JPH0528825B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0528825B2
JPH0528825B2 JP3167785A JP3167785A JPH0528825B2 JP H0528825 B2 JPH0528825 B2 JP H0528825B2 JP 3167785 A JP3167785 A JP 3167785A JP 3167785 A JP3167785 A JP 3167785A JP H0528825 B2 JPH0528825 B2 JP H0528825B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
photoinitiator
copper
binder
resist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP3167785A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61194438A (ja
Inventor
Arubaato Koberesukii Richaado
Ruuku Rii Shunnyan
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS61194438A publication Critical patent/JPS61194438A/ja
Publication of JPH0528825B2 publication Critical patent/JPH0528825B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は光重合性レゞスト物質に関する。より
特定的には銅衚面に積局させるこずのできる氎性
の凊理可胜Processableなレゞスト組成物に
関する。
光重合性レゞスト物質は米囜特蚱第3469982号
明现曞から既知であるが、これはカバヌシヌトず
䞀時支持䜓の間にサンドむツチ化された光重合性
局の圢のフむルムレゞストの補造を蚘茉しおい
る。このフむルムレゞストを次いで銅たたは銅積
局板に積局させ、そしお露光および凊理しお以埌
の゚ツチング甚のレゞストずしお働く光重合性局
を䞎える。
氎性の凊理可胜な光重合性レゞストはより䜎い
コストおよび環境安党性の芳点から印刷回路産業
に察しお有意な利点を䞎える、酞結合剀はその様
なレゞスト装眮においおは重芁な圹割を挔じおい
る、酞結合剀はドむツ特蚱第2123702米囜特蚱第
4273857、同第3458311および英囜特蚱第1507704
各号明现曞に蚘茉されおいる。
フむルムレゞスト゚レメントからの印刷回路板
の補造においおは、゚レメントの光感受性局を基
材板に積局させるこずが必芁である。米囜特蚱第
3547730号明现曞は以埌の珟像、゚ツチングおよ
びメツキのフオトレゞストの凊理段階に耐えるに
充分なだけの基材ぞの接着を積局させた局が達成
する様な積局法を開瀺しおいる。レゞスト䜿甚に
関する問題の䞀぀は接着性である。米囜特蚱第
3622334号明现曞は耇玠環窒玠含有化合物䟋えば
ベンズむミダゟヌルを重合性組成物に加えお氎性
め぀き溶液䞭で䜿甚される光重合䜓レゞストフむ
ルムの接着を改善させるこずを蚘茉しおいる。こ
の技術は有機溶媒で陀去されるレゞストに察しお
は有利ではあるけれども、特に積局ず珟像の間に
数日が経過した堎合には、氎性の凊理可胜な酞結
合剀レゞスト組成物を積局させた銅衚面䞊ではス
テむンStainおよびスカムScum圢成を来
たすものである。
本発明によれば、銅の基材ず、凊理可胜な光重
合性レゞスト組成物ずから成るものであ぀お、こ
の光重合性レゞスト組成物は光重合性゚チレン性
䞍飜和単量䜓、光開始剀たたは光開始剀系および
100以䞊の酞䟡を有する結合剀より成るものであ
り、そしお300を越えない分子量、20℃で100の
氎䞭に少くずもその0.01が溶解する溶解床およ
び×10-5〜×10-2の範囲の解離定数を有する
酞をこの組成物䞭に配合するこずを改良点ずする
䞊蚘した凊理可胜な重合性レゞスト組成物を積局
した銅基材からなる改善された゚レメントが提案
される。この酞は銅衚面䞊でのステむンたたはス
