NO165218B - Materiale som er egnet for avrivning av lysbestandig polymer. - Google Patents
Materiale som er egnet for avrivning av lysbestandig polymer. Download PDFInfo
- Publication number
- NO165218B NO165218B NO840515A NO840515A NO165218B NO 165218 B NO165218 B NO 165218B NO 840515 A NO840515 A NO 840515A NO 840515 A NO840515 A NO 840515A NO 165218 B NO165218 B NO 165218B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- volume
- methanol
- light
- test
- material according
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 32
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical group CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 8
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical group CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQOUCSFLANJZBW-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methyl formate Chemical compound COC=O.CC(O)=O NQOUCSFLANJZBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid Chemical class OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- XLQDQRMFMXYSQS-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;hydrochloride Chemical compound Cl.ClCCl XLQDQRMFMXYSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical group 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- ZRYRUTXWDGMPSN-UHFFFAOYSA-N propan-2-amine Chemical compound CC(C)N.C(C)(C)N ZRYRUTXWDGMPSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000005494 tarnishing Methods 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5013—Organic solvents containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02806—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing only chlorine as halogen atom
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/42—Stripping or agents therefor
- G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
- G03F7/426—Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/266—Esters or carbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen
- C11D7/3209—Amines or imines with one to four nitrogen atoms; Quaternized amines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Denne oppfinnelse vedrører et materiale som er nyttig
som avrivnings-materiale for lysbestandige materialer.
Tavler med trykte kretser blir typisk fremstilt ved plette-ring av et tynt sjikt av kobber på en epoksyglass-tøy-laminattav-le eller glimmertavle med jevn tykkelse. Et forhåndsbestemt mønster av hull blir så boret for å tilpasse forskjellige elekt-riske komponenter. En film av delvis polymerisert lysbestandig plast avsettes på laminatet over kobberpletteringen. Disse lysbestandige filmer er vanligvis sammensatt av akrylharpikser, polyvinyl-cinnamater, diazoforbindelser, fenol/formaldehyder eller andre lignende filmdannende materialer. Denne film blir ytterligere polymerisert, eller tverrbundet, ved innvirkning av ultrafiolett lys, til en hard kjemisk bestandig film.
Ved maskering med et passende glass- eller plastmateriale blir den lysbestandige film selektivt herdet ved eksponering for lys i spesielt foretrukne områder, mens den lysbestandige film i de maskerte områder blir værende uforandret. Den uforandrede lysbestandige film blir så oppløst i en "fremkaller" med et løs-ningsmiddel så som 1,1,1-trikloretan eller en løsning av but-oksyetanol og natriumkarbonat eller lignende løsninger. Kobberet i de rensede områder kan så fjernes ved etsing, eller det kan pletteres ytterligere kobber og andre metaller derpå. I
alle tilfeller er det så nødvendig å fjerne den eksponerte her-dete lysbestandige film fra laminatet.
Det er kjent at slike lysbestandige filmer kan fjernes ved innvirkning av sterke organiske løsningsmidler, så som metylenklorid eller trikloretylen.
Det er også kjent at mange maling- og lakk-fjernere er basert på diklormetan. Mange av disse inneholder også en alkohol og ett eller flere additiver. US-patentskrift nr. 3 650 969 åpenbarer således et materiale for fjerning av maling, og dette omfatter dikloralkaner med 1 til 2 karbonatomer, en alifatisk enverdig alkohol som inneholder 1 til 3 karbonatomer, og hydro-genfluorid og vann. US-patentskrift nr. 3 600 322 åpenbarer et malingsfjerningsmateriale som inneholder diklormetan, metanol og
en kvaternær nitrogencelluloseeter.
Andre patentskrifter hvori det anvendes diklormetan sammen med alkanoler og forskjellige andre additiver, er US-patentskrifter nr. 3 147 224, 3 075 923, 4 269 724 og 4 278 557.
En fremgangsmåte for fjerning av lysbestandig materiale
fra tavler med trykte kretser er beskrevet i US-patentskrift nr. 3 789 007, hvorved tavlen behandles med en blanding av 85 til 97 vekt% diklormetan og resten metanol.
Andre lysbestandige avrivningsmaterialer som inneholder diklormetan, er åpenbart i US-patentskrifter nr. 3 625 763, 3 813 309 og 3 625 763.
