JPS6111173A - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
塗布方法及び塗布装置Info
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- JPS6111173A JPS6111173A JP13227784A JP13227784A JPS6111173A JP S6111173 A JPS6111173 A JP S6111173A JP 13227784 A JP13227784 A JP 13227784A JP 13227784 A JP13227784 A JP 13227784A JP S6111173 A JPS6111173 A JP S6111173A
- Authority
- JP
- Japan
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- coating
- bead
- web
- coating liquid
- chamber
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は所謂スライドホッパー、押出しホッパー等のホ
ッパー装置を用いて写真材料等の支持体のウェッブに１
液以上の塗布液を塗布する方法及び塗布装置に関する。
ッパー装置を用いて写真材料等の支持体のウェッブに１
液以上の塗布液を塗布する方法及び塗布装置に関する。
（従来技術）
写真材料を構成する写真層を支持体ウェッブに塗設する
方法として初期的には浸漬法、タプルロール法、エアド
クタ法等が用いられ、多重同時高速塗布の要請の下にカ
ーテン塗布法及びスライドホッパー法等が開発され、現
在スライドホッパー法が主流を占めるに到っている。
方法として初期的には浸漬法、タプルロール法、エアド
クタ法等が用いられ、多重同時高速塗布の要請の下にカ
ーテン塗布法及びスライドホッパー法等が開発され、現
在スライドホッパー法が主流を占めるに到っている。
前記スライドホッパー法については、米国特許２．６８
１，２９４号、同２，７６１，４１９号、同２，７６１
，７９１号及び英国特許８３７，０９５号に開示されて
いる。
１，２９４号、同２，７６１，４１９号、同２，７６１
，７９１号及び英国特許８３７，０９５号に開示されて
いる。
スライドホッパー法は前記特許に記載の如く、１液以上
の塗布液を塗布液流延供給台（ダイス）に設けられたス
リットから連続した幅広リボンとして押出し、ダイスの
塗布液流延面（スライド面）の終縁に近接して走行する
ウェッブ面に前記塗布液の単層もしくは積層リボンを差
渡してビードな形成し、塗布液の流延速度と該リボンな
ビードより持去るウェッブの走行速度とを整合させてウ
ニツノ上に単層もしくは積層の塗布液層を塗設するもの
である。尚一般に走行するウェッブはダイス端（スライ
ド面終縁）に近接して設けられた塗布ローラｌζ張架さ
れる。
の塗布液を塗布液流延供給台（ダイス）に設けられたス
リットから連続した幅広リボンとして押出し、ダイスの
塗布液流延面（スライド面）の終縁に近接して走行する
ウェッブ面に前記塗布液の単層もしくは積層リボンを差
渡してビードな形成し、塗布液の流延速度と該リボンな
ビードより持去るウェッブの走行速度とを整合させてウ
ニツノ上に単層もしくは積層の塗布液層を塗設するもの
である。尚一般に走行するウェッブはダイス端（スライ
ド面終縁）に近接して設けられた塗布ローラｌζ張架さ
れる。
従ってこの様に構成されたスライドホッパー法では流延
速度（塗布液供給速度）とウェッブの走行速度（塗布速
度）とは完全に整合していることが必須条件であるが、
更にウェッブとダイス端間に差渡された塗布液リボンの
作るヒートの形状安定性は塗布液層の仕上りに決定的な
影響を及ぼす。
速度（塗布液供給速度）とウェッブの走行速度（塗布速
度）とは完全に整合していることが必須条件であるが、
更にウェッブとダイス端間に差渡された塗布液リボンの
作るヒートの形状安定性は塗布液層の仕上りに決定的な
影響を及ぼす。
例えば・”フエンダの走行方向に関してビードの追従、
