JPS59157639A - フオトレジスト剥離液組成物およびその使用法 - Google Patents

フオトレジスト剥離液組成物およびその使用法

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JPS59157639A
JPS59157639A JP59024525A JP2452584A JPS59157639A JP S59157639 A JPS59157639 A JP S59157639A JP 59024525 A JP59024525 A JP 59024525A JP 2452584 A JP2452584 A JP 2452584A JP S59157639 A JPS59157639 A JP S59157639A
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ス−ザン・エム・ダレスサンドロ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフォトレジスト剥離液組成物として有用な組成
物ならびに本発明の組成物の使用による耐光性物質の除
去法に関する。
プリント回路板は代表的には均一の厚さのエポキシ−ガ
ラス布積層板または雲母板上に銅の薄層紫メッキするこ
とによって製造される。次いで予め定めたパターンの孔
にドリルであけて種々の電気要素ケ適応させる。部分重
合した耐光性プラスチックのフイルムケ銅メッキ上の積
層物に沈着させる。
これらの耐光性フィルムは通常はアクリル樹脂、ポリビ
ニルシンナメート、ジアゾ化合物、フェノールホルムア
ルデヒド、″またはその他の類似のフィルム形成性物質
から成る。このフィルムは紫外線の作用によって更に重
合もしくは交差結合せしめられて硬い化学的に耐性のあ
るフィルムとなる。
適当なガラスもしくはプラスチック物質によるマスクに
よって、この耐性フィルムは特定の区域で露光されて選
択的に硬ｆヒせしめられ、マスクされない区域中の耐性
フィルムは未変化のまま残る。未変化の耐性フィルムは
次いで溶媒たとえば１．１．１−１−ジクロロメタンま
たはブトキシェタノールとナトリウムカーボネートとの
溶液もしくは類似の溶液に↓る１現像剤”中で溶解せし
められる。洗浄区域中の銅は次いでエツチングにぶって
除くことができ、あるいは追加の銅およびその他の金属
はその上にメッキすることができる。いづれの場合にも
、露光して硬化させた耐性フイルムケ積層物から除去す
ることが必要となる。
この工うな耐性フィルムが強力な有機溶媒たとえばメチ
レンクロライドまたはトリクロロエチレンの作用によっ
て除きうろことは知られている。
ペンキおよびフェスの除去剤がジクロロメタン？ベース
にしたものであることも知られている。これらの多くの
ものはアルコールと１種またはそれ以上の他の添加剤に
も含んでいる。たとえば米国特許第３，６５０．９６９
号には１〜２個の炭素原子のジクロロアルカン、１〜３
個の炭素原子會含む脂肪族１価アルコール、お工び弗化
水素と水、から成るペンキ除去用組成物が記載されてい
る。米国特許第３．６００，３２２号にはジクロロメタ
ン、メタノールおよび第４級窒素セルローズエ。
−チルｒ含むペンキ除去剤組成物が記載されている。
ジクロロメタンｔアルカノールおよび種々の他の添加剤
ト共に使用するその他の特許には米国特許第３．１４７
，２２４号、同第３，０７５，９２３号、同第４，２６
９，７２４号および同第４，２７８゜５５７号がある。
プリント回路板からレジスト（耐性フィルム）を除去す
る方法は米国特許第３．７８９，００７号に記載されて
おり、そこでは回路板が８５〜９７重量％のジクロロメ
タンと残余チのメタノールとの混合物で処理されている
。
ジクロロメタンｒ含む他のフォトレジスト剥離液組成物
は米国特許第３，６２５，７６３号、同第３．８１３．
３０９号および同第３．６２５．７６　ａ号に記載され
ている。
本発明はジクロロメタン（メチレンクロライド）、メタ
ノールおよびメチルメタノエート（メチルフォーメート
）ン含む改良されたフォトレジスト剥離液組成物である
。この組合せはレジスＩｆ従来技術の組成物ニジも速い
速度で除去する。
好ましい組成物はまた非フラッシング混合物（ブレンド
）？提供し且つ現在商業的に入手しうる剥離液ニジも良
好な線決定會与える。
フォトレジスト剥離液として使用するための改良された
ジクロロメタン組成物は該組成物の合計容量會基準にし
てそれぞれ約１チ〜約１０チの濃度でメタノールとメチ
ルメタノエート７含む。この組成物は任意にジクロロメ
タンの安定剤たとえば隣接エポキシド（たとえばプロピ
レンオキサイド）？含むことができる。アミンたとえば
インプロピルアミンは屡々剥離助剤として使用される。
シクロヘキシルアミンおよびトリエチルアミンも有用で
