JPS5927232B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPS5927232B2 JPS5927232B2 JP53077267A JP7726778A JPS5927232B2 JP S5927232 B2 JPS5927232 B2 JP S5927232B2 JP 53077267 A JP53077267 A JP 53077267A JP 7726778 A JP7726778 A JP 7726778A JP S5927232 B2 JPS5927232 B2 JP S5927232B2
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- JP
- Japan
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- bead
- coating
- reduced pressure
- web
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
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- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7411—Beads or bead coating
-
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- G03C2001/7455—Edge bead nonuniformity coated at the border
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は移送されている長尺可撓性支特体（以下「ウェ
ブ」という）に液状塗布組成物を塗布する方法に関する
。
ブ」という）に液状塗布組成物を塗布する方法に関する
。
液状塗布組成物（以下「塗布液」という）をウェブに塗
布する方法として広く利用されている方法の一つに米国
特許第２７６１７９１号（ＲｕｓｓｅｌＩ等）に提案さ
れた多層スライドビード塗布方法がある。
布する方法として広く利用されている方法の一つに米国
特許第２７６１７９１号（ＲｕｓｓｅｌＩ等）に提案さ
れた多層スライドビード塗布方法がある。
この方法は複数の傾斜面を流れ下る複数の塗布液が移送
されているウェブと出会う点に形成されるビードを介し
てウェブに塗布されるものである。この方法においては
ビードを安定に維持することが、塗布を成功させるため
に必要である。しかし、塗布速度が大となるに従つて、
このビードの維持は困難になる傾向がある。米国特許第
２６８１２９４号（Ｂｅｇｕｉｎ等）には、ビードの一
方の側（ウェブの進行方向に対して上流側）を減圧状態
にすることによつて、ビードの上下両表面間に圧力差を
生じさせると有利であることが開示されている。しかし
前記ビードの不安定性は、ウェブの進行方向、またはビ
ードの上下両表面間の問題のみによるものではなく、ビ
ードの巾方向（ウェブの巾方向と同じ）の安定性をも考
慮した三次元のバランスの問題として、対処することが
必要であつた。本発明者等の実験によれば、ビードの破
壊は多くの場合ビード両端から生じておシ、塗布速度を
上昇させるためには、この問題を解決しなければならな
かつた。本発明は上述の如く、ビードの三次元でのバラ
ンスを考慮してその安定を計ることにより、より高速で
の安定な塗布を可能にすることを目的とするものである
。
されているウェブと出会う点に形成されるビードを介し
てウェブに塗布されるものである。この方法においては
ビードを安定に維持することが、塗布を成功させるため
に必要である。しかし、塗布速度が大となるに従つて、
このビードの維持は困難になる傾向がある。米国特許第
２６８１２９４号（Ｂｅｇｕｉｎ等）には、ビードの一
方の側（ウェブの進行方向に対して上流側）を減圧状態
にすることによつて、ビードの上下両表面間に圧力差を
生じさせると有利であることが開示されている。しかし
前記ビードの不安定性は、ウェブの進行方向、またはビ
ードの上下両表面間の問題のみによるものではなく、ビ
ードの巾方向（ウェブの巾方向と同じ）の安定性をも考
慮した三次元のバランスの問題として、対処することが
必要であつた。本発明者等の実験によれば、ビードの破
壊は多くの場合ビード両端から生じておシ、塗布速度を
上昇させるためには、この問題を解決しなければならな
かつた。本発明は上述の如く、ビードの三次元でのバラ
ンスを考慮してその安定を計ることにより、より高速で
の安定な塗布を可能にすることを目的とするものである
。
本発明のかゝる目的はウェブの上流側を減圧状態にする
ことによるビード塗布において、該ビードが巾方向に縮
もうとするのを抑制するためにビード両端部に対して更
に高度の減圧状態を与えることによつて達成される。
ことによるビード塗布において、該ビードが巾方向に縮
もうとするのを抑制するためにビード両端部に対して更
に高度の減圧状態を与えることによつて達成される。
以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第１図は従来のスライドビード塗布装置の側面図であサ
、バックアップロール１に巻き掛けられる形で移送され
るウェブ２に、スライドホッパー型塗布ヘッド３から供
給される塗布液４がビード５を形成しつつ塗布される様
子を示している。６は減圧室で吸引ブロアに接続されて
おわ、ビード５の背面（図の下側）を減圧にする作用を
果している。
、バックアップロール１に巻き掛けられる形で移送され
るウェブ２に、スライドホッパー型塗布ヘッド３から供
給される塗布液４がビード５を形成しつつ塗布される様
子を示している。６は減圧室で吸引ブロアに接続されて
おわ、ビード５の背面（図の下側）を減圧にする作用を
果している。
第２図−ａはビードの拡大側断面図である。ビード内の