遅退即ちウェッブの縦方向にビードの振動が起れば、単
純には横縞（肋状むら）、塗布切れの発生、更に該撮動
でビード位置にある塗布液層間に混交が生ずれば斑点む
ら、縦筋むらを生じ、更にウェッブ継目のビード通過に
よってビードの切断、塗布切れ等が発生する。
遅退即ちウェッブの縦方向にビードの振動が起れば、単
純には横縞（肋状むら）、塗布切れの発生、更に該撮動
でビード位置にある塗布液層間に混交が生ずれば斑点む
ら、縦筋むらを生じ、更にウェッブ継目のビード通過に
よってビードの切断、塗布切れ等が発生する。
これらの不都合はビード自身にビード形状安定化に対す
る積極的な自己復元力がない限り避けることはできない
。
る積極的な自己復元力がない限り避けることはできない
。
米国特許２．６８１，２９４号では減圧チェンバを付設
してビードなウニツノの走行方向とは逆方向に減圧によ
って吸引しビードの安定化を図った。また特開昭５５−
１６５１７２号ではダイス端のウェッブに対峙する面に
塗布液溜りを設はビードでの塗布液切れを緩衝させた。
してビードなウニツノの走行方向とは逆方向に減圧によ
って吸引しビードの安定化を図った。また特開昭５５−
１６５１７２号ではダイス端のウェッブに対峙する面に
塗布液溜りを設はビードでの塗布液切れを緩衝させた。
しかしながらウェッブの継目のビード通過による縦筋む
らは依然として発生り、ｔたウェッブの縁部の縦筋むら
の発生はウェッブ中面の５〜１０倍の頻度に達しており
、また縁部の肋状むらの発生が跡を絶たない。
らは依然として発生り、ｔたウェッブの縁部の縦筋むら
の発生はウェッブ中面の５〜１０倍の頻度に達しており
、また縁部の肋状むらの発生が跡を絶たない。
更に減圧チェンバのシール片を走行するウェッブに対し
て安全に非接触に保ちしかも充分な減圧度を５るための
シール間隙を保守するには絶えず深甚な注意が必要であ
り、工程上の問題点となっている。
て安全に非接触に保ちしかも充分な減圧度を５るための
シール間隙を保守するには絶えず深甚な注意が必要であ
り、工程上の問題点となっている。
（発明が解決しようとする問題点）
スライドホッパー法１こは前記或はその他に尚数数の問
題点があるが、本発明の目的は第１には、ウェッブの継
目部及び縁部に発生する縦筋むら及びウェッブ面特にそ
の縁部に発生する肋状むらを解消した塗布方法を提供す
ることである。また第２の目的は塗布液リボンの作るビ
ード及びウェッブの幅手方向並ひに走行方向に、均等で
安定であり且つ高い減圧度を与える減圧チェンバを有す
るスライドヒート塗布装置を提供することである。
題点があるが、本発明の目的は第１には、ウェッブの継
目部及び縁部に発生する縦筋むら及びウェッブ面特にそ
の縁部に発生する肋状むらを解消した塗布方法を提供す
ることである。また第２の目的は塗布液リボンの作るビ
ード及びウェッブの幅手方向並ひに走行方向に、均等で
安定であり且つ高い減圧度を与える減圧チェンバを有す
るスライドヒート塗布装置を提供することである。
（問題点を解決するための手段）
前記した本発明の目的の達成には、減圧チェンバのシー
ル片の非接触間隙から流入する気体量を減することによ
って、減圧チェンバ内の減圧度を高め且つ減圧度の揺動
を防止し、更に前記シール片の間隙から流入する気体流
によるウェッブ縁部の塗布液層への衝撃を軽減すること
に尽きることを見極め、塗布液を流延するダイス端と塗
布液を塗設するウエノフ間に塗布液ヒートを形成し、該
塗布液ビードの厚み方向に気体圧差を与える減圧チェン
バを設けたスライドヒート塗布装置に於て、前記減圧チ
ェンバのウェッブ進入側及び／または側面に、ウェッブ
に対して非接触なシール片で仕切られた少くとも１つの
気室な設けた減圧チェンバを有することを特徴とする塗
布装置及び該塗布装置を用いる塗布方法によって達成さ
れる。
ル片の非接触間隙から流入する気体量を減することによ
って、減圧チェンバ内の減圧度を高め且つ減圧度の揺動
を防止し、更に前記シール片の間隙から流入する気体流
によるウェッブ縁部の塗布液層への衝撃を軽減すること
に尽きることを見極め、塗布液を流延するダイス端と塗
布液を塗設するウエノフ間に塗布液ヒートを形成し、該