ある。このようなアミンは現在市販されている剥離液組
成物の若干のものにも含まれていることが知られている
。
へ 本発明によるブレンドを次の方法で試験した。
試験１・・・・・・滴下試験 試験ブレンド（ジクロロメタン中１〜２５チ添加物）の
凹μを小滴ケプリント回路板上の交差結合フォトレジス
トフィルムにのせた。この溶媒−フィルム区域’に１５
０Ｘ顕微鏡下で観察して回路板から破砕および持ち上げ
られるのに必要な時間ケ測定した。商業上の操作では短
い時間が好ましい。
この試験ケ商業的に製造されたフォトレジスト被覆プリ
ント回路板ケ使用して多数の可能な添加剤候補について
行なった。これらの回路板はイー・アイ・デュポン・ド
・ヌムール社から商業的に入手しうる交差結合耐光性（
フォトレジスト）フイルムヶ使用したものであった。こ
れらの試験結果會第■表お工び第■表に示す。添加剤の
すべては０．１容量チの２−アミノプロパン（インプロ
ピルアミン）會添加した抑制品位のジクロロメタンクロ
ライド中で試験した。
第　Ｉ　表本 添加剤＊ネ　　　　　　　　滴下時間（秒）（チ）　　
　　５　　　７．５　　　１０　　　１５　　　．２５
ＭｅＥｔ　　　１３．１　　１３．２　　１３，５　　
１５，９　　２０．０第　Ｈ表車 添加剤＊＊　　　　　　　滴下時間（秒）（％）５　　
　７．５　　　１０　　　１５Ｍｅｒｅ　　　　　１１
．８　　１２．５　　１２．８　　１４．５Ｅｔｈｈ　
　　　　１４．８　　１５．０　　１５．３　　１６．
５ＭｇＯＨ１２，４１２，３１２，２１１，４２−Ｐｒ
ＯＨ１２，１１２，３１３，１１３，４ＭｅＥｔ　　　
　　１４．２　　１４．９　　１５．０　　１８．０Ｔ
ＨＦ　　　　　　１２．７　　１２．５　　１３．３　
　１６．４ムを使用した結果７示すものである。
ＴＨＦ＝テトラヒドロフラン 試験２・・・・・・スプレー装置試験 耐性（レジスト）フイルムケ剥離するのに工業的に使用
される装置の実験規模の型の鋼製スプレー装置ケ使用し
て試験ケ行なった。予備スクリーニングから示唆された
試験ブレンドの２ガロン（７，６ｔ）ｆｔこのスプレー
装置で使用した。
２０ｐｓｉｇＣ１３８ｋＰαゲージ）、２３〜２４’Ｃ
の溶媒スプレーに懸吊ボードに１０〜１５秒間吹きつけ
た。スプレー前後の回路板ケ秤量した。除去されたフォ
トレジストの量の差？次式ケ使用して標準剥離液組成物
と比較した。
標準剥離液ブレンドの性能と比較して（→値はより完全
な剥離７示し、（−）値はエシ不完全な剥離葡示すもの
である。標準は容量基準で７．５係メタノールと０．１
０％２−アミノプロパンとケシクロロメタン（抑制品位
）中に含む市販の剥離液であった。
４インチ×４インチ（１０２Ｘ１０２ｆｉ”）の試験回
路板？市販のフォトレジスト樹脂フィルム（その主要成
分はポ１ジメチルメタアクリレート樹脂である）および
幅および間隔の異なる多数の線から成る試験パターンン
使用して商業的製作機にエリ製作した。スズー鉛メッキ
ケしたこれらの回路板は剥離ケ受ける用意のできたもの
であった。
種々の量のメタノールとメチルメタノエートと？含むジ
クロロメタンの種々の組成物ヶ上記のスプレー試験にお
いて使用した。１０秒間のスプレ一時間會使用した。メ
タノールとメチルメタノエートはそれぞれ溶媒と添加剤
との合計容ｆｖ基準にして１．０　、２．ｓおよび４．
０容量チの量でジクロロメタン（抑制品位）中に使用し
た。２−アミノプロパンはそれぞれの組成物の合計ヶ基
準にして０．１容量係の量で存在させた。
それぞれの組成物の剥離性能の結果會標準メチレンクロ
ライド剥離液より良いもの（＋）または悪いもの←）の
係として第■表に示す。
１．０　　　−１７．５　　−１０．７　　　　＋’７
−４２．５　　　　−１．６　　　＋１３．８　　　＋
１３．２４．０　　　　　＋５．３　　　　＋４．４　
　　　＋４．４これらの組成物について蒸発お工び腐食
の試験も行なった。
蒸発については２つの試験會行なった。第１の試験にお
いて、３０師の試験溶液全製造し、フード中の室温のビ
ーカーに入れ、ガスクロマトグラフ？使用して添加剤組
成物ヶ種々の時間において分析した。これらの結果ケ第
■表に示す。第２の試験において、２ガロンＣ７，６ｔ
’）の試験溶液會スプレー装置に、蓋ｒやや開放させて
、入れた。この装置２２０ｐｓｉｇ（ｉ３８　ｋＰαゲ
ージ）で６０分間操作した。再び添加剤の濃度ケ種々の
時間において検査した。１時間の終シにおけるこの試験
について、メチルメタノエートの濃度は約２．８５％で
あり、メタノールの濃度は約２．３０％であった。なお
、始めの濃度はそれぞれ３．０容量チであった。これら
は混合物からの各成分の若干のロス葡示すものである。
第■表 ＊　組成物（容量％） 時間　　　　　　　　　　　　　　　　　　容量０　　
　　３．００　　　　３．００　　　　３００２０　　
