JPH065387B2 - 印刷版の製造用集成構造体 - Google Patents
印刷版の製造用集成構造体Info
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- JPH065387B2 JPH065387B2 JP58145787A JP14578783A JPH065387B2 JP H065387 B2 JPH065387 B2 JP H065387B2 JP 58145787 A JP58145787 A JP 58145787A JP 14578783 A JP14578783 A JP 14578783A JP H065387 B2 JPH065387 B2 JP H065387B2
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- resin layer
- substrate
- assembly structure
- vinyl acetate
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
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- Y10T428/31909—Next to second addition polymer from unsaturated monomers
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- Y10T428/3192—Next to vinyl or vinylidene chloride polymer
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- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 この発明は、レリーフ印刷版を製造するため光重合可能
な物質を受容するのに適した集成構造体、および該集成
構造体を含む光レリーフ印刷版に関する。
な物質を受容するのに適した集成構造体、および該集成
構造体を含む光レリーフ印刷版に関する。
(ロ) 従来技術 レリーフ印刷版は実質的に適当な基体上に装着せる光重
合可能な物質からなる。使用に際し、この光重合可能な
物質は、像を担持せる透明体、例えば写真ネガフィルム
を通じて化学線、例えば紫外線に露光することにより、
像を表わす露光部分を硬化せしめ、非露光部分を例えば
溶剤洗浄により実質的に除去する。さらに詳しくは、印
刷版製造プロセスにおいて、版の互いに反対側から照射
して版の裏面と版の表面の像に同時に露光し、次いで未
重合物質を除去し、さらに照射して版を最終的にキュア
ーする。
合可能な物質からなる。使用に際し、この光重合可能な
物質は、像を担持せる透明体、例えば写真ネガフィルム
を通じて化学線、例えば紫外線に露光することにより、
像を表わす露光部分を硬化せしめ、非露光部分を例えば
溶剤洗浄により実質的に除去する。さらに詳しくは、印
刷版製造プロセスにおいて、版の互いに反対側から照射
して版の裏面と版の表面の像に同時に露光し、次いで未
重合物質を除去し、さらに照射して版を最終的にキュア
ーする。
そのようなレリーフ印刷版の構成における重要な要因は
光重合可能な物質の基体に対する接着性である。即ち、
照射後に光重合可能な物質が基体から剥離することがあ
ってはならないし、また、最終の照射キュアーの前およ
び後の洗い落し（ウォッシュ・アウト）プロセスの後で
印刷版を取扱う結果として像の各部分が基体上を滑動し
てはならない。像の部分が基体上を滑動するならばレリ
ーフ印刷版は真の透明体とはならないであろう。集成構
造体における別の望ましい性質は平坦性、即ち、平らに
置いた時にその端縁がカールしないことである。
光重合可能な物質の基体に対する接着性である。即ち、
照射後に光重合可能な物質が基体から剥離することがあ
ってはならないし、また、最終の照射キュアーの前およ
び後の洗い落し（ウォッシュ・アウト）プロセスの後で
印刷版を取扱う結果として像の各部分が基体上を滑動し
てはならない。像の部分が基体上を滑動するならばレリ
ーフ印刷版は真の透明体とはならないであろう。集成構
造体における別の望ましい性質は平坦性、即ち、平らに
置いた時にその端縁がカールしないことである。
基体と光重合可能な物質との間に満足すべき接着性を達
成するには、基体と光重合可能な物質とに接着力を示し
得る物質で基体を予備処理することによってその物質の
１または２以上の層を形成することが必要なことが判明
している。一般にそのような物質は基体上に層状に数ミ
クロンの厚さで適用して集成構造体と成し、次いでこれ
に光重合可能な物質を受容せしめる。
成するには、基体と光重合可能な物質とに接着力を示し
得る物質で基体を予備処理することによってその物質の
１または２以上の層を形成することが必要なことが判明
している。一般にそのような物質は基体上に層状に数ミ
