JPS59212189A - Ｘ線ターゲット用ろう材及びｘ線管回転陽極用複合ターゲット - Google Patents
Ｘ線ターゲット用ろう材及びｘ線管回転陽極用複合ターゲットInfo
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- JPS59212189A JPS59212189A JP8591283A JP8591283A JPS59212189A JP S59212189 A JPS59212189 A JP S59212189A JP 8591283 A JP8591283 A JP 8591283A JP 8591283 A JP8591283 A JP 8591283A JP S59212189 A JPS59212189 A JP S59212189A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
- B23K35/32—Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at more than 1550 degrees C
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、高融点金属材料とグラファイトとの接合用ろ
う材、及びタングステン若しくはその合金／グラファイ
ト又はタングステン若しくはその会合／モリブデン／グ
ラファイトなるＸ線管回転陽極用複合ターゲットにおけ
る該ろう材の利用に関する。
う材、及びタングステン若しくはその合金／グラファイ
ト又はタングステン若しくはその会合／モリブデン／グ
ラファイトなるＸ線管回転陽極用複合ターゲットにおけ
る該ろう材の利用に関する。
近年、高融点金属材料とグラファイトとを接合した部材
を使用した機器が各種の用途に利用さｎてきている。そ
の例には、耐熱容器、耐火材及びＸ線管用複合ターゲッ
ト等がある。
を使用した機器が各種の用途に利用さｎてきている。そ
の例には、耐熱容器、耐火材及びＸ線管用複合ターゲッ
ト等がある。
しかしながら、従来の接合用ろう材及び接合方法では、
ろう材のぬｎ性が阻害さｎ、また接合層に空洞を生じた
り・その厚さが厚い上にバラツキがあるために、その接
合強度に難点が６つ九〇 以下、従来技術及び本発明について、Ｘ＠管回転陽極用
複合ターゲットを例にとり詳細に説明するが、本発明は
そｎに限定さｎるものではない。
ろう材のぬｎ性が阻害さｎ、また接合層に空洞を生じた
り・その厚さが厚い上にバラツキがあるために、その接
合強度に難点が６つ九〇 以下、従来技術及び本発明について、Ｘ＠管回転陽極用
複合ターゲットを例にとり詳細に説明するが、本発明は
そｎに限定さｎるものではない。
従来からＸ線管回転陽極用ターゲットとしてｔまタング
ステン（以下、Ｗと略記する）の単板が使用さｎてきた
。その性能改善のため、Ｗに少量のレニウム（以下、Ｒ
ｅ と略記する）又はオスミウムなどを添加したＷ合金
が用いらｎている。最近医療機器用のＸ ＠ｉ ０ Ｔ
（Ｃｏｍｐｕｔｅｄｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）用のＸ線
管の需要が多く、また画像の鮮明化と撮影時間の短縮の
ため大容量のものが要求さｎてきている。このためター
ゲットの構成としては、直径を大きくすると共に軽量化
する必要がおる。このために、ターゲットの電子衝撃面
のみにＷ合金を用い、その裏面の部分に、比重が小はく
、しかも比熱の大きなモリブデン（以下、Ｍｏ と略
記する）やグラファイト（以下、Ｇｔ と略記する）１
−合体させた＼Ｗ若しくはその合金／ Ｍ ｏ／Ｇ を
又Ｆｉｗ若しくはその合金／Ｇ ｔのような複合ターゲ
ットが開発さｎてきた・ そのような複合ターゲットを、添付図面の第１図に示す
。すなわち第１図は、従来のＸ線管回転陽極用複合ター
ゲットの縦断面概略図でおる。第１図において、符号１
