JPS582833A - 光学式複製シ−ト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 °本発明はレーザー光によって読みとりを行ういわゆる
光ディスクに代１表される光学式記録シート、特に生産
性にすぐれかつ高密度の情報を正確に再生しうる新規な
光学式複製シートに関する。

近年、画像、音声を始めとする情報の記録及び再生を、
高速度に又高密度にしかも簡便に行うことがますます強
く要望されており、６徨の方法が提案され、又一部実用
化されている。

その中で、レーザー光を記録信号の読みとりに用いるい
わゆる光ディスクに代表される光学式記録シートは、極
めて高密度に情報を記録することが出来、又任意の場所
から欲しい記録された情報を迅速に読みだすことが出来
ることから広く実用化されることが期待されている。

従来の光ディスクの典型的な記録及び読みだしのシステ
ムは、光透過性のプラスチックの衣面に微細なピットを
形成することによって情報の記録を行い、微細なビット
形成面に金属蒸着等によって反射層をもうけ、レーザー
光のスポットビームをあてて１．゛〈ノドエツジ部での
光の回折による反射光量の変化をフォトダイオード等に
よって検出し電気信号に変換して記録の読みだしを行う
方法である。

しかし、この方法に用いられる光ディスクを複製するに
は、複雑な工程によるスタンパ−の製造を要し、又スタ
ンパ−に刻まれた薇細なピットを転写する為に、高価な
成型機械を要し、又ピットの転写を可能にする為、基材
となるプラスチック材料の選定もきわめて限られたもの
となり、しばしば得られたディスクの耐久性能が不良で
ソリ、ネジレ等の欠陥を生じることがあり、又成型時の
ビット転写の不均一性による記録の正確な再現性に欠点
がある。又、スタンパ−はビット部分の目づまり：等の
汚損によって寿命に難点があり、従来の光学式複製ディ
スクの製造にあたっては大巾な生産性の向上が望まれて
いる。

本発明は、従来の光ディスクの特徴である、記録の高密
度性、記録の読みだしの容易性を犠牲にすることなく、
又従来の光ディスクの上記した複製時の非生産性を改良
し、かつ記録の正確な再現が可能な光学式複製ディスク
を提供するものである。

すなわち、本発明は紫外線、電子線、Ｘ線のいずれかの
照射によって特有の光吸収能を失うビス（ジイミノサク
シノニトリロ）金属錯体を、透明なプラスチック材料に
混合して得られるフィルム状又はシート状材料に、所望
のパターンを有するフォトマスクを通して紫外線、電子
線、Ｘ線のいずれかを露光しビス（ジイミノサク／製シ
ートである。

すなわち、本発明の光学式複製シートは従来の如き射出
成型や加圧成型により形成される微細な凹凸をメモリー
として用いるシートとけ全く異なり、本発明に用いられ
るビス（７アノサクシノニｌ−ＩＪ口）金属錯体が紫外
線、Ｘ＃！又は電子線の照射によって、特有の光吸収能
が低下又は消失する性質を利用して得られるパターンを
メモリーとするものであ□って、千゛清な表面を有する
光学式複製シートである。

本発明の光学式複製シートは、レーザー光のの際光重式
複製シートが透明であ゛つてそのシート上に照射された
レーザー光の透過光量を検出させ、その反射光量を検出
して記録を読みだすトリ口）金属錯体は下記の一般式（
Ｔ）で示される化合物であり、 はコバルトを示す）インオルガニックケミストリ　　（
Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ　　、Ｃｈｅｍｉｓｉｒｙ　　）　
　　１　４　　巻、　６４０〜６４５頁（１９７５年）
に記載の方法によって合成しうるものであり、ビ２、ス
（ジイミノサクシノニトリロ）、ニッケル、ビス（ジイ
ミノサクシノニトリの容易さ、溶剤への溶解性の面から
ビス（ジイミノサクシノニトリロ）ニッケルを用いるこ
とが好ましい。

上記のビス（ジイミノサクシノニトリロ）金属鍔体は６
５０〜１１１−５０ｎに極太吸収を有するが、紫外線、
Ｘ線又は電子線の照射によって、上記の吸収能が低下又
は消失する。