クロンの厚さで適用して集成構造体と成し、次いでこれ
に光重合可能な物質を受容せしめる。
(ハ) 発明の目的 本発明はこのようなタイプの新しい集成構造体に関する
ものであって、種々の光重合可能な物質に対し優れた耐
剥離性を示すと共にカールし難い特性を有する。
ものであって、種々の光重合可能な物質に対し優れた耐
剥離性を示すと共にカールし難い特性を有する。
(ニ) 発明の構成 本発明に係る集成構造体は、 (a)重合体からなる基体、 (b)該基体上に形成された下塗層および (c)該下塗層上に形成された樹脂層 を有する、レリーフ印刷版を製造するため光重合可能な
物質を受容するのに適した集成構造体であって、該樹脂
層は２〜30ミクロン厚、好ましくは６〜３０ミクロン厚
を有し、且つ、平均分子量が5,000〜25,000を有し、塩
化ビニル75〜85重量％、酢酸ビニル２〜８重量％および
残部（合計100重量％）が不飽和水酸基含有単量体から
なる塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂からなること
を特徴とする。
物質を受容するのに適した集成構造体であって、該樹脂
層は２〜30ミクロン厚、好ましくは６〜３０ミクロン厚
を有し、且つ、平均分子量が5,000〜25,000を有し、塩
化ビニル75〜85重量％、酢酸ビニル２〜８重量％および
残部（合計100重量％）が不飽和水酸基含有単量体から
なる塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂からなること
を特徴とする。
(ホ) 実施態様の詳細 塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂は比較的低分子量
の物質であって、その平均分子量（数平均）はより好ま
しくは6,000〜16,000、特に6,000〜10,000である。
の物質であって、その平均分子量（数平均）はより好ま
しくは6,000〜16,000、特に6,000〜10,000である。
水酸基含有単量体の量は重合体樹脂重量に対し１０〜２
０重量％、特に１５重量％であることが望ましい。その
ような単量体としてはマレイン酸または観念的なビニル
アルコール（即ち、重合後に重合体鎖中の酢酸ビニル単
位の一部を加水分解することにより調製されるビニルア
ルコール）のようなエチレン系不飽和単量体が挙げられ
るが、好ましくは、水酸基含有アクリル酸アルキルもし
くはメタクリル酸アルキル、特に１〜６個の炭素原子を
含むアルキル基（ことにメチルまたはエチル基）を有す
る低級アクリル酸アルキルもしくはメタクリル酸アルキ
ルのような水酸基含有エチレン系不飽和単量体である。
０重量％、特に１５重量％であることが望ましい。その
ような単量体としてはマレイン酸または観念的なビニル
アルコール（即ち、重合後に重合体鎖中の酢酸ビニル単
位の一部を加水分解することにより調製されるビニルア
ルコール）のようなエチレン系不飽和単量体が挙げられ
るが、好ましくは、水酸基含有アクリル酸アルキルもし
くはメタクリル酸アルキル、特に１〜６個の炭素原子を
含むアルキル基（ことにメチルまたはエチル基）を有す
る低級アクリル酸アルキルもしくはメタクリル酸アルキ
ルのような水酸基含有エチレン系不飽和単量体である。
水酸基含有単量体に由来する合計水酸基含有量は三元共
重合体重量に基づき1.5〜2.5重量％、特に1.8〜2.2重量
％、例えば2.0重量％であることが望ましい。
重合体重量に基づき1.5〜2.5重量％、特に1.8〜2.2重量
％、例えば2.0重量％であることが望ましい。
また、充填剤、特に粒子状充填剤を樹脂層中に配合する
ことによって表面を粗面にすることが望ましい。この目
的には金属またはメタロイドの粒子状酸化物、例えばア
ルミナ及びシリカ、特に後者が非常に有用であることが
判明した。
ことによって表面を粗面にすることが望ましい。この目
的には金属またはメタロイドの粒子状酸化物、例えばア
ルミナ及びシリカ、特に後者が非常に有用であることが
判明した。
樹脂層は２〜３０ミクロン厚、好ましくは６〜３０ミク
ロン厚、より好ましくは約１２ミクロン厚を有する。集
成構造体の耐剥離特性からみて樹脂層の厚さに格別上限
はないが実用上および経済上の理由から３０ミクロンを
越える樹脂層を適用しても格別意味がない。
ロン厚、より好ましくは約１２ミクロン厚を有する。集
成構造体の耐剥離特性からみて樹脂層の厚さに格別上限
はないが実用上および経済上の理由から３０ミクロンを
越える樹脂層を適用しても格別意味がない。
基体は、特に自己支持性フィルムまたはシートの形態を
有するいかなる適当な重合体物質で構成してもよい。適
当な重合体物質としては、セルローズエステル（例え
ば、酢酸セルロース）、ポリスチレン、ポリアミド、塩
化ビニルの重合体および共重合体、オレフィンの重合体
および共重合体（例えばポリプロピレン）、ポリスルホ
ンおよび特に線状ポリエステル類が挙げられる。この線
状ポリエステルは、１または２以上のジカルボン酸また
