JP2693500B2 - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、例えばプラスチックレンズ等のプラスチッ
ク基材上に設けられる反射防止膜に関する。
ク基材上に設けられる反射防止膜に関する。
［従来の技術］ プラスチック基材の表面の反射特性を改善するため
に、プラスチック基材上に多層反射防止膜を設けること
は良く知られており、このような多層反射防止膜の膜構
成物質として、二酸化チタンが高屈折率であるというメ
リットを活かして最近用いられてきている。そして二酸
化チタン膜をプラスチック基材上に設ける方法として、
例えば特開昭55−65239号公報には、高温加熱せずに低
温状態で先ずプラスチック基材に酸素イオンビームを照
射して基材の表面改質を行ない、次いで酸素イオンビー
ムを照射しながらチタン又は酸化チタンを基材上に飛ば
し、基材上に二酸化チタンを反応蒸着させることによ
り、基材上の二酸化チタン膜を形成させる方法が記載さ
れている。
に、プラスチック基材上に多層反射防止膜を設けること
は良く知られており、このような多層反射防止膜の膜構
成物質として、二酸化チタンが高屈折率であるというメ
リットを活かして最近用いられてきている。そして二酸
化チタン膜をプラスチック基材上に設ける方法として、
例えば特開昭55−65239号公報には、高温加熱せずに低
温状態で先ずプラスチック基材に酸素イオンビームを照
射して基材の表面改質を行ない、次いで酸素イオンビー
ムを照射しながらチタン又は酸化チタンを基材上に飛ば
し、基材上に二酸化チタンを反応蒸着させることによ
り、基材上の二酸化チタン膜を形成させる方法が記載さ
れている。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、この特開昭55−65239号に記載の方法
は、熱によりプラスチック基材が表面変質してしまうの
を防止するため、低温蒸着を行なっているので、形成さ
れた二酸化チタン膜の表面硬度が低く、低摩耗性が劣る
という欠点があった。
は、熱によりプラスチック基材が表面変質してしまうの
を防止するため、低温蒸着を行なっているので、形成さ
れた二酸化チタン膜の表面硬度が低く、低摩耗性が劣る
という欠点があった。
従って本発明の課題は、反射防止機能にすぐれている
とともに、二酸化チタンを用いているにも拘らず耐摩耗
性にすぐれ、プラスチックレンズ基材上に設けるに好適
な反射防止膜を提供することにある。
とともに、二酸化チタンを用いているにも拘らず耐摩耗
性にすぐれ、プラスチックレンズ基材上に設けるに好適
な反射防止膜を提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 本発明は上述の課題を解決するためになされたもので
あり、プラスチック基材上に設けられる本発明の反射防
止膜は、基材側から数えて、二酸化ケイ素からなる膜厚
がλ/2〜５λである第１層、酸化ジルコニウムと二酸化
ケイ素の２層等価膜からなる膜厚がλ/4である第２層、
二酸化チタンからなる膜厚がλ/2である第３層及び二酸
化ケイ素からなる膜厚がλ/4である第４層を有し、前記
の第３層は、プラスチック基材を50〜120℃に加熱した
状態で基材に酸素イオンビームを照射しなからチタン又
はその酸化物を基材方向に飛ばして、二酸化チタンを蒸
着させたものであることを特徴とする。
あり、プラスチック基材上に設けられる本発明の反射防
止膜は、基材側から数えて、二酸化ケイ素からなる膜厚
がλ/2〜５λである第１層、酸化ジルコニウムと二酸化
ケイ素の２層等価膜からなる膜厚がλ/4である第２層、
二酸化チタンからなる膜厚がλ/2である第３層及び二酸
化ケイ素からなる膜厚がλ/4である第４層を有し、前記
の第３層は、プラスチック基材を50〜120℃に加熱した
状態で基材に酸素イオンビームを照射しなからチタン又
はその酸化物を基材方向に飛ばして、二酸化チタンを蒸
着させたものであることを特徴とする。
以下、本発明の反射防止膜を詳細に説明する。
本発明の反射防止膜は、４層からなり、この反射防止
膜が設けられるプラスチック基材から数えて、その第１
層は、二酸化ケイ素からなり、その膜厚はλ/2〜５λで
ある。第１層を構成する物質として二酸化ケイ素を選択
した理由は、プラスチックは一般的に膨張係数が大き
く、石英と比較すると、約２桁異なるが、二酸化ケイ素
の蒸着膜は、比較的にポーラスな膜であり、他の蒸着膜
に比べプラスチックとの付着力が強く、また硬度が高い
