JPS59193235A - 複合型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はＣｏ　−Ｎｂ　−Ｚｒ系非晶質磁性合金に係り
、特に磁気ヘッド材料として好適なＣｏ　−Ｎｂ　−Ｚ
ｒ系非晶質磁性合金に関する。

〔発明の背景〕

近年、磁気記録技術は高保磁力テープおよび同テープ用
の高性能磁気ヘッド材料の開発にょシ著るしい進展を遂
げつつある。特に高保磁力のメタルテープを用いた場合
には、記録波長数μｍから１μｍ以下の高記録密度の領
域において、従来に比して著るしい出力の増加、Ｃ／Ｎ
　（出力−ノイズ比）の増加が達成され、ＶＴＲなどの
高記録密度が必要とされる分野において大幅な記録密度
の向上が達成されつつある。しかし、従来ＶＴＲなどに
用いられて来たフェライトを用いた磁気ヘッドでゆ、フ
ェライトの飽和磁束密度が約５０００ガウス以下である
ために、記録磁界の大きさが十分でなく、高保磁カメタ
ルテープを使用するためには飽和磁束密度の大きい金属
磁性材料を用いた磁気ヘッドが必要になって来−た。従
来用いられて来た金属磁性材料としてはＦｅ　−、Ａｌ
−８ｉ系合金、あるいはＦｅ−Ｎｉ系合金などの結晶質
合金があシ、まだ最近開発された非晶質磁性合金がある
。Ｆｅ　−ｋｌ−８ｉ系あるいはＦｅ−Ｎｉ系などの結
晶質合金は、結晶であるがゆえに結晶磁気異方性を有し
ておシ、磁気ヘッドに好適な優れた磁気特性、特に高い
透磁率を得るためには、結晶磁気異方性が零となる近傍
の組成としなければならない。また磁気ヘッドに使用す
るだめには、同時に磁歪定数も零に近くしなければ彦ら
ず、従って、使用できる組成は極めて限られており、組
成の制御が困難であるという問題があった。非晶質磁性
合金は前記結晶磁気異方性がないため、磁歪定数のみを
調整すればよく、使用可能な組成が比較的広いこと、誘
導磁気異方性による透磁率の劣化が適当な熱処理により
改善できること、結晶質合金では得られない高飽和磁束
密度で、低保磁力の合金が得られること、電気抵抗が高
いため渦電流損失を低減できること、などの種々の利点
がある。この非晶質磁性合金の中で、メタロイド元素を
含１ない金属−金属系非晶質合金は、金属−メタロイド
系非晶質合金よりも結晶化温度が高く、また耐食性、耐
摩耗性に優れているため磁気ヘッド用として有望である
。

これらの非晶質磁性合金は従来スプラットクーリング法
によって作製され、厚さ１０〜５０μｍの薄板状のもの
が得られていた。一方、非晶質磁性合金をスパッタリン
グなどの薄膜形成技術によシ作製することが近年性なわ
れるようにカシ、試料の酸化などのために作りにくかっ
た組成の非晶質磁性合金も作製が可能となった。また、
薄膜形成技術によれば、非晶質合金膜と酸化物などの絶
縁物膜を多層に積層することも容易であり、これにより
渦電流損失を低減でき、高周波で用いるＶＴＲ。

用磁気ヘッド、計算機用磁気ヘッドに好適な材料を提供
できる。さらに磁気ヘッドのギャップ近傍１にのみ非晶
質磁性合金を用い、他を磁性フェライトとした複合型磁
気ヘッド、あるいは薄膜磁気ヘッドなどへの応用が期待
されている。

金属−金属系非晶質磁性−合金のうち、比較的作製しや
すく、特性も優れたＺｒを含む非晶質磁性。

合金は、特開昭５５−１３８０４９号公報および特開昭
５６−８４４３９号公報に述べられている。

本発明者らは、これらのＺｒ系非晶質磁性合金薄膜をス
パッタリング法により作製し、特性を測定した所、Ｃｏ
　−Ｎｂ−Ｚｒ系非晶質磁性合金において、上記公開公
報に述べられている組成を有し、飽和磁束密度が約７．
５ｋＧ以上の特性を有する合金は磁歪定数が比較的大き
く、むしろ、上記公開公報に述べられている組成以外の
組成において、磁歪定数零を含む磁歪定数（絶対値）の
著るしく小さな領域が存在することを見出した。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、７．５ｋＧ以上の飽和磁束密度を有し
、かつ磁歪の絶対値の著るしく小さいＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ
系非晶質磁性合金、特にスパッタリングなどの薄膜形成
技術により作製したＣｏ　−Ｎｂ　−Ｚｒ゛　系非晶質
磁性合金で、高性能磁気ヘッド材料として好適な合金を
提供することにある。