はその低級アルキルジエステル（例えば、テレフタル
酸、イソフタル酸、フタル酸、２，５−２，６−および
２，７−ナフタレンジカルボン酸、コハク酸、セバシン
酸、アジピン酸、アゼライン酸、ジフエニルジカルボン
酸およびヘキサヒドロテレフタル酸もしくはビス−ｐ−
カルボキシルフエノキシエタン）を必要に応じてモノカ
ルボン酸（例えばピバル酸）と共に１または２以上のグ
リコール（例えばエチレングリコール、１，３−プロパ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグ
リコールおよび１，４−シクロヘキサン−ジメタノー
ル）と縮合することにより得られる。特に２軸配向し熱
固定せるポリエチレンテレフタレートフィルムは本発明
に係る集成構造体の製造に有用であって、これは例え
ば、英国特許第838,708号に記載されるようないかなる
公知方法により製造してもよい。
有するいかなる適当な重合体物質で構成してもよい。適
当な重合体物質としては、セルローズエステル（例え
ば、酢酸セルロース）、ポリスチレン、ポリアミド、塩
化ビニルの重合体および共重合体、オレフィンの重合体
および共重合体（例えばポリプロピレン）、ポリスルホ
ンおよび特に線状ポリエステル類が挙げられる。この線
状ポリエステルは、１または２以上のジカルボン酸また
はその低級アルキルジエステル（例えば、テレフタル
酸、イソフタル酸、フタル酸、２，５−２，６−および
２，７−ナフタレンジカルボン酸、コハク酸、セバシン
酸、アジピン酸、アゼライン酸、ジフエニルジカルボン
酸およびヘキサヒドロテレフタル酸もしくはビス−ｐ−
カルボキシルフエノキシエタン）を必要に応じてモノカ
ルボン酸（例えばピバル酸）と共に１または２以上のグ
リコール（例えばエチレングリコール、１，３−プロパ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグ
リコールおよび１，４−シクロヘキサン−ジメタノー
ル）と縮合することにより得られる。特に２軸配向し熱
固定せるポリエチレンテレフタレートフィルムは本発明
に係る集成構造体の製造に有用であって、これは例え
ば、英国特許第838,708号に記載されるようないかなる
公知方法により製造してもよい。
重合体基体は５０〜3,000ミクロン厚、特に５０〜３０
０ミクロン厚、より好ましくは１００〜１７５ミクロン
厚を有するのが適当である。
０ミクロン厚、より好ましくは１００〜１７５ミクロン
厚を有するのが適当である。
下塗層は、重合体からなる基体表面を該重合体に対し溶
剤または膨潤作用を有する。この目的で当業界において
既知の薬剤で処理することにより形成される。そのよう
な薬剤、特にポリエステル基体の処理に適当な薬剤の例
としては、汎用有機溶剤に溶解せるハロゲン化フエノー
ル、例えば、ｐ−クロロ−メタクレゾール、２，４−ジ
クロロフエノール、２，４，５，もしくは２，４，６−
トリクロロフエノールまたは４−クロロレゾルシノール
のアセトンまたはメタノール溶解溶液が挙げられる。上
記に加えて、好ましくは、下塗層形成溶液に、前記樹脂
層について説明したような部分的に加水分解せる塩化ビ
ニル／酢酸ビニル共重合体、特に0.5〜３重量％の水酸
基を含有する共重合体を含有せしめても良い。この重合
体の分子量は前記樹脂層を構成する塩化ビニル／酢酸ビ
ニル共重合体の分子量より大きい分子量を有することが
望ましく、その分子量は10,000〜30,000が適当であり、
より好ましくは16,500〜25,000である。下塗層の厚さは
その上に形成する樹脂層の厚さよりはかなり薄く、２ミ
クロン未満、通常１ミクロン未満である。
剤または膨潤作用を有する。この目的で当業界において
既知の薬剤で処理することにより形成される。そのよう
な薬剤、特にポリエステル基体の処理に適当な薬剤の例
としては、汎用有機溶剤に溶解せるハロゲン化フエノー
ル、例えば、ｐ−クロロ−メタクレゾール、２，４−ジ
クロロフエノール、２，４，５，もしくは２，４，６−
トリクロロフエノールまたは４−クロロレゾルシノール
のアセトンまたはメタノール溶解溶液が挙げられる。上
記に加えて、好ましくは、下塗層形成溶液に、前記樹脂
層について説明したような部分的に加水分解せる塩化ビ
ニル／酢酸ビニル共重合体、特に0.5〜３重量％の水酸
基を含有する共重合体を含有せしめても良い。この重合
体の分子量は前記樹脂層を構成する塩化ビニル／酢酸ビ
ニル共重合体の分子量より大きい分子量を有することが
望ましく、その分子量は10,000〜30,000が適当であり、
より好ましくは16,500〜25,000である。下塗層の厚さは
その上に形成する樹脂層の厚さよりはかなり薄く、２ミ
クロン未満、通常１ミクロン未満である。
本発明に係る集成構造体の任意のさらに好ましい特徴は
光重合開始剤を含む点にある。光重合開始剤は樹脂層中
に配合することができるが、樹脂層の上にさらに別の重
合開始剤含有層を形成することが望ましい。光重合開始
剤は、光重合可能な物質を集成構造体に適用した後照射