のですぐれた耐摩耗性が得られ、しかも膨張係数が大き
いプラスチックにも良く耐え、クラックが入りにくいか
らである。またその膜厚をλ/2〜５λに限定した理由
は、二酸化ケイ素は上述の利点を有するものの、膜厚が
λ/2未満であると、硬度を高めることができず、十分な
耐摩耗性が得られず、一方、膜厚が５λを超えると、膜
の内部応力によりクラックが生じやすくなるからであ
る。特に好ましい第１層の膜厚は3/2λである。
膜が設けられるプラスチック基材から数えて、その第１
層は、二酸化ケイ素からなり、その膜厚はλ/2〜５λで
ある。第１層を構成する物質として二酸化ケイ素を選択
した理由は、プラスチックは一般的に膨張係数が大き
く、石英と比較すると、約２桁異なるが、二酸化ケイ素
の蒸着膜は、比較的にポーラスな膜であり、他の蒸着膜
に比べプラスチックとの付着力が強く、また硬度が高い
のですぐれた耐摩耗性が得られ、しかも膨張係数が大き
いプラスチックにも良く耐え、クラックが入りにくいか
らである。またその膜厚をλ/2〜５λに限定した理由
は、二酸化ケイ素は上述の利点を有するものの、膜厚が
λ/2未満であると、硬度を高めることができず、十分な
耐摩耗性が得られず、一方、膜厚が５λを超えると、膜
の内部応力によりクラックが生じやすくなるからであ
る。特に好ましい第１層の膜厚は3/2λである。
次に上記第１層の上に形成される第２層は、酸化ジル
コニウムと二酸化ケイ素の２層多等価膜からなり、その
膜厚はλ/4である。第２層においては酸化ジルコニウム
からなる膜が前述した第１層側に形成されており、当該
酸化ジルコニウムからなる膜上に二酸化ケイ素からなる
膜が形成されている。第２層を構成する物質として、酸
化ジルコニウムと二酸化ケイ素を選択し、２層等価膜と
したのは、 （イ）これらの二物質を用いることにより、この第２層
の屈折率を所望の値（1.70〜1.85）に調整でき、これに
より、この第２層と後記の第３層および第４層との組み
合せによってすぐれた反射防止効果が得られる、 （ロ）酸化ジルコニウムと二酸化ケイ素からなる２層等
価膜は膜強度が高く、かつ前記第１層の二酸化ケイ素膜
に対しても後記第３層の二酸化チタン膜に対しても付着
力がある 等の理由によるものである。またこの第２層の膜厚をλ
/4に限定した理由は、後記の第３層の膜厚λ/2および第
４層の膜厚λ/4との関係において、第２層の膜厚をλ/4
にしないと、所望の反射防止効果が得られないからであ
る。
コニウムと二酸化ケイ素の２層多等価膜からなり、その
膜厚はλ/4である。第２層においては酸化ジルコニウム
からなる膜が前述した第１層側に形成されており、当該
酸化ジルコニウムからなる膜上に二酸化ケイ素からなる
膜が形成されている。第２層を構成する物質として、酸
化ジルコニウムと二酸化ケイ素を選択し、２層等価膜と
したのは、 （イ）これらの二物質を用いることにより、この第２層
の屈折率を所望の値（1.70〜1.85）に調整でき、これに
より、この第２層と後記の第３層および第４層との組み
合せによってすぐれた反射防止効果が得られる、 （ロ）酸化ジルコニウムと二酸化ケイ素からなる２層等
価膜は膜強度が高く、かつ前記第１層の二酸化ケイ素膜
に対しても後記第３層の二酸化チタン膜に対しても付着
力がある 等の理由によるものである。またこの第２層の膜厚をλ
/4に限定した理由は、後記の第３層の膜厚λ/2および第
４層の膜厚λ/4との関係において、第２層の膜厚をλ/4
にしないと、所望の反射防止効果が得られないからであ
る。
次に上記第２層の上に形成される第３層は、二酸化チ
タンからなり、その膜厚はλ/2である。第３層を構成す
る物質として、二酸化チタンを選択した理由は、 （ａ）二酸化チタンは屈折率2.40の高屈折率物質であ
り、高屈折率の二酸化チタン膜からなる、この第３層を
前記の低屈折率の酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素膜か
らなる第２層と後記の低屈折率の二酸化ケイ素膜からな
る第４層との間に配置させることにより、所望の反射防
止効果が得られる、 （ｂ）二酸化チタンは第２層および第４層に対して付着
力がある 等の理由によるものである。また第３層の膜厚をλ/2に
限定したのは、上述の如く第２層の膜厚および第４層の
膜厚との関係において、この値にしないと所望の反射防
止効果が得られないからである。
タンからなり、その膜厚はλ/2である。第３層を構成す
る物質として、二酸化チタンを選択した理由は、 （ａ）二酸化チタンは屈折率2.40の高屈折率物質であ
