JPS5860701A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPS5860701A JPS5860701A JP56158797A JP15879781A JPS5860701A JP S5860701 A JPS5860701 A JP S5860701A JP 56158797 A JP56158797 A JP 56158797A JP 15879781 A JP15879781 A JP 15879781A JP S5860701 A JPS5860701 A JP S5860701A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
- G02B5/286—Interference filters comprising deposited thin solid films having four or fewer layers, e.g. for achieving a colour effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は比較的低屈折率の光学部品、特に合成樹脂製
光学部品に適した反射防止膜に関するＯ 近年、成形の容易さと軽い仁ととによって、合５！樹脂
製光学ｓ島が次第に用いられるようになってきたが、こ
れらの光学部品の反射防止にはなお問題が残っているＣ 合成樹脂製の光学部品、特にレンズでは、反射防止膜の
蒸着材料υ１つとして酸化硅素が広く利用されている。
光学部品に適した反射防止膜に関するＯ 近年、成形の容易さと軽い仁ととによって、合５！樹脂
製光学ｓ島が次第に用いられるようになってきたが、こ
れらの光学部品の反射防止にはなお問題が残っているＣ 合成樹脂製の光学部品、特にレンズでは、反射防止膜の
蒸着材料υ１つとして酸化硅素が広く利用されている。
これは酸化ａ素蒸着膜は合成樹脂狭面に比較的強く附着
すること、真空中で樹脂部品を加熱しなくても硬い膜が
得られるためである。
すること、真空中で樹脂部品を加熱しなくても硬い膜が
得られるためである。
酸化硅素を用いる公知の反射防止膜は、空気に接する側
の第１層として屈折率が１４６〜Ｌ４８の２１１化硅素
８１０４を用いている。Ｓｉｏ２のバルク屈折率は約１
４６であるが、蒸着膜の屈折率は、蒸着過程での熱分解
等により一般にバルクで０屈折率より高くなる。これに
対しては、蒸発源の加熱に電子銃を用い、 １０−’
Ｔｏｒｒｇ度Ｄｌｌ素雰囲気中でゆっくり蒸着すると蒸
着膜の屈折率呟バルク屈折率に近づくことが出来るＣし
かし、バルク屈折率と同じになったとしても、５ｉｏｚ
Ｑ塔層膜を用いる限り、充分な反射防止効果をあけるこ
とはできない。
の第１層として屈折率が１４６〜Ｌ４８の２１１化硅素
８１０４を用いている。Ｓｉｏ２のバルク屈折率は約１
４６であるが、蒸着膜の屈折率は、蒸着過程での熱分解
等により一般にバルクで０屈折率より高くなる。これに
対しては、蒸発源の加熱に電子銃を用い、 １０−’
Ｔｏｒｒｇ度Ｄｌｌ素雰囲気中でゆっくり蒸着すると蒸
着膜の屈折率呟バルク屈折率に近づくことが出来るＣし
かし、バルク屈折率と同じになったとしても、５ｉｏｚ
Ｑ塔層膜を用いる限り、充分な反射防止効果をあけるこ
とはできない。
一般に、反射防止膜では、空気に接する第１層ｇｏ屈折
率ｎ１は基板Ｏ屈折率ｎａよりも小さくなけれは各反射
面での反射光θ振幅条件を満足することが出来々い。例
えば素層反射防止膜ではｎ１ｗψ４（ｎｏは空気の屈折
率）を満足する場合に中心波長で反射率が零になる〇 光学部品として用いられる合成樹脂としては、ポリメ’
ｔ−ｙｐクリレート （ＰＭＭＡ ） ｎ ＝ １．
４９、ジアリルグリコールカーボネート （ＣＲ３９）
ｎ＝１．５０、ボリスチレｙ（ＰＳ）ｎ−Ｌ５９．７／
リロニトリルスチレン（Ａｓ）ｎ＝Ｌ５７、ホｌＪカー
ボネート（ＰＣ）ｎ＝ｔ５８等の透明樹脂であるが、５
ｉｏ２７）屈折率では上記の振幅条件を満すことが出来
ない。特に、最も良く利用されるＰＭＭＡ、 ＣＲ３９
等の屈折率の低い樹脂に対しては。
率ｎ１は基板Ｏ屈折率ｎａよりも小さくなけれは各反射
面での反射光θ振幅条件を満足することが出来々い。例
えば素層反射防止膜ではｎ１ｗψ４（ｎｏは空気の屈折
率）を満足する場合に中心波長で反射率が零になる〇 光学部品として用いられる合成樹脂としては、ポリメ’
ｔ−ｙｐクリレート （ＰＭＭＡ ） ｎ ＝ １．
４９、ジアリルグリコールカーボネート （ＣＲ３９）
ｎ＝１．５０、ボリスチレｙ（ＰＳ）ｎ−Ｌ５９．７／
リロニトリルスチレン（Ａｓ）ｎ＝Ｌ５７、ホｌＪカー
ボネート（ＰＣ）ｎ＝ｔ５８等の透明樹脂であるが、５
ｉｏ２７）屈折率では上記の振幅条件を満すことが出来
ない。特に、最も良く利用されるＰＭＭＡ、 ＣＲ３９
等の屈折率の低い樹脂に対しては。
Ｓｉｏ２ 曝層膜は反射防止効果を殆んど得ることが出
来ないに υため、２層以上の多層膜としようとすれば、蒸着材料
を２１ａ以上用い、蒸着槽内に蒸着源を複数セットしな
ければならず、その上、Ｓｉｏ２を用いれば蒸発源には
電子銃を用いなければならない吟、製造法が複雑になり
コスト高を招く結果となっていた。