した際にその重合を加速する機能を有する。この目的に
は種々の光重合開始剤を用いることができ、例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル（例えばベンゾ
イン・メチル−，エチル−もしくはイソプロピル−エー
テル）、アルファメチル−ベンゾイン、ベンジル−置換
ベンジル（例えばｐ−ニトロおよびｐ−メトキシル−ベ
ンジル）、ビアセチル，フルオレノン，アンスラキノ
ン，フェナンスラキノン，カンファーキノン，ジフエニ
ルジスルフィド，２−ナフタレン−スルホニル・クロリ
ド，オメガ−ブロモアセトフエノン，エオシン，チオニ
ン，クロロ−、もしくはアルキル−置換チオキサント
ン，ジベンゾスベロン，またはジアルキルアミノ−安息
香酸のアルキルエステルが挙げられる。
光重合開始剤を含む点にある。光重合開始剤は樹脂層中
に配合することができるが、樹脂層の上にさらに別の重
合開始剤含有層を形成することが望ましい。光重合開始
剤は、光重合可能な物質を集成構造体に適用した後照射
した際にその重合を加速する機能を有する。この目的に
は種々の光重合開始剤を用いることができ、例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル（例えばベンゾ
イン・メチル−，エチル−もしくはイソプロピル−エー
テル）、アルファメチル−ベンゾイン、ベンジル−置換
ベンジル（例えばｐ−ニトロおよびｐ−メトキシル−ベ
ンジル）、ビアセチル，フルオレノン，アンスラキノ
ン，フェナンスラキノン，カンファーキノン，ジフエニ
ルジスルフィド，２−ナフタレン−スルホニル・クロリ
ド，オメガ−ブロモアセトフエノン，エオシン，チオニ
ン，クロロ−、もしくはアルキル−置換チオキサント
ン，ジベンゾスベロン，またはジアルキルアミノ−安息
香酸のアルキルエステルが挙げられる。
下塗層、樹脂層および光重合開始剤層を独立層として適
用する場合にはこれらを溶液状態で適用して、後で溶剤
を除去し樹脂または光重合開始剤を残留せしめるのが好
ましい。この目的には、一般に広く用いられる有機溶
剤、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル並びに塩化メチレンおよび１，１，１−トリクロロエ
タンのような塩素化溶剤が用いられる。
用する場合にはこれらを溶液状態で適用して、後で溶剤
を除去し樹脂または光重合開始剤を残留せしめるのが好
ましい。この目的には、一般に広く用いられる有機溶
剤、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル並びに塩化メチレンおよび１，１，１−トリクロロエ
タンのような塩素化溶剤が用いられる。
本発明に係る集成構造体を添付図面について説明する
と、第１図は、基体、下塗層および樹脂層からなる集成
構造体の部分拡大断面図であり、第２図はさらに光重合
開始剤層を含む同様な集成構造体の部分拡大断面図であ
り、第３図はさらに光重合可能な層を含む同様な集成構
造体の部分拡大断面図であり、また第４図はレリーフ印
刷版の部分拡大断面図である。
と、第１図は、基体、下塗層および樹脂層からなる集成
構造体の部分拡大断面図であり、第２図はさらに光重合
開始剤層を含む同様な集成構造体の部分拡大断面図であ
り、第３図はさらに光重合可能な層を含む同様な集成構
造体の部分拡大断面図であり、また第４図はレリーフ印
刷版の部分拡大断面図である。
各図面において、２軸配向ポリエチレンテレフタレート
フィルムのような基体層１の表面２上には下塗層３が形
成される。下塗層の表面４上には樹脂層５が形成され
る。
フィルムのような基体層１の表面２上には下塗層３が形
成される。下塗層の表面４上には樹脂層５が形成され
る。
第２図において、光重合開始剤層７は樹脂層の表面６上
に付着形成される。
に付着形成される。
第３図において、光重合可能な層９が光重合開始剤層の
表面８上に形成され、また、第４図には第３図に示す集
成構造体をパターンマスク（図示せず）を通じて紫外線
に露光し、適当な溶剤で洗い落して層９の未重合領域を
除去し、それによって凹部１０およびレリーフ領域１１
を有する印刷版が形成される。
表面８上に形成され、また、第４図には第３図に示す集
成構造体をパターンマスク（図示せず）を通じて紫外線
に露光し、適当な溶剤で洗い落して層９の未重合領域を
除去し、それによって凹部１０およびレリーフ領域１１
を有する印刷版が形成される。
(ヘ) 具体例 以下本発明を具体例について説明する。これらの具体例
においては種々の集成構造体を作成し、試験した。
においては種々の集成構造体を作成し、試験した。
例１〜１３ 各例において基体として厚さ１００ミクロンの二軸配向
ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＩＣＩ社製）
（MELINEXＯグレード〔商品名〕）を用いた。ｐ−クロ
ロメタクレゾール（3.75重量／容量％）とVINYLITE VAG
