JP2652279B2 - 情報記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光による情報の
記録及び／又は再生が可能な情報記録媒体に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】近年において、レーザ光等の高エネルギ
ー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用
化されている。この情報記録媒体は光ディスクと称さ
れ、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらに
は大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用
ディスク・メモリーとして使用され得るものである。こ
れらの情報記録媒体のうちで、音楽等のオーディオ再生
用としてコンパクトディスク（ＣＤ）が広く実用化され
ている。コンパクトディスクは、製造時に基板上に形成
されたピット列からなる情報を再生するためにのみ使用
される。すなわち、コンパクトディスクは、適当なプラ
スチック材料を成形してスパイラル状にピットを形成
し、そしてその表面に反射層として金属層を形成するこ
とにより製造される。このように、コンパクトディスク
は再生専用の記録媒体である。

【０００３】コンパクトディスクの情報の読み取りは、
ディスクを回転させながらレーザビームを照射すること
により行なわれる。情報はディスク上のピットの有無に
よる反射光量の変化を検知して再生される。再生のみの
コンパクトディスクは、ＣＤ規格に基づいて、ＣＤを
１．２〜１．４ｍ／秒の定線速度で回転させながら読み
取る（再生する）ように作られており、信号面内径４６
ｍｍおよび信号面外径１１６ｍｍの範囲内で、トラック
ピッチ１．６μｍにて最大約７４分の記録時間を有する
ことが要求されている。

【０００４】また、情報の書き込み（記録）が可能なＤ
ＲＡＷ（DirectRead After Write)型の情報記録媒体に
ついても開発され一部実用化されている。このようなＤ
ＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク）は、基本構造と
して、プラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基
板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の
金属または半金属からなる記録層又は色素からなる記録
層とを有する。光ディスクへの情報の記録は、例えば、
レーザビームを光ディスクに照射することにより行なわ
れ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇する結果、ピット形成等の物理的変化あるいは相変
化等の化学的変化を生じてその光学的特性を変えること
により情報が記録される。光ディスクからの情報の読み
取り（再生）もまた、レーザビームを光ディスクに照射
することなどにより行なわれ、記録層の光学的特性の変
化に応じた反射光または透過光を検出することにより情
報が再生される。

【０００５】上記光ディスクへの情報の記録及び再生の
ためのレーザビームの照射は、通常ディスク表面の所定
の位置に行われる。レーザビームを案内して照射予定位
置に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）よ
うにするため、凹溝のトラッキングガイド（プリグルー
ブ）が基板の表面に設けられることが一般的である。

【０００６】また、上記のような記録可能な領域の内周
側に、基板上に予めピットが形成されたＲＯＭ領域が設
けられた情報記録媒体が提案されている（特開平２−４
２６５２号公報参照）。この情報記録媒体においては、
色素からなるレーザ光吸収層が記録可能領域にのみ設け
られ、プリピットが形成されたＲＯＭ領域には色素から
なるレーザ光吸収層は設けられていない。その理由は、
プリピットが形成された領域に色素からなるレーザ光吸
収層を設けると、プレピット信号の変調度が小さくなり
ＲＯＭ領域の情報を実用的に再生することができなくな
るためである。

【０００７】本発明者は、プリピット領域に色素からな
る光吸収層を設けても、プリピット領域のピット部の光
吸収層の光学的膜厚とピット間部の光吸収層の光学的膜
厚との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）
以下であるように光吸収層を設けることによって、高い
変調度でプリピット信号を再生できることを見出し、プ
リピット領域及びプリグルーブ領域の両方に色素を含む
光吸収層を形成した情報記録媒体について既に特許出願
している（特願平２−１９１２５７号参照）。この情報
記録媒体においては、プリグルーブ領域においても、色
素を含む光吸収層の、グルーブ底部の光学的膜厚とラン
ド部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レ
ーザ光の波長）以下であり、プリグルーブの深さを浅く
しても光吸収層の表面の溝の深さを十分大きくすること
ができ、そのために記録感度が高く、レーザ光を照射し
て情報を記録した後、変調度の高い再生信号を得ること
ができる。

【０００８】プリグルーブ領域にのみ色素を含む光吸収
層を設ける場合には、光吸収層のグルーブ底部の光学的
膜厚がランド部の光学的膜厚よりも大きくなるので、グ
ルーブの深さは一般に４０〜４００ｎｍの範囲になるよ
うに形成されているが、上記のようにプリグルーブ領域
とプリピット領域との両方に色素を含む光吸収層を設け
る場合には、反射率を高くするためにグルーブの深さを
１５〜６０ｎｍの範囲のように小さくすることが好まし
い。