は電子衝撃部（Ｗ又はＷ合金）、２ＦｉＭｏｓ５はＧｔ
、 ４は中間層、５Ｆｉ回転軸を意味する。こｎら複
合ターゲットの製造方法としては、ＯＶＤ、溶射及び接
合法等があるが、特に価格の点で接合法が有利でおる。
ステン（以下、Ｗと略記する）の単板が使用さｎてきた
。その性能改善のため、Ｗに少量のレニウム（以下、Ｒ
ｅ と略記する）又はオスミウムなどを添加したＷ合金
が用いらｎている。最近医療機器用のＸ ＠ｉ ０ Ｔ
（Ｃｏｍｐｕｔｅｄｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）用のＸ線
管の需要が多く、また画像の鮮明化と撮影時間の短縮の
ため大容量のものが要求さｎてきている。このためター
ゲットの構成としては、直径を大きくすると共に軽量化
する必要がおる。このために、ターゲットの電子衝撃面
のみにＷ合金を用い、その裏面の部分に、比重が小はく
、しかも比熱の大きなモリブデン（以下、Ｍｏ と略
記する）やグラファイト（以下、Ｇｔ と略記する）１
−合体させた＼Ｗ若しくはその合金／ Ｍ ｏ／Ｇ を
又Ｆｉｗ若しくはその合金／Ｇ ｔのような複合ターゲ
ットが開発さｎてきた・ そのような複合ターゲットを、添付図面の第１図に示す
。すなわち第１図は、従来のＸ線管回転陽極用複合ター
ゲットの縦断面概略図でおる。第１図において、符号１
は電子衝撃部（Ｗ又はＷ合金）、２ＦｉＭｏｓ５はＧｔ
、 ４は中間層、５Ｆｉ回転軸を意味する。こｎら複
合ターゲットの製造方法としては、ＯＶＤ、溶射及び接
合法等があるが、特に価格の点で接合法が有利でおる。
接合法による場合、上記４は接合用ろう材からなる接合
層である。
層である。
しかして、従来行わｎている接合法には問題点がある。
すなわち、Ｗ若しくはその合金又はＭＯとＧｔとの接合
は、金属とセラミックとの接合であるので、その接合法
には種種の問題点がある。
は、金属とセラミックとの接合であるので、その接合法
には種種の問題点がある。
まず、従来上記のような接合には、ろう材として、ジル
コニウム（以下、Ｚｒ （！：略記する）、チタン（
以下、Ｔ１ と略記する）、ＭＯ，ｗ及ヒＲｅ などの
金属粉にエチルセルロース等の有機溶剤を加えてペース
ト状にしたものをＧｔ基板Ｋｍ布し、次いでＷ合金板等
を重ね合せ、真空中で高温に加熱加圧して接合を行う。
コニウム（以下、Ｚｒ （！：略記する）、チタン（
以下、Ｔ１ と略記する）、ＭＯ，ｗ及ヒＲｅ などの
金属粉にエチルセルロース等の有機溶剤を加えてペース
ト状にしたものをＧｔ基板Ｋｍ布し、次いでＷ合金板等
を重ね合せ、真空中で高温に加熱加圧して接合を行う。
この従来法では、製造中に溶剤から排出さｎる水分、不
純物及び解離した酸化物によってろう材の酸化が促進さ
Ｎ１融体が酸化物層で包囲さｎた形となって、ぬｎ性が
著しく阻害される結果、健全な接合層を形成できない欠
点がある。また、従来法では、接合層の組成及び厚さを
一定にすることが困難であるので、接合層に大きな空洞
及び酸化物の巻込みが生じたり、厚さにバラツキが生じ
たシした。その結果、接合強度の面においても難点があ
った。
純物及び解離した酸化物によってろう材の酸化が促進さ
Ｎ１融体が酸化物層で包囲さｎた形となって、ぬｎ性が
著しく阻害される結果、健全な接合層を形成できない欠
点がある。また、従来法では、接合層の組成及び厚さを
一定にすることが困難であるので、接合層に大きな空洞
及び酸化物の巻込みが生じたり、厚さにバラツキが生じ
たシした。その結果、接合強度の面においても難点があ
った。
本発明は、従来技術の問題点を解決するためになさｎた
ものであり、その目的は、高融点金属材料とＧｔ との
新たな接合用ろう材、そｆ′Ｌヲ使用した接合強度の改
良さｎたＸ＠管回転陽極用複合ターゲットヲ提供するこ
とにある。
ものであり、その目的は、高融点金属材料とＧｔ との
新たな接合用ろう材、そｆ′Ｌヲ使用した接合強度の改