圧力は略一様と考えられるから、ビードの上、下面にお
いて、したがつて が成立すると考えられる。
圧力は略一様と考えられるから、ビードの上、下面にお
いて、したがつて が成立すると考えられる。
に定義される。
こ＼で記号は次のよう
狽終によると通常塗布状態においては
一一Ｄ′
であう、従つて（３）式より
であシ、前述の米国特許第２６８１２９４号の有効性は
理論的にも認められるところである。
理論的にも認められるところである。
一般に第１図に｝いて減圧室６の真空度を高めることは
ピードの安定性を高め、よつて高速薄層塗布が容易にな
る傾向を有するが、真空度をある値以上に高めるとビー
ドが下向に引き落とされて破壊することになる。減圧室
６の最適真空度は通常は実験的に求められる。本発明者
等は実験の結果、多くの場合ビードの破壊はビードの両
端から生ずること、すなわちビードが巾方向に縮みなが
らビードが切れることを見出した。
ピードの安定性を高め、よつて高速薄層塗布が容易にな
る傾向を有するが、真空度をある値以上に高めるとビー
ドが下向に引き落とされて破壊することになる。減圧室
６の最適真空度は通常は実験的に求められる。本発明者
等は実験の結果、多くの場合ビードの破壊はビードの両
端から生ずること、すなわちビードが巾方向に縮みなが
らビードが切れることを見出した。
ビード両端を厚くすることがビードの安定性を高める傾
向を有することは知られているが、この方法はウエブ耳
部の製品ロスを増加させること、および乾燥能力を厚塗
勺部分に対処できる程度に増大させる必要があること等
の理由で実用することはできない。
向を有することは知られているが、この方法はウエブ耳
部の製品ロスを増加させること、および乾燥能力を厚塗
勺部分に対処できる程度に増大させる必要があること等
の理由で実用することはできない。
本発明者等はウエブの上流側を減圧状態にすることによ
るビード塗布方法において、該ビードが巾方向に縮もう
とする傾向を抑制するために第２図−ｂにおけるビード
両端部Ｓ，Ｓに対して更にノ高度の減圧状態を与えるこ
とによシ、高速薄層塗布においても安定なビードの維持
を可能にしたものである。
るビード塗布方法において、該ビードが巾方向に縮もう
とする傾向を抑制するために第２図−ｂにおけるビード
両端部Ｓ，Ｓに対して更にノ高度の減圧状態を与えるこ
とによシ、高速薄層塗布においても安定なビードの維持
を可能にしたものである。
第３図は本発明の一実施態様を示すスライドビード塗布
装置の一部破断斜視図である。
装置の一部破断斜視図である。
図において記号１〜５は第１図に示した従来のスライド
ビード塗布装置と同じ構成要素を示している。本実施態
様の特徴は従来は巾方向に全く均一に配置▲れていたビ
ード背面を減圧状態にするための減圧室６を６ａ，６ｂ
｝よび６ｃの三区画に分割して、両端部の減圧室６ａ，
６ｃの真空度を中央の減圧室６ｂの真空度よジ高度にし
たものである。これによりビード両端の雰囲気圧力は両
端部の減圧室６ａ，６ｃの真空度と大気圧との中間の値
にきまク、その値は減圧室６ａ，６ｃの真空度により自
由に調節することができる。一方、中央部の減圧室６ｂ
の真空度は前記両端の減圧室６ａ，６ｃの真空度とは独
立に決定することができるので、中央部で真空度を高め
すぎることによるビードの破壊を招くことなく、しかも
ビード両端におけるビードの縮み傾向を抑制し、ビード
を安定化することができる。本発明の技術範囲は前記実
施態様に限定されるものではなく、ビード両端に対して
更に高度の減圧状態を与えることについて種々の変形が
考えられる。
ビード塗布装置と同じ構成要素を示している。本実施態
様の特徴は従来は巾方向に全く均一に配置▲れていたビ
ード背面を減圧状態にするための減圧室６を６ａ，６ｂ
｝よび６ｃの三区画に分割して、両端部の減圧室６ａ，
６ｃの真空度を中央の減圧室６ｂの真空度よジ高度にし
たものである。これによりビード両端の雰囲気圧力は両
端部の減圧室６ａ，６ｃの真空度と大気圧との中間の値
にきまク、その値は減圧室６ａ，６ｃの真空度により自
由に調節することができる。一方、中央部の減圧室６ｂ
の真空度は前記両端の減圧室６ａ，６ｃの真空度とは独
立に決定することができるので、中央部で真空度を高め
すぎることによるビードの破壊を招くことなく、しかも
ビード両端におけるビードの縮み傾向を抑制し、ビード
を安定化することができる。本発明の技術範囲は前記実
施態様に限定されるものではなく、ビード両端に対して
更に高度の減圧状態を与えることについて種々の変形が
考えられる。
例えば第４図に示すようにスロツト７から吸引を行なう
ことによシ、ビード両端に対して高度の減圧度を与える
ことも有効であシ、更にビード両端をつつみ込むような
形の減圧室（図示せず）を設けることも可能である。本
発明の対象はスライドビード塗布方法に限られるもので
はなくビードを形成することが要件となる塗布方法によ
ジ利用することが可能であることも言うまでもない。
ことによシ、ビード両端に対して高度の減圧度を与える
ことも有効であシ、更にビード両端をつつみ込むような
形の減圧室（図示せず）を設けることも可能である。本
発明の対象はスライドビード塗布方法に限られるもので
はなくビードを形成することが要件となる塗布方法によ
ジ利用することが可能であることも言うまでもない。
本発明は上述の如く、ビード塗布方法に訃いてビードを
安定に維持することを可能にするもので、これによる効
果は下記の如く極めて大きなものである。
安定に維持することを可能にするもので、これによる効
果は下記の如く極めて大きなものである。
（１）ビード塗布方法におけるビードの安定度を増すこ
とができるので、より安定した塗布が可能となつた。
とができるので、より安定した塗布が可能となつた。
（２）塗布速度が変化してもそれに応じてビードを安定
化することができるので、塗布速度の上昇が可能となつ
た。
化することができるので、塗布速度の上昇が可能となつ
た。
（３）塗布量が変化してもそれに応じてビードを安定化