〔発明の概要および実施例〕

以下に実験により得られたＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ系非晶質
磁性合金の特性を図により説明する。第１図は高周波２
極プラズマスパツタリング装置を用いて作製したＣ０−
Ｎｂ−Ｚｒ系非晶質磁性合金膜の組成と飽和磁束密度Ｂ
ｓ、磁歪定数λＳ、結晶化温度′販の関係を示したもの
である。実験において、スパッタリングはアルゴン圧５
ｘ　１Ｑ　　Ｔｏｒｒ　、　高周波電力２５０Ｗ、基板
水冷の条件で行なった。膜厚は約１．５μｍｆ、Ｉｓる
。図はＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ系三角図のうち、Ｃ０８０原
子係（以後は単に係で示す）以−にの部分のみを示した
。図中、斜線部分は非晶質と結晶質の境界部分であり、
これよりＣｏの多い組成で結晶質に、Ｃｏの少ない組成
で非晶質となる。この境界部分では作製条件の変化によ
って非晶質となったり、結晶質となったり、あるいは両
者の混合状態となったりする。図中、破線は飽和磁束密
度Ｂｓの等高線を示し、Ｃｏ含有量が多くなるほど飽和
磁束密度Ｂｓは大となる。一点鎖線は結晶化温度Ｔｘの
等高線を示し、ＣｏおよびＮｌ）含有量が多く々るほど
結晶化温度Ｔｘは低くなる。

実線は磁歪定数λＳの等高線を示し、Ｚｒ　３％で約ぼ
、Ｎｂ　　Ｚｒ’＝３　：　１　　の組成で磁歪′定数
Ｏとなっている。保磁力は非晶質合金の領域では約［３
，２０ｅの小さな値を示す。このようにＣｏ　ｓｏ　１
以上の組成では、Ｚｒ　５φ以下に磁歪定数零あるいは
磁歪定数の絶対値が極めて小さい領域が存在する。以」
―の特性は他の薄膜形成装置により作製した非晶質磁性
合金膜、例えば、三極あるいは四極プラズマ高速スパッ
タリング法、高速マダイ・トロ／スパッタリング法、イ
オンビームスパッタリング法、イオンブレーティング法
、真空蒸着法により作製した非晶質磁性合金膜でも同様
である。

一方、従来の例では、特開昭５５−１３８０４９号公報
にＺｒ　５％以下では非晶質磁性合金の作製が困難であ
り、また、特開昭５６−８４４３９号公報にはＺｒ　７
　％以下では同じく非晶質磁性合金の作製が困難である
と述べられている。さらに壕だ、特開昭５７−ｉ５５３
３９号公報にもＺｒが７φ以下では合金が曖くなるので
好壕しくないと述べられている。

以上説明したように、本発明は磁歪定数が零あろいは磁
歪定数の絶対値が極めて小さいＣｏ　−ＮｂＺ　ｒ系非
晶質磁性合金を上記従来の例にないＺｒ５％以下の組成
領域において提供するものである。

なお、スパッタリング法により作製したＣ　Ｏｓ７　Ｎ
　ｂ　ａＺｒｓ　（原子係で示す）は磁歪定数零を示す
ことが知られているが（東北犬通研シンポジウム「垂直
磁気記録」論文集１９８２’−３）、この組成も第１図
に示した本実験における磁歪定数零の組成からずれてい
る。

本実験の結果により明らかになった特性によし磁気へノ
ド等に好適ｉ　Ｃｏ　−Ｎｌ−１＝Ｚｒ系非晶質磁性合
金は第２図に示した三角図において、Ａ点（８１％Ｃ０
１１４％Ｎｂ、５％Ｚｒ）、Ｂ点ｃ　ｓｓ　ｓ　ｃｏ、
９％　Ｎｌ）、６％Ｚｒ）、Ｃ点（８６，５％　Ｃｏ、
１２．５％Ｎ＋）、１％Ｚｒ　）、Ｄ点（８１％　Ｃｏ
、１８％Ｎｂ、１％Ｚｒ）の各点を結んだ直線で囲まれ
た範囲内の組成を有するものである。ここで、Ａ点とＤ
点を結ぶ直線よりＣｏ含有量が少ない場合は飽和磁束密
度が約７．５ｋＱ以下となってし甘い、従来用いられて
いたフェライトより飽和磁束密度が太きいという効果。