良さｎたＸ＠管回転陽極用複合ターゲットヲ提供するこ
とにある。
本発明を概説すｎば、本発明の第１の発明は、高融点金
属材料とＧｔ との接合用ろう材に関する発明であって
、そｎが、Ｚｒ単体・Ｗ分が５０重量％以下のＺｒ−Ｗ
合金、Ｍｏ分が３０重量％以下のＺｒ−ＭＯ合金、Ｗ分
が３０重量％以下でニッケル（以下、ｎｉと略記する）
分が２０重量％以下のＺｒ−Ｗ−Ｎｉ合金、Ｍｏ分が３
０重量−以下でＮｉ分が２０重量％以下のＺｒ−Ｍｏ−
Ｎｉ合金、Ｔ１、ニオブ（以下、Ｎｌ）と略記する）及
びタンタル（以下、Ｔａと略記する）よりなる群から選
択した金属材料の１種の表面に、厚さＱ、０１〜２０μ
ｍのＮ１又はコバルト（以下、ＣＯと略記する）層を設
けたクラツド箔であることを特徴とする。
属材料とＧｔ との接合用ろう材に関する発明であって
、そｎが、Ｚｒ単体・Ｗ分が５０重量％以下のＺｒ−Ｗ
合金、Ｍｏ分が３０重量％以下のＺｒ−ＭＯ合金、Ｗ分
が３０重量％以下でニッケル（以下、ｎｉと略記する）
分が２０重量％以下のＺｒ−Ｗ−Ｎｉ合金、Ｍｏ分が３
０重量−以下でＮｉ分が２０重量％以下のＺｒ−Ｍｏ−
Ｎｉ合金、Ｔ１、ニオブ（以下、Ｎｌ）と略記する）及
びタンタル（以下、Ｔａと略記する）よりなる群から選
択した金属材料の１種の表面に、厚さＱ、０１〜２０μ
ｍのＮ１又はコバルト（以下、ＣＯと略記する）層を設
けたクラツド箔であることを特徴とする。
また本発明の第２の発明は、Ｗ若しくはその合金／ａｔ
又はＷ若しくはその合金／ Ｍｏ ／ ＧｔなるＸ線管
回転陽極用複合ターゲットに関する発明であって、その
Ｗ若しくはその合金又はＭ。
又はＷ若しくはその合金／ Ｍｏ ／ ＧｔなるＸ線管
回転陽極用複合ターゲットに関する発明であって、その
Ｗ若しくはその合金又はＭ。
とＧｔ との接合用ろう材が、本発明の第１の発明のろ
う材であるとと′１に特徴とする。
う材であるとと′１に特徴とする。
更に本発明の第３の発明は、前記第２の発明のＸ線管回
転陽極用複合ターゲットに関する発明であって、そのＷ
若しくはその合金又はＭＯとＧｔとの接合用ろう材が、
Ｚｒ単体、Ｗ分が３０重量−以下のＺｒ−Ｗ合金、Ｗ分
が３０重量％以下でＮｉ分が２０重量％以下のＺｒ−Ｗ
−Ｎｉ合金、Ｍｏ分が３０重量−以下のＺｒ−Ｍｏ合金
及びＭｏ分が５０重量％以下でＮｉ分が２０重量−以下
のＺｒ−Ｍｏ−Ｎｉ合金よりなる群から選択し几金属材
料の１ｍの表面に、厚さα０１〜２０μｍのＮｉ層を設
けたクラツド箔でラフ、更に該Ｗ若しくはその合金又は
ＭＯと該ろう材との間にＭＯ又はＷ粉末を、該ろう材と
Ｇｔとの間にＺｒ粉末を設けて接合を行って製造したも
のであることを特徴とする。
転陽極用複合ターゲットに関する発明であって、そのＷ
若しくはその合金又はＭＯとＧｔとの接合用ろう材が、
Ｚｒ単体、Ｗ分が３０重量−以下のＺｒ−Ｗ合金、Ｗ分
が３０重量％以下でＮｉ分が２０重量％以下のＺｒ−Ｗ
−Ｎｉ合金、Ｍｏ分が３０重量−以下のＺｒ−Ｍｏ合金
及びＭｏ分が５０重量％以下でＮｉ分が２０重量−以下
のＺｒ−Ｍｏ−Ｎｉ合金よりなる群から選択し几金属材
料の１ｍの表面に、厚さα０１〜２０μｍのＮｉ層を設
けたクラツド箔でラフ、更に該Ｗ若しくはその合金又は
ＭＯと該ろう材との間にＭＯ又はＷ粉末を、該ろう材と
Ｇｔとの間にＺｒ粉末を設けて接合を行って製造したも
のであることを特徴とする。
本発明にお−て、ろう材のうちＷ又ｄＭｏ含有合金にお
けるＷ又はＭｏの含有率は、３０重量％以下が必須であ
る。そ′ｎは、３０重量％超では・Ｚｒ−Ｗ又ＦｉＺｒ
−Ｎｏの化合物が析出し、延性を阻害するので箔を得る
ことが不可能であるからである◎他方、Ｎｉ含有合金に
おいては、Ｗ又ｉｊＭｏが共存しないとＮ１分が多過ぎ
てＧｔ が浸食さｎるので、Ｗ又はＭｏの共存が必須要
件である。
けるＷ又はＭｏの含有率は、３０重量％以下が必須であ
る。そ′ｎは、３０重量％超では・Ｚｒ−Ｗ又ＦｉＺｒ