Foreliggende oppfinnelse er et forbedret lysbestandig avrivningsmateriale som inneholder diklormetan (metylenklorid), metanol og metylmetanoat (metylformiat). Denne kombinasjon river av det lysbestandige materiale med større hastighet enn materialer som er tidligere kjent på fagområdet. De foretrukne materialer tilveiebringer også en ikke-gnistdannende blanding og gir bedre linjeskarphet enn kommersielle avrivningsmidler som nå er tilgjengelige. Det henvises forøvrig til krav 1.
De forbedrede diklormetansammensetninger for anvendelse som avrivningsmateriale for lysbestandig materiale inneholder metanol og metylmetanoat, hver anvendt i en konsentrasjon på fra 1 til 10 volum%, basert på det totale volum av materialet. Materialet kan eventuelt, inneholde en stabilisator for diklormetanet, så som et vicinalt epoksyd, f.eks. propylenoksyd. Aminer anvendes ofte som et hjelpemiddel ved avrivning, f.eks. isopropylamin. Nyttige er også cykloheksylamin og trietylamin. Slike aminer er kjent for å inneholdes i noen avrivningssammen-setninger som nå er kommersielt tilgjengelige.
Blandinger i henhold til oppfinnelsen ble testet på de føl-gende måter:
Test 1 - Dråpetest
En dråpe på 50 mikxoliter av testblandingen (1-25 % additiv (er) i diklormetan).. anbringes på en tverrbundet lysbestandig film som foreligger på. en tavle for trykte kretser. Løsningsmid-del-film-området observeres under et 150X mikroskop for å be-stemme tiden (i sekunder); som er nødvendig for å oppnå brudd og hevning av filmen fra tavlen. Kortere tider foretrekkes ved kommersiell drift.
Denne test ble utført med en rekke mulige additiv-kandida-ter ved anvendelse av kommersielt fremstilte tavler med trykte kretser dekket med lysbestandig materiale. På disse tavler ble det benyttet en tverrbundet lysbestandig film, kommersielt tilgjengelig fra E.I.duPont de Nemours Co., Inc. Resultater av disse tester er vist i tabellene I og II. Alle additivene ble testet i en inhibert kvalitet av diklormetanklorid hvortil det var satt 0,1 volum% 2-aminopropan (isopropylamin) .
Test 2 - Sprøyteenhetstest
Det ble utført en sprøytetest ved anvendelse av en stål-sprøyteenhet som var en utgave i laboratorie-målestokk av den
apparatur som ble anvendt i industrien for å rive av lysbestandige filmer. Mengder på 7,6 liter av testblandingene antydet ved de innledende sorteringer ble anvendt i sprøyteenheten. Sprøyt-ing av løsningsmiddel ved 138 kPa(målt) og 23-24°C ble så rettet
ned på de suspenderte tavler i 10-15 sekunder. Tavlene ble veid før og etter avrivning. Vektforskjeller av mengder av fjernet lysbestandig materiale ble sammenlignet med en standard-avrivningssammensetning ved anvendelse av formelen:
En positiv prosentverdi viste mer fullstendig avrivning og en negativ verdi viste mindre fullstendig avrivning sammenlignet med ytelsen til standard-avrivningsblandingen. Standarden var et kommersielt tilgjengelig avrivndngsmiddel inneholdende 7,5 % metanol og 0,10 % 2-aminopropan i. diklormetan (inhibert kvalitet) , på volumbasis.
Testtavlene på 102 x 102 mm ble fremstilt av en kommersiell fabrikant ved anvendelse av en kommersielt tilgjengelig lysbestandig harpiksfilm (hvis hovedkomponent er en polymeitylme.takry-latharpiks) og et testmønster bestående av tallrike linjer med varierende bredder og avstander. Disse tavler, som var plettert med tinn-bly, var klare for avrivning da de ble mottatt.
Flere diklormetanmaterialer som inneholdt forskjellige mengder av metanol og metylmetanoat, ble anvendt ved den ovenfor beskrevne sprøytetest. Det ble anvendt en tidsinnstilt sprøyt-ing med en varighet på 10 sekunder. Metanol og metylmetanoat ble hver anvendt i mengder på 1,0, 2,5 og 4,0 volum% i diklormetanet (inhibert kvalitet), basert på det totale volum av løsningsmiddel og additiver. 2-aminopropan var tilstede med 0,1 volum! i hver sammensetning på total basis. Resultater for avrivningsevne for hver sammensetning er vist som prosent bedre (+) eller verre (-) enn et standard-metylenklorid-avrivningsmiddel, i tabell III.