H（Union Carbide社製）（0.75重量／容量％）のアセト
ン溶液を用いて下塗層を形成した。VINYLITE VAGHは塩
化ビニル９０重量％と酢酸ビニル４重量％の共重合体で
あって、水酸基含有量2.3重量％、平均分子量23,000で
ある。コーティングの後１００゜Cにおいて１分間加熱し
てアセトンを除去し、基体上に厚さ１ミクロン未満の下
塗層を形成した。
ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＩＣＩ社製）
（MELINEXＯグレード〔商品名〕）を用いた。ｐ−クロ
ロメタクレゾール（3.75重量／容量％）とVINYLITE VAG
H（Union Carbide社製）（0.75重量／容量％）のアセト
ン溶液を用いて下塗層を形成した。VINYLITE VAGHは塩
化ビニル９０重量％と酢酸ビニル４重量％の共重合体で
あって、水酸基含有量2.3重量％、平均分子量23,000で
ある。コーティングの後１００゜Cにおいて１分間加熱し
てアセトンを除去し、基体上に厚さ１ミクロン未満の下
塗層を形成した。
下塗層を適用した後基体上に本発明で用いる塩化ビニル
／酢酸ビニル共重合体並びにその他種々の重合体をコー
ティングせしめて本発明に係る集成構造体並びに比較対
照集成構造体を作成した。代表的なコーティング溶液は
VINYLITE VROH（Union Carbide社製）のメチルエチルケ
トン溶液（４５重量／容量％）であった。VINYLITE VRO
Hは塩化ビニル８１重量％、酢酸ビニル４重量％および
水酸基含有アクリル酸アルキルからなる三元共重合体で
あって、合計水酸基含有量は重合体重量に基づき2.0％
であり、平均分子量は8,000であった。このコーティン
グ溶液にはシリカ充填剤GASIL EBN；Crossfield Chemic
als社製）を２重量／重量％配合し、その粘度は１〜２
ポイズであった。最後に空気を吹きつけながら８０〜９
０゜Cにおいて２０秒間加熱して基体から溶剤を除去し、
基体上に厚さ１１ミクロンの樹脂コーティング層を形成
した。
／酢酸ビニル共重合体並びにその他種々の重合体をコー
ティングせしめて本発明に係る集成構造体並びに比較対
照集成構造体を作成した。代表的なコーティング溶液は
VINYLITE VROH（Union Carbide社製）のメチルエチルケ
トン溶液（４５重量／容量％）であった。VINYLITE VRO
Hは塩化ビニル８１重量％、酢酸ビニル４重量％および
水酸基含有アクリル酸アルキルからなる三元共重合体で
あって、合計水酸基含有量は重合体重量に基づき2.0％
であり、平均分子量は8,000であった。このコーティン
グ溶液にはシリカ充填剤GASIL EBN；Crossfield Chemic
als社製）を２重量／重量％配合し、その粘度は１〜２
ポイズであった。最後に空気を吹きつけながら８０〜９
０゜Cにおいて２０秒間加熱して基体から溶剤を除去し、
基体上に厚さ１１ミクロンの樹脂コーティング層を形成
した。
いくつかの例においては第３の光重合開始剤層を１，
１，１−トリクロロエタンを用いて同様な方法により樹
脂層上に適用し、この層は８０〜９０゜Cにおいて７分間
乾燥した。使用した光重合開始剤は２−イソプロピル−
９Ｈ−チオキサンテン−９−オン（QUANTACURE ITX；In
ternational Bio Synthetics社製）またはイソプロピル
・ベンゾイン・エーテルとｐ−ジメチル−アミノベンツ
アルデヒドとの混合物であった。
１，１−トリクロロエタンを用いて同様な方法により樹
脂層上に適用し、この層は８０〜９０゜Cにおいて７分間
乾燥した。使用した光重合開始剤は２−イソプロピル−
９Ｈ−チオキサンテン−９−オン（QUANTACURE ITX；In
ternational Bio Synthetics社製）またはイソプロピル
・ベンゾイン・エーテルとｐ−ジメチル−アミノベンツ
アルデヒドとの混合物であった。
引掻剥離試験 まず、各集成構造体に１インチの間隔でほぼ平行な多数
の引掻傷をつけ、次いで、市販光重合可能物質（FFFW，
ハーキュレス社製）をコーティングして約４０ミクロン
厚の光重合可能な層を形成した。次いで、この光重合可
能な物質の自由表面上に別の集成構造体を適用して、光
重合可能な物質がサンドイッチ構造の中心を形成し、そ
の両表面に集成構造体の引掻傷形成面が接触せしめられ
たサンドイッチ構造体とした。
の引掻傷をつけ、次いで、市販光重合可能物質（FFFW，
ハーキュレス社製）をコーティングして約４０ミクロン
厚の光重合可能な層を形成した。次いで、この光重合可
能な物質の自由表面上に別の集成構造体を適用して、光
重合可能な物質がサンドイッチ構造の中心を形成し、そ
の両表面に集成構造体の引掻傷形成面が接触せしめられ
たサンドイッチ構造体とした。
次いでサンドイッチ構造体をガラス板上に平らに置き、
６個のソーンＵＶ灯を用いて８００マイクロワット／cm
2の強さで３０秒間ガラス板を通じて照射した。次い
で、サンドイッチ構造体を裏返し、反対側に3,000〜4,0