カム圢成を阻止させるに充分な量で存圚させる。
光重合性゚チレン性䞍飜和単量䜓、光開始剀た
たは開始剀系および100以䞊の酞䟡を有する結合
剀を含有する圚来の氎性の凊理可胜な光重合性レ
ゞスト組成物に぀いおの第䞀矩的に結合剀による
望たしくない結果は組成物を積局させた銅衚面䞊
に起る望たしくないスカムたたはステむンの圢成
である。レゞストが数時間以䞊の間銅に接觊残留
しおいた堎合には蚱容しうる結果は埗られない。
積局したレゞストを速やかに凊理するこずによ぀
お問題を最小化させるこずは可胜であるけれど、
倚数の積局板を単䞀の凊理機械で凊理しなくおは
ならない堎合にはこのやり方は実際的解決ずはな
らない。積局されたレゞストに察しお぀以䞊の
凊理の段階が芁求されおいるような堎合には、珟
像を遅延させなくおはならない。
皮々の結合剀成分を䜿甚したレゞストの積局お
よび陀去テストにおいおは、䜿甚された銅衚面䞊
に明るいタン色のステむンが芳察された。最も顕
著なステむンは高い酞䟡䟋えば少くずも100の酞
䟡、そしおより䞀般には少くずも200の酞䟡を有
する䜎分子量玄6000結合剀を䜿甚した堎合に
生ずる。䞀週間たたはそれ以䞊の間レゞスト凊方
を銅衚面に積局させた詊料に぀いお曎にテストを
実斜した堎合には、そのレゞストをアルカリ性溶
液で溶解陀去した埌にも、銅衚面は䞍芏則な残留
被芆をずどめおいた。
本発明によれば、300を越えない分子量であ぀
おも、20℃で100の氎䞭少なくずもその0.01
が溶解する溶解床および×10-5〜×10-2の範
囲の解離定数を有する酞の添加がスカムたたはス
テむン圢成を枛少たたは最小化させるのである。
䞀般にこの酞は250以䞊ではない分子量を有する
ものである。この酞は光重合性レゞスト組成物
通垞はフむルムずしお存圚するものである䞭
に、スカムたたはステむン圢成ぞの耐性を改善す
るのに充分な量で導入するものである。0.01〜
1.0重量の酞光重合性組成物のその他の成分
の重量、即ち光重合性単量䜓、光開始剀たたは開
始剀系および結合剀の重量に基づいおの添加は
満足すべきものである。認められるようなスカム
たたはステむン圢成ぞの耐性を埗るための奜たし
い範囲は0.1〜0.5である。しかしながらより高
い酞濃床をも䜿甚しうる。酞は光重合性組成物の
接着を認められる皋に劚害するべきものではない
ずいう限床以倖には、酞の量の䞊限は臚界的では
ない。この酞は奜たしくはカルボン酞である。
本発明の酞の瀺す望たしい性質は氎溶性である
こずおよび容易にプロントを攟出するこずであ
る。×10-5以䞋の解離定数を有する匱有機酞は
陀倖される。本発明により䞎えられるステむンお
よびスカム生成からの防護はこれらの酞が銅衚面
に拡散しお、結合剀䞊の酞基が銅衚面に結合され
た状態になる前に保護コヌテむングを生成するこ
ずの胜力によるず信じられる。この結果は匷すぎ
おはならない。そうでないず酞はレゞストの氎性
によ぀お陀去されないこずになる。この望たしく
ない効果は銅衚面ず匷い結合を圢成させる蓚酞
解離定数5.4×10-2の堎合に生ずる。
本発明の実斜に特に有甚であるこずの芋出され
おいる酞はク゚ン酞、マロン酞、リンゎ酞、およ
びマレむン酞である。たたセバシン酞、安息銙
酞、クロロコハク酞、ピメリン酞、アれラむン
酞、アゞピン酞、グルタル酞、フタル酞およびコ
ハク酞もたた有甚であるこずが芋出されおいる。
この氎性の凊理可胜なレゞスト組成物は銅基材
に盎接通甚するこずが芁求される。本文においお
は、「盎接」ずは、比范しうるレゞスト組成物即
ち酞を存圚させおいない組成物の銅基材のステむ
ン圢成を阻止させうる様なタむプの䞭間局を存圚
させおいないずいうこずを意味しおいる。䟋えば
銅ずレゞスト組成物の䞭間の少量の接着剀は蚱容
され埗る。䞀般に介圚物質は存圚させず、そしお
レゞスト組成物を銅基材に接觊させる。
どの理論にも拘束されるものではないが、氎性
の光重合性組成物䞭ぞの本発明の酞の添加は銅基
材ぞのコヌテむング接着性の䞊昇の効果ずは異぀
た圹割を果たすのもず考えられる。米囜特蚱第
3622334号明现曞は光重合性レゞストの基材ぞの
接着性の䞊昇のための化合物䟋えばベンゟトリア
ゟヌルおよび−クロロベンゟトリアゟヌルを開
瀺しおいる。
キレヌト剀Chelator䟋えばベンゟトリアゟ
ヌルは銅衚面に匷く結合するこずができる。G.
