JPH0685002B2 - プラスチツク光学部品の反射防止膜 - Google Patents
プラスチツク光学部品の反射防止膜Info
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- JPH0685002B2 JPH0685002B2 JP61034885A JP3488586A JPH0685002B2 JP H0685002 B2 JPH0685002 B2 JP H0685002B2 JP 61034885 A JP61034885 A JP 61034885A JP 3488586 A JP3488586 A JP 3488586A JP H0685002 B2 JPH0685002 B2 JP H0685002B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、カメラのファインダ用レンズなどのプラスチ
ック光学部品に適用される反射防止膜に関する。
ック光学部品に適用される反射防止膜に関する。
従来、プラスチック光学部品の反射防止膜としては、本
願出願人が先に提案した特開昭56−110901号公報に記載
されたように、空気側からプラスチック基板側へ順に、
MgF2からなり光学的膜厚が約λ/4の第1層と、Al2O3か
らなり光学的膜厚が約λ/16の第2層との2層構成から
なる反射防止膜が知られている。
願出願人が先に提案した特開昭56−110901号公報に記載
されたように、空気側からプラスチック基板側へ順に、
MgF2からなり光学的膜厚が約λ/4の第1層と、Al2O3か
らなり光学的膜厚が約λ/16の第2層との2層構成から
なる反射防止膜が知られている。
しかしながら、このような反射防止膜においては、十分
な反射防止効果は得られるものの、耐久性が充分ではな
いので、カメラのファインダ接眼レンズなど外部に露呈
されるレンズの表面に施されると経時的に光学的性能が
劣化する可能性がある。
な反射防止効果は得られるものの、耐久性が充分ではな
いので、カメラのファインダ接眼レンズなど外部に露呈
されるレンズの表面に施されると経時的に光学的性能が
劣化する可能性がある。
そこで、本発明は、上記従来のプラスチック用反射防止
膜に比べて耐久性が更に向上された反射防止膜を提供す
ることを目的とするものである。
膜に比べて耐久性が更に向上された反射防止膜を提供す
ることを目的とするものである。
そして、上記目的を達成するたるに、本願発明者たちは
試行錯誤を繰り返した結果、基板となるプラスチック光
学部品の表面にプラスチックとの密着性が良くて耐久性
の向上に有効なSiOまたはSiO2を介在層として厚くコー
トし、その介在層の上に、介在層の屈折率及び光学的膜
厚に応じて2層の高屈折率層と1層の低屈折率層とを順
次積層することによって、耐久性に優れるとともに反射
防止効果も向上させられた反射防止膜を得た。ここで、
2層の高屈折率層の間に屈折率勾配を設けることによっ
て反射防止効果を更に向上させることができる。
試行錯誤を繰り返した結果、基板となるプラスチック光
学部品の表面にプラスチックとの密着性が良くて耐久性
の向上に有効なSiOまたはSiO2を介在層として厚くコー
トし、その介在層の上に、介在層の屈折率及び光学的膜
厚に応じて2層の高屈折率層と1層の低屈折率層とを順
次積層することによって、耐久性に優れるとともに反射
防止効果も向上させられた反射防止膜を得た。ここで、
2層の高屈折率層の間に屈折率勾配を設けることによっ
て反射防止効果を更に向上させることができる。
従って、第1図に示されるように、本発明にかかるプラ
スチック光学部品の反射防止膜は、基準波長をλとする
ときに、空気(A)側からプラスチックからなる基板
(B)側へ順に、SiO2からなり光学的膜厚が約0.25λの
第1層(1)と、ZrO2とTiO2との混合物からなり光学的
膜厚が約0.25λの第2層(2)と、ZrO2からなり光学的
膜厚が約0.25λの第3層(3)と、SiOまたはSiO2から
なり光学的膜厚が0.5λ〜2.0λの第4層(4)との4層
構成からなることを特徴とする。
スチック光学部品の反射防止膜は、基準波長をλとする
ときに、空気(A)側からプラスチックからなる基板
(B)側へ順に、SiO2からなり光学的膜厚が約0.25λの
第1層(1)と、ZrO2とTiO2との混合物からなり光学的
膜厚が約0.25λの第2層(2)と、ZrO2からなり光学的
膜厚が約0.25λの第3層(3)と、SiOまたはSiO2から
なり光学的膜厚が0.5λ〜2.0λの第4層(4)との4層
構成からなることを特徴とする。
更に、本発明において、反射防止効果を向上させるため
には、以下の条件を満足することが望ましい。
には、以下の条件を満足することが望ましい。
(1)1.45<n1<1.52 (2)1.80<n2<2.15 (3)1.75<n3<1.95 (4)1.45<n4<1.6 (5)0.22λ<n1d1<0.28λ (6)0.22λ<n2d2<0.28λ (7)0.22λ<n3d3<0.28λ (8)0.5λ<n4d4<2.0λ 但し、ここで、n1は第1層(1)の屈折率、n2は第2層
(2)の屈折率、n3は第3層(3)の屈折率、n4は第4
層(4)の屈折率、n1d1は第1層(1)の光学的膜厚、
n2d2は第2層(2)の光学的膜厚、n3d3は第3層(3)
の光学的膜厚、n4d4は第4層(4)の光学的膜厚であ
る。
(2)の屈折率、n3は第3層(3)の屈折率、n4は第4
層(4)の屈折率、n1d1は第1層(1)の光学的膜厚、
n2d2は第2層(2)の光学的膜厚、n3d3は第3層(3)
の光学的膜厚、n4d4は第4層(4)の光学的膜厚であ
る。
上記条件(1)〜(8)は、本発明にかかる反射防止膜
の構成をより具体的に示したものであり、この条件を満
足することによって反射防止効果を向上させることがで
きる。
の構成をより具体的に示したものであり、この条件を満
足することによって反射防止効果を向上させることがで
きる。
以下、本発明の各実施例について説明する。まず、各実
施例1〜5の構成を第1表〜第5表に順に示す。
施例1〜5の構成を第1表〜第5表に順に示す。
上記各実施例の表において、「真空度」は真空蒸着時の
真空度を示し、基準波長λは510nmである。次に各実施