00マイクロワット／cm2の強さで１２分間照射した。
６個のソーンＵＶ灯を用いて８００マイクロワット／cm
2の強さで３０秒間ガラス板を通じて照射した。次い
で、サンドイッチ構造体を裏返し、反対側に3,000〜4,0
00マイクロワット／cm2の強さで１２分間照射した。
次いで、キュアせるサンドイッチ構造体をインストロン
引張試験機のジョウに置きサンドイッチ構造体を引きは
がすことによって接着力の試験を行った。この剥離力は
引掻傷を横切る方向に５cm／分の速度で適用した。剥離
が起こった際の荷重を記録した。結果は第１表の通りで
あった。
引張試験機のジョウに置きサンドイッチ構造体を引きは
がすことによって接着力の試験を行った。この剥離力は
引掻傷を横切る方向に５cm／分の速度で適用した。剥離
が起こった際の荷重を記録した。結果は第１表の通りで
あった。
例１４−１８ 例１で用いた集成構造体を用い試験を繰返した。但し、
異なる光重合可能な重合体を用いた。この例では光重合
可能な重合体をコートせる集成構造体を同一光重合可能
な重合体でコートせる市販集成構造体と比較した。結果
は下記第２表の通りであった。
異なる光重合可能な重合体を用いた。この例では光重合
可能な重合体をコートせる集成構造体を同一光重合可能
な重合体でコートせる市販集成構造体と比較した。結果
は下記第２表の通りであった。
例１９（カール試験） この試験ではシートを平らに置いて積重ねた状態で数週
間貯蔵した例１の集成構造体と同様に貯蔵した市販集成
構造体と比較した。各試料は20゜C、相対湿度６０％の条
件下に６時間平らに置いた。シートの端のまくれ上がっ
た高さを記録した。次のデータは厚さ１００ミクロン、
Ａ４サイズの基体シートのまくれ上がった高さ（ミリメ
ートル）である。
間貯蔵した例１の集成構造体と同様に貯蔵した市販集成
構造体と比較した。各試料は20゜C、相対湿度６０％の条
件下に６時間平らに置いた。シートの端のまくれ上がっ
た高さを記録した。次のデータは厚さ１００ミクロン、
Ａ４サイズの基体シートのまくれ上がった高さ（ミリメ
ートル）である。
例１の集成構造体 ５ 市販集成構造体 ８ 例２０〜２７ 種々の樹脂層を用いて、数ケ月の間隔で例１の手法を繰
返した。処方の詳細および試験結果は第３表の通りであ
った。
返した。処方の詳細および試験結果は第３表の通りであ
った。
例２０および２１の結果をそれぞれ例１および２の結果
と比較すれば、ある期間をおいて繰返した時優れた再現
性が得られることがわかる。
と比較すれば、ある期間をおいて繰返した時優れた再現
性が得られることがわかる。
また、第３表のデータは、剥離強さは樹脂層の厚さに依
存すること、低分子量樹脂VINYLITE VROHは高分子量樹
脂VINYLITE VAGHと比較して優れた剥離強さを与えるこ
と、シリカ粒子を配合してもVINYLITE VROHによる剥離
強さに悪影響を及ぼさないこと、及びQUANTACURE ITXを
含有する別の光重合開始剤層を設けることによって剥離
強さが増大することを示している。
存すること、低分子量樹脂VINYLITE VROHは高分子量樹
脂VINYLITE VAGHと比較して優れた剥離強さを与えるこ
と、シリカ粒子を配合してもVINYLITE VROHによる剥離
強さに悪影響を及ぼさないこと、及びQUANTACURE ITXを
含有する別の光重合開始剤層を設けることによって剥離
強さが増大することを示している。
第１図は基体、下塗層および樹脂層からなる集成構造体
の部分拡大断面図であり、第２図はさらに光重合開始剤
層を含む同様な集成構造体の部分拡大断面図であり、第
３図はさらに光重合可能な層を含む同様な集成構造体の
部分拡大断面図であり、また第４図はレリーフ印刷版の
部分拡大断面図である。 １…基体、３…下塗層、５…樹脂層、７…光重合開始剤
層、９…光重合可能な層。
の部分拡大断面図であり、第２図はさらに光重合開始剤
層を含む同様な集成構造体の部分拡大断面図であり、第
３図はさらに光重合可能な層を含む同様な集成構造体の
部分拡大断面図であり、また第４図はレリーフ印刷版の
部分拡大断面図である。 １…基体、３…下塗層、５…樹脂層、７…光重合開始剤
層、９…光重合可能な層。
Claims (8)
- 【請求項１】(a)重合体からなる基体、 (b)該基体上に形成された下塗層および (c)該下塗層上に形成された樹脂層 を有する、レリーフ印刷版を製造するため光重合可能な
物質を受容するのに適した集成構造体であって、該樹脂
層は２〜30ミクロン厚を有し、且つ、平均分子量が5,00
0〜25,000であり、塩化ビニル75〜85重量％、酢酸ビニ
ル２〜８重量％および残部（合計100重量％）が不飽和
水酸基含有ターモノマーからなる塩化ビニル／酢酸ビニ
ル共重合体樹脂からなることを特徴とする集成構造体。 - 【請求項２】該不飽和水酸基含有ターモノマーが、１〜
６個の炭素原子を含むアルキル基を有する水酸基含有ア
クリル酸アルキルもしくはメタクリル酸アルキルである