り、高屈折率の二酸化チタン膜からなる、この第３層を
前記の低屈折率の酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素膜か
らなる第２層と後記の低屈折率の二酸化ケイ素膜からな
る第４層との間に配置させることにより、所望の反射防
止効果が得られる、 （ｂ）二酸化チタンは第２層および第４層に対して付着
力がある 等の理由によるものである。また第３層の膜厚をλ/2に
限定したのは、上述の如く第２層の膜厚および第４層の
膜厚との関係において、この値にしないと所望の反射防
止効果が得られないからである。
次に上記第３層の上に形成される第４層は、二酸化ケ
イ素からなり、その膜厚はλ/4である。第３層を構成す
る物質として、二酸化ケイ素を選択したのは、 二酸化ケイ素は屈折率1.47の低屈折率物質であり、こ
の屈折率の二酸化ケイ素からなる第４層を、低屈折率の
第２層上に設けられた高屈折率の第３層の上に設けるこ
とにより、所望の反射防止効果が得られる。
イ素からなり、その膜厚はλ/4である。第３層を構成す
る物質として、二酸化ケイ素を選択したのは、 二酸化ケイ素は屈折率1.47の低屈折率物質であり、こ
の屈折率の二酸化ケイ素からなる第４層を、低屈折率の
第２層上に設けられた高屈折率の第３層の上に設けるこ
とにより、所望の反射防止効果が得られる。
二酸化ケイ素膜は膜強度が強く、かつ二酸化チタンか
らなる第３層に対する付着力が強い 等の理由による。第４層の膜厚をλ/4に限定した理由
は、上述の如く第２層の膜厚および第４層の膜厚との関
係において、この値にしないと所望の反射防止効果が得
られないからである。
らなる第３層に対する付着力が強い 等の理由による。第４層の膜厚をλ/4に限定した理由
は、上述の如く第２層の膜厚および第４層の膜厚との関
係において、この値にしないと所望の反射防止効果が得
られないからである。
上述の如く本発明の反射防止膜は４層からなるが、４
層に限定した理由は以下のとおりである。
層に限定した理由は以下のとおりである。
（ｉ）反射防止膜の層数を増していくと、一般に反射防
止域は広くなるが、層数が多い程、製品毎の反射防止膜
の膜厚の再現性が低下し、干渉色の再現性も悪化する。
例えば眼鏡レンズの場合、一対で使用するため左右のレ
ンズの膜厚の誤差が大きくて、干渉色の再現性が悪化す
ると、商品価値が薄れてしまう。
止域は広くなるが、層数が多い程、製品毎の反射防止膜
の膜厚の再現性が低下し、干渉色の再現性も悪化する。
例えば眼鏡レンズの場合、一対で使用するため左右のレ
ンズの膜厚の誤差が大きくて、干渉色の再現性が悪化す
ると、商品価値が薄れてしまう。
本発明の検討によれば、４層まででは、上記の膜厚の
再現性の低下およびこれに基づく干渉色の再現性の悪化
が起りにくいことが明らかとなっている。
再現性の低下およびこれに基づく干渉色の再現性の悪化
が起りにくいことが明らかとなっている。
（ii）本発明の反射防止膜を構成する４層のうち、第１
層は反射防止膜とプラスチック基材との密着性を高め、
かつ反射防止膜の硬度を向上させて耐摩耗性を高める、
いわゆる硬化膜としての機能を有するものであり、反射
防止効果を担うのは、残りの第2,3および４層である
が、これらの３層の物質および膜厚を上述の如く限定す
ることにより、十分な反射防止効果が得られる。
層は反射防止膜とプラスチック基材との密着性を高め、
かつ反射防止膜の硬度を向上させて耐摩耗性を高める、
いわゆる硬化膜としての機能を有するものであり、反射
防止効果を担うのは、残りの第2,3および４層である
が、これらの３層の物質および膜厚を上述の如く限定す
ることにより、十分な反射防止効果が得られる。
（iii）反射防止膜を構成する層の数を増していくと、
一般に反射防止膜にクラックが発生しやすくなるが、４
層からなる本発明の反射防止膜においてはクラックが発
生しにくい。
一般に反射防止膜にクラックが発生しやすくなるが、４
層からなる本発明の反射防止膜においてはクラックが発
生しにくい。
本発明の反射防止膜においては、前記の二酸化チタン
からなる第３層が、基材を加熱した状態で酸素イオンビ
ーム照射蒸着法により形成されていることを特徴とす
る。すなわち、第３層は、プラスチック基材を50〜120
℃に加熱した状態で基材に酸素イオンビームを照射しな
がらチタン又はその酸化物（一酸化チタン、二酸化チタ
ン等）を基材方向に飛ばして、二酸化チタンを蒸着させ
る方法により形成されている。この酸素イオンビーム照
射蒸着法においてプラスチック基材を50〜120℃に加熱