−Ｎｏの化合物が析出し、延性を阻害するので箔を得る
ことが不可能であるからである◎他方、Ｎｉ含有合金に
おいては、Ｗ又ｉｊＭｏが共存しないとＮ１分が多過ぎ
てＧｔ が浸食さｎるので、Ｗ又はＭｏの共存が必須要
件である。
また、Ｎｉ含有合金におりて、Ｎ１の含有率が２０重量
％超では、Ｚｒ−Ｎｉの化合物が生成し、延性を著しく
阻害するので不適当である・更に、ろう材表面に設ける
Ｎ１又ＵＣＯ層の厚さＦｉａ ０１〜２０ ｐｍが適肖
でちる・そｎｔ＝ｔ。
％超では、Ｚｒ−Ｎｉの化合物が生成し、延性を著しく
阻害するので不適当である・更に、ろう材表面に設ける
Ｎ１又ＵＣＯ層の厚さＦｉａ ０１〜２０ ｐｍが適肖
でちる・そｎｔ＝ｔ。
１０１μｍ未満では、Ｎｉ又はＣｏ層とＧｔ基板とのぬ
ｎ性が十分でないため、接合を行うことができず、他方
２０ｐｖｔ超では、Ｎ１又ＦｉＯｏとＧｔとが反応して
Ｇｔが浸食さ九、接合層の剥離を生じやすいからである
。
ｎ性が十分でないため、接合を行うことができず、他方
２０ｐｖｔ超では、Ｎ１又ＦｉＯｏとＧｔとが反応して
Ｇｔが浸食さ九、接合層の剥離を生じやすいからである
。
次に、本発明のろう材を用いて、Ｘ線管回転陽極用複合
ターゲットを製造するには、接合部に本発明のろう材で
あるクラツド箔を配置し、次いで真空中又は不活性ガス
中で、静圧又は加圧して加熱接合を行えばよい。
ターゲットを製造するには、接合部に本発明のろう材で
あるクラツド箔を配置し、次いで真空中又は不活性ガス
中で、静圧又は加圧して加熱接合を行えばよい。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、不発
＃ＪｉｌｔこｎらＫよル限定さ九るものでない。
＃ＪｉｌｔこｎらＫよル限定さ九るものでない。
なお、第２図〜第６図は、本発明の複合ターゲットの接
合層付近の断面組織の顕微鏡写真である。
合層付近の断面組織の顕微鏡写真である。
各図において、符号２１ｕＸ線管用Ｗ−Ｒθ合金、４１
は接合層、５ ＦｉＧｔを意味するＯ実施例１ Ｗが２８重量％、Ｎ１が［ＬＳ重量％、Ｚｒが残部なる
Ｚｒ −Ｗ −Ｎｉ合金に、厚さ０．０８ ｐｍのＮｉ
層を設けて、厚さ４０μｍのクラツド箔なる本発明のろ
う材を製造した０ 実施例２ 第１図に示したような、Ｘ線管用Ｗ−Ｒｅ合金／Ｇｔ複
合ターゲットｔ−製造するため、接合用ろう材として実
施例１に記載のろう材を使用し、真空中、１５５０℃で
静圧又は加圧下にａ５時間加熱接合を行った。得らｔし
た接合層付近の顕微鏡写真１ｃ第２図に示す。第２図か
ら明らかなように、空洞がなく、非常に健全で、４０μ
ｍ程度の薄い接合層が観察名ｎ１接合強度の優ｆ′Ｌ几
複合ターゲットを得ることができた。
は接合層、５ ＦｉＧｔを意味するＯ実施例１ Ｗが２８重量％、Ｎ１が［ＬＳ重量％、Ｚｒが残部なる
Ｚｒ −Ｗ −Ｎｉ合金に、厚さ０．０８ ｐｍのＮｉ
層を設けて、厚さ４０μｍのクラツド箔なる本発明のろ
う材を製造した０ 実施例２ 第１図に示したような、Ｘ線管用Ｗ−Ｒｅ合金／Ｇｔ複
合ターゲットｔ−製造するため、接合用ろう材として実
施例１に記載のろう材を使用し、真空中、１５５０℃で
静圧又は加圧下にａ５時間加熱接合を行った。得らｔし
た接合層付近の顕微鏡写真１ｃ第２図に示す。第２図か
ら明らかなように、空洞がなく、非常に健全で、４０μ
ｍ程度の薄い接合層が観察名ｎ１接合強度の優ｆ′Ｌ几
複合ターゲットを得ることができた。
上側において、Ｗの代りにＭｏ ｆ含有する合金を使用
して同様な結果を得た。
して同様な結果を得た。
実施例５
Ｚｒ金属の表面に、厚さＱ、０５μｍのＣｏ層を設けて
１厚さ４ Ｑ ｐｍのクラツド箔なる本発明のろう＠を
製造した。
１厚さ４ Ｑ ｐｍのクラツド箔なる本発明のろう＠を
製造した。
実施例４
実施例３において、Ｚｒ金属の代夛にＴ１金属を使用し
て、ろう材を製造した。
て、ろう材を製造した。
実施例５
実施例２に記載の方法と同様にして、ろう材として実施