特許請求の範囲第１項記載の集成構造体。 - 【請求項３】さらに光重合開始剤を含む特許請求の範囲
第１項または第２項に記載の集成構造体。 - 【請求項４】該光重合開始剤が、該樹脂層上に形成され
た別の層を構成する特許請求の範囲第３項記載の集成構
造体。 - 【請求項５】該下塗層が、該樹脂層中の共重合体より大
きな分子量を有する塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体を
含む特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれかに
記載の集成構造体。 - 【請求項６】該樹脂層中に粒子状充填剤が存在する特許
請求の範囲第１項から第５項までのいずれかに記載の集
成構造体。 - 【請求項７】該基体がポリエステルからなる特許請求の
範囲第１項から第６項までのいずれかに記載の集成構造
体。 - 【請求項８】(a)重合体からなる基体、 (b)該基体上に形成された下塗層および (c)該下塗層上に形成された樹脂層 を有する、レリーフ印刷版を製造するため光重合可能な
物質を受容するのに適した集成構造体であって、該樹脂
層は２〜30ミクロン厚を有し、且つ、平均分子量が5,00
0〜25,000であり、塩化ビニル75〜85重量％、酢酸ビニ
ル２〜８重量％および残部（合計100重量％）が不飽和
水酸基含有ターモノマーからなる塩化ビニル／酢酸ビニ
ル共重合体樹脂からなることを特徴とする集成構造体を
含んで成る光レリーフ印刷版。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8223138 | 1982-08-11 | ||
| GB8223138 | 1982-08-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5948761A JPS5948761A (ja) | 1984-03-21 |
| JPH065387B2 true JPH065387B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=10532246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58145787A Expired - Lifetime JPH065387B2 (ja) | 1982-08-11 | 1983-08-11 | 印刷版の製造用集成構造体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4985301A (ja) |
| EP (1) | EP0101210B1 (ja) |
| JP (1) | JPH065387B2 (ja) |
| DE (1) | DE3380640D1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4640886A (en) * | 1985-10-10 | 1987-02-03 | Eastman Kodak Company | Subbed lithographic printing plate |
| GB8609704D0 (en) * | 1986-04-21 | 1986-05-29 | Ici Plc | Coating composition |
| JP2634429B2 (ja) * | 1988-05-11 | 1997-07-23 | 大日本印刷株式会社 | 感光性樹脂版の支持体 |
| US5260166A (en) * | 1992-03-04 | 1993-11-09 | Graphic Controls Corporation | Seamless, trilaminate, photopolymer cylindrical printing plate and method of manufacture |
| US6916596B2 (en) | 1993-06-25 | 2005-07-12 | Michael Wen-Chein Yang | Laser imaged printing plates |
| US6756181B2 (en) | 1993-06-25 | 2004-06-29 | Polyfibron Technologies, Inc. | Laser imaged printing plates |
| DE4339010C2 (de) * | 1993-06-25 | 2000-05-18 | Pt Sub Inc | Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten |
| JP3087308B2 (ja) * | 1994-11-24 | 2000-09-11 | セイコーエプソン株式会社 | スタンプ素材およびこのスタンプ素材を用いたスタンプ作成方法並びにこのスタンプ作成方法により製造したスタンプ |