Inndampnmgstester og xorrosjonstester ble også utført
med disse materialer.
Det ble utført to tester på inndamping. Ved den første
ble 300 ml testløsning fremstilt, anbrakt i et begerglass ved romtemperatur i et avtrekk og analysert ved forskjellige tider på additivmateriale ved anvendelse av gasskromatografi. Resultater er vist i tabell IV. Ved den andre test ble 7,6 liter testløsning anbrakt i sprøyteenheten med lokket litt åpent. En-heten ble kjørt ved 138 kPa (målt) i en periode på 60 minutter. Igjen ble konsentrasjonene av additivene vurdert etter forskjellige tider. Ved denne test var konsentrasjonen av metylmetanoat ved slutten av én time ca. 2,85 %, og den av metanol var ca. 2,30 %, og de innledende konsentrasjoner var for hver 3,0 volum%, hvilket viser at det bare var et lite tap av komponenter fra blandingen.
En kobber-korrosjonsundersøkelse besto av tilbakeløpsbehand-ling av 100 ml av testløsningsmiddelblanding sammen med kobber-prøvestykker på 12,7 x 62,2 mm i 7 dager. Det ble foretatt tre bestemmelser for hver løsningsmiddelblanding. Det ble utført gasskromatografianalyse med hver prøve etter 7 dager. Korro-sjonshastigheten for kobberprøvestykkene ble uttrykt i mil (1 mil = 0,0254 mm) gjennomtrenging pr. år (MPY) ved anvendelse av den følgende formel:
MPY = prøvestykke vekt (mg) tap/kvadrat tomme/dag (22,3/8,93)
Resultater for sammensetninger av en kommersiell blanding (A) og én i henhold til oppfinnelsen (B) under forholdene for test-en ovenfor, er angitt nedenfor:
Aminet kan gi et lite problem med kobber-anløping og misfarging av løsningsmiddel dersom det tillates å stå i minst 12 timer ved romtemperatur i nærvær av metallet. Dette vil imidlertid ikke være noe betydelig problem med hensyn til tavlene, siden løsningsmidlet kommer i kontakt med kobberkrets-platene i bare 2 til 3 minutter ved virkelig kommersiell anvendelse.
Siden det imidlertid er typisk at det ved industrielt utstyr anvendes kobberrør, så kan dette fenomen påvirke utstyrets varighet. Det er interessant å bemerke at anvendelse av 0,1 volum% trietylamin som erstatning for 2-aminopropan i B-sammensetningen gir en sterk redusering av problemet med misfarging av løsnings-midlet ved kobber-korrosjonstester ved romtemperatur. I en slik lav konsentrasjon tilfører ikke aminet noe til avrivnings-evnekarakteristikkene til sammensetningen, og dersom det elimi-neres fullstendig unngås korrosjonen og misfargingen av kobberet.
Materialene i henhold til foreliggende oppfinnelse er slike som inneholder fra 1 til 10 volum% av hver av metanol og metylmetanoat, under den forutsetning at åen totale mengde av metanol og metylmetanoat er minst 5 og ikke mer enn 10 volum%
av det totale materiale. Materialet kan også inneholde et amin.
Claims (7)
1. Materiale som er egnet ved avrivning av tverrbundet lysbestandig polymer, karakterisert ved at det omfatter diklormetan som inneholder metanol og metylmetanoat, hver i mengder på fra 1 til 10 volum% av den totale blanding, forutsatt at den totale mengde av metanol og metylmetanoat er minst 5 og ikke mer enn 10 volum% av den totale blanding.
2. Materiale i henhold til krav 1,
karakterisert ved at metanolen og metyl-metanoatet hver er tilstede i en mengde på fra 1 til 5 volum% av den totale blanding.
3. Materiale i henhold til krav 2,
karakterisert ved at metanolen og metyl-metanoatet er tilstede med 2,5 til 5 volum% hver.
4. Materiale i henhold til krav 1 eller 2, karakterisert ved at aminet er et lavere alifatisk amin som har fra 3 til 6 karbonatomer.
5. Materiale i henhold til krav 1 eller 2, karakterisert ved at aminet er 2-aminopropan.
6. Materiale i henhold til krav 4,
karakterisert ved at aminet er trietylamin.