例の製造方法について説明すると、まず、プラスチック
(アクリルもしくはポリカーボネート)の基板の表面
に、SiOをMoボートによる抵抗加熱法を用いてそれぞれ
表に示された酸素雰囲気中でコートしてSiO2の第4層を
形成し、その上に電子ビーム法によってZrO2を表に示さ
れた酸素雰囲気中でコートして第3層を形成し、更にそ
の上に、電子ビーム法によってZrO2とTiO2との混合物を
表に示された酸素雰囲気中でコートして第2層を形成
し、最後に、第4層と同じ条件もしくは電子ビーム法に
よってSiO2をコートして第1層を形成して完成する。
真空度を示し、基準波長λは510nmである。次に各実施
例の製造方法について説明すると、まず、プラスチック
(アクリルもしくはポリカーボネート)の基板の表面
に、SiOをMoボートによる抵抗加熱法を用いてそれぞれ
表に示された酸素雰囲気中でコートしてSiO2の第4層を
形成し、その上に電子ビーム法によってZrO2を表に示さ
れた酸素雰囲気中でコートして第3層を形成し、更にそ
の上に、電子ビーム法によってZrO2とTiO2との混合物を
表に示された酸素雰囲気中でコートして第2層を形成
し、最後に、第4層と同じ条件もしくは電子ビーム法に
よってSiO2をコートして第1層を形成して完成する。
ここで、第3層の真空蒸着中の酸素雰囲気を調節するこ
とによって第3層の屈折率を調節することができる。
とによって第3層の屈折率を調節することができる。
各実施例1〜5の分光反射率特性を、それぞれ第2図〜
第6図に示す。実施例1、2、3はそれぞれ第3層蒸着
時の真空度が異なるだけであり、このように第3層蒸着
時の真空度を調節することによって第3層の屈折率を調
節し、第2図、第3図、第4図にそれぞれ示されるよう
に、全体としての分光反射率特性を変化させることがで
きる。
第6図に示す。実施例1、2、3はそれぞれ第3層蒸着
時の真空度が異なるだけであり、このように第3層蒸着
時の真空度を調節することによって第3層の屈折率を調
節し、第2図、第3図、第4図にそれぞれ示されるよう
に、全体としての分光反射率特性を変化させることがで
きる。
第1図は本発明の構成を示す断面図、第2図〜第6図
は、それぞれ本発明実施例1〜5の分光反射率特性を示
すグラフである。 (A);空気、 (1);第1層、 (2);第2層、 (3);第3層、 (4);第4層、 (B);基板。
は、それぞれ本発明実施例1〜5の分光反射率特性を示
すグラフである。 (A);空気、 (1);第1層、 (2);第2層、 (3);第3層、 (4);第4層、 (B);基板。
Claims (3)
- 【請求項1】基準波長をλとするときに、空気側からプ
ラスチックからなる基板側へ順に、 SiO2からなり光学的膜厚が約0.25λの第1層と、 ZrO2とTiO2との混合物からなり光学的膜厚が約0.25λの
第2層と、 ZrO2からなり光学的膜厚が約0.25λの第3層と、 SiOまたはSiO2からなり光学的膜厚が約0.5λ〜2.0λの
第4層と の4層構成からなることを特徴とするプラスチック光学
部品の反射防止膜。 - 【請求項2】更に以下の条件を満足することを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のプラスチック光学部品の
反射防止膜; 1.45<n1<1.52 1.80<n2<2.15 1.75<n3<1.95 1.45<n4<1.6 0.22λ<n1d1<0.28λ 0.22λ<n2d2<0.28λ 0.22λ<n3d3<0.28λ 0.5λ<n4d4<2.0λ 但し、ここで、 n1;第1層の屈折率、 n2;第2層の屈折率、 n3;第3層の屈折率、 n4;第4層の屈折率、 n1d1;第1層の光学的膜厚、 n2d2;第2層の光学的膜厚、 n3d3;第3層の光学的膜厚、 n4d4;第4層の光学的膜厚、 である。 - 【請求項3】第3層は、その蒸着工程中に酸素ガスが導
入されることによって任意の屈折率に設定されることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のプラスチック光
学部品の反射防止膜。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034885A JPH0685002B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
US07/014,285 US4784467A (en) | 1986-02-18 | 1987-02-13 | Multi-layered anti-reflection coating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034885A JPH0685002B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62191801A JPS62191801A (ja) | 1987-08-22 |
JPH0685002B2 true JPH0685002B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=12426599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61034885A Expired - Lifetime JPH0685002B2 (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | プラスチツク光学部品の反射防止膜 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4784467A (ja) |
JP (1) | JPH0685002B2 (ja) |
Families Citing this family (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2703930B2 (ja) * | 1988-06-29 | 1998-01-26 | 日本電気株式会社 | 複屈折回折格子型偏光子 |
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