が薄くなる。Ａ点とＢ点を結ぶ直線よりＺｒ含有量が多
い場合は磁歪が０．２ＸＩＯ程゛度より大きくなり、磁
気ヘッド材料にとって好ましくない。Ｂ点とＣ点を結ぶ
直線よりＣｏ含有量が多い場合は結晶化温度が４６０℃
より低くなる。Ｃ点と１）点を結ぶ直線よＩ）　Ｚｒ含
有量か少ない場合は磁歪定数が負で、その絶対値が（０
，７〜０．８）Ｘ１０　　より大きく々る。Ｃ０−Ｎｂ
系非晶質磁性合金にＺｒを添加することは、第１図から
明らかなように、非晶質化できる組成領域を拡げ、磁歪
を低減し、結；晶化温度を高める効果があり、この効果
ばＺｒ１％以上の含有によって発揮される。

本発明のＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ系非晶質磁性合金のより好
ましい組成範囲は、第２図に示した三角図において、Ｅ
点（８３係Ｃｏ、１６％Ｎｂ、４％Ｚｒ　）、■ｌｌ’
点（８６％　Ｃｏ、１１％Ｎｂ、３％Ｚｒ　）、Ｇ点（
８５％Ｃｏ、１６ｓＮｂ、２％Ｚｒ）、Ｈ点（８３％　
Ｃｏ、１５チＮｂ、２％Ｚｒ）の各点を結ぶ直線で囲ま
れた組成である。Ｅ点とＦ点を結ぶ直線よりＺｒ含有量
が多い場合には磁歪が約０より太きくなる。Ｆ点とＧ点
を結ぶ直線よりＣｏ含有量が多い場合には結晶化温度が
約４９０℃より低くなる。Ｇ点とＨ点を結ぶ直線よりＺ
ｒ含有量が少ない場合には磁歪定数が負で、その絶対値
が約０．５Ｘ１０　　より大きくなる。Ｈ点とＥ点を結
ぶ直線よｐ　Ｃｏ含有量が少ない場合には飽和磁束密度
が約８．７ｋＧより小さくなる。

本発明の非晶質磁性合金を磁気ヘッド等に使用する場合
には、同合金の作製後、他の一般の非晶質磁性合金と同
様に、磁界中あるいは磁界なしの熱処理を経て使用する
ことが好ましい場合が多い、。

スパンクリング等の薄膜形成技術により非晶質磁性合金
膜を作成する場合、一般に、ガラス、セラミックス、あ
るいは非磁性および強磁性フェライト、８−ｉウェハー
など、非晶質磁性合金よシ熱膨張係数の小さい材料を基
板とすることが多く、これらの基板の上に被着した非晶
質磁性合金膜を熱処理した場合には非晶質磁性合金膜の
膜面に平行に引張応力が加わる。この場、合、非晶質磁
性合金膜の磁歪定数が正の場合は引張応力の方向、すな
わち膜面と平行な方向が磁化容易方向となシ、磁歪定数
が負の場合には膜面と直角な方向が磁化容易方向と々る
。一般に、−軸磁気異方性を有する材料の高周波におけ
る透磁率は磁化容易方向が小さく、磁化容易方向と直角
な方向が太きいという性質があシ、したがって、基板に
被着した非晶質磁性合金膜の面内方向に磁束が流れるこ
とによって作動する磁気ヘッドにおいては、若干負の磁
歪定数を有する非晶質磁性合金膜を用いた場合に膜面内
の透磁率が高く、望ましいと言える。しかし、磁歪定数
が負で、その絶対値ｐ；大きい場合には、かえって透磁
率は減少する。また、基板上に被着した長方形状の磁路
を持ち、長手方向に磁束を流すことによって作動する一
般的な薄膜磁気ヘッドにおいても、長手方向に引張応力
が加わるため、磁歪定数を負にした場合、長手方向に透
磁率が高くなる。さらに、リボン状の非晶質磁性合金と
ガラス、セラミックスあるいは非磁性もしくは強磁性フ
ェライトとを組み合わせたヘッドにおいても同様な現象
が起こる。以上のように磁気ヘッド用材料としては、若
干負の磁歪定数を持つものが好ましく、そのため、本発
明の非晶質磁性合金は、上記したように、磁歪定数圧よ
りも磁歪定数負の側に組成範囲を大きくとっている。