例３に記載のろう材を使用し、真空中、１６００℃で２
０分間加圧して加熱接合を行った。得ら；ｒＬ［接合層
付近の顕微鏡写真を第３図に示す。第６図から明らかな
ように、空洞のない健全な接合層が形成さｎている。
例３に記載のろう材を使用し、真空中、１６００℃で２
０分間加圧して加熱接合を行った。得ら；ｒＬ［接合層
付近の顕微鏡写真を第３図に示す。第６図から明らかな
ように、空洞のない健全な接合層が形成さｎている。
実施例６
実施例５におりて、ろう材として実施例４に記載のろう
材を使用した以外は同条件で接合を行った。得らｎた接
合層付近の顕微鏡写真を第４図に示す。第４図から明ら
かなように、実施例５と同様の結果を得た。
材を使用した以外は同条件で接合を行った。得らｎた接
合層付近の顕微鏡写真を第４図に示す。第４図から明ら
かなように、実施例５と同様の結果を得た。
この例において、Ｔ１金属の代りにＮｔ）又けＴａ金属
を用いたろう材を使用して同様な結果を得た。
を用いたろう材を使用して同様な結果を得た。
実施例７
Ｔａ金属の表面にＮ１めっき全施し、次いで真空中、８
００℃で焼鈍して冷圧により表面層のＮｉの厚さが０．
０８ ｐｍのＴｉ −Ｎｉクラツド箔（４０μ？Ｆｌ）
なる本発明のろう材を製造したＯ 実施例８ 実施例２に記載の方法と同様処して、ろう材として実施
例７に記載のろう材を使用し、真空中、１６００℃で１
０分間静圧して加熱接合を行った。得らｎた接合層付近
の顕微鏡写真を第５図に示す。第５図から明らがなよう
に、空洞のない強固な接合層が形成さｎている。
００℃で焼鈍して冷圧により表面層のＮｉの厚さが０．
０８ ｐｍのＴｉ −Ｎｉクラツド箔（４０μ？Ｆｌ）
なる本発明のろう材を製造したＯ 実施例８ 実施例２に記載の方法と同様処して、ろう材として実施
例７に記載のろう材を使用し、真空中、１６００℃で１
０分間静圧して加熱接合を行った。得らｎた接合層付近
の顕微鏡写真を第５図に示す。第５図から明らがなよう
に、空洞のない強固な接合層が形成さｎている。
この例において、Ｔ１金属の代ルにＮｂ又はＴ＆金金属
用いたろう材を使用して同様な結果を得た。
用いたろう材を使用して同様な結果を得た。
実施例９
実施例２に記載の方法と同様にして、ろう材として同じ
〈実施例１に記載のろう材を使用し、更に、ろう材とＷ
合金基体との間にＭＯ粉末を、ま友ろう材とＧｔ基板と
の間にｚｒ粉末を設けて接合を行った。得らｎ７’（接
合層付近の顕微鏡写真を第６図に示す。第６図から明ら
かなように、空洞がなく、１００μｍ厚程匿の健全な接
合層が観察さｎ、接合強度の優また複合ターゲットを得
ることができ友。
〈実施例１に記載のろう材を使用し、更に、ろう材とＷ
合金基体との間にＭＯ粉末を、ま友ろう材とＧｔ基板と
の間にｚｒ粉末を設けて接合を行った。得らｎ７’（接
合層付近の顕微鏡写真を第６図に示す。第６図から明ら
かなように、空洞がなく、１００μｍ厚程匿の健全な接
合層が観察さｎ、接合強度の優また複合ターゲットを得
ることができ友。
以上の各実施例は、Ｗ合金／ Ｇ を複合ターゲットに
つめて例示したが、Ｗ若しくはその合金／ Ｍ Ｏ／
Ｇ を複合ターゲットについても、前記各実施例と同様
にして、同様な結果を得た。
つめて例示したが、Ｗ若しくはその合金／ Ｍ Ｏ／
Ｇ を複合ターゲットについても、前記各実施例と同様
にして、同様な結果を得た。
以上詳細に説明したように、本発明のろう材は、ぬれ性
が改良さｎたので、酸化物の巻込みなく、空洞のなめ接
合層が得らｎる。しかも、このろう材自体の強度が高く
、安価なため経済的に有利である。したがって、本発明
のろう材は、Ｘ線管回転陽極用複合ターゲットにおいて
、接合用ろう材として有用なものである。本発明のろう
材は、本発明のＸ線管回転陽極用複合ターゲットの接合
部が加熱さｎる１３５０℃以上の融点を持っているので
有利であるばかりでなく、熱伝導性が良く、熱膨張率差
による接合層の剥離がなく、接合方法が簡単であるので