塗布液ビードの厚み方向に気体圧差を与える減圧チェン
バを設けたスライドヒート塗布装置に於て、前記減圧チ
ェンバのウェッブ進入側及び／または側面に、ウェッブ
に対して非接触なシール片で仕切られた少くとも１つの
気室な設けた減圧チェンバを有することを特徴とする塗
布装置及び該塗布装置を用いる塗布方法によって達成さ
れる。
次に本発明を更に具体的に説明する。
本発明に於て、ウェッブに非接触なシール片で仕切られ
る少くとも１つの気室はラヒリンスシールを成すもので
あって、該ラビリンスシールはダイスと走行するウェッ
ブの間に差渡されるヒートの厚み方向に気体（実用的に
は空気）比差を与える減圧チェンバの両側面（サイド）
及び／またはヒートに向って進入して来るウェッブを迎
える側（フロント）に設けられ、好ましくは減圧チェン
バの両サイド及びフロントに設けられる。
る少くとも１つの気室はラヒリンスシールを成すもので
あって、該ラビリンスシールはダイスと走行するウェッ
ブの間に差渡されるヒートの厚み方向に気体（実用的に
は空気）比差を与える減圧チェンバの両側面（サイド）
及び／またはヒートに向って進入して来るウェッブを迎
える側（フロント）に設けられ、好ましくは減圧チェン
バの両サイド及びフロントに設けられる。
第１図ｔａ＋は減圧チェンバのサイドに設けられるサイ
ドラビリンスシールの１例、第１図（ｂ）は減圧チェン
バのフロントに設りられるフロントラビリンスシールの
１例を示す。
ドラビリンスシールの１例、第１図（ｂ）は減圧チェン
バのフロントに設りられるフロントラビリンスシールの
１例を示す。
第１図ｆａｔ ｉこ於て１は減圧チェンバ、２は塗布ロ
ーラ、３は減圧チェンバ１のサイドに設けられた全長ｌ
のサイドラビリンスシールである。該ラビリンスシール
３は厚みδ、高さｈ、ピッチｐで塗布ローラ２の軸に対
向して設けられたシール片３１゜３２．３３及び３４で
内法幅Ｗに仕切られた気室Ｇ１ ＊ Ｇ ２及びＧ３を
有し各シール片の上縁と塗布ローラ２の円筒面との間隙
なεに保って減圧チェンバ１の側面１１に固定されてい
る。
ーラ、３は減圧チェンバ１のサイドに設けられた全長ｌ
のサイドラビリンスシールである。該ラビリンスシール
３は厚みδ、高さｈ、ピッチｐで塗布ローラ２の軸に対
向して設けられたシール片３１゜３２．３３及び３４で
内法幅Ｗに仕切られた気室Ｇ１ ＊ Ｇ ２及びＧ３を
有し各シール片の上縁と塗布ローラ２の円筒面との間隙
なεに保って減圧チェンバ１の側面１１に固定されてい
る。
また第１図（ｂ）に於て、第１図＋ａ）で用いた数′字
記号、文字記号と同記号及び右肩にダノシーを伺したも
のは第１図ｆａｌに於る定義と同義である。
記号、文字記号と同記号及び右肩にダノシーを伺したも
のは第１図ｆａｌに於る定義と同義である。
尚気室の個数、気室に関する前記した諸元及びシール片
に関する前記した諸元は塗布操作糸作に合せて最適に選
び前記諸元を組合せてラビリンスシールな構成すること
ができる。更に気室毎に諸元を変えてもよいし、シール
片の形状も必ずしも直線的障壁である必要はなく連続し
た折線、曲線或は波型の障壁ｔなすシール片でもよい。
に関する前記した諸元は塗布操作糸作に合せて最適に選
び前記諸元を組合せてラビリンスシールな構成すること
ができる。更に気室毎に諸元を変えてもよいし、シール
片の形状も必ずしも直線的障壁である必要はなく連続し
た折線、曲線或は波型の障壁ｔなすシール片でもよい。
本発明に於てはサイドラビリンスシールに於る諸元とし
ては、例えば ｌ≧１０朋 ２．０ｍｍ≧ ε ≧ ０．１ｍｍ ３．０１ｉｌＸ≧ ｈ ≧ ０．２ｍｍ５、Ｃ１＋ｉ≧
δ 等の諸元条件が一般的塗布条件に於て好ましく選ばれる
が、必ずしもこれに限定されない。
ては、例えば ｌ≧１０朋 ２．０ｍｍ≧ ε ≧ ０．１ｍｍ ３．０１ｉｌＸ≧ ｈ ≧ ０．２ｍｍ５、Ｃ１＋ｉ≧
δ 等の諸元条件が一般的塗布条件に於て好ましく選ばれる
が、必ずしもこれに限定されない。
またシール片の上縁部の形状は第２図の断面図に示すご
とく（ａ）ナイフ型、ｆｂ）平型、（ｃ）円弧型、ｔｄ
）凹円弧型、（ｅ）台形型或は（ｆｌ邪魔板伺等如何な