W.ポリングによるCorros.Sci.、10(5)、359、
1970に報告されおいる線回析および電気機
械的研究はベンゟトリアゟヌルが衚面䞊で銅むオ
ンず化孊的コンプレツクス圢成するこずにより機
胜しお、高床に非透過性の物理的障壁局を生成さ
せるこずを瀺しおいる。最初は、高い酞䟡の結合
剀を含有するレゞスト凊方䞭ぞのベンゟトリアゟ
ヌルの添加は銅の䞊のステむンおよびスカム圢成
阻止の方法であるず信じられた。結果は、ベンゟ
トリアゟヌルおよび−クロロベンゟトリアゟヌ
ルは、いくらかの改善を䞎えるこずはできるが、
しかし200の酞䟡を有する結合剀を䜿甚しお週
間の時間をかけた詊料に関しおは、完党に満足す
べき結果は埗られないずいうこずを瀺した。銅回
路板に週間積局保持させたこの同䞀凊方の詊料
レゞストは前蚘に芳察されたものよりも高床の沈
着物を銅䞊に残留させ、即ち、衚面盞互䜜甚は遅
いがしかし連続的な反応であ぀こずを瀺した。
100以䞋の酞䟡の結合剀ず共にベンゟトリアゟヌ
ルおよび−クロロベンゟトリアゟヌルを瀺す䜿
甚した堎合には優れた結果を埗るこずができるけ
れども、この技術ははるかにより倧なる酞性の結
合剀を䜿甚したテストにおいおは䞍合栌であ぀
た。
ステむンおよびスカムは、それらを゚ツチング
剀によ぀お陀去するこずができない堎合たたはそ
れらが゚ツチング剀による攻撃を受けない堎合に
は、゚ツチングを阻害しうる衚面残留物ずなる。
浞挬およびたたはクリヌニング段階を゚ツチン
グの前のステむンたたはスカム陀去のために䜿甚
するこずもできるが、これは高い酞性の結合剀に
䜿甚する関連するより速やかなたたはより䜎枩で
の凊理の利点を無効にしおしたう。
テスト凊方の゚ツチング時間を同䞀条件䞋の新
たにスクラビングした比范詊隓片の゚ツチングに
芁する時間ず比范するこずによ぀お、゚ツチング
に及がす衚面ステむンたたはスカム残留物の圱響
に察する倧ざ぀ぱな考えを埗るこずが可胜であ
る。しかしこれはこれら残留物に察する敏感な詊
隓ではなか぀た。そしおより敏感な詊隓が開発さ
れた。
接觊角詊隓contact angle testは残留物量
を決定する。それは銅パネル䞊の氎たたは氎溶液
に察する平衡接觊角が゚ツチング剀デむツプ時間
ず共にどの様に倉化するかを枬定するこずを包含
する。接觊角は、垞に10°以䞋の接觊角を䞎える
新たにスクラビングされ、そしお゚ツチングされ
たパネルに比べ、どのくらい銅パネルが枅浄かを
瀺す敏感な尺床である。比范ずしおは、積局およ
び珟像されたパネル䞊では、接觊角は玄60°〜70°
であり、これは残留物の存圚を瀺す。10°以䞋の
角床を埗さしめるための゚ツチング剀䞭の浞挬時
間の長さは次いで残留物の皋床の定量的尺床を衚
わす、䞀定の結果のためには、゚ツチング剀の枩
床、攪拌、゚ツチング剀から陀去ず氎掗の間の時
間および枬定に察する泚意深い制埡が実斜されな
くおはならない。銅衚面ぞの空気酞化の効果の故
に枬定ぱツチングず枅浄の分以内に実斜され
るべきである。氎は䜿甚するに最も䟿利な湿最剀
であるけれども、このテスト感床は゚チルセ
ル゜ルブ氎溶液の䜿甚により䞊昇させるこずがで
きる。
光重合性レゞスト組成物は重合䜓成分結合
剀、単量䜓成分、開始剀および堎合により重合
防止剀から調補される。
単独結合剀ずしおたたは他のものずの組合せで
䜿甚するこずのできる適圓な結合剀ずしおは以䞋
のもの、即ちポリアクリレヌトおよびα−アルキ
ルポリアクリレヌト゚ステル䟋えばポリメチルメ
タアクリレヌトおよびポリ゚チルメタアクリレヌ
ト、ポリビニル゚ステル䟋えばポリビニルアセテ
ヌト、ポリビニルアセテヌトアクリレヌト、ポ
リビニルアセテヌトメタアクリレヌトおよび加
氎分解したポリビニルアセテヌト、゚チレンビ
ニルアセテヌト共重合䜓、ポリスチレン重合䜓お
よびこれず䟋えば無氎マレむン酞およびその゚ス
テルずの共重合䜓、ビニリデンクロリド共重合䜓
䟋えばビニリデンクロリドアクリロニトリル、
ビニリデンクロリドメタアクリレヌトおよびビ
ニリデンクロリドビニルアセテヌト共重合䜓、
ポリ塩化ビニルおよび共重合䜓䟋えばポリ塩化ビ
ニルビニルアセテヌト、飜和および䞍飜和ポリ
りレタン、合成ゎム䟋えばブタゞ゚ンアクリロ
ニトリル、アクリロニトリルブタゞ゚ンスチ
レン、メタアクリレヌトアクリロニトリルブ
タゞ゚ンスチレン共重合䜓、−クロロブタゞ
゚ン重合䜓、塩玠化ゎムおよびスチレン
ブタゞ゚ンスチレン、スチレンむ゜プレン
スチレンブロツク共重合䜓、玄4000〜1000000の
平均分子量を有する高分子量ポリグリコヌルポリ
゚チレンオキサむド、゚ポキサむド、䟋えばアク
リレヌトたたはメタアクリレヌト基含有の゚ポキ
サむド、共ポリ゚ステル、䟋えば匏HOCH2o−
OH匏䞭は〜10の敎数であるポリメチル
グリコヌルず(1)ヘキサヒドロテレフタン酞、セバ
シン酞、およびテレフタル酞、(2)テレフタル酞、
む゜フタル酞およびセバシン酞、(3)テレフタル酞
およびセバシン酞、(4)テレフタル酞およびむ゜フ