することができるので、より薄層の塗布が可能となつた
。
することができるので、より薄層の塗布が可能となつた
。
（４）ビードの両端部に厚塗ジ部分を生じさせることな
しに、ビードを安定化させることができるので、乾燥速
度を実質的に上昇させることが可能となつた。
しに、ビードを安定化させることができるので、乾燥速
度を実質的に上昇させることが可能となつた。
本発明の効果をより具体的に説明するために以下に実施
例を挙げる。
例を挙げる。
実施例
第３図に示したスライドビード塗布装置を用いて写真用
乳剤（粘度４０ｃｐ表面張力２８ｄｙｎｅ／ｃ！ｎ）の
単層塗布を行なつた。
乳剤（粘度４０ｃｐ表面張力２８ｄｙｎｅ／ｃ！ｎ）の
単層塗布を行なつた。
送液量は２０ｃｃ／ＣＴｎ．ｍｉｎで、種々のビード背
圧の条件で、低速で塗ｖ付け後、塗布速度を除々に連続
的に上昇させて行つた時にビードの破断する速度（これ
を［塗布限界速度」という）を観察したものである。結
果は第１表、第２表に示したようになシ、ビード背圧が
ビード巾方向にわたつて一様な従来の塗布方法に比較し
、ビード背圧がビード両端部で特に強められている本発
明の方法によれば５０〜１００％の塗布速度の上昇と、
これに伴う薄層化が可能となつたことが明らかである。
圧の条件で、低速で塗ｖ付け後、塗布速度を除々に連続
的に上昇させて行つた時にビードの破断する速度（これ
を［塗布限界速度」という）を観察したものである。結
果は第１表、第２表に示したようになシ、ビード背圧が
ビード巾方向にわたつて一様な従来の塗布方法に比較し
、ビード背圧がビード両端部で特に強められている本発
明の方法によれば５０〜１００％の塗布速度の上昇と、
これに伴う薄層化が可能となつたことが明らかである。
第１図は従来のスライドビード塗布装置を示す側面図、
第２図−ａはビードの拡大側面図、第２図−ｂはそのＡ
−Ｘ面から見た部分拡大正断面図、第３図、第４図は本
発明の実施態様を示す塗布装置の斜視図である。 １・・・バツクアツプロール、２・・・ウエブ、３・・
・スライドホツパ一型塗布ヘツド、４・・・塗布液、５
・・・ビード、６，６ａ，６ｂ，６ｃ・・・減圧室、７
・・・吸引スロツト。
第２図−ａはビードの拡大側面図、第２図−ｂはそのＡ
−Ｘ面から見た部分拡大正断面図、第３図、第４図は本
発明の実施態様を示す塗布装置の斜視図である。 １・・・バツクアツプロール、２・・・ウエブ、３・・
・スライドホツパ一型塗布ヘツド、４・・・塗布液、５
・・・ビード、６，６ａ，６ｂ，６ｃ・・・減圧室、７
・・・吸引スロツト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ウェブの上流側を減圧状態にすることによるビード
塗布方法において、該ビードが巾方向に縮もうとする傾
向を抑制するために、ビード両端部に対して更に高度の
減圧状態を与えることを特徴とする塗布方法。 ２ 該高度の減圧状態はウェブ上流側に設けた減圧室を
３分割し、該３分割減圧室の中央部よりも両側部の減圧
度を高めることによつて得ることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の塗布方法。 ３ 該高度の減圧状態は該ビード両端部上方に吸引スロ
ットを設けることによつて得ることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の塗布方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53077267A JPS5927232B2 (ja) | 1978-06-26 | 1978-06-26 | 塗布方法 |
| DE2925588A DE2925588C2 (de) | 1978-06-26 | 1979-06-25 | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten einer Bahn |
| GB7921996A GB2029733B (en) | 1978-06-26 | 1979-06-25 | Bead coating |
| US06/052,513 US4265941A (en) | 1978-06-26 | 1979-06-26 | Differential pressure coating system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53077267A JPS5927232B2 (ja) | 1978-06-26 | 1978-06-26 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS553860A JPS553860A (en) | 1980-01-11 |
| JPS5927232B2 true JPS5927232B2 (ja) | 1984-07-04 |
Family
ID=13629060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53077267A Expired JPS5927232B2 (ja) | 1978-06-26 | 1978-06-26 | 塗布方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4265941A (ja) |
| JP (1) | JPS5927232B2 (ja) |
| DE (1) | DE2925588C2 (ja) |
| GB (1) | GB2029733B (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3037612A1 (de) * | 1980-10-04 | 1982-05-13 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Randleisten an gleitflaechen von kaskaden- und vorhanggiessern |