磁気ヘッドの製造には種々の加熱ニーが不可避である。

例えば、ＶＴＲ用ヘッドにおいて、磁気ヘッドコアの半
休を作動ギャップを介して接合して磁気ヘッドとする場
合、一般に接合用のガラスが用いられる。このガラスは
最も低融点のものでも約４１０℃を作業温度とするもの
であシ、約４１０℃以下で磁気ヘッドなガラスにより接
合するのは困難である。作業温度が４１０℃の場合、ヘ
ッドに。

使用する非晶質磁性合金の結晶化温度は４６０　′Ｃ以
上とすることが望ましい。磁気ヘッドの製造工程におい
てガラスによる接合の工程を安定に歩留寸シ良く行なう
ためには作業温度を４４０℃以上で行なうことがさらに
望ましく、このため非晶質合金の結晶化温度は４９０℃
以上であることがさらに望ましい。また、飽和磁束密度
が８．５ｋＧ以下の場合には、高保磁カメタルテープに
対して十分な記録特性を有する磁気ヘッドを得ることが
困難になる。

以上説明したように、本発明のＣｏ　−Ｎｂ　−Ｚｒ系
非晶質磁性合金は、磁歪定数が約＋〇、２Ｘ１０　　か
ら約−〇、８ｘ１０−６の範囲にあり、その絶対値が極
めて小さく、しかも磁歪定数負側の組成範囲が大きい特
徴を有し、かつ、飽和磁束密度が約７．５　ｋＧ以上で
、組成を選択することによ＃）１１．５ｋＧ程度にはな
シ、さらに、結晶化温度が約４６０℃以上で、組成を選
択することによシ約５５０℃になる。

なお、本発明の非晶質磁性合金に若干の不純物あるいは
添加物が含まれる場合も本発明の効果は。

変らない。

次に、本発明のＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ系非晶質磁性合金を
用いた磁気ヘッドの一例を示す。Ｍｎ”Ｚｎフェライト
を基板として高周波スパッタリング法により、７　／ｌ
／　コア圧５×１０ＴＯｒｒにてＣ０８４，５％、Ｎｂ
１３％、Ｚｒ２．５％の組成を有する非晶質磁性合金を
約２０μｍの厚さに被着し、本発明者らの発明になる第
６菌に示した複合磁気ヘッドを作製した（特願昭５７−
３６４１３号参照）。図において、１は基板としたＭｎ
　−Ｚｎフェライト単結晶、２は非晶質磁性合金膜、６
は接合用ガラス、４は巻線窓、５は作動ギャップである
。ヘッド各部の寸法は、テープ摺動面乙におけるフェラ
イトの先端角度αが６０°、ｌ・ランク幅ｔが２８μｍ
、コア厚Ｔが１４０μｍ、コア幅Ｗが２ｍｍ、コア高さ
Ｌが１．７　ｍｍ　。

ギャップ長が０．６μｍ、ギャップ深さが４５μｍであ
る。Ｍｎ　−Ｚｎフェライト単結晶の磁気へノドにおけ
る方位は、磁気ヘッド側面７がほぼ（１１０）面になる
ようにし、（１１０）面内における〈１００〉方向とギ
ャップ形成面８とのなす角θが第６図のように２５°と
なるようにした。使用した非晶質磁性合金膜２の磁気特
性は飽和磁束密度９．５ｋＧ、保磁力０．２０ｅ、結晶
化温度５１０℃、磁歪定数−〇、３Ｘ１０　　である。

磁気ヘッド半体を接合し、作動キャップ近傍の溝を埋め
るだめの接合用ガラス６としてＰｂＯを主成分とする低
融点ガラスを用い、ガラスによる接合工程、の作業温度
を４５０℃とした。

