JPS5939927U - 薄膜生成装置の基板加熱装置 - Google Patents
薄膜生成装置の基板加熱装置Info
- Publication number
- JPS5939927U JPS5939927U JP13623482U JP13623482U JPS5939927U JP S5939927 U JPS5939927 U JP S5939927U JP 13623482 U JP13623482 U JP 13623482U JP 13623482 U JP13623482 U JP 13623482U JP S5939927 U JPS5939927 U JP S5939927U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- heating device
- film production
- substrate
- production equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
、第1図は本考案の第1実施例を示す断面図、第2図は
第2実施例を示す断面図である。 1・・・冷却ファン、2・・・反射ミラー、3・・・赤
外線ランプ、4・・・真空室、5・・・蒸着装置、6・
・・基板ホルダ、7・・・基板、8・・・窓板、9・・
・窓、9a・・・窓枠、10・・・ランプケース、10
a・・・排気口、11・・・スパッタリング装置、12
・・・ガス導入路、13・・・隙間。
第2実施例を示す断面図である。 1・・・冷却ファン、2・・・反射ミラー、3・・・赤
外線ランプ、4・・・真空室、5・・・蒸着装置、6・
・・基板ホルダ、7・・・基板、8・・・窓板、9・・
・窓、9a・・・窓枠、10・・・ランプケース、10
a・・・排気口、11・・・スパッタリング装置、12
・・・ガス導入路、13・・・隙間。
Claims (1)
- 真空室内で基板ホルタにより保持された基板に赤外線ラ
ンプの罫外線を照射し加熱しながら薄膜を生成する装置
において、真空室外に赤外線ランプを設置し、この赤外
線ランプの赤外線を透過する窓板を真空室に設けた窓に
取付けると共に、この窓板に近接対向して基板ホルダを
配置してなる薄膜生成装置の基板加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13623482U JPS5939927U (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 薄膜生成装置の基板加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13623482U JPS5939927U (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 薄膜生成装置の基板加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5939927U true JPS5939927U (ja) | 1984-03-14 |
Family
ID=30306382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13623482U Pending JPS5939927U (ja) | 1982-09-07 | 1982-09-07 | 薄膜生成装置の基板加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5939927U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6290737U (ja) * | 1985-11-28 | 1987-06-10 | ||
JP2011144422A (ja) * | 2010-01-14 | 2011-07-28 | Showa Denko Kk | スパッタリング装置および半導体発光素子の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4842819U (ja) * | 1971-09-22 | 1973-06-01 | ||
JPS499589A (ja) * | 1972-03-23 | 1974-01-28 | ||
JPS56100412A (en) * | 1979-12-17 | 1981-08-12 | Sony Corp | Manufacture of semiconductor device |
-
1982
- 1982-09-07 JP JP13623482U patent/JPS5939927U/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4842819U (ja) * | 1971-09-22 | 1973-06-01 | ||
JPS499589A (ja) * | 1972-03-23 | 1974-01-28 | ||
JPS56100412A (en) * | 1979-12-17 | 1981-08-12 | Sony Corp | Manufacture of semiconductor device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6290737U (ja) * | 1985-11-28 | 1987-06-10 | ||
JP2011144422A (ja) * | 2010-01-14 | 2011-07-28 | Showa Denko Kk | スパッタリング装置および半導体発光素子の製造方法 |
US8882971B2 (en) | 2010-01-14 | 2014-11-11 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Sputtering apparatus and manufacturing method of semiconductor light-emitting element |
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