| US5785824A (en) * | 1995-09-28 | 1998-07-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for producing ozone |
| US6742453B1 (en) | 1998-07-30 | 2004-06-01 | Mark Alan Borski | Printing sleeves and methods for producing same |
| CA2710691A1 (en) * | 2009-09-30 | 2011-03-30 | Garry Machine Mfg. Inc. | Process for refurbishing cylinder rolls and bases for printing machines |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL101499C (ja) * | 1951-08-20 | |||
| DE1471702A1 (de) * | 1963-04-25 | 1969-01-02 | Columbia Ribbon & Carbon | Durchscheinende lichtunempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| GB1080817A (en) * | 1964-12-04 | 1967-08-23 | Bexford Ltd | Synthetic film materials |
| US3620812A (en) * | 1967-08-24 | 1971-11-16 | Bexford Ltd | Film material for lithographic plates |
| GB1321108A (en) * | 1969-06-25 | 1973-06-20 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerisable elements |
| US3826651A (en) * | 1971-05-13 | 1974-07-30 | Grace W R & Co | Laminated aluminum article and method |
| GB1507660A (en) * | 1974-03-06 | 1978-04-19 | Ici Ltd | Coated film materials |
| US3993501A (en) * | 1975-03-24 | 1976-11-23 | Union Carbide Corporation | Nonaqueous electrochemical cell |
| US4087579A (en) * | 1976-01-16 | 1978-05-02 | Columbia Ribbon & Carbon Mfg. Co., Inc. | Pressure-sensitive transfer elements |
| DE2861268D1 (en) * | 1977-11-29 | 1982-01-07 | Bexford Ltd | Photopolymerisable elements and a process for the production of printing plates therefrom |
| US4230770A (en) * | 1978-10-06 | 1980-10-28 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Metal photopolymer substrates |
-
1983
- 1983-07-21 DE DE8383304235T patent/DE3380640D1/de not_active Expired
- 1983-07-21 EP EP83304235A patent/EP0101210B1/en not_active Expired
- 1983-07-29 US US06/518,757 patent/US4985301A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-08-11 JP JP58145787A patent/JPH065387B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0101210B1 (en) | 1989-09-27 |
| DE3380640D1 (en) | 1989-11-02 |
| JPS5948761A (ja) | 1984-03-21 |
| EP0101210A3 (en) | 1986-06-04 |
| EP0101210A2 (en) | 1984-02-22 |
| US4985301A (en) | 1991-01-15 |
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