本発明の磁気ヘッドと特性を比較するために、第４図に
示した従来のＭｎ　−Ｚｎフェライト単結晶を使用した
磁気ヘッドを用いた。図において９ばＭｎ−Ｚｎフェラ
イト単結晶、１０は充填ガラスである。この磁気ヘッド
の寸法は、トラック幅ｔ、コア厚Ｔ、コア幅Ｗ、コア高
さし、ギャップ長、ギャップ深さが前記の本発明の磁気
ヘッドの寸法と同様である。また、磁気ヘッドの側面１
１がＭｎ　−Ｚｎフェライト単結晶の（１１０）面にほ
ぼ一致し、（１１０）面内の＜１００＞方向とギャップ
形成面１２とのなす角θを第４図のように２５°となる
ようにした。またテープ摺動面１６における狭トランク
部の長さｌを２００μｍとした。

本発明の磁気ヘッドおよび、比較に用いたＭｎＺｎフェ
ライト単結晶ヘッドに巻線を施してインダクタンスを測
定した結果、両ヘッドともほぼ同等のインダクタンスを
示した。Ｈｃ　１２’６００ｅのメタルテープを用いて
、テープ−ヘッドの相対速度を５．８　ｍ　／　Ｓとし
だ時のヘッドの記録再生出力を第５図に示した。図のよ
うに、比較に用いたＭ　ｎ−Ｚ１コフエライト単結晶ヘ
ッドの記録再生出力な０ｃＪＢとした時、本発明の磁気
ヘッドの記録再生出力ば１〜６ＭＩＩＺにおいて６〜１
７ｄＢという非常に大きな出力の増加が得られた。

なお、上記の構造の磁気ヘッド以外に本発明者らの発明
になる第６図に示した磁気ヘッド（特願昭５７−１１３
８８０号参照）および第７図に示した磁気ヘッド（特願
昭５７−５６６０１号参照）を同様のＣｏ　−Ｎｂ−Ｚ
ｒ非晶質合金スパッタ膜を用いて作製した。ここで１６
は非晶質磁性合金膜、１４はＭｎ−Ｚｎフェライト単結
晶、１５は非磁性材、１６は接合用ガラス、１７は巻線
窓、１８は作動ギヤノブである。これらの磁気ヘッドも
Ｍｎ−Ｚｎフェライト単結晶を用いた従来の磁気ヘッド
に比較して大幅な出力の増加が得られた。

以上水したように、本発明の非晶質磁性合金は、基体材
料（基板）上に高透磁率材料膜を形成してなる各種の磁
気へノドにおいて、該高透磁率材料として用いて極めて
すぐれた結果が得られ、この効果が上記実施例に示した
形状・構造の゛ヘッドに限られないことは明らかである
。なお、この高透磁率磁性材料膜は少なくとも作動ギ’
＋ノブ近傍には設けられているのが一般的である。さら
に、高速マグネトロンスパッタリング装置を用いて、ア
ルゴン圧５Ｘ１０　　ＴｏｒｒにてＣ０８３，５％、Ｎ
ｂ１３％、。

Ｚｒ６．５％の組成を有する非晶質磁性合金をＭｎ　−
Ｚ０フェライト基板上に被着し、第６図に示した前記と
同様の磁気ヘッドを作製した。この非晶質磁性合金膜の
磁気特性は飽和磁束密度９．３ｋＧ、保磁力［１，２０
ｅ、結晶化温度５３０℃、磁歪−０，２×１０−６であ
る。この磁気ヘッドは前記の磁気ヘッドと同様に、高保
磁カメタルテープを用いた時の出力が、従来のＭｎ　−
Ｚｎフェライト単結晶を用いた磁気ヘッドによる出力に
比較して、１から６Ｍ　Ｈｚにおいて６から１７ｄＢ向
上した。

このように、高速マグネトロンスパッタリンク法により
作製した非晶質磁性合金および該合金を用いた磁気ヘッ
ドは、高周波２極スパツタリング法により作製した非晶
質磁性合金および該合金を用いた磁気ヘッドとほぼ同等
の特性を有するが、非晶質磁性合金膜の形成速度におい
て高速マグネトロンスパッタリング法を用いる方が約６
〜１２倍速いという利点がある。

