JPS5924760U - スパツタリング装置 - Google Patents

スパツタリング装置

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Publication number
JPS5924760U
JPS5924760U JP12121582U JP12121582U JPS5924760U JP S5924760 U JPS5924760 U JP S5924760U JP 12121582 U JP12121582 U JP 12121582U JP 12121582 U JP12121582 U JP 12121582U JP S5924760 U JPS5924760 U JP S5924760U
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JP
Japan
Prior art keywords
vacuum chamber
sputtering
exhaust pump
evacuates
vacuum
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Pending
Application number
JP12121582U
Other languages
English (en)
Inventor
潮田 友四郎
Original Assignee
株式会社徳田製作所
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Publication date
Application filed by 株式会社徳田製作所 filed Critical 株式会社徳田製作所
Priority to JP12121582U priority Critical patent/JPS5924760U/ja
Publication of JPS5924760U publication Critical patent/JPS5924760U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は二の考案の一実施例に係るスパッタリング装置
の模式的構成図、第2図は同装置の動作を説明するため
の図である。 1・・・真空容器、6・・・排気系、15・・・クライ
オ式排気ポンプ、27・・・制御装置。 ノXフレフ−14。 1 −「−一一一一1− コニ一一一二ニ

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空容器内において、フィルム状基体の表面に機能薄膜
    としてのスパッタ薄膜を連続的に付着させるようにした
    スパッタリング装置において、主としてスパッタリング
    時に前記真空容器内を排気する機械式排気ポンプと、ス
    パッタリング開始前に上記真空容器内を高真空に排気す
    るクライオ式排気ポンプとを設け、これら排気ポンプを
    切換使用するようにしてなることを特徴とするスパッタ
    リング装置。
JP12121582U 1982-08-10 1982-08-10 スパツタリング装置 Pending JPS5924760U (ja)

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JP12121582U JPS5924760U (ja) 1982-08-10 1982-08-10 スパツタリング装置

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JPS5924760U true JPS5924760U (ja) 1984-02-16

Family

ID=30277518

Family Applications (1)

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JP12121582U Pending JPS5924760U (ja) 1982-08-10 1982-08-10 スパツタリング装置

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JP (1) JPS5924760U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03115755U (ja) * 1990-03-08 1991-11-29

Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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