る型でもよいが、成型加工が容易で汚れが少く、洗浄し
易いものが好ましい。
とく（ａ）ナイフ型、ｆｂ）平型、（ｃ）円弧型、ｔｄ
）凹円弧型、（ｅ）台形型或は（ｆｌ邪魔板伺等如何な
る型でもよいが、成型加工が容易で汚れが少く、洗浄し
易いものが好ましい。
次に本発明の塗布装置を用いた塗布方法について説明す
る。
る。
本発明の塗布装置に係るサイドラビリンスシール３及び
／またはフロントラビリンスシール３１を有する減圧チ
ェンバ１は、第３図に示すごとく、塗布液ビード５、塗
布ローラ２の面もしくはウェッジ６０表面及びダイス４
の塗布ローラに対峙する側面４１の３面で画された空間
に嵌合するように設置される。但し塗布ローラ面もしく
はウェッブ表面には間隙εもしくはＧ１だけ隔てられ、
また減圧チェンバのビードに向う部分は減圧・吸引スリ
ットとして開放されている。
／またはフロントラビリンスシール３１を有する減圧チ
ェンバ１は、第３図に示すごとく、塗布液ビード５、塗
布ローラ２の面もしくはウェッジ６０表面及びダイス４
の塗布ローラに対峙する側面４１の３面で画された空間
に嵌合するように設置される。但し塗布ローラ面もしく
はウェッブ表面には間隙εもしくはＧ１だけ隔てられ、
また減圧チェンバのビードに向う部分は減圧・吸引スリ
ットとして開放されている。
塗布に際しては塗布ローラ２に張架されたウェッブ６０
走行、減圧チェンバ１内のサクションポンプＳ等による
排気減圧及び塗布液圧送ポンプＰＩ＋Ｐ２或はＧ３等に
よる塗布液Ｅ Ｉ ＊ Ｅ ２或はＧ３等の圧送が始ま
る。
走行、減圧チェンバ１内のサクションポンプＳ等による
排気減圧及び塗布液圧送ポンプＰＩ＋Ｐ２或はＧ３等に
よる塗布液Ｅ Ｉ ＊ Ｅ ２或はＧ３等の圧送が始ま
る。
塗布液Ｅ Ｉ ＋ Ｅ ２或はＧ３等はノズルスリット
Ｓ１．Ｇ２或は８３笠から夫々押出されダイス４のスラ
イド面で積層さ１１、積層構成を乱すことなくヒート部
位の方に６ｆ 妙し、ウェッブ６に遭着しヒート５を形
成する。この時積層される塗布液は第３図８１に示され
る如くダイス４のスライド面を流延することなくウニツ
ノ面に押出し遭着させてもよい。
Ｓ１．Ｇ２或は８３笠から夫々押出されダイス４のスラ
イド面で積層さ１１、積層構成を乱すことなくヒート部
位の方に６ｆ 妙し、ウェッブ６に遭着しヒート５を形
成する。この時積層される塗布液は第３図８１に示され
る如くダイス４のスライド面を流延することなくウニツ
ノ面に押出し遭着させてもよい。
形成されたヒート５は該部位への塗布液の供給をうけな
がら且つ該塗布液をウェッブ６に持去られながら一方に
於て減圧チェンバの吸引スリット側に吸引され、ビード
安定化に必要充分な厚みをもったヒート５がダイス４と
ウェノ７′６０間に構築されろように制御される。
がら且つ該塗布液をウェッブ６に持去られながら一方に
於て減圧チェンバの吸引スリット側に吸引され、ビード
安定化に必要充分な厚みをもったヒート５がダイス４と
ウェノ７′６０間に構築されろように制御される。
前記したビード５に対するラビリンスシールのシール作
用について第１図を用いて説明する。
用について第１図を用いて説明する。
減圧チェンバｌ内は排気されて外部より低圧となり、ま
たラビリンスシール３ （３’ｌのシール片３１等（３
１′等）は塗布ローラ２、塗布ローラに張架されたウェ
ッブ６との間に間隙ε（Ｇ１）を有するので該間隙を通
って減圧チェンバ１ヘシール片３１等（３１′等）の上
縁を通る漏洩気体流（実用的には空気流。以後気体を空
気として述べる。）が生じる。
たラビリンスシール３ （３’ｌのシール片３１等（３
１′等）は塗布ローラ２、塗布ローラに張架されたウェ
ッブ６との間に間隙ε（Ｇ１）を有するので該間隙を通
って減圧チェンバ１ヘシール片３１等（３１′等）の上
縁を通る漏洩気体流（実用的には空気流。以後気体を空
気として述べる。）が生じる。
もしシール片が従来の減圧チェンバの如く１枚であれば
充分なシール効果を挙げるには間隙ε（Ｇ１）を極めて
狭くする必要があり、しかも一方に於て非接触であるこ
とを厳守しなければならない。充分に狭く且つ非接触厳
守の要請は塗布ローラの偏芯、ウェッブ厚み変化、塗布
