッ
ク リミティド カンパニー特許出願代理人 弁理士青木 朗 弁理士西舘和之 弁理士 内 1)幸 男 弁理士 山 口 昭 之 弁理士 西 山 雅 也

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、  (a)  重合体からなる基体、(b)  該
    基体上に形成された下塗層および(c)  該下塗4上
    に形成された樹脂層を有する、レリーフ印刷版を製造す
    るため光徂合可能な物質を受容するのに適した集成構造
    体であって、該樹脂10は少くとも2ミクロン厚を有し
    、且つ、平均分子吐1,0 (10〜100,000、
    堪化ビニル60〜98重叶チ、酢ばビニル2〜20框址
    チおよび第3単量体0(0を含む)〜20 Ji7 %
    からなる塩化ビニル/酢酵ビニル共重合体樹脂からな、
    ことを特徴とする集成構造体。 2 該樹脂が、塩化ビニル75〜85里は饅、酢酸ビニ
    ル2〜8重量%および不飽和第3単量体残部%(合8i
    ′100重量係)からなる三元共重合体である特許請求
    の範囲第1項記載の集成構造体。 3、該第3単量体が水酸基台上第3単量体でわる特許請
    求の範囲第1項または第2項記載の集成構造体。 4、該第3単献体が、1〜6個の炭素原子を君むアルキ
    ル基を有する水戚基含南アクリルばアルキルもしくはメ
    タクリルばアルキルである特許請求の範囲第3項記載の
    集成構造体。 5、 さらに光重合開始剤を含む特許d1j水の範囲第
    1項から第4項までのいずれかに記載の果成悔造体。 6、光重合開始剤が、該樹脂層上に形成された別の層を
    構成する特許請求の範囲第5項記載の未成’+f4遺体
    。 7、該下塗層が、該樹脂層中の共重合体より大きな分子
    財を1する塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体を含む特=
    1− Bpi求の範囲第1項から第6項までのいずれか
    に記載の集成構造体。 8、該樹脂層中に粒子状充填剤が存在する特許請求の範
    囲第1項から第7項1でのいずれかに記載の集成構造体
    。 9、該基体がポリニスデルからなるtF!f計諸水の範
    囲第1項から第8項唸でのいずれかに記載の集成構造体
JP58145787A 1982-08-11 1983-08-11 印刷版の製造用集成構造体 Expired - Lifetime JPH065387B2 (ja)

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GB8223138 1982-08-11
GB8223138 1982-08-11

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01283557A (ja) * 1988-05-11 1989-11-15 Dainippon Printing Co Ltd 感光性樹脂版の支持体
US5785824A (en) * 1995-09-28 1998-07-28 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of and apparatus for producing ozone

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4640886A (en) * 1985-10-10 1987-02-03 Eastman Kodak Company Subbed lithographic printing plate
GB8609704D0 (en) * 1986-04-21 1986-05-29 Ici Plc Coating composition
US5260166A (en) * 1992-03-04 1993-11-09 Graphic Controls Corporation Seamless, trilaminate, photopolymer cylindrical printing plate and method of manufacture
US6916596B2 (en) 1993-06-25 2005-07-12 Michael Wen-Chein Yang Laser imaged printing plates
US6756181B2 (en) 1993-06-25 2004-06-29 Polyfibron Technologies, Inc. Laser imaged printing plates
DE4339010C2 (de) * 1993-06-25 2000-05-18 Pt Sub Inc Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten
JP3087308B2 (ja) * 1994-11-24 2000-09-11 セイコーエプソン株式会社 スタンプ素材およびこのスタンプ素材を用いたスタンプ作成方法並びにこのスタンプ作成方法により製造したスタンプ
US6742453B1 (en) 1998-07-30 2004-06-01 Mark Alan Borski Printing sleeves and methods for producing same
CA2710691A1 (en) * 2009-09-30 2011-03-30 Garry Machine Mfg. Inc. Process for refurbishing cylinder rolls and bases for printing machines

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL101499C (ja) * 1951-08-20
DE1471702A1 (de) * 1963-04-25 1969-01-02 Columbia Ribbon & Carbon Durchscheinende lichtunempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
GB1080817A (en) * 1964-12-04 1967-08-23 Bexford Ltd Synthetic film materials
US3620812A (en) * 1967-08-24 1971-11-16 Bexford Ltd Film material for lithographic plates
GB1321108A (en) * 1969-06-25 1973-06-20 Asahi Chemical Ind Photopolymerisable elements
US3826651A (en) * 1971-05-13 1974-07-30 Grace W R & Co Laminated aluminum article and method
GB1507660A (en) * 1974-03-06 1978-04-19 Ici Ltd Coated film materials
US3993501A (en) * 1975-03-24 1976-11-23 Union Carbide Corporation Nonaqueous electrochemical cell
US4087579A (en) * 1976-01-16 1978-05-02 Columbia Ribbon & Carbon Mfg. Co., Inc. Pressure-sensitive transfer elements
DE2861268D1 (en) * 1977-11-29 1982-01-07 Bexford Ltd Photopolymerisable elements and a process for the production of printing plates therefrom
US4230770A (en) * 1978-10-06 1980-10-28 The Goodyear Tire & Rubber Company Metal photopolymer substrates

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01283557A (ja) * 1988-05-11 1989-11-15 Dainippon Printing Co Ltd 感光性樹脂版の支持体
US5785824A (en) * 1995-09-28 1998-07-28 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of and apparatus for producing ozone
CN1045189C (zh) * 1995-09-28 1999-09-22 三菱电机株式会社 臭氧发生方法和臭氧发生装置

Also Published As

Publication number Publication date
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US4985301A (en) 1991-01-15

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