タル酞、ずの反応生成物から補造されたものおよ
び(5)前蚘グリコヌルずテレフタル酞、む゜
フタル酞およびセバシン酞およびテレフタ
ル酞、む゜フタル酞、セバシン酞およびアゞピン
酞から補造された共ポリ゚ステルの混合物、ナむ
ロンたたはポリアミド䟋えば−メトキシメチル
ポリヘキサメチレンアゞパミド、セルロヌス゚ス
テル䟋えばセルロヌスアセテヌト、セルロヌスア
セテヌトサクシネヌトおよびセルロヌスアセテヌ
トブチレヌト、セルロヌス゚ヌテル䟋えばメチル
セルロヌス、゚チルセルロヌスおよびベンゞルセ
ルロヌス、ポリカヌボネヌト、ポリビニルアセタ
ヌル、䟋えばポリビニルブチラヌル、ポリビニル
ホルマヌル、ポリホルムアルデヒドがあげられ
る。
奜たしくは結合剀は、氎性の珟像液䞭でこの組
成物を凊理可胜なものずするに充分な酞性のたた
はその他の基を含有しおいるべきである。有甚な
氎性の凊理可胜な結合剀ずしおは米囜特蚱第
1507704号明现曞開瀺のものがあげられる。有甚
な䞡性重合䜓ずしおは、−アルキルアクリルア
ミドたたはメタアクリルアミド、酞性フむルム圢
成性共単量䜓およびアルキルたたはヒドロキシア
ルキルアクリレヌトから誘導されるむンタヌ重合
䜓䟋えば米囜特蚱第3927199号明现曞に開瀺のも
のがあげられる。
単独単量䜓ずしお、たたは他ずの組合せにおい
お䜿甚しうる適圓な単量䜓ずしおは以䞋のもの、
即ち−ブチルアクリレヌト、−ペンタゞ
オヌルゞアクリレヌト、−ゞ゚チルアミノ
゚チルアクリレヌト、゚チレングリコヌルゞアク
リレヌト、−ブタンゞオヌルゞアクリレヌ
ト、ゞ゚チレングリコヌルゞアクリレヌト、ヘキ
サメチレングリコヌルゞアクリレヌト、−
プロパンゞオヌルゞアクリレヌト、デカメチレン
グリコヌルゞアクリレヌト、デカトチレングリコ
ヌルゞアクリレヌト、−シクロヘキサンゞ
オヌルゞアクリレヌト、−ゞメチロヌルプ
ロパンゞアクリレヌト、グリセロヌルゞアクリレ
ヌト、トリプロピレングリコヌルゞアクリレヌ
ト、グリセロヌルトリアクリレヌト、トリメチロ
ヌルプロパントリアクリレヌト、ペンタ゚リスリ
トヌルトリアクリレヌト、ポリオキシ゚チル化ト
リメチルロヌルプロパントリアクリレヌト、およ
びトリメタアクリレヌト、および米囜特蚱第
3380831号明现曞に開瀺の同様の化合物、
−ゞ−ヒドロキシプニル−プロパンゞア
クリレヌト、ペンタ゚リスリトヌルテトラアクリ
レヌト、−ゞ−−ヒドロキシプニル
−プロパンゞメタアクリレヌト、トリ゚チレング
リコヌルゞアクリレヌト、ポリオキシ゚チル−
−ゞ−−ヒドロキシプニル−プロパ
ンゞメタアクリレヌト、ビスプノヌル−のゞ
−−メタアクリルオキシ−−ヒドロキシプ
ロピル゚ヌテル、ビスプノヌル−のゞ−
−メタアクリルオキシ゚チル゚ヌテル、ビ
スプノヌル−のゞ−−メタアクリルオキ
シ−−ヒドロキシプロピル゚ヌテル、ビスフ
゚ノヌル−のゞ−−アクリルオキシ゚チル
゚ヌテル、テトラクロロビスプノヌル−のゞ
−−メタアクリルオキシ−−ヒドロキシプ
ロピル゚ヌテル、テトラクロロ−ビスプノヌ
ル−のゞ−−メタアクリルオキシ゚チル
゚ヌテル、テトラブロモビスプノヌル−のゞ
−−タアクリルオキシ−−ヒドロキシプロ
ピル゚ヌテル、テトラブロモビスプノヌル−
のゞ−−メタアクリルオキシ゚チル゚ヌ
テル、−ブタンゞオヌルのゞ−−メタ
アクリルオキシ−−ヒドロキシプロピル゚ヌ
テル、ゞプノヌル酞のゞ−−メタアクリル
オキシ−−ヒドロキシプロピル゚ヌテル、ト
リ゚チルグリコヌルゞメタアクリレヌト、ポリオ
キシプロピルトリメチロヌルプロパントリアクリ
レヌト462、゚チレングリコヌルゞメタアクリ
レヌト、ブチレングリコヌルゞメタアクリレヌ
ト、−プロパンゞオヌルゞメタアクリレヌ
ト、−ブタントリオヌルトリメタアク
リレヌト、−トリメチル−−ペ
ンタンゞオヌルゞメタアクリレヌト、ペンタ゚リ
スリトヌルトリメタアクリレヌト、−プニル
゚チレン−−ゞメタアクリレヌト、ペンタ
゚リスリトヌルテトラメタアクリレヌト、トリメ
チロヌルプロパントリアクリレヌト、−ペ
ンタンゞオヌルゞメタアクリレヌト、ゞアリルフ
マレヌト、スチレン、−ベンれンゞオヌル
ゞメタアクリレヌト、−ゞむ゜プロペニル
ベンれンおよび−トリむ゜プロペニル
ベンれンがあげられる。
前蚘゚チレン性䞍飜和単量䜓の他にこの局はた
た少くずも300の分子量を有する次のフリヌラゞ
カルで開始された連鎖延長付加重合可胜な゚チレ
ン䞍飜和化合物の少くずも䞀぀を含有しうる。こ
のタむプの奜たし単量䜓は〜15個のアルキレン
グリコヌルたたは〜10の゚ヌテル結合のポリア
ルキレン゚ヌテルグリコヌルから補造されたアル
キレンたたはポリアルキレングリコヌルゞアクリ
レヌトおよび米囜特蚱第2927022号明现曞に開瀺
のもの䟋えば特に末端結合ずしお存圚しおいる堎
合の耇数の付加重合性゚チレン結合を有するもの
である。特に奜たしいものはその様な少くずも䞀
぀が、そしお奜たしくはそのほどんどが炭玠−炭
玠二重結合および炭玠ず耇玠原子䟋えば窒玠、酞
玠および硫黄ずの二重結合を含む粗二重結合炭玠