厚み及び層数変化に応じ間隙ε（εＩ）の調整管理に多
大の工数と時間を強制する。且つ実際上甚だ困難である
。
充分なシール効果を挙げるには間隙ε（Ｇ１）を極めて
狭くする必要があり、しかも一方に於て非接触であるこ
とを厳守しなければならない。充分に狭く且つ非接触厳
守の要請は塗布ローラの偏芯、ウェッブ厚み変化、塗布
厚み及び層数変化に応じ間隙ε（εＩ）の調整管理に多
大の工数と時間を強制する。且つ実際上甚だ困難である
。
従って安全性を見込んだ間隙ε（Ｇ１）が与えられるた
め、減圧チェンバ内に於てシール片からチェンバ内排気
口に向う減圧傾斜を有する減圧曲線が生じ、ビードの幅
方向に不均一な圧力差を与え、ビードは幅方向に関し中
手れのメニスカスとなり、内圧変動、塗布速度変動によ
ってビード中央のウェッブからの離脱（塗布液切れ）、
或はヒート内の塗布液混父による塗布むらの発生を招く
。
め、減圧チェンバ内に於てシール片からチェンバ内排気
口に向う減圧傾斜を有する減圧曲線が生じ、ビードの幅
方向に不均一な圧力差を与え、ビードは幅方向に関し中
手れのメニスカスとなり、内圧変動、塗布速度変動によ
ってビード中央のウェッブからの離脱（塗布液切れ）、
或はヒート内の塗布液混父による塗布むらの発生を招く
。
しかるに第１図に示す本発明の態様例の如く、減圧チェ
ンバにシール片で仕切られた気室を１つ以上有するラビ
リンスシールを付設した場合には。
ンバにシール片で仕切られた気室を１つ以上有するラビ
リンスシールを付設した場合には。
大気圧Ｖｏ（静圧）にある外気が減圧チェンバ内の減圧
に伴い動圧ｖｏ （ｖｏ ）の空気流となって間隙εｆ
ｇ’１を通り気室Ｇ＋ （Ｇ＋’）に入って断熱膨張し
、動圧を失って静圧Ｖ＋（Ｖ＋’）となる。ここでＶｏ
＞ Ｖ＋ （Ｖｏ’ ＞ Ｖｌ ’ ）である。更に
気室Ｇ＋ （（Ｊ’）の静圧Ｖｔ（Ｖ＋’）の空気は該
静圧の下に動圧Ｖ２（Ｖ２’）の空気流となって間隙ε
（ε１）を通り気室Ｇ２ （Ｇ２’）に入り断熱膨張し
動圧を失い静圧Ｖ２（Ｖ２’）’を示す。ココテＶ１＞
Ｖ２（Ｖｌ’＞Ｖ２°）、才たｖｌ＞ ｖ２ （ｖ■’
＞ｖ２’）である。
に伴い動圧ｖｏ （ｖｏ ）の空気流となって間隙εｆ
ｇ’１を通り気室Ｇ＋ （Ｇ＋’）に入って断熱膨張し
、動圧を失って静圧Ｖ＋（Ｖ＋’）となる。ここでＶｏ
＞ Ｖ＋ （Ｖｏ’ ＞ Ｖｌ ’ ）である。更に
気室Ｇ＋ （（Ｊ’）の静圧Ｖｔ（Ｖ＋’）の空気は該
静圧の下に動圧Ｖ２（Ｖ２’）の空気流となって間隙ε
（ε１）を通り気室Ｇ２ （Ｇ２’）に入り断熱膨張し
動圧を失い静圧Ｖ２（Ｖ２’）’を示す。ココテＶ１＞
Ｖ２（Ｖｌ’＞Ｖ２°）、才たｖｌ＞ ｖ２ （ｖ■’
＞ｖ２’）である。
かくしてラビリンスシールの最終気室Ｇｎ （Ｇｎ ’
）から減圧チェンバに入る空気流の動圧ｖｎ（ｖｎ′
）は甚だ小となりまた流入空気量も著しく少くなり、且
つ気室Ｇｎ （Ｇｎ’）内の静圧ｖｎｆ■ｎ’）とビー
ドに比差を与える減圧チェンバ内の静圧Ｖとの圧力差は
借手となる。
）から減圧チェンバに入る空気流の動圧ｖｎ（ｖｎ′
）は甚だ小となりまた流入空気量も著しく少くなり、且
つ気室Ｇｎ （Ｇｎ’）内の静圧ｖｎｆ■ｎ’）とビー
ドに比差を与える減圧チェンバ内の静圧Ｖとの圧力差は
借手となる。
従ってラビリンスシールな付設することにより減圧チェ
ンバ内への空気流入量が少くなりシール効果は甚だ高く
、また空気流衝撃は小さく、ビードの塗布液積層は外表
からの混乱を起さない。また幾重にも緩衝されて減圧さ
れた減圧チェンバ内静圧■は減圧度が高く、しかもヒー
トを差挟んでの外気静圧ＶＯとの圧力差は甚だ安定であ
る。従って減圧チェンバ内は到る所安定に等圧を保った
状態が定常化する。この状態は減圧が一３００ｍｙｑあ
たり才でが特に顕著に認められる。
ンバ内への空気流入量が少くなりシール効果は甚だ高く
、また空気流衝撃は小さく、ビードの塗布液積層は外表
からの混乱を起さない。また幾重にも緩衝されて減圧さ
れた減圧チェンバ内静圧■は減圧度が高く、しかもヒー
トを差挟んでの外気静圧ＶＯとの圧力差は甚だ安定であ
る。従って減圧チェンバ内は到る所安定に等圧を保った
状態が定常化する。この状態は減圧が一３００ｍｙｑあ