【０００９】ところで、上記のような情報記録媒体の基
板は一般に、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱
い性、経時安定性および製造コストなどの点から、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキ
シ樹脂；ポリカーボネート樹脂；アモルファスポリオレ
フィン、ポリエステル等のような熱可塑性樹脂を射出成
形することによって製造される。

【００１０】即ち、情報記録媒体の基板のプリグルーブ
領域のグルーブ（溝）又はプリピット領域のピット
（穴）に対応するスパイラル状又は同心円状の凸条が形
成されたスタンパを射出成形機のキャビティ内に装着
し、基板用樹脂を射出成形することによって、スタンパ
の凸条が転写されてグルーブ又はピットが形成された基
板が製造される。

【００１１】スタンパは、一般に、光学的に完全に平坦
な洗浄済みガラス原板にフォトレジスト層を形成し、こ
れにレーザ光を露光して情報信号を記録し、次いで現像
処理をして微細凹凸パターンを形成させる。次いで、こ
の微細凹凸パターン形成面に、真空蒸着、スパッタリン
グ、無電解メッキ等により導電性薄膜を形成させ、この
導電性薄膜にニッケル電鋳を施し、裏面研磨及び内外径
加工を行うことによって製造される。

【００１２】ところで、上記のようにプリグルーブ領域
において、色素を含む光吸収層の、グルーブ底部の光学
的膜厚とランド部の光学的膜厚との差を小さくすると、
グルーブ底部の光学的膜厚が小さくなり、基板のグルー
ブ底部の形状が光吸収層の表面即ち光吸収層と反射層と
の界面に反映される度合が大きくなり、その結果、基板
のグルーブ底部のノイズが情報記録媒体の情報再生性能
に及ぼす影響が大きくなり、情報記録媒体のＣ／Ｎが低
下する傾向になる。なお、従来のようにグルーブ深さを
大きくし、グルーブ底部の光学的膜厚をランド部の光学
的膜厚よりも非常に大きくした場合は、光吸収層の表面
形状への基板のグルーブ底部の形状の影響は小さいので
特に考慮されなかったのであろうが、その場合は、前記
のように反射率や再生信号の変調度が小さく、プリピッ
ト部に光吸収層を設けることもできない。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】レーザ光を照射して情
報を記録した後、変調度及び反射率が高く、更にＣ／Ｎ
値の高い再生信号を得ることができ、トラッキング特性
が良好な情報記録媒体を提供する。

【００１４】また、プリグルーブ形成領域と共に設けら
れたプリピット形成領域にも色素を含む光吸収層が形成
されており、しかもプリピット形成領域からＣＤ規格を
満足する再生信号を得ることができる情報記録媒体を提
供する。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、プリグルーブ
が形成された円盤状の樹脂製基板上に、レーザ光を照射
して再生用のピットを形成することにより情報の記録が
可能な色素を含む光吸収層が設けられ、更に該光吸収層
上に金属からなる反射層が設けられてなる情報記録媒体
であって、該基板のプリグルーブのグルーブ底部の中心
線平均あらさ（Ｒａ）が０．００１μｍ以下であり、且
つ、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とランド部の
光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生
用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする情報記
録媒体。

【００１６】本明細書において、中心線平均あらさ（Ｒ
ａ）は、あらさ曲線の中心線の方向の測定長さをＬと
し、中心線をＸ軸とし縦倍率の方向をＹ軸とし、あらさ
曲線をｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、下記式（１）で与
えられる［佐藤健児著、「表面工学概論」（養賢堂発
行）参照］。

【００１７】

【数１】

【００１８】上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様
は以下の通りである。 （１）上記基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒ
ａ）が、０．０００５μｍ以下であることを特徴とする
上記の情報記録媒体。

【００１９】（２）上記基板が、射出成形により製造さ
れたプリグルーブが形成された樹脂製基板のプリグルー
ブ形成面を、基板を溶解し得る溶剤を含む処理液と接触
させることによって得られた基板であることを特徴とす
る上記の情報記録媒体。

【００２０】（３）上記基板が、ガラス原板にフォトレ
ジスト層を形成し、これにレーザ光を渦巻状または円環
状に露光し、現像処理をして凸条を形成させ、１０５℃
以上の温度でポストベークし、次いで電鋳して製造した
スタンパを使用し、射出成形により製造した樹脂基板で
あることを特徴とする上記の情報記録媒体。

【００２１】（４）上記プリグルーブが０．２〜１．４
μｍの半値幅と、５〜７０ｎｍの深さを有することを特
徴とする上記の情報記録媒体。

【００２２】（５）上記グルーブ底部の光吸収層の光学
的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／
１６（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であるこ
とを特徴とする上記の情報記録媒体。