| US4358484A (en) * | 1981-01-26 | 1982-11-09 | Beloit Corporation | Method for high speed size application |
| JPS58125313U (ja) * | 1982-02-18 | 1983-08-25 | 三菱電機株式会社 | ブツシング |
| US4508764A (en) * | 1982-12-14 | 1985-04-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating process employs surfactants |
| EP0575879A2 (en) * | 1992-06-24 | 1993-12-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Pretreated substrate for slide bead coating |
| DE4436627C1 (de) * | 1994-10-13 | 1996-06-05 | Koenig & Bauer Albert Ag | Verfahren und Vorrichtungen zum Befeuchten einer Papierbahn |
| US5607726A (en) * | 1994-10-17 | 1997-03-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the preparation of composite coatings with variable thickness |
| US5618568A (en) * | 1995-02-01 | 1997-04-08 | Extrusion Dies, Inc. | Dual-chamber vacuum box |
| JP2002182333A (ja) | 2000-12-13 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 熱現像感光材料の製造方法 |
| US11141891B2 (en) | 2015-07-24 | 2021-10-12 | Windmöller & Hölscher Kg | Device and method for generating a negative pressure in a film machine |
| CN114031296A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-02-11 | 安徽新丽泰瓷业有限公司 | 密缝连纹超耐磨钻石釉大理石瓷砖及其生产方法、*** |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE513714A (ja) * | 1951-08-23 | 1900-01-01 | ||
| CA557259A (en) * | 1955-02-23 | 1958-05-13 | Canadian Kodak Co. Limited | Multiple layer hopper for multiply coating a web |
| US3663292A (en) * | 1969-02-10 | 1972-05-16 | Agfa Gevaert Ag | Process for coating strip-form substrates |
| DE2346164A1 (de) * | 1973-09-11 | 1975-03-20 | Ideal Vliesstoffabrik Kg | Verfahren und vorrichtung zum impraegnieren von vliesen |
| DE2453884C3 (de) * | 1974-11-13 | 1980-07-03 | Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. (V.St.A.) | Verfahren zum gleichförmigen Beschichten eines verspleißten bandförmigen Materials |
| US4154879A (en) * | 1977-01-27 | 1979-05-15 | Polaroid Corporation | Method and apparatus for coating webs with a plurality of liquid layers |
-
1978
- 1978-06-26 JP JP53077267A patent/JPS5927232B2/ja not_active Expired
-
1979
- 1979-06-25 GB GB7921996A patent/GB2029733B/en not_active Expired
- 1979-06-25 DE DE2925588A patent/DE2925588C2/de not_active Expired
- 1979-06-26 US US06/052,513 patent/US4265941A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS553860A (en) | 1980-01-11 |
| DE2925588A1 (de) | 1980-01-10 |
| GB2029733A (en) | 1980-03-26 |
| DE2925588C2 (de) | 1984-09-20 |
| US4265941A (en) | 1981-05-05 |
| GB2029733B (en) | 1982-09-08 |
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