たり才でが特に顕著に認められる。
前記した内容を第４図及び第５図に示した。
第４図に於て縦軸は減圧度（４Ａｑ）、横軸はシール片
とウェッブ間に与えられる間隙（μ）である。ラビリン
スシールの効果が明瞭に観察される。尚曲線ａがラビリ
ンスシール、曲線すが現行シールの場合を示している。
とウェッブ間に与えられる間隙（μ）である。ラビリン
スシールの効果が明瞭に観察される。尚曲線ａがラビリ
ンスシール、曲線すが現行シールの場合を示している。
第５図はビードの幅方向の圧力分布を示し、縦軸が減圧
度（ｍ＋ｘＡｑ）、横軸はビードの幅方向の部位を示し
、曲線Ｃが→ビリンスシール、曲線ｄが現行シールの場
合を示す。ラビリンスシールを施すことによって幅方向
の圧力分布が殆どなくなることか窺える。
度（ｍ＋ｘＡｑ）、横軸はビードの幅方向の部位を示し
、曲線Ｃが→ビリンスシール、曲線ｄが現行シールの場
合を示す。ラビリンスシールを施すことによって幅方向
の圧力分布が殆どなくなることか窺える。
更ｊｃ才だ第４図から明らかなように間隙εもしくはε
１は無理に小さくする必要はなくしかも減圧度を上げ且
つ内圧の揺動を防止することができる。
１は無理に小さくする必要はなくしかも減圧度を上げ且
つ内圧の揺動を防止することができる。
本発明１こ於てサイドラビリンスシール、フロントラビ
リンスシールを単独に付設する場合に於ても、その効果
は明らかに認められ例えばサイドラビリンスシールたけ
でもヒート幅方向の圧力分布の均一化があり、ウェッブ
継目が通過してもその後端からの泡筋の発生がなく、ビ
ード両端部が安定化し縦筋むら或は肋状むらが激減し１
またフロントラビリンスシールによってウェッブの帯
同空気量が減少しヒートに対する衝撃が減りまたウェッ
ブ走行方向の圧力分布を均一化することができる。
リンスシールを単独に付設する場合に於ても、その効果
は明らかに認められ例えばサイドラビリンスシールたけ
でもヒート幅方向の圧力分布の均一化があり、ウェッブ
継目が通過してもその後端からの泡筋の発生がなく、ビ
ード両端部が安定化し縦筋むら或は肋状むらが激減し１
またフロントラビリンスシールによってウェッブの帯
同空気量が減少しヒートに対する衝撃が減りまたウェッ
ブ走行方向の圧力分布を均一化することができる。
（実施例）
次に実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚本発明はここに示す実施例に限られるものではない。
実施例１
下記表−１に掲げた諸元を有するフロントラビリンスシ
ール及びサイドラビリンスシールな、内容積１０１！の
減圧チェンバに付設し１減圧チエンバの排気条件を一定
に保ち定常状態に達した時のシール片間隙εと減圧度の
関係及び塗布液ビードの幅方向の減圧度分布を測定した
。
ール及びサイドラビリンスシールな、内容積１０１！の
減圧チェンバに付設し１減圧チエンバの排気条件を一定
に保ち定常状態に達した時のシール片間隙εと減圧度の
関係及び塗布液ビードの幅方向の減圧度分布を測定した
。
更に該減圧チェンバのフロント及びザイドに上縁部の形
状が台形であるシール片を回らした現行シールの場合に
ついて比較データを求めた。尚前記台形シール片は、フ
ロントシール片に於ては厚み１０朋にとり上縁に２ ｒ
ｔｒｍ幅を残し減圧チェンバの外方に向う高さ８韻の斜
面を与え、またサイドシール片に於ては同じく厚み１０
ｍｍで上縁に１．５ｍｍ幅を残Ｌ１外方に向う高さ１２
ａ＋＋ｔの斜面を与えた。
状が台形であるシール片を回らした現行シールの場合に
ついて比較データを求めた。尚前記台形シール片は、フ
ロントシール片に於ては厚み１０朋にとり上縁に２ ｒ
ｔｒｍ幅を残し減圧チェンバの外方に向う高さ８韻の斜
面を与え、またサイドシール片に於ては同じく厚み１０
ｍｍで上縁に１．５ｍｍ幅を残Ｌ１外方に向う高さ１２
ａ＋＋ｔの斜面を与えた。
表 −１
測定結果を第４図及び第５図に示す。
第４図から明らかなようにシール片間隙：εの大小に拘
らず常にラビリンスシールを付設した場合（曲線ａ）の
方が現行シールの場合（曲線ｂ）より減圧度が高く、同
一減圧度を得る間隙としてははは３００〜４００μ広く