【００２３】（６）上記基板に、更にプリピットが形成
され、プリピット形成領域にも上記光吸収層が設けら
れ、ピット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間部の光
吸収層の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用
レーザ光の波長）以下、好ましくはλ／１６以下である
ことを特徴とする上記の情報記録媒体。

【００２４】（７）上記プリピットが０．２〜１．４μ
ｍの半値幅と、６０〜３００ｎｍの深さを有することを
特徴とする上記情報記録媒体。

【００２５】（８）上記プリグルーブの深さが、上記プ
リピットの深さよりも、光路長で表わしてλ／１６以上
短いことを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２６】（９）上記反射層の上に、更に保護層が形
成されていることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２７】本発明の情報記録媒体は、プリグルーブ
（及び、任意に更にプリグルーブ）が形成された樹脂基
板上に、色素を含む光吸収層及び金属からなる反射層が
この順で設けられた基本構成を有する。

【００２８】本発明における円盤状の基板の材料として
は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各
種の樹脂材料から任意に選択することができる。基板の
光学的特性、平面性、加工性、取扱い性、経時安定性及
び製造コストなどの点から、基板材料の例としては、ポ
リメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポ
キシ樹脂；ポリカーボネート樹脂；アモルファスポリオ
レフィン及びポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、及びポリ
メチルメタクリレートを挙げることができる。

【００２９】本発明においては、上記基板表面には記録
又は再生時のトラッキングを良好に行なうために、プリ
グルーブ（トラッキング用溝）が形成されている。プリ
グルーブの形状は、グルーブの深さ（添付する第１図の
ｄ₁ ）が５〜７０ｎｍの範囲にあり且つグルーブの半値
幅（グルーブの深さの１／２の深さにおけるグルーブの
幅）が０．２〜１．４μｍであるものが好ましく、グル
ーブの深さが１５〜６０ｎｍの範囲にあり且つグルーブ
の半値幅が０．３〜０．７μｍであるものが更に好まし
く、グルーブの深さが２０〜５０ｎｍの範囲にあり且つ
グルーブの半値幅が０．３５〜０．６μｍであるものが
最も好ましい。アドレッシング、或は線速制御用にグル
ーブをウォブリングさせても良い。

【００３０】上記のような基板は、精密に作られたスタ
ンパ（母型）を使用し、基板用の樹脂材料を射出成形す
ることによって製造することができる。

【００３１】本発明の情報記録媒体においては、上記基
板のグルーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒａ）が０．０
０１μｍ以下、好ましくは０．０００５μｍ以下である
ことに特徴を有する。グルーブ底部の中心線平均あらさ
は、例えば、走査トンネル顕微鏡を使用してあらさ曲線
を求め、前記の式（１）に従って求めることができる。

【００３２】グルーブ底部の中心線平均あらさが上記の
ような樹脂基板は、例えば、射出成形により製造された
プリグルーブが形成された樹脂製基板のプリグルーブ形
成面を、基板を溶解し得る溶剤を含む処理液と接触させ
る方法によって製造することができる。基板のグルーブ
底部が上記処理液と接触することによって、グルーブ底
部の凸部が優先的に溶解し、その結果グルーブ底部が平
滑になり中心線平均あらさが小さくなる。

【００３３】この方法で使用する処理液は、基板を溶解
し得る溶剤を含むものであれば特に限定されない。しか
しながら、処理液の基板樹脂に対する溶解力が大き過ぎ
ると、基板に処理液を接触させる際に、短時間で基板の
溶解が急速に進行し、グルーブの深さが大きくなった
り、グルーブの半値幅が大きくなり相対的にランド部が
細くなったり、甚だしい場合はランド部に欠損部が生じ
たりする恐れがある。従って、グルーブ底部の中心線平
均あらさの小さい基板を、制御条件の許容範囲を広くし
容易に、且つ再現性良く安定して製造するためには、処
理液の接触温度で処理液の基板樹脂に対する溶解力が、
あまり大きくないことが好ましい。

【００３４】上記処理液の基板樹脂に対する溶解力の適
切な値は、処理液を基板と接触させる方法によっても変
わるので、一律に定めることはできないが、例えば、ス
ピンコート法により回転する基板の面上に処理液を供給
して基板に処理液を接触させる場合には、接触温度にお
いて、処理液の基板樹脂に対する溶解力（本明細書にお
いては、処理液中への基板樹脂の飽和溶解度で表わす）
が、０．０１〜１０ｇ／ｍｌである処理液が好ましい。