来ないに υため、２層以上の多層膜としようとすれば、蒸着材料
を２１ａ以上用い、蒸着槽内に蒸着源を複数セットしな
ければならず、その上、Ｓｉｏ２を用いれば蒸発源には
電子銃を用いなければならない吟、製造法が複雑になり
コスト高を招く結果となっていた。
こυ発明は、蒸着材料とし、て唯１つのｔｍ化硅累Ｓｉ
ｏを用い、通常Ｏ抵抗加熱蒸発源により容易かつ安価に
実質的に多層膜を形成させて、物に合成樹脂製光学部品
に好適な反射防止膜を得ようとするものである。
ｏを用い、通常Ｏ抵抗加熱蒸発源により容易かつ安価に
実質的に多層膜を形成させて、物に合成樹脂製光学部品
に好適な反射防止膜を得ようとするものである。
■酸化硅素Ｓｉｏは蒸着条件、特に真空度、蒸着速度に
よって蒸着膜の屈折率が大魚〈変化することは良く知ら
れている。兎１図は蒸着速度を一定（５Ｘ ／ｓｅｅ
ｌにして酸素ガス圧力を変えたとき、第２図は酸素ガス
圧力を一定にして蒸着速度を変えたとき０８ｉｏ蒸着膜
の屈折率Ｏ変化を示すグラフである。このグラフからも
わかるように％Ｓｉｏ蒸着膜はほぼ１．５０〜１．９
（＋の範囲で屈折率を変えることが出来るが、１．５０
以下にはならず、 Ｓｉｏ２蒸着膜はどには屈折率は低
下しないことが明らかであるＣ 従′つてＳｉｏ膜による反射防止膜を用いる場合は、第
１層として最も屈折率が低いｎ ＝ １．５０〜Ｌ５５
のＳｉｏ膜を用いたとしても、この屈折率けＰＭＭＡや
ＣＲ３９の屈折率とほぼ同等がむしろ高めであって、こ
のような琳層膜では反射防止効果を得ることは全く不可
能である。こＯため、第１７１１膜と基板との間に少な
くとも一鳩より高い屈折率を持つ蒸着膜を設けることば
心安となる。
よって蒸着膜の屈折率が大魚〈変化することは良く知ら
れている。兎１図は蒸着速度を一定（５Ｘ ／ｓｅｅ
ｌにして酸素ガス圧力を変えたとき、第２図は酸素ガス
圧力を一定にして蒸着速度を変えたとき０８ｉｏ蒸着膜
の屈折率Ｏ変化を示すグラフである。このグラフからも
わかるように％Ｓｉｏ蒸着膜はほぼ１．５０〜１．９
（＋の範囲で屈折率を変えることが出来るが、１．５０
以下にはならず、 Ｓｉｏ２蒸着膜はどには屈折率は低
下しないことが明らかであるＣ 従′つてＳｉｏ膜による反射防止膜を用いる場合は、第
１層として最も屈折率が低いｎ ＝ １．５０〜Ｌ５５
のＳｉｏ膜を用いたとしても、この屈折率けＰＭＭＡや
ＣＲ３９の屈折率とほぼ同等がむしろ高めであって、こ
のような琳層膜では反射防止効果を得ることは全く不可
能である。こＯため、第１７１１膜と基板との間に少な
くとも一鳩より高い屈折率を持つ蒸着膜を設けることば
心安となる。
多層反射防止膜２Ｌ、て普通に用いられる構成は、
であるが、何れも８ｇ１層の偽膜としてｎ＝１゜５０〜
１．５５の膜を用いることは反射防止効果を弱めること
が多い。また、ｂ、 ｃ Ｄ ”／２膜にけ一般には屈
折率が２．０繭後の高屈折率の膜を用いるのであるが、
Ｓｉｏ膜の場合は屈折率は高くても１．９程吹であり、
しかも屈折率が１．８５λ 程度になると膜厚が７／４ であっても可視光、特に短
波長側での吸収が大きくなり、反射防止膜として実用に
通さ々くなるため、上述の一般的な多層膜の４１［を用
いることは出来ないにの発明は、屈折率ｎ ＝ １．５
０〜１８５ｏ範囲７） Ｓｉｏ蒸着膜を用いて、以下の
ような構ｆｆ’７）多層膜が良好な反射防止作用を持つ
ことを見出したものである。
１．５５の膜を用いることは反射防止効果を弱めること
が多い。また、ｂ、 ｃ Ｄ ”／２膜にけ一般には屈
折率が２．０繭後の高屈折率の膜を用いるのであるが、
Ｓｉｏ膜の場合は屈折率は高くても１．９程吹であり、
しかも屈折率が１．８５λ 程度になると膜厚が７／４ であっても可視光、特に短
波長側での吸収が大きくなり、反射防止膜として実用に
通さ々くなるため、上述の一般的な多層膜の４１［を用
いることは出来ないにの発明は、屈折率ｎ ＝ １．５
０〜１８５ｏ範囲７） Ｓｉｏ蒸着膜を用いて、以下の
ような構ｆｆ’７）多層膜が良好な反射防止作用を持つ
ことを見出したものである。
実施例１
この実施例において、第１層の屈折率が１．５５以上と
なれば、＠２層との屈折率の差が小となって可視域全体
でＯ反射率が高くなる。第２層の屈折率が１７５以下で
は特に可視域中心部の反射率が高くなり、１８３以上で
はＳｉｏ膜Ｑ吸収が大きくなる。また、ｗｃａ層■屈折
率が１゜６８以上では可視域中心部の反射率が高くなり
、Ｌ６０以下では可視域周辺部の反射率が高く、いずれ
も実用上好ましくない。
なれば、＠２層との屈折率の差が小となって可視域全体
でＯ反射率が高くなる。第２層の屈折率が１７５以下で
は特に可視域中心部の反射率が高くなり、１８３以上で
はＳｉｏ膜Ｑ吸収が大きくなる。また、ｗｃａ層■屈折
率が１゜６８以上では可視域中心部の反射率が高くなり
、Ｌ６０以下では可視域周辺部の反射率が高く、いずれ
も実用上好ましくない。
＠３図は、この冥施例において、第１層、第２層、１１
３層の屈折率をそれぞれＬ５０．１，８３．１．６８と
し、基板ＫＰＭＭＡ （ｎｓ＝ １４９ ）を用いた場
合の分光反射率を示し、可視域全域にわたって高い反射
防止効果を持っている。
３層の屈折率をそれぞれＬ５０．１，８３．１．６８と