上記のビス（ジイミノサクシノニトリロ）金属錯体のバ
インダー成分となるプラスチック材料としては、例えば
ポリメタクリル酸メチルに代表されるメタクリル樹脂（
メタクリル共重合樹脂）、塩化ビニル樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、アクリロニトリルスチレン共重合樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロースアセテ
ートブチレート樹脂、等各種の透明性を有する公知のプ
ラスチックスを用いることが出来る。本発明の光学式複
製シートの製造にあたっては、バインダー成分となるプ
ラスチック材料にビス（ジイミノサクシノニトリロ）金
属錯体をプラスチックが溶融する温度条件下で練合し、
シート状又はフィルム状にして用いるか、上記のビス（
ジイミノサクシノニトリロ）金属錯体及びプラスチック
材料を有機溶媒に溶解し得る。ビス（ジイミノサクシノ
ニトリロ）金属錯体をプラスチック材料と溶融練合した
後ノート又はフィルム状に成型する場合又は、透明な支
持体として透明なプラスチックシート又はフィルムが用
いられる場合、そのプラスチック材料は、複屈折が少く
光学的均一性にすぐれた材料が好ましく、かかる観点か
らメタクリル樹脂が特に好ましい。

又、溶剤に溶解して塗布する場合のバインダーとしては
、上記の如きプラスチック桐料の他に、アルキッド樹脂
、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、変性セルロース樹
脂等一般に用いられる透明な塗料用樹脂が好適に用いら
れ、更にこれら樹；脂の架橋剤を加えて、支持体に塗布
後加熱乾燥してバインダ一層を熱硬化させて用いてもよ
い。

またビス（ジイミノサクシノニトリロ）金属錯体部分を
有するプラスチック材料を少くとも部分的に用いてもよ
い。゛ 上記ビス（ジイミノサクシノニトリロ）金属錯体又は同
部分とバインダ一層となる透明なシラスチック材料との
混合割合は、ビス（Ｓ゛イミノサクシノニトリロ金属錯
体又は同部分を含有する層の厚みに応じ適宜選択される
が、固型のプラスチックスと溶融練合し、シート又はフ
ィルムに成型する場合には通常００２〜２．０重量％、
塗布によってビス（白ミノサクシノニトリロ）金属錯体
又は同部分含有層を形成する場合には通常０５〜２０重
量％のビス（ジイミノサクシノニトリロ）金属錯体を含
有せしめることが一般的である。

次に、上記の如くして得られたビス（ジイミノサクシノ
ニトリロ）金属錯体又は同部分を含有する層を有するシ
ート上に、所望のノくターンをニトリロ）金属錯体の特
有の光吸収能の強弱のパターンを形成する。

フォトマスクとしては、露光線源の相違によって露光、
未露光部分の差異が明りように得られるものであればよ
く、一般的には半導体加工用に用いられるフォトマスク
と同様にして作成され、基板にソーダライム、ホワイト
クラウン、アルミノボロシリケート、石英などのガラス
を用い、非透過鳩として銀エマルジョン、クロム、クロ
ム−酸化クロム、酸化鉄などを用いたフォトマスクが通
常用いられる。

により、露光部分と未露光部分の読みとりに用いるレー
ザー光の透過率が明瞭に異なるよう適宜選択されるが、
一般的には１秒〜１分の如き弱められるかすることによ
って、フォトマスク部と未露光部の読みとシに用いるレ
ーザー光の透過率は、シートの厚みムラ等のノイズを吸
収し、明確なパルス状の信号を与える程度であればさし
つかえないが、一般的には露光部のレーザニ光の透過率
が、未露光部の透過率の２倍以上好ましくは５倍以上、
特に好ましくは１０倍以上であることが好ましい。

本発明の光学式複製シートは、そのままの形で記録され
た情報の読みとりに際し、レーザー光の透過光量を非照
射面で検出して用いる透過型の光学式複製シートとして
実用に供せられる一方、片側に金属蒸着を例えば真空蒸
着、スパッタリング、イオンブレーティング等の公知の
方法によって行い、照射し庭レーザー光の金属に供せら
れる。しかしながら、いずれの場合も、ビス（ジイミノ
サクシノニトリロ）金属錯体又は同部分を含有する層を
レーザー光が通過する際のレーザー光の吸収の強弱をも
って読みとりを行うことにかわりはない。