する理由は、50℃未満であると、形成される二酸化チタ
ン膜の硬度が十分でなく、一方、120℃を超えるとプラ
スチック基材が熱変形し歪みなどが発生する恐れがある
からである。この酸素イオンビーム照射蒸着法における
他の条件（例えば基材への酸素イオンビームの照射方
法、原料であるチタン又はその酸化物の蒸発方法など）
は通常採用されている条件の中から適宜選択される。
からなる第３層が、基材を加熱した状態で酸素イオンビ
ーム照射蒸着法により形成されていることを特徴とす
る。すなわち、第３層は、プラスチック基材を50〜120
℃に加熱した状態で基材に酸素イオンビームを照射しな
がらチタン又はその酸化物（一酸化チタン、二酸化チタ
ン等）を基材方向に飛ばして、二酸化チタンを蒸着させ
る方法により形成されている。この酸素イオンビーム照
射蒸着法においてプラスチック基材を50〜120℃に加熱
する理由は、50℃未満であると、形成される二酸化チタ
ン膜の硬度が十分でなく、一方、120℃を超えるとプラ
スチック基材が熱変形し歪みなどが発生する恐れがある
からである。この酸素イオンビーム照射蒸着法における
他の条件（例えば基材への酸素イオンビームの照射方
法、原料であるチタン又はその酸化物の蒸発方法など）
は通常採用されている条件の中から適宜選択される。
なお、上述の如く第３層は酸素イオンビーム照射蒸着
法により形成されるが、残りの第１層、第２層および第
４層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッ
タンリング法、CVD法などの通常の成膜手段により形成
される。
法により形成されるが、残りの第１層、第２層および第
４層は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッ
タンリング法、CVD法などの通常の成膜手段により形成
される。
本発明の反射防止膜が形成されるプラスチック基材と
しては、プラスチックレンズを用いるのが好ましく、そ
の例としてセルロース系プラスチックレンズ、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート重合体を含むポリ
カーボネート系プラスチックレンズ、ポリスチレン系プ
ラスチックレンズ、ポリウレタン系プラスチックレン
ズ、ポリ塩化ビニル系プラスチックレンズ等が挙げられ
る。
しては、プラスチックレンズを用いるのが好ましく、そ
の例としてセルロース系プラスチックレンズ、ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート重合体を含むポリ
カーボネート系プラスチックレンズ、ポリスチレン系プ
ラスチックレンズ、ポリウレタン系プラスチックレン
ズ、ポリ塩化ビニル系プラスチックレンズ等が挙げられ
る。
これらのプラスチックレンズ基材は表面処理を施した
ものでも良く、表面処理の具体例としてはプラスチック
レンズ基材上に有機物（例えば有機ケイ素化合物）、無
機物（例えばコロイダルシリカ）またはこれらの混合物
からなる表面処理膜を形成することが挙げられる。
ものでも良く、表面処理の具体例としてはプラスチック
レンズ基材上に有機物（例えば有機ケイ素化合物）、無
機物（例えばコロイダルシリカ）またはこれらの混合物
からなる表面処理膜を形成することが挙げられる。
上述のように、、プラスチック基材を50〜120℃に加
熱した状態で酸素イオンビーム照射蒸着法により二酸化
チタンからなる第３層を形成するが、第３層形成時に
は、既にプラスチック基材上に、二酸化ケイ素からなる
第１層と酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素からなる第２
層が成膜済であり、これらが１種の保護膜となって、加
熱によるプラスチック基材の変形を防止するので、プラ
スチックレンズに歪みの発生等の問題は起りにくい。
熱した状態で酸素イオンビーム照射蒸着法により二酸化
チタンからなる第３層を形成するが、第３層形成時に
は、既にプラスチック基材上に、二酸化ケイ素からなる
第１層と酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素からなる第２
層が成膜済であり、これらが１種の保護膜となって、加
熱によるプラスチック基材の変形を防止するので、プラ
スチックレンズに歪みの発生等の問題は起りにくい。
［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１ （１）プラスチックレンズ上への反射防止膜の形成プラ