ず共圹しおいるものである。顕著なものぱチレ
ン性䞍飜和基特にビニリデン基が゚ステルたたは
アミド構造ず共圹しおいるものである。
掻性光線により掻性化可胜な、そしお185℃お
よびそれ以䞋では熱的に䞍掻性な奜たしいフリヌ
ラゞカル生成付加重合開始剀ずしおは、共圹炭玠
環系䞭に個の環内炭玠を有する化合物である眮
換たたは無眮換の倚栞キノン䟋えば10−アン
トラキノン、−クロロアントラキノン、−ク
ロロアントラキノン、−メチルアントラキノ
ン、−゚チルアントラキノン、−第䞉ブチル
アントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
−ナフトキノン、10−プナントレン
キノン、−ベンズアントラキノン、
−ベンズアントラキノン、−メチル−−
ナフトキノン、−ゞクロロナフトキノン、
−ゞメチルアントラキノン、−ゞメ
チルアントラキノン、−プニルアントラキノ
ン、−ゞプニルアントラキノン、アント
ラキノンα−スルホン酞のナトリりム塩、−ク
ロロ−−メチル−アントラキノン、レテンキノ
ン、10−テトラヒドロナフタセンキ
ノン、−テトラヒドロナフタセン
キノンおよび−テトラヒドロベン
ズ(a)アントラセン−12−ゞオンがあげられ
る。それらのあるものは85℃の䜎い枩床でも熱的
に掻性でありうるにしおもこれたた有甚なその他
の光開始剀が米囜特蚱第2760863号明现曞に蚘茉
されおおり、これらずしおはビシナルケトアルド
ニルアルコヌル䟋えばベンゟむン、ピバロむン、
アシロむン゚ヌテル、䟋えばベンゟむンメチルお
よび゚チル゚ヌテル、α−メチルベンゟむン、α
−アリルベンゟむンおよびα−プニルベンゟむ
ンを含むα−炭化氎玠眮換芳銙族アシロむンがあ
げられる。米囜特蚱第2850445号、同第2875047、
同第3097096、同第3074974、同第3097097および
同第3145104各号明现曞に開瀺の光還元性染料お
よび還元剀ならびにプナゞン、オキサゞンおよ
びキノン矀の染料、ミヒラヌのケトン、ベンゟフ
゚ノン、−トリプニルむミダゞリル
二重䜓ず氎玠ドナヌずの組合せ、およびその混合
物で米囜特蚱第3427161号、同第3479185および同
第3549367各号明现曞蚘茉のものも開始剀ずしお
䜿甚できる。たた光開始剀および光阻止剀ず共に
甚いるこずで有甚な増感剀は米囜特蚱第4162162
号明现曞に開瀺されおいる。
光重合性組成物䞭に䜿甚しうる熱重合防止剀は
−メトキシプノヌル、ヒドロキノンおよびア
ルキルおよびアリヌル眮換ヒドロキノン、および
キノン、第䞉ブチルカテコヌル、ピロガロヌル、
銅レゞネヌト、ナフチルアミン、β−ナフトヌ
ル、塩化第䞀銅、−ゞ第䞉ブチル−−ク
レゟヌル、プノチアゞン、ピリゞン、ニトロベ
ンれンおよびゞニトロベンれン、−トルキノン
およびクロラニルである。たた米囜特蚱第
4168982号明现曞に開瀺のニトロ゜組成物もたた
熱重合防止に察しお有甚である。
皮々の染料および顔料を加えおレゞスト画像の
可芖性を䞊昇させるこずができる。䜿甚されるす
べおの着色剀はしかし奜たしくは䜿甚される掻性
攟射に察しお透明であるべきである。
印刷回路圢成を含む本発明の方法に察しお䞀般
に適圓な基材は機械匷床、化孊的耐性、および良
奜な誘電特性を有するものである。即ち印刷回路
甚のほずんどの板材料は通垞補匷充填剀ず組合せ
た熱硬化性たたは熱可撓性暹脂である。補匷充填
剀を有する熱硬化性暹脂は通垞剛性板に察しお䜿
甚され、䞀方補匷剀なしの熱可撓性暹脂は通垞可
ずう性回路板に䜿甚される。
兞型的な構造は玙䞊のプノヌルたたぱポキ
シ暹脂、玙−ガラス耇合䜓ならびにガラス䞊のポ
リ゚ステル、゚ポキシ、ポリむミド、ポリテトラ
フルオロ゚チレンたたはポリ゚チレンの様な組合
せ物を包含する。ほずんどの堎合、板は匷い電気
䌝導性金属局で被芆されおいるが、これら金属の
䞭では銅が最も䞀般的である。
積局させるべき印刷回路基材衚面が枅浄であり
か぀衚面のいくらかでもの認めうる皋の郚分を非
湿最性ずさせうる様な倖来性物質を含有しないも
のであるこずが奜たしいずいうこずは圓業者によ
り認識されおいるずころである。この理由の故
に、印刷回路板補造分野では呚知のいく぀かの枅
浄性の䞀぀たたはそれ以䞊を䜿甚しお積局の前に
印刷回路基材を枅浄化させるこずがしばしば望た
れるこずである。特定の枅浄化の型匏は汚染が有
機、粒子、たたは金属のいずれによる汚染型匏で
あるかによ぀お決たるのである。その様な方法ず
しおは溶媒および溶媒乳剀による脱脂、機械的ス
クラビング、アルカリ含浞、酞性凊理その他およ
びそれに続く枅浄および也燥があげられる。
本発明の実斜においおは、レゞスト゚レメント
甚に皮々の基材を䜿甚するこずができる。枩床倉
化に察しお高床の寞法安定性を有しおいる適圓な
支持䜓は、䟋えばポリアミド、ポリオレフむン、
ポリ゚ステル、ビニル重合䜓、およびセルロヌス
゚ステルの様な高床重合䜓から構成されおいる広
範な皮々のフむルムから遞ぶこずができる。本発