　　２．８０　　　　２．８５　　　　２７５６０　　
　　２．５５　　　　２．８０　　　　２１５９０　　
　　２．４５　　　　２．８５　　　　１７５１２０　
　　　２．００　　　　２．７５　　　　１４０１５３
　　　　１．６０　　　　２．７０　　　　１００いの
でその分析は省略した。
銅腐食試験は０．５Ｘ２．４５インチ（１２，７Ｘ６２
．２ｍ）の銅板音用い試験溶媒ブレンド１００ｍ１　ｆ
　７日間還流させることから成るものであった。それぞ
れの溶媒ブレンドについて３回の測定？行なった。７日
後にそれぞれの試料についてガスクロマトグラフ分析７
行なった。銅板の腐食率は次式音用い１年肖シのミル侵
透（１ミル＝　０．０２５４調）　ｕｔｐｙ）で示した
。
ＭＰＹ＝銅板重量損失（η）／平方インチ／日　（２２
，３／８．９３　’）商業用ブレンド（４）お工び本発
明によるブレンドののそれぞれの組成物についての上記
試験条件下での結果ケ下記に示す。
Ａ　　ＭｅＯＨ，７，５１，０１０，０２５６２−ＡＰ
＊　　　０．Ｉ Ｂ　　ＭｅＯＨ２，５ Ｍｅｒｅ　　　２．５　　　　　　０．１　　　　０．
ＱＯ２５２−ＡＰ＊　　　０．１ ＊　２−アミノプロパン アミンは金属の存在下で室温に最小１２時間放置したと
きの銅の変色と溶媒の褪色について僅かに問題ｒ生せし
めることがある。然し、これは回路板について重大な問
題とはならない。実際の商業的用途において溶媒は銅の
回路板と僅か２〜３分間接触するにすぎないからである
。然し、工業的装置は代表的に銅配管？使用するので、
この現象は装置の寿命に悪影響ケ及ぼすことがありうる
。上記Ｂの組成物において２−アミノプロパンの代りに
０．１容量チのトリエチルアミンケ使用すると室温での
銅腐食試験における溶媒褪色の問題が著るしく減少する
ことに注目するのは興味あることである。このような低
濃度でのアミンは組成物の剥離性能特性に何も付は加え
ることがなく、且つ銅の腐食と褪色ケ完全に防ぐ。
本発明による組成物はメタノールとメチルメタノニー）
ｋそれぞれ約１〜約１０容量チ含み然もメタノールとメ
チルメタノエートとの合計が全組成物の少なくとも５容
量チであって且つ約１０容量チ以下のものである。この
組成物はまたアミンｒ含むことができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、全混合物の容量？基準にしてそれぞれ１〜１０％の
    量でメタノールとメチルメタノエート？含むジクロロメ
    タンから成り然もメタノールとメチルメタノエートとの
    合計量が全混合物の少なくとも５容量チで且つ１０容量
    多以下である交差結合耐光性ポリマーの剥離に好適な組
    成物。 ２、メタノールとメチルメタノエートがそれぞれ全混合
    物の１〜５容量チの量で存在する特許請求の範囲第１項
    記載の組成物。 ３、メタノールとメチルメタノエートがそれぞれ２．５
    〜５容量チの量で存在する特許請求の範囲第２項記載の
    組成物。 ４、更にアミン會も含む特許請求の範囲第１項記載の組
    成物。 ５、更にアミン會も含む特許請求の範囲第２項記載の組
    成物。 ６、アミンが３〜６個の炭素原子？もつ低級脂肪族アミ
    ンである特許請求の範囲第５項記載の組成物。 ７、アミンが２−アミノプロパンである特許請求の範囲
    第５項記載の組成物。 ８、アミンがシクロヘキシルアミンでおる特許請求の範
    囲第６項記載の組成物。 ９、アミンがトリエチルアミンである特許請求の範囲第
    ６項記載の組成物。 １０、ジクロロメタンとメタノールとの混合物に使用す
    る交差結合耐光性ポリマーの剥離法における改良であっ
    て、その改良がメチルフォルメートを更に含む該混合物
    ケ使用することを特徴とする方法。 １１、メタノールとメチルメタノエートがそれぞれ全混
    合物の１〜１０容量チの量で存在し然もメタノールとメ
    チルメタノエートとの合計量が全混合物の少なくとも５
    容量チであり且つ１０容８％以下である特許請求の範囲
    第１θ項記載の方法。 １２、メタノールとメチルメタノエートがそれぞれ全混
    合物の１〜５容量チの量で存在する特許請求の範囲第１
    １項記載の方法。 １３、メタノールとメチルメタノエートがそれぞれ２．
    ５〜５容量チの量で存在する特許請求の範囲第１２項記
    載の方法。 １４、剥離液混合物がアミンケも含む特許請求の範囲第
    １３項記載の方法。
JP59024525A 1983-02-14 1984-02-14 フオトレジスト剥離液組成物およびその使用法 Pending JPS59157639A (ja)

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