上記の複製シートにおいて、透明な支持体上に、上記の
ビス（ジイミノサクシノニトリロ）金属錯体又は同部分
の含有層を塗布して形成する場合には、同層面からフォ
トマスクを通して紫外線、電子線又はＸ線を露光してパ
ターンを形成することが好ましく、又、更に反射層を設
ける場合には、同・層面すなわちパターン形成面に金属
蒸着等を行い、読みとりは、レーザー光を透明な支持体
層を通して行うことが特に好ましい。

又、反射層を有する反射型の光学式複製シートにおいて
は反射層を保護する目的での保護コーティングや、プラ
スチックの張シ合せによる裏うちを行ってもよく、又、
２枚の反射型の光学式複製シートを反射層面同志はりあ
わせて両面板としてもよい。

本発明の光学式複製シートの読みとりは、含有するビス
５’＜ミノサクシノニトリロ）金属錯体の極大吸収に近
い発振波長のレーザー光を用いることが好ましいが、各
種の半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザ−が通常用
いられレンズによって通常２μ以下のスポットビームに
集光□　してシート上に照射される。

本発明の光学式複製シートに照射されたレーザー光の透
過光量又は反射光量は、フォトダイオード等の受光素子
により検出されると共に電融気信号に変換され画像、音
声等各種記録された情報の再生に用いられる。

好であるとともに、高密度の記録を正確に行うことが出
来、再生した記録の画像や音質も極めて良好である。な
お本発明の光学式複製シートの形状は円板状のディスク
が最も代表的であるが、必要に応じ適宜、方形、長尺形
、また湾曲面等任意の形状とすることができる。

以下、実施例を示し、本発明をより具体的に説明するが
本発明は実施例に限定されるものではない。

実施例１ ビス（ジイミノサクシノニトリロ）ニッケル（極大吸収
波長〔以下λｍａｘと略称）　６７０ｎｍ　）１０重量
部及びメタクリル酸メチル、メタクリル酸ノルマルブチ
ル共重合樹脂１００重量部をジクロルメタン１００重蓋
部及びメチルエチルケトン１００重量部の混合溶媒に溶
解し、厚さ１．２ｍｍ１のメタクリル樹脂板の片面に乾
燥塗膜が１５μになるように塗布し、８０℃で３０分間
乾燥して溶媒を除去した。次に、塗布層面に、ソーダラ
イムガラス上にクロムを非透過層とするフォトマスクを
密着させ、１２０Ｗ／Ｗ！の出力を有する高圧水銀燈下
でＳ０秒間紫外線露光して、フォトマスクのパターンの
転写を行って本発明の透過型の光学式複製シートを得た
。

上記の複製シートを円板状に切り抜き、併られた複製デ
ィスク上（塗布層側）に、ヘリウム、ネオンレーザ−光
（発振波長６３５　ｎｍ−）のスポットビームを照射し
、定速で円板を回転させ、透過するレーザー光をディス
クの裏面側に設置されたフォトダイオードで検出し、電
気信号に変換して画像の再生を試みた結果、極めて良質
の画像を再生することが出来た。

実施例２ 実施例１で得られた複製シートの塗布層面に、アルミニ
ウムの蒸着によって反射層を形成し、更に反射層の保護
の為に、アクリルラッカー塗料を塗布し、本発明の反射
型の光学式複製シートを得た。

上記の複製シートを円板状に切り抜き、得られた複製デ
ィスクの非反射層面すなわち支持体であるメタクリル樹
脂板面に、ヘリウムネオンレーザ−光（発振波長６５５
ｎｔｎ　）のスポットビームを４５°の角度で照射し、
定速で円板を回転させ反射するレーザー光の光量をフォ
トダイオードで検出し、電気信号に変換して画像の再生
を試みた結果、極めて良質の画像を再生することが出来
た。

なお実施例１で得られた複製シートの一部を用い実施例
１と同様の露光を同様のソーダライムガラスを通して行
ったものと未露光のものとの、実施例１で用いたレーザ
ー光の透過光１比は８／１であった。

特許出願人 三井東圧化学株式会社 １７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 旬　紫外線、電子線、Ｘ線のいずれかの照射によりその
   特有の光吸収能を失うビス（シイるフォトマスクを通し
   て紫外線、電子線、Ｘ線のいずれかを露光し、ビス（ジ
   イミノサクする光学式複製シート。 °２）パターンの読み出しをレーザー光の透過−６）片
   面に反射層を設け、パターンの読みとりをレーザー光の
   反射光量によって行うことを特徴とする特許請求の範囲
   １の光学式複製シート。