7. Materiale i henhold til hvilket som helst av kravene 1 til 6,
karakterisert ved at det dessuten inneholder metylformiat.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/465,975 US4438192A (en) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | Photoresist stripper composition and method of use |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO840515L NO840515L (no) | 1984-08-15 |
| NO165218B true NO165218B (no) | 1990-10-01 |
| NO165218C NO165218C (no) | 1991-01-09 |
Family
ID=23849937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO840515A NO165218C (no) | 1983-02-14 | 1984-02-13 | Materiale som er egnet ved avrivning av lysbestandig polymer. |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4438192A (no) |
| EP (1) | EP0116343B1 (no) |
| JP (1) | JPS59157639A (no) |
| BR (1) | BR8400680A (no) |
| CA (1) | CA1193177A (no) |
| DE (1) | DE3471770D1 (no) |
| FI (1) | FI78310C (no) |
| HK (1) | HK79489A (no) |
| NO (1) | NO165218C (no) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3444293A1 (de) * | 1984-12-05 | 1986-06-05 | Metallgesellschaft Ag, 6000 Frankfurt | Mittel zum reinigen von verarbeitungsanlagen fuer hochviskose reaktive mehrkomponentenmischungen |
| FR2601703B1 (fr) * | 1986-07-21 | 1993-05-07 | Atochem | Composition a base de chlorure de methylene - son utilisation pour l'enlevement des films photoresist |
| CA2024589A1 (en) * | 1989-09-05 | 1991-03-06 | Masaru Sugita | Cleaning compositions and applications thereof |
| US5218979A (en) * | 1989-09-05 | 1993-06-15 | Nagase & Company, Ltd. | Method of cleaning printed circuit boards with dimethylcyclooctadienes |
| JP2519807B2 (ja) * | 1989-10-13 | 1996-07-31 | 信越化学工業株式会社 | オ―バ―ヘッドプロジェクタ用フィルムの再生方法 |
| FR2657877B1 (fr) * | 1990-02-07 | 1992-05-15 | Atochem | Composition nettoyante a base de 1,1-dichloro-1-fluoroethane, de formiate de methyle et de methanol. |
| FR2657876B1 (fr) * | 1990-02-07 | 1992-05-15 | Atochem | Composition nettoyante a base de 1,1-dichloro-1-fluoroethane et de formiate de methyle. |
| US5741368A (en) * | 1996-01-30 | 1998-04-21 | Silicon Valley Chemlabs | Dibasic ester stripping composition |
| US5909744A (en) * | 1996-01-30 | 1999-06-08 | Silicon Valley Chemlabs, Inc. | Dibasic ester stripping composition |
| US6511547B1 (en) | 1996-01-30 | 2003-01-28 | Siliconvalley Chemlabs, Inc. | Dibasic ester stripping composition |
| AU2001273598A1 (en) | 2000-06-29 | 2002-01-14 | Huntsman Petrochemical Corporation | Carbonate-based photoresist stripping compositions |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU37804A1 (no) | 1958-11-04 | |||
| LU37891A1 (no) | 1958-12-11 | |||
| US3113154A (en) | 1960-05-27 | 1963-12-03 | Ethyl Corp | Stable methylchloroform compositions |
| US3600322A (en) | 1968-05-29 | 1971-08-17 | Union Carbide Corp | Paint removal formulation |
| US3650969A (en) | 1968-07-29 | 1972-03-21 | Allied Chem | Compositions for removal of finish coatings |
| US3625763A (en) | 1968-12-04 | 1971-12-07 | Bunker Ramo | Conformal coating stripping method and composition |
| US3813309A (en) | 1969-12-23 | 1974-05-28 | Ibm | Method for stripping resists from substrates |
| GB1329731A (en) | 1970-08-12 | 1973-09-12 | Imp Chemical Ind Ld | Method for removal of resists from printed circuit boards |
| US3988256A (en) | 1974-04-03 | 1976-10-26 | Allied Chemical Corporation | Photoresist stripper rinse |
| GB2000874B (en) | 1977-07-12 | 1982-02-17 | Asahi Chemical Ind | Process for producing image and photosensitive element therefor and method of producing printed circuit board |
| US4187191A (en) | 1978-07-26 | 1980-02-05 | General Motors Corporation | Photoresist stripper with dodecylsulfonic acid and chlorinated solvents |