スチックレンズとして、ポリウレタン系プラスチックレ
ンズ（HOYA（株）製Hi−LuxEXC）を用い、このプラスチ
ックレンズ上に先ず真空蒸着法（真空度２×10-5Torr）
により二酸化ケイ素膜からなる第１層［屈折率1.47,膜
厚3/2λ（λは550nmである）］を形成した。
スチックレンズとして、ポリウレタン系プラスチックレ
ンズ（HOYA（株）製Hi−LuxEXC）を用い、このプラスチ
ックレンズ上に先ず真空蒸着法（真空度２×10-5Torr）
により二酸化ケイ素膜からなる第１層［屈折率1.47,膜
厚3/2λ（λは550nmである）］を形成した。
次にこの第１層の上に、真空蒸着法（真空度２×10-5
Torr）により酸化ジルコニウムと二酸化ケイ素の２層等
価膜からなる第２層（屈折率1.80,膜厚λ/4）を形成し
た。
Torr）により酸化ジルコニウムと二酸化ケイ素の２層等
価膜からなる第２層（屈折率1.80,膜厚λ/4）を形成し
た。
次にプラスチックレンズを加熱した状態でレンズに酸
素イオンビームを照射しながら二酸化チタンを蒸発させ
た後、これを第２層上に蒸着させることにより、二酸化
チタン膜からなる第３層（屈折率2.40,膜厚λ/2）を形
成した。この酸化イオンビーム照射蒸着法による第３層
の形成に際して、プラスチックレンズの加熱温度を40,5
0,80,120及び130℃と５水準変動させた。
素イオンビームを照射しながら二酸化チタンを蒸発させ
た後、これを第２層上に蒸着させることにより、二酸化
チタン膜からなる第３層（屈折率2.40,膜厚λ/2）を形
成した。この酸化イオンビーム照射蒸着法による第３層
の形成に際して、プラスチックレンズの加熱温度を40,5
0,80,120及び130℃と５水準変動させた。
次に、上で得られた第３層上に、真空蒸着法（真空度
２×10-5Torr）により二酸化ケイ素からなる第４層（屈
折率1.47,膜厚λ/4）を形成して、第３層成膜時の基材
温度が異なる５種類の反射防止膜を得た。
２×10-5Torr）により二酸化ケイ素からなる第４層（屈
折率1.47,膜厚λ/4）を形成して、第３層成膜時の基材
温度が異なる５種類の反射防止膜を得た。
（２）得られた反射防止膜の性能試験 得られた５種類の反射防止膜について、耐摩耗性、密
着性、視感透過率、視感反射率およびレンズの歪みを試
験した。試験方法は、以下の通りである。
着性、視感透過率、視感反射率およびレンズの歪みを試
験した。試験方法は、以下の通りである。
（ａ）耐摩耗性 ＃0000のスチールウールにより表面を10回（往復）こ
すって耐摩耗性を次のように判定した。
すって耐摩耗性を次のように判定した。
A:わずかに傷がつく B:多く傷がつく C:膜のはがれが生じる （ｂ）密着性 JIS−Ｚ−1522に従いゴバン目を10×10個作りセロフ
ァン粘着テープにより剥離試験を３回行ない、残ったゴ
バン目の数を調べた。
ァン粘着テープにより剥離試験を３回行ない、残ったゴ
バン目の数を調べた。
（ｃ）視感透過率，視感反射率 340形自記分光光度計を用い、視感透過率，視感反射
率を測定した。
率を測定した。
（ｄ）レンズの歪み 歪み計を用いて目視で調べた。
試験結果は表−１に示す。表−１により、酸素イオン
ビーム照射蒸着法による二酸化チタン膜の成膜に際し
て、プラスチックレンズ基材温度を50〜120℃に設定す
ると、耐摩耗性、密着性、視感透過率、視感反射率およ
びレンズの歪みの全ての項目ですぐれた反射防止膜が得
られるのに対し、50℃未満の場合（40℃）、耐摩耗性が
悪化し、120℃を超える場合（130℃）、レンズの歪みが
発生することが明らかである。
ビーム照射蒸着法による二酸化チタン膜の成膜に際し
て、プラスチックレンズ基材温度を50〜120℃に設定す
ると、耐摩耗性、密着性、視感透過率、視感反射率およ
びレンズの歪みの全ての項目ですぐれた反射防止膜が得
られるのに対し、50℃未満の場合（40℃）、耐摩耗性が
悪化し、120℃を超える場合（130℃）、レンズの歪みが
発生することが明らかである。
比較例１ 二酸化チタンからなる第３層の形成を、プラスチック
レンズ基材を80℃加熱しつつ真空蒸着法（真空度２×10
-5Torr）により行なった以外は実施例１と同様にして反
射防止膜を形成し、各種性能を試験した。結果は表−１
に示すように耐摩耗性を著しく劣ることが明らかとなっ
た。
レンズ基材を80℃加熱しつつ真空蒸着法（真空度２×10
-5Torr）により行なった以外は実施例１と同様にして反