てもよいことを示している○また第５図から明らかなよ
うにラビリンスシールを施すことによりヒート幅方向に
減圧度の高低がなく、ヒートのウエノフに対する横−文
字の付着を可能とし塗布状況は甚た良好となる（曲線Ｃ
）。
らず常にラビリンスシールを付設した場合（曲線ａ）の
方が現行シールの場合（曲線ｂ）より減圧度が高く、同
一減圧度を得る間隙としてははは３００〜４００μ広く
てもよいことを示している○また第５図から明らかなよ
うにラビリンスシールを施すことによりヒート幅方向に
減圧度の高低がなく、ヒートのウエノフに対する横−文
字の付着を可能とし塗布状況は甚た良好となる（曲線Ｃ
）。
一方現行シールに於ては中央部に於て減圧度が高く両縁
に向って低下し、且つ両縁に於て１０〜２０ｍｍＡｑ急
激に低下し塗布状況としては不都合であり、且つ不安定
な破れ易いと一ドが形成される（曲線ｄ）。
に向って低下し、且つ両縁に於て１０〜２０ｍｍＡｑ急
激に低下し塗布状況としては不都合であり、且つ不安定
な破れ易いと一ドが形成される（曲線ｄ）。
実施例２
実施例１で使用したラビリンスシールな用いて、写真感
光材料を、ウェッブ上に塗布した。塗布速度は、毎分１
５０ｍであった。この時、■ ウェッブ継目部での筋発
生の有無 ■ その他の塗布故障の有無 を確認し、下記の表−２ごとき結果を得、表−２に掲げ
た。チェンバ内減圧度は、−４０ｍ１ＷＡｑとした。
光材料を、ウェッブ上に塗布した。塗布速度は、毎分１
５０ｍであった。この時、■ ウェッブ継目部での筋発
生の有無 ■ その他の塗布故障の有無 を確認し、下記の表−２ごとき結果を得、表−２に掲げ
た。チェンバ内減圧度は、−４０ｍ１ＷＡｑとした。
表 −２
表−２に明らかなように対象とする塗布故障は殆ど根絶
された。
された。
（発明の効果）
ラビリンスシールな設ける事により
Ｉ ジャンパ内圧力分布の均一化
２ シール部からの、もれ空気量減、且つ流速像により
、それに起因する、塗布故障の防止３ 所望の減圧度を
得る為の、チャンバーシール間隙を、従来のものより、
広く取れる。これにより、設定管理がやり易くなる。
、それに起因する、塗布故障の防止３ 所望の減圧度を
得る為の、チャンバーシール間隙を、従来のものより、
広く取れる。これにより、設定管理がやり易くなる。
第１図ｉａｌはサイトラビリンスシール、同図（ｂｌは
フロントラヒリンスシールの付設説明図である。 第２図はラビリンスシールのシール片の上縁部の形状の
例を示す図である。 第３図は本発明のラビリンスシールを有する減圧ナエン
バを塗布装置に嵌合設置した説明図である０ 第４図及び第５図はラビリンスシールな施すことによっ
てえられる減圧特性を示すグラフである。 １ 減圧チェンバ ２・・ 塗布ロール３及び３１
・ ラビリンスシール ３１等及び３１１等・・・・シール片 ０１等及び０１１等・・・・・気室 代理人 弁理士 野 １）義 親 第１図 （ｉ） 第２図 （（ｚ） ［１１（ｃｒ ｔＡ ｔｅ
）ｔｐ第３図
フロントラヒリンスシールの付設説明図である。 第２図はラビリンスシールのシール片の上縁部の形状の
例を示す図である。 第３図は本発明のラビリンスシールを有する減圧ナエン
バを塗布装置に嵌合設置した説明図である０ 第４図及び第５図はラビリンスシールな施すことによっ
てえられる減圧特性を示すグラフである。 １ 減圧チェンバ ２・・ 塗布ロール３及び３１
・ ラビリンスシール ３１等及び３１１等・・・・シール片 ０１等及び０１１等・・・・・気室 代理人 弁理士 野 １）義 親 第１図 （ｉ） 第２図 （（ｚ） ［１１（ｃｒ ｔＡ ｔｅ
）ｔｐ第３図
Claims (2)
- （１）塗布液を流延するダイス端と塗布液を塗設するウ
エッブ間に、塗布液ビードを形成し、減圧によって該塗
布液ビードの厚み方向に気体圧差を与えて塗布する塗布
方法に於て、該減圧を気体膨張現象を利用して制御する
ことを特徴とする塗布方法。 - （２）塗布液を流延するダイス端と塗布液を塗設するウ
エッブ間に塗布液ビードを形成し、該塗布液ビードの厚
み方向に気体圧差を与える減圧チェンバを設けたスライ
ドヒート塗布装置に於て、前記減圧チェンバのウエッブ