| EP0011658B1 (en) * | 1978-12-01 | 1982-05-19 | Dow Chemical (Europe) S.A. | Stabilized methylene chloride formulation for vapor degreasing |
| US4246130A (en) | 1979-06-21 | 1981-01-20 | Amchem Products, Inc. | Stripping composition and method for metals |
| US4367324A (en) | 1980-02-05 | 1983-01-04 | Ciba-Geigy Corporation | Photocrosslinkable polymers with thioxanthone and imidyl groupings in side chains |
| US4269724A (en) | 1980-02-13 | 1981-05-26 | Hodson James V | Composition for paint stripper |
| NL8001016A (nl) * | 1980-02-22 | 1981-09-16 | Kluthe Gmbh Chem Werke | Toepassing van methylalcohol als stabilisator tegen explosiegevaar in een ontvettingsmiddel uit dichloormethaan voor metaaloppervlakken. |
| US4278557A (en) | 1980-04-15 | 1981-07-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Solvent mixture for dissolving and removing epoxy resinous compounds |
-
1983
- 1983-02-14 US US06/465,975 patent/US4438192A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-01-30 CA CA000446329A patent/CA1193177A/en not_active Expired
- 1984-02-02 DE DE8484101068T patent/DE3471770D1/de not_active Expired
- 1984-02-02 EP EP84101068A patent/EP0116343B1/en not_active Expired
- 1984-02-13 BR BR8400680A patent/BR8400680A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-02-13 NO NO840515A patent/NO165218C/no unknown
- 1984-02-14 FI FI840593A patent/FI78310C/fi not_active IP Right Cessation
- 1984-02-14 JP JP59024525A patent/JPS59157639A/ja active Pending
-
1989
- 1989-10-05 HK HK794/89A patent/HK79489A/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4438192A (en) | 1984-03-20 |
| NO165218C (no) | 1991-01-09 |
| EP0116343B1 (en) | 1988-06-01 |
| CA1193177A (en) | 1985-09-10 |
| NO840515L (no) | 1984-08-15 |
| FI78310B (fi) | 1989-03-31 |
| EP0116343A2 (en) | 1984-08-22 |
| EP0116343A3 (en) | 1985-10-30 |
| HK79489A (en) | 1989-10-13 |
| BR8400680A (pt) | 1984-09-18 |
| JPS59157639A (ja) | 1984-09-07 |
| FI840593A (fi) | 1984-08-15 |
| DE3471770D1 (en) | 1988-07-07 |
| FI78310C (fi) | 1989-07-10 |
| FI840593A0 (fi) | 1984-02-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR880002247B1 (ko) | 제막(際膜)조성물 및 내식막(耐蝕膜) 제거방법 | |
| US4592787A (en) | Composition useful for stripping photoresist polymers and method | |
| CA1194765A (en) | Stripping compositions and methods of stripping resists | |
| NO165218B (no) | Materiale som er egnet for avrivning av lysbestandig polymer. | |
| CN1950755B (zh) | 用于去除光刻胶的组合物 | |
| AU659312B2 (en) | Paint stripping composition | |
| KR101584377B1 (ko) | 금속 염을 함유하는 스트리퍼 용액을 사용하는 감소된 금속 에칭 속도 | |
| KR950015152B1 (ko) | 페인트 박리 조성물 | |
| TW200921302A (en) | Resist stripping composition | |
| KR20010034007A (ko) | 개선된 수성 스트립핑 및 세정 조성물 | |
| JPH07295240A (ja) | 非腐食性フォトレジスト剥離用組成物 | |
| SG194145A1 (en) | Photoresist stripping solution, stripping solution recycling system and operating method, and method for recycling stripping solution | |
| KR20000008103A (ko) | 포토레지스트용 스트리퍼 조성물 | |
| US4483917A (en) | Photoresist stripper composition and method of use | |
| KR101399502B1 (ko) | 티에프티 엘시디용 열경화성 수지 박리액 조성물 | |
| CN109097201A (zh) | 一种去胶液及其制备方法与应用 | |
| TWI795433B (zh) | 用於移除乾膜光阻的剝離組成物及使用所述組成物的剝離方法 | |
| US7183245B2 (en) | Stripper for cured negative-tone isoprene-based photoresist and bisbenzocyclobutene coatings | |
| KR102224907B1 (ko) | 드라이필름 레지스트 박리액 조성물 | |
| JPS6026945A (ja) | ストリツピング組成物及びレジストをストリツピングする方法 | |
| CN113504715A (zh) | 一种印刷线路板显影添加剂 | |
| KR101130353B1 (ko) | 포토레지스트용 박리 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 박리방법 | |
| WO2022114110A1 (ja) | 樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物 | |
| KR970007329B1 (ko) | 납땜플럭스제거용 세정제조성물 | |
| JPH06192694A (ja) | 半田フラックス除去用洗浄剤 |