射防止膜を形成し、各種性能を試験した。結果は表−１
に示すように耐摩耗性を著しく劣ることが明らかとなっ
た。
比較例２ 第２層として、酸化ジルコニウムと二酸化ケイ素から
なる２層等価膜を真空蒸着法（真空度２×10-5Torr）に
より成膜する代りに、酸化マグネシウム膜を同一の真空
度の真空蒸着法により成膜し、これを第２層（屈折率1.
74,膜厚λ/4）とした以外は実施例１と同様にして（二
酸化チタンからなる第３層の形成も基材温度80℃にて酸
素イオンビーム照射蒸着法で実施した）、プラスチック
レンズ上に反射防止膜を形成したが、得られた、第２層
が酸化マグネシウムからなる反射防止膜は表−１に示す
ように耐摩耗性が劣ることが明らかとなった。
なる２層等価膜を真空蒸着法（真空度２×10-5Torr）に
より成膜する代りに、酸化マグネシウム膜を同一の真空
度の真空蒸着法により成膜し、これを第２層（屈折率1.
74,膜厚λ/4）とした以外は実施例１と同様にして（二
酸化チタンからなる第３層の形成も基材温度80℃にて酸
素イオンビーム照射蒸着法で実施した）、プラスチック
レンズ上に反射防止膜を形成したが、得られた、第２層
が酸化マグネシウムからなる反射防止膜は表−１に示す
ように耐摩耗性が劣ることが明らかとなった。
［発明の効果］ 以上詳述したように、本発明の反射防止膜は本来の反
射防止機能にすぐれているとともに、耐摩耗性にもすぐ
れているので、例えばプラスチックレンズ上に好ましく
設けられる。また本発明の反射防止膜は、その形成過程
で高温下の二酸化チタン蒸着工程を含むにも拘らず、プ
ラスチック基材の変形等が起らないという利点も有す
る。
射防止機能にすぐれているとともに、耐摩耗性にもすぐ
れているので、例えばプラスチックレンズ上に好ましく
設けられる。また本発明の反射防止膜は、その形成過程
で高温下の二酸化チタン蒸着工程を含むにも拘らず、プ
ラスチック基材の変形等が起らないという利点も有す
る。
Claims (1)
- 【請求項１】プラスチック基材上に設けられる反射防止
膜において、基材側から数えて、二酸化ケイ素からなる
膜厚がλ/2〜５λである第１層、酸化ジルコニウムと二
酸化ケイ素の２層等価膜からなる膜厚がλ/4である第２
層、二酸化チタンからなる膜厚がλ/2である第３層及び
二酸化ケイ素からなる膜厚がλ/4である第４層を有し、
前記の第３層は、プラスチック基材を50〜120℃に加熱
した状態で基材に酸素イオンビームを照射しながらチタ
ンまたはその酸化物を基材方向に飛ばして、二酸化チタ
ンを蒸着させたものであることを特徴とする反射防止
膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189948A JP2693500B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189948A JP2693500B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0239101A JPH0239101A (ja) | 1990-02-08 |
| JP2693500B2 true JP2693500B2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=16249878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63189948A Expired - Lifetime JP2693500B2 (ja) | 1988-07-29 | 1988-07-29 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2693500B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2724260B2 (ja) * | 1991-10-17 | 1998-03-09 | ホーヤ株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
-
1988
- 1988-07-29 JP JP63189948A patent/JP2693500B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0239101A (ja) | 1990-02-08 |
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