進入側及び／または側面に、ウエッブに対して非接触な
シール片で仕切られた少くとも１つの気室を設けた減圧
チェンバを有することを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13227784A JPS6111173A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 塗布方法及び塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13227784A JPS6111173A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 塗布方法及び塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6111173A true JPS6111173A (ja) | 1986-01-18 |
Family
ID=15077516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13227784A Pending JPS6111173A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 塗布方法及び塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6111173A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0253858U (ja) * | 1988-10-12 | 1990-04-18 | ||
| JP2003053233A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-02-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗工装置 |
| US7303634B2 (en) | 2002-01-16 | 2007-12-04 | Metso Paper, Inc. | Method and apparatus for feeding a treating agent onto a moving surface |
| KR20090094776A (ko) * | 2008-03-03 | 2009-09-08 | 후지필름 가부시키가이샤 | 캐스팅 장치와, 용액 캐스팅 방법 및 장치 |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP13227784A patent/JPS6111173A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0253858U (ja) * | 1988-10-12 | 1990-04-18 | ||
| JP2003053233A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-02-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗工装置 |
| US7303634B2 (en) | 2002-01-16 | 2007-12-04 | Metso Paper, Inc. | Method and apparatus for feeding a treating agent onto a moving surface |
| KR20090094776A (ko) * | 2008-03-03 | 2009-09-08 | 후지필름 가부시키가이샤 | 캐스팅 장치와, 용액 캐스팅 방법 및 장치 |
| JP2009208296A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 流延装置、溶液製膜方法及び溶液製膜設備 |
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