し、基板ＫＰＭＭＡ （ｎｓ＝ １４９ ）を用いた場
合の分光反射率を示し、可視域全域にわたって高い反射
防止効果を持っている。
この実施例においては、第２層は屈折率が基板側から第
１層側に連続的に高くなるように変化する、いわゆる非
均質膜になっている。
１層側に連続的に高くなるように変化する、いわゆる非
均質膜になっている。
両＃の屈折率の範囲け、第１１！施例と同じ理由で制限
されるが、＠２層の上限は、実質的にその厚みが極めて
小となるので、第１！ｉｔ！施例の場合より幾分吸収の
大きい範囲までが使用可能となる。
されるが、＠２層の上限は、実質的にその厚みが極めて
小となるので、第１！ｉｔ！施例の場合より幾分吸収の
大きい範囲までが使用可能となる。
上記実施例において、実施例１Ｑ第２層、第３層を、膜
厚をさらに分割して屈折率を順次変化する複数の層とし
ても本質的に上記の両実施例と変るところはなく、反射
防止効果も同等のものが得られる。
厚をさらに分割して屈折率を順次変化する複数の層とし
ても本質的に上記の両実施例と変るところはなく、反射
防止効果も同等のものが得られる。
また、合成樹脂部品θ狭面硬度をさらに簡めるため、基
板に接する層として基板とほぼ同じ屈折率の厚い（１〜
３μ） Ｓｉｏ蒸着膜を設け、その上に本発明の多層膜
を構成せしめてもよい。
板に接する層として基板とほぼ同じ屈折率の厚い（１〜
３μ） Ｓｉｏ蒸着膜を設け、その上に本発明の多層膜
を構成せしめてもよい。
この発明は、以上Ｑように単層膜としては反射防止効果
の極めて低いＳｉｏの与の蒸着膜を用い、実質的に多層
膜を形成して高い反射防止効果を得、しかも、各層の屈
折率は、蒸着速度あるいは雰囲気酸素ガス圧を変化させ
るだけで変えうるので、その制御が極めて容易であり、
その上、蒸発源として普通の抵抗加熱装置を使うことが
出来るなど、極めて実用価ｗ１の高いものである。
の極めて低いＳｉｏの与の蒸着膜を用い、実質的に多層
膜を形成して高い反射防止効果を得、しかも、各層の屈
折率は、蒸着速度あるいは雰囲気酸素ガス圧を変化させ
るだけで変えうるので、その制御が極めて容易であり、
その上、蒸発源として普通の抵抗加熱装置を使うことが
出来るなど、極めて実用価ｗ１の高いものである。
第１図はＳｉｏの蒸着膜の屈折率と雰囲気＃！素ガス圧
力の関係を示すグラフ、第２図は同じく屈折率と蒸着速
度との関係を示すグラフ、＠３図はこの発明の反射防止
膜０１実施例の分光反射率を示すグラフである。 第１図 ｆｉ Ｘ １０−５ｍｂａｒ Ｘ １０−’
ｍｂａｒ第２図 −蒸着速度
力の関係を示すグラフ、第２図は同じく屈折率と蒸着速
度との関係を示すグラフ、＠３図はこの発明の反射防止
膜０１実施例の分光反射率を示すグラフである。 第１図 ｆｉ Ｘ １０−５ｍｂａｒ Ｘ １０−’
ｍｂａｒ第２図 −蒸着速度
Claims (1)
- 複数の、蒸着条件を異にするため異なった屈折率を持つ
一酸化硅素の蒸着膜によってｍ成される合成樹脂製光学
部品用多層反射防止膜
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56158797A JPS5860701A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | 反射防止膜 |
| US06/432,989 US4497539A (en) | 1981-10-07 | 1982-10-06 | Antireflection optical coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56158797A JPS5860701A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5860701A true JPS5860701A (ja) | 1983-04-11 |
Family
ID=15679554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56158797A Pending JPS5860701A (ja) | 1981-10-07 | 1981-10-07 | 反射防止膜 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4497539A (ja) |
| JP (1) | JPS5860701A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02281202A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-16 | Sekinosu Kk | プラスチック基材による無偏光ハーフミラー |
| CN101995590A (zh) * | 2009-08-07 | 2011-03-30 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 光学元件的制造方法及光学元件 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4968117A (en) * | 1983-09-02 | 1990-11-06 | Hughes Aircraft Company | Graded index asperhic combiners and display system utilizing same |