明に察しお奜たし支持䜓は、ポリ゚チレンテレフ
タレヌトである。
適圓な保護カバヌシヌトは支持䜓ずしお列蚘さ
れおいるものず同䞀の重合䜓フむルム矀から遞ぶ
こずができる。ポリ゚チレンおよびポリ゚チレン
テレフタレヌトは本発明のレゞスト゚レメント甚
のカバヌシヌトずしお特に有甚である。
本発明は、以䞋の実斜䟋を参照するこずによ぀
お、より明癜に理解されるであろう。
䟋  氎性のレゞストフむルムを以䞋の方法で補造し
た。
混合甚に空気攪拌装眮を付した容噚に次の成分
を加えた。
(1) メチレンクロリド 810.00 (2) メタノヌル 80.00 (3) スチレンブチルマレアヌト、酞䟡185、分子
量20000モンサント瀟からスクリプセツト
640ずしお入手可胜 157.50 (4) スチレンアクリル酞、酞䟡200、軟化点144℃
ゞペン゜ンワツクス瀟からゞペンクリルず
しお入手可胜 114.80 これを30分間攪拌した。
(5) 2′−ビス−−クロロプニル−
4′5′−テトラプニルビむミダゟヌル
7.60 これを分間攪拌した。
(6) ベンゟプノン 22.50 (7) ミヒラヌのケトン 22.50 (8) ロむコクリスタルバむオレツトCI 42555
1.80 (9) −トル゚ンスルホン酞 0.45 これを分間攪拌した。
(10) トリメチロヌルプロパントリアクリレヌト
126.00 11 トリ゚チレングリコヌルゞメタアクリレ
ヌト 13.50 これを分間攪拌した。
12 C.I.ベヌシツクグリヌン 0.14 13 −トリメチル−−ゞア
ゟビシクロ〔3.2.2〕−ノン−−゚ン−
−ゞオキサむド 0.45 これを30分間攪拌した。
次いでこの最終組成物298を、のメタノ
ヌルに溶解させた以䞋の固䜓を含有する個の容
噚の各々に加えた。
 0.4ベンゟトリアゟヌル  0.4−クロロベンゟトリアゟヌル  0.4無氎のク゚ン酞 およびは比范䟋ずしおのもので米囜特蚱第
3622334号明现曞に教瀺された接着促進剀を含有
するものである。
䜎分子量の氎溶性酞ずしおク゚ン酞を含有する
は本発明の着想を代衚するものである。
0.0152cmのドクタヌナむフを䜿甚しおこれら溶
液をポリ゚チレンテレフタレヌトを支持䜓にコヌ
テむングしお0.0035〜0.0038cmの厚さのコヌテむ
ングを生成させた。
これらレゞストフむルムを次いで銅被芆゚ポキ
シセンむ板に積局させ、そしお皮々の時間の間保
持させお銅䞊のスカム圢成たたは衚面ステむンを
枬定した。積局は100〜115℃の、ポンド盎線
むンチのニツプ圧の、フむヌト分の速床での
ゎムコヌテむングしたロヌラヌ操䜜の助けにより
実斜された。
板の露光は、照射源ずしおの走査氎銀アヌク、
DMVLコラむト瀟、ミネアポリス、ミネ゜タ
州を䜿甚した。15秒の露光の埌、ポリ゚チレン
テレフタレヌト支持䜓フむルムをはぎ取぀お捚
お、露光レゞストを銅衚面䞊に接着残留させた。
次いでこの板をスプレヌノズルからむンチの距
離で105〓の0.04N NaOHの30ポンド平方むン
チのスプレヌ䞭に眮くこずによ぀お珟像させた。
この段階は露光透明画の透明郚分のパタンのなた
のレゞストを銅䞊に残留させた。この方法を最も
有甚なものずするためには、補完的䞍透明郚分に
はレゞストは残留させるべきではない。
レゞストを銅䞊に回保持させた堎合にもステ
むンたたはスカムは芳察されなか぀た。の組成
物の堎合には日間保持させた埌では匷いステむ
ンが芳察された。䞀方の組成物は匱いステむン
を瀺したがしかし本発明の組成物はステむンを
瀺さなか぀た。およびの組成物の比范䟋で
は、同䞀の週間期間保持させた堎合銅衚面には
ひどいステむンおよびスカムを有しおいた。
ベンゟトリアゟヌルたたは−クロロベンゟト
リアゟヌルに察しお本発明のク゚ン酞を眮換させ
るこずは、劣化時ステむンたたはスカム圢成なし
に銅衚面に積局保持される胜力においおはるかに
より優れおいる改善されたフむルムを䞎えた。比
范䟋に盞察的に、実隓フむルムのラむン保持に枛
少が芳察された。即ちおよびに察する〜
ミルラむンに察しおに察しおは〜ミルラむ
ンであ぀た。゚ツチング速床、感床、可撓性およ
び湿最性その他の性質は、比范䟋に等しいか、た
たはそれより良奜であ぀た。
レむム・ハヌトRame−Haet接觊角角床
蚈モデルA100を䜿甚しお凊理板を過硫酞ア
ンモニりム䞭で10秒間゚ツチングさせた埌に氎䞭
での゚チルセロ゜ルブの0.01cm3小滎の接觊角
を枬定した。より䜎い接觊角はよりきれいな衚面
を瀺す。衚は等しい凊理を行な぀たが異぀た時
間をかけた積局フむルム䞊で埗られた接觊角の結
果を瀺しおいる。
è¡š  フむルム 日 日 日  17 20 57  11 12 24     衚に瀺されおいる様に、〜日間保持した
埌でさえも本発明は汚染衚面の城候を瀺さなか぀
た。䞀方比范䟋はステむン圢成に盞関したより高
いそしおより䞊昇した接觊角を瀺した。接觊角テ
ストは䞀日の間銅衚面に積局保持させた埌のフむ
ルムの差を瀺すが、䞀方芖芚的芳察ではこれらの