、複合ターゲット’ｒ経済的有利に製造することができ
るという顧著な効果が奏せらｎた。
が改良さｎたので、酸化物の巻込みなく、空洞のなめ接
合層が得らｎる。しかも、このろう材自体の強度が高く
、安価なため経済的に有利である。したがって、本発明
のろう材は、Ｘ線管回転陽極用複合ターゲットにおいて
、接合用ろう材として有用なものである。本発明のろう
材は、本発明のＸ線管回転陽極用複合ターゲットの接合
部が加熱さｎる１３５０℃以上の融点を持っているので
有利であるばかりでなく、熱伝導性が良く、熱膨張率差
による接合層の剥離がなく、接合方法が簡単であるので
、複合ターゲット’ｒ経済的有利に製造することができ
るという顧著な効果が奏せらｎた。
第１図は従来のＸ線管回転陽極用複合ターゲットの縦断
面概略図、第２図〜第６図は、本発明のＸ線管回転陽極
用複合ターゲットの接合層付近の断面組織の顕微鏡写真
である。 １：電子衝撃部、２：Ｗ合金又ｉｉＭｏ、２１：Ｘ線管
用Ｗ −Ｒｅ合金、３：Ｇｔ、４：中間層、４１：接合
層、５：回転軸 特許出願人 株式会社 日立製作所 間 株式会社 日立メデイコ 代理人 中本 宏 ′！ｆ）／図 第５図 第６図 第１頁の続き ０発 明 者 坂本広志 日立市幸町３丁目１番１号株式 ％式％ ０出 願 人 株式会社日立メディコ 東京都千代田区内神田１丁目１ 番１４号
面概略図、第２図〜第６図は、本発明のＸ線管回転陽極
用複合ターゲットの接合層付近の断面組織の顕微鏡写真
である。 １：電子衝撃部、２：Ｗ合金又ｉｉＭｏ、２１：Ｘ線管
用Ｗ −Ｒｅ合金、３：Ｇｔ、４：中間層、４１：接合
層、５：回転軸 特許出願人 株式会社 日立製作所 間 株式会社 日立メデイコ 代理人 中本 宏 ′！ｆ）／図 第５図 第６図 第１頁の続き ０発 明 者 坂本広志 日立市幸町３丁目１番１号株式 ％式％ ０出 願 人 株式会社日立メディコ 東京都千代田区内神田１丁目１ 番１４号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 高融点金属材料とグラファイトとの接合用ろう材
にお−て、そｎがジルコニウム単体、タングステン分が
３０重量％以下のジルコニウム−タングステン合金、モ
リブデン分が３０重量％以下のジルコニウム−モリブデ
ン合金、タングステン分が３０重ｉｔ％以下でニッケル
分が２０重量％以下のジルコニウム−タングステン−ニ
ッケル合金、モリブデン分が３０重量％以下でニッケル
分が２０重量−以下のジルコニウム−モリブデン−ニッ
ケル合金、チタン、ニオブ及びタンタルよりなる群から
選択した金属材料の１種の表面に、厚さａ、０１〜２０
μｍのニッケル又はコバルト層を設けたクラツド箔でお
ることを特徴とするろう材・２ タングステン若しくは
その合金／グラファイト又はタングステン若しくはその
合金／モリブデン／グラファイトなるＸ線管回転陽極用
複合ターゲットにお−て、そのタングステン若しくはそ
の合金又はモリブデンとグラファイトとの接合用ろう材
がジルコニウム単体、タングステン分が５０重量％以下
のジルコニウム−タングステン合金、モリブデン分カニ
３０重量−以下のジルコニウム−モリブデン合金、タン
グステン分が５０重量％以下でニッケル分が２０重量％
以下のジルコニウム−タングステン−ニッケル合金、モ
リブデン分が３０重量％以下でニッケル分が２０重量％
以下のジルコニウム−モリブデン−ニッケル合金、チタ
ン、ニオブ及びタンタルよＶなる群から選択した金属材
料の１種の表面に、厚さα０１〜２０μｍのニッケル又
はコバルト層を設けたクラツド箔であるとと′ｔ−特徴
とするＸ線管回転陽極用複合ターゲットＯ 五 タングステン若しくはその合金／グラファイト又は
タングステン若しくはその合金／モリブデン／グラファ
イトなるＸ線管回転陽極用複合ターゲットにおいて、そ
のタングステン若しくはその合金又はモリブデンとグラ
ファイトとの接合用ろう材が、ジルコニウム単体、タン