【００３５】上記処理液の具体的物質は、樹脂基板の材
料の種類に応じて変わるので一律に特定することはでき
ない。上記処理液は、上記のような溶解力を有する単一
の溶剤であってもよいが、上記溶解力の値から理解され
るように、上記処理液の基板樹脂に対する溶解力は比較
的小さいものであるので、上記処理液は一般に、基板樹
脂の貧溶剤と基板樹脂の良溶剤（一般に、貧溶剤よりも
少量の）との混合物であることが好ましい。このような
混合溶剤を使用する場合には、処理すべき基板のグルー
ブ底部の状態や処理条件に応じて、良溶剤と貧溶剤との
割合を変化させて最適の処理液を調製することができる
という利点もある。

【００３６】特定の基板用樹脂に適した上記の単一の溶
剤、良溶剤及び貧溶剤は、文献を参照して又は実験的に
当業者が容易に選定することができる。例えば、基板用
樹脂としてポリカーボネートを使用する場合は、好まし
い良溶剤としては例えば、ジクロロエタン、トリクロロ
エタン、テトラクロロエタン、トルエン、キシレン、ア
セトンなどを挙げることができ、好ましい貧溶剤として
は例えば、エタノール、メタノール、ｎ−プロパノー
ル、シクロヘキサン、フッ素アルコール、ヘキサン、オ
クタン、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチル
エーテルなどを挙げることができる。

【００３７】グルーブ底部の中心線平均あらさが上記の
ような樹脂基板を製造するための他の方法は、ガラス原
板にフォトレジスト層を形成し、これにレーザ光を渦巻
状または円環状に露光し、現像処理をして凸条を形成さ
せ、１０５℃以上の温度でポストベークし、次いで電鋳
して製造したスタンパを使用し、基板樹脂材料を射出成
形して製造する方法である。上記のスタンパは、現像処
理後のポストベークを１０５℃以上の温度で行なうこと
以外は、従来の方法によって製造されたスタンパであ
る。従来、上記のポストベークは８０〜９０℃の温度で
２０分間程度行なわれていたが、ポストベークを１０５
℃以上の温度で行なって製造したスタンパを使用するこ
とにより、意外にも前記のようなグルーブ底部の平滑度
が良好な樹脂製基板を製造することが可能になった。上
記ポストベークは、１０５〜１５０℃の温度で、２０分
間〜１０時間行なうことが好ましい。

【００３８】このようなスタンパを使用して製造した樹
脂製基板は、そのまま本発明の情報記録媒体の基板とし
て使用してもよく、また、前記のような処理液により処
理した後本発明の情報記録媒体の基板として使用しても
よい。

【００３９】本発明においては、更に、上記基板表面
に、種々のアプリケーションソフト、アドレス信号など
の情報を予め記録したプリピット（ＲＯＭ領域）が形成
されていてもよい。プリピットの形状は、ピットの深さ
（添付する第２図のｄ₂ ）が６０〜３００ｎｍの範囲に
あり且つピットの半値幅（ピットの深さの１／２の深さ
におけるピットの幅）が０．２〜１．４μｍであるもの
が好ましく、ピットの深さが７０〜２５０ｎｍの範囲に
あり且つピットの半値幅が０．３〜１．０μｍであるも
のが更に好ましく、ピットの深さが９０〜２００ｎｍの
範囲にあり且つピットの半値幅が０．４〜０．７μｍで
あるものが最も好ましい。

【００４０】また、プリピットが形成される場合、プリ
グルーブの深さは、プリピットの深さよりも光路長で表
わしてλ／１６（但し、λは再生用レーザ光の波長であ
って、以下の記載において同じである）以上短いことが
好ましく、λ／１４以上短いことが更に好ましく、λ／
１２以上短いことが特に好ましい。その理由は、プリグ
ルーブの深さを、変調度が十分大きくなるプリピットの
深さと同じように大きくすると、プリグルーブの反射率
が低くなり過ぎるからである。

【００４１】プリグルーブと共にプリピットが形成され
た基板は、プリピットを追加して形成することの他は、
プリグルーブのみが形成された基板を製造する場合と同
様にして製造することができる。

【００４２】プリグルーブを形成した基板上に、例え
ば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリアミド樹脂などの樹脂を含む塗布液を使用
して、光吸収層を形成するための塗布液中の溶剤から保
護するための耐溶剤層を設けてもよい。

【００４３】基板（または耐溶剤層）上には、色素を含
む光吸収層が設けられている。基板側からレーザ光を照
射して光吸収層に再生用のピットを形成することによ
り、光吸収層に情報を記録する。従って、基板のプリグ
ルーブが形成された領域の光吸収層は、記録層として機
能する。