どれにもステむンは芳察されなか぀た。
䟋  䟋をくりかえしたが䜆しコハク酞の代りに
0.4量のマロン酞、リンゎ酞およびマレむン酞
が䜿甚された。ク゚ン酞に察しお䟋で芳察され
たものず同様のステむンおよびスカム圢成ぞの耐
性の改善が埗られた。
䟋  䟋のレゞスト凊方䞭にセバシン酞、安息銙
酞、蓚酞、クロロコハク酞、ピメリン酞、アれラ
むン酞、アゞピン酞、グルタル酞、フタル酞およ
びコハク酞を配合させた堎合、スカムおよびステ
むン圢成ぞの耐性の改善が埗られた。週間たで
のステむン阻止に察しおは、これらは䟋および
で蚘茉した酞の堎合にそうである皋には有効で
はなか぀た。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  銅の基材ず、それに盎接積局させた氎性の凊
    理可胜で光重合可胜なレゞスト組成物のフむルム
    ずから成り、このレゞスト組成物は光重合性゚チ
    レン性䞍飜和単量䜓、光開始剀たたは光開始剀
    系、100以䞊の酞䟡を有する結合剀、および300を
    越えない分子量ず20℃で100の氎䞭に少くずも
    その0.01が溶解する溶解床ず×10-5〜×
    10-2の範囲の解離定数ずを有する酞ずから成るも
    のであり、そしお前蚘の酞は銅衚面䞊での前蚘組
    成物のステむンたたはスカムの圢成を阻止するの
    に充分な量で存圚させるものずし、かくしお走査
    氎銀アヌクに郚分露光させそしお105Fで0.04Nの
    NaOHを甚いお珟像した埌に、そのフむルムが
    氎銀アヌクに露光された郚分では接着性であるが
    氎銀アヌクに露光されなか぀た郚分では非接着性
    である様な性質をそのフむルムが有する様にさせ
    たこずを特城ずする、䞊蚘銅の基材ずレゞスト組
    成物のフむルムずから成る゚レメント。  酞が250以䞊ではない分子量を有しおいる前
    蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の゚レメント。  レゞスト組成物が銅基材に接觊しおいる、前
    蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の゚レメント。  酞がカルボン酞である前蚘特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の゚レメント。  酞を、前蚘単量䜓、光開始剀たたは光開始剀
    系および結合剀の0.01〜1.0重量量で存圚させ
    る、前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の゚レメン
    ト。  酞を、前蚘単量䜓、光開始剀たたは光開始剀
    系および結合剀の0.1〜重量量で存圚させる、
    前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の゚レメント。  酞がク゚ン酞、マロン酞、リンゎ酞およびマ
    むレン酞より成る矀から遞ばれる前蚘特蚱請求の
    範囲第項蚘茉の゚レメント。  酞がセバシン酞、安息銙酞、クロロコハク
    酞、ピメリン酞、アれラむン酞、アゞピン酞、グ
    ルタル酞、フタル酞およびコハク酞より成る矀か
    ら遞ばれる前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の゚レ
    メント。  酞を、前蚘単量䜓、光開始剀たたは光開始剀
    系および結合剀の0.01〜1.0重量量で存圚させ
    る接觊特蚱請求の範囲第項蚘茉の゚レメント。  カバヌシヌトをフむルムに接觊させお有し
    おいる、前蚘特蚱請求の範囲第項蚘茉の゚レメ
    ント。  カバヌシヌトがポリ゚チレンたたはポリ゚
    チレンテレフタレヌトよりなる、前蚘特蚱請求の
    範囲第項蚘茉の゚レメント。
JP3167785A 1982-04-12 1985-02-21 スカムおよびステむンの圢成を枛少させるための酞を含有する光重合可胜な組成物および゚レメント Granted JPS61194438A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US36776382A 1982-04-12 1982-04-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61194438A JPS61194438A (ja) 1986-08-28
JPH0528825B2 true JPH0528825B2 (ja) 1993-04-27

Family

ID=23448495

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3167785A Granted JPS61194438A (ja) 1982-04-12 1985-02-21 スカムおよびステむンの圢成を枛少させるための酞を含有する光重合可胜な組成物および゚レメント