グステン分が３０重量％以下のジルコニウム〜タングス
テン合金、モリブデン分が５０重量−以下のジルコニウ
ム−モリブデン合金、タングステン分が３０重量％以下
でニッケル分が２０重量％以下のジルコニウム−タング
ステン−ニッケル合金及びモリブデン分が３０重量−以
下でニッケル分が２０重量％以下のジルコニウム−モリ
ブデン−ニッケル合金よりなる群から選択した金属材料
の１種の表面に、厚さ０．０１〜２０μｍのニッケル層
を設けたクラツド箔であり、更に該タングステン若しく
はその合金又はモリブデンと該ろう材との間にモリブデ
ン又はタングステン粉末を、該ろう材とグラファイトと
の間にジルコニウム粉末を設けて接合を行って製造した
ものであることを特徴とするＸ線管回転陽極用複合ター
ゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58085912A JPH0771759B2 (ja) | 1983-05-18 | 1983-05-18 | Ｘ線ターゲット用ろう材及びｘ線管回転陽極用複合ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58085912A JPH0771759B2 (ja) | 1983-05-18 | 1983-05-18 | Ｘ線ターゲット用ろう材及びｘ線管回転陽極用複合ターゲット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59212189A true JPS59212189A (ja) | 1984-12-01 |
| JPH0771759B2 JPH0771759B2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=13872020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58085912A Expired - Lifetime JPH0771759B2 (ja) | 1983-05-18 | 1983-05-18 | Ｘ線ターゲット用ろう材及びｘ線管回転陽極用複合ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0771759B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63211547A (ja) * | 1986-12-31 | 1988-09-02 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | Ｘ線管ターゲットおよびその製法 |
| US5334344A (en) * | 1990-11-13 | 1994-08-02 | Endress U. Hauser Gmbh U. Co. | Ternary active brazing based on a zirconium-nickel alloy |
| JPH0753277A (ja) * | 1993-08-13 | 1995-02-28 | Nec Corp | 黒鉛と金属の接合方法 |
| JP7048061B1 (ja) * | 2021-08-20 | 2022-04-05 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 炭素材とタングステン材の接合体とその製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53120658A (en) * | 1977-03-30 | 1978-10-21 | Seiko Epson Corp | Improved brazing filler metal |
| JPS53140987A (en) * | 1977-04-18 | 1978-12-08 | Gen Electric | Rotary anode xxray tube structure |