〔発明の効果〕

以上のように、本発明の非晶質磁性合金を用いた磁気ヘ
ッドは、従来の作動ギャップ近傍にＭｎＺｎフェライト
を用いた磁気ヘッドよりもヘッド特性が優れており、本
発明の効果が確認された。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を説明するためのＣｏ　−Ｎｂ　−Ｚｒ
系非晶質磁性合金の組成と各種特性の関係を示す三角図
、第２図は本発明のＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ系非晶質磁性合
金の組成範囲を示す三角図、第６図は本発明の非晶質磁
性合金を用いた磁気ヘッドを示す側視図、第４図はヘッ
ド特性の比較のだめに用いたＭｎ−Ｚｎフェライト単結
晶を用いた磁気ヘッドを示す斜視図、第５図は本発明の
非晶質磁性合金を用いた磁気ヘッドの特性を示すグラフ
、第６図および第７図は本発明の非晶質磁性合金を用い
た他の磁気ヘッドを示す斜視図である。 １．９．１４・・・Ｍｎ　−Ｚｎフェライト単結晶２．
１３　　　・・・非晶質磁性合金膜６．１６　　　・・
　接合用ガラス ４．１７　　　・・・巻線窓 ５．１８　　　・・　作動ギヤノブ １０　　　　　・・・充填ガラス 代理人弁理士　中村純之助 才３図 １’４図 １Ｆ５図 周濠ｉ（ＭＨｚ＋ 第１頁の続き ０発　明　者　山下武夫 国分寺市東恋ケ窪−丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ０発　明　者　斉藤法利 国分寺市東恋ケ窪−丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 ０発　明　者　工藤實弘 国分寺市東恋ケ窪−丁目２８０番 地株式会社日立製作所中央研究 所内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　Ｃｏ、　Ｎｂ、　Ｚｒを含有し、これら三元
   素の合計量を１００とし、三角図で示したときに、各元
   素の含有量が原子比率で（８１係Ｃｏ、１４係Ｎｂ、５
   ％Ｚｒ）、（８８％ＣＯ１９％Ｎｂ、３％Ｚｒ）、（８
   ６，５％Ｃ０１１２，５％Ｎｂ、１　％　Ｚｒ　）、（
   ８Ｌ％Ｃｏ、１８％　Ｎｂ、　１　％　Ｚｒ　’）の各
   点を結んだ直線で囲まれた範囲内にあることを特徴とす
   るＣｏ　−Ｎｂ−Ｚｒ系非晶質磁性合金。 （２、特許請求の範囲第１項記載のＣｏ　−Ｎｂ　−Ｚ
   ｒ系非晶質磁性合金において、Ｃｏ、Ｎｌ）及びＺｒの
   含有量が原子比率ｆ（８３％ｃＯ１１６％Ｎｂ、４％Ｚ
   ｒ　）、（８６％　Ｃｏ、１１％Ｎｂ、３％Ｚｒ）、（
   ８５％　Ｃｏ、１６％Ｎｌ）、２％Ｚｒ）、（８３−％
   Ｃｏ、１ｓｓＮｂ、２チＺｒ　）　　の各点を結んだ直
   線で囲１れた範囲内にあることを特徴とするＣｏ−Ｎｂ
   　−Ｚｒ系非晶質磁性合金。 （３）　　Ｃｏ、Ｎｂ、Ｚｒを誉有し、これら三元素の
   合計量を１００とし、三角図で示したときに、各元素の
   含有量が原子比率で（８１係ｃｏ、１４％Ｎｂ、５％　
   Ｚｒ　）、（８８％　Ｃｏ、９　％　Ｎｂ、３％Ｚｒ）
   、（８６，５％Ｃｏ、１２．５％Ｎｂ、１　％　Ｚｒ　
   ）、（８１％Ｃｏ、１８チＮｂ、１　％　Ｚｒ　）　の
   各点を結んだ直線で囲域れた範囲内にあるＣｏ　−Ｎｌ
   ）　−Ｚｒ系非晶質磁性合金を、磁気コアの少なくとも
   一部に用いたことを特徴とする磁気ヘッド。 （４）特許請求の範囲第６項記載の磁気ヘッドにおいて
   、前記非晶質磁性合金を構成するＣ（３、ＮｂおよびＺ
   ｒの含有量が原子比率で（８３％ＣＯ５１３％Ｎｂ、４
   ％Ｚｒ）、（８６％　Ｃｏ、１１％Ｎｂ、３％Ｚｒ１）
   、（８５％　Ｃｏ、１６％Ｎｂ、２％Ｚｒ）、（８３％
   　Ｃｏ、１５％Ｎｂ、２％Ｚｒ　）の各点を結んだ直線
   で囲まれた範囲内にあることを特徴とする磁気ヘッド。