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61194438A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04122936A (ja) * 1990-09-13 1992-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
TW200715052A (en) * 2005-10-07 2007-04-16 Toagosei Co Ltd Composition curable with actinic energy ray
JP5412039B2 (ja) * 2008-02-06 2014-02-12 日立化成株匏䌚瀟 感光性゚レメント、これを甚いたレゞストパタヌンの圢成方法及びプリント配線板の補造方法
TWI608294B (zh) * 2008-10-30 2017-12-11 䜏友化孞股仜有限公叞 感光性暹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61194438A (ja) 1986-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0041640B1 (en) Photopolymerizable composition
US3469982A (en) Process for making photoresists
US5268260A (en) Photoresist develop and strip solvent compositions and method for their use
EP0115354B1 (en) Storage stable photopolymerizable composition
US4680249A (en) Photopolymerizable composition containing carboxy benzotriazole
US4693959A (en) Adhesion promotion in photoresist lamination and processing
NO169923B (no) Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort
EP0040843B1 (en) Laminating process
JPH0426461B2 (ja)
JPS60208748A (ja) 感光性暹脂組成物及びこれを甚いた積局䜓
US4510230A (en) Photopolymerizable compositions and elements containing acid to reduce scum and stain formation
JPH0528825B2 (ja)
EP0198392A1 (en) Partial neutralization of aqueous developable photoresist
US4230790A (en) Photopolymerizable compositions useful in dry film photoresist
EP0237985B1 (en) Improved solvent developable photoresist composition and process of use
US4631246A (en) Uniform cover sheet with rough surface in a photosensitive element
EP0089041B1 (en) Use of a negative acting photopolymerizable element as a solder mask
US5015555A (en) Photopolymerizable composition containing heterocyclic triazole
US4339527A (en) Process for using photopolymerizable compositions
EP0091693B1 (en) Improved cover sheet in a photosensitive element
US4567128A (en) Cover sheet in a photosensitive element
EP0041639B1 (en) Laminating process
US4497889A (en) Release compound in negative acting photopolymerizable element

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term