| JPS5455015A (en) * | 1977-10-12 | 1979-05-01 | Hitachi Chemical Co Ltd | Method of bonding copper and ceramic |
| JPS5595685A (en) * | 1979-01-12 | 1980-07-21 | Tokyo Shibaura Electric Co | Ceramiccmetal sealed structure |
| JPS56146358U (ja) * | 1980-04-05 | 1981-11-04 |
-
1983
- 1983-05-18 JP JP58085912A patent/JPH0771759B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53120658A (en) * | 1977-03-30 | 1978-10-21 | Seiko Epson Corp | Improved brazing filler metal |
| JPS53140987A (en) * | 1977-04-18 | 1978-12-08 | Gen Electric | Rotary anode xxray tube structure |
| JPS5455015A (en) * | 1977-10-12 | 1979-05-01 | Hitachi Chemical Co Ltd | Method of bonding copper and ceramic |
| JPS5595685A (en) * | 1979-01-12 | 1980-07-21 | Tokyo Shibaura Electric Co | Ceramiccmetal sealed structure |
| JPS56146358U (ja) * | 1980-04-05 | 1981-11-04 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63211547A (ja) * | 1986-12-31 | 1988-09-02 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | Ｘ線管ターゲットおよびその製法 |
| JPH0472347B2 (ja) * | 1986-12-31 | 1992-11-18 | Gen Electric | |
| US5334344A (en) * | 1990-11-13 | 1994-08-02 | Endress U. Hauser Gmbh U. Co. | Ternary active brazing based on a zirconium-nickel alloy |
| US5351938A (en) * | 1990-11-13 | 1994-10-04 | Endress U. Hauser Gmbh U. Co. | Apparatus for fabricating a foil |
| JPH0753277A (ja) * | 1993-08-13 | 1995-02-28 | Nec Corp | 黒鉛と金属の接合方法 |
| JP7048061B1 (ja) * | 2021-08-20 | 2022-04-05 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 炭素材とタングステン材の接合体とその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0771759B2 (ja) | 1995-08-02 |
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