| JPH0685002B2 (ja) * | 1986-02-18 | 1994-10-26 | ミノルタ株式会社 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
| JPH01273001A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-10-31 | Olympus Optical Co Ltd | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 |
| US5144524A (en) * | 1988-04-27 | 1992-09-01 | Hewlett-Packard Company | Light trap for blocking reflection and scattering of light |
| JPH07111484B2 (ja) * | 1989-06-26 | 1995-11-29 | 松下電器産業株式会社 | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 |
| US5171414A (en) * | 1990-12-10 | 1992-12-15 | Ford Motor Company | Method of making transparent anti-reflective coating |
| US5106671A (en) * | 1990-12-10 | 1992-04-21 | Ford Motor Company | Transparent anti-reflective coating |
| US5245468A (en) * | 1990-12-14 | 1993-09-14 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating |
| US5234748A (en) * | 1991-06-19 | 1993-08-10 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating with gradient zone |
| DE4128547A1 (de) * | 1991-08-28 | 1993-03-04 | Leybold Ag | Verfahren und vorrichtung fuer die herstellung einer entspiegelungsschicht auf linsen |
| US5725959A (en) * | 1993-03-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film for plastic optical element |
| US6771583B2 (en) * | 2001-01-19 | 2004-08-03 | Konica Corporation | Optical component |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3356522A (en) * | 1964-02-10 | 1967-12-05 | Mc Donnell Douglas Corp | Polycarbonate film containing an antireflection coating |
-
1981
- 1981-10-07 JP JP56158797A patent/JPS5860701A/ja active Pending
-
1982
- 1982-10-06 US US06/432,989 patent/US4497539A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02281202A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-16 | Sekinosu Kk | プラスチック基材による無偏光ハーフミラー |
| CN101995590A (zh) * | 2009-08-07 | 2011-03-30 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 光学元件的制造方法及光学元件 |
| CN101995590B (zh) * | 2009-08-07 | 2015-02-25 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 光学元件的制造方法及光学元件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4497539A (en) | 1985-02-05 |
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