【００４４】本発明に使用される色素は特に限定される
ものではなく、どのようなものでも良い。例えば、シア
ニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン
系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ，Ｃｒ
などの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウム系色素、
ニトロソ系色素、ロイコ系色素、クロコニウム系色素、
等々の色素を挙げることができる。

【００４５】これらの色素は、ライト・ワンス（ＷＯ）
型に限らず、リライタブル（ＲＷ）型（又は可逆型）の
ものであってもよい。

【００４６】これらの色素のうちでも記録再生用レーザ
ーとして近赤外光を発振する半導体レーザーの利用が実
用化されている点から、７００〜９００ｎｍの近赤外領
域の光に対する吸収率が高い色素が好ましい。

【００４７】特に、シアニン系色素、アズレニウム系色
素及びスクワリリウム系色素が好ましく、シアニン系色
素の中でも、ナフトインドレニン系色素及びイミダゾキ
ノキサリン系色素が好ましい。

【００４８】これらの色素は単独でもあるいは二種以上
の混合物として用いてもよい。また、シアニン系色素を
用いる場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系
色素又はジインモニウム系色素をクエンチャーとして一
緒に用いることが好ましい。その場合、クエンチャーと
して金属錯塩系色素などを全色素１モルに対して０．０
０１〜０．３モルの割合で含むことが好ましい。

【００４９】本発明の情報記録媒体においては、光吸収
層のグルーブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚
との差が、λ／８以下であることを特徴とする。また、
本発明の情報記録媒体が基板上に更にプリピットを有す
る場合には、光吸収層のピット部の光学的膜厚とピット
間部の光学的膜厚との差が、λ／８以下であることを特
徴とする。

【００５０】本発明の情報記録媒体における光吸収層の
光学的膜厚について、添付する図面を参照して詳細に説
明する。

【００５１】第１図は、本発明の情報記録媒体の一実施
例の、プリグルーブ領域における断面の一部を模式的に
示す断面図である。第２図は、本発明の情報記録媒体の
一実施例の、プリピット領域における断面の一部を模式
的に示す断面図である。第３図は、従来公知の情報記録
媒体の、プリグルーブ領域における断面の一部を模式的
に示す断面図である。

【００５２】第３図において、プラスチックからなる基
板３１の表面に色素からなる光吸収層３２が形成され、
光吸収層３２の上に金属からなる反射層３３が形成され
ている。基板３１には、プリグルーブ３４が形成されて
いる。光吸収層３２は色素をその溶剤に溶解して調製し
た光吸収層形成用溶液をスピンコート法により塗布し乾
燥することによって形成されたものである。プリグルー
ブ３４のグルーブ底部３６の光吸収層３２の膜厚ｔ₆
は、基板３１のランド部３５の光吸収層３２の膜厚ｔ₅
よりも大きくなっている。その結果、光吸収層３２の反
射層３３との接触面における溝形状の深さがグルーブ３
４の深さｄ₃ よりも小さくなり、情報を記録するために
レーザ光を照射してプリグルーブ３４に記録ピットを形
成したとき、光吸収層３２の溝の上部（基板のランド部
に対応する部分）と底部との位相差が小さくなるため
に、記録ピットの変調度が小さくなるという問題があっ
た。この問題を解消するために、グルーブの深さを大き
くしている。しかし、グルーブの深さを大きくし過ぎる
とグルーブ部の反射率が低下するという問題が生じる。

【００５３】第１図において、プラスチックからなる基
板１１の表面に色素からなる光吸収層１２が形成され、
光吸収層１２の上に金属からなる反射層１３が形成され
ている。基板１１には、プリグルーブ１４が形成されて
いる。光吸収層１２は色素を溶剤に溶解して調製した前
記のように特定の性状を有する光吸収層形成用溶液を、
スピンコート法により塗布し乾燥することによって形成
されたものである。プリグルーブ１４のグルーブ底部１
６の光吸収層１２の光学的膜厚（ｎ_r ・ｔ₂ ）（但し、
ｎ_r は光吸収層の屈折率であり、ｔ₂ はグルーブ底部１
６の光吸収層１２の膜厚である）と、基板１１のランド
部１５の光吸収層１２の光学的膜厚（ｎ_r ・ｔ₁ ）（但
し、ｎ_r は光吸収層の屈折率であり、ｔ₁ はランド部１
５の光吸収層１２の膜厚である）との差は、λ／８以下
であるように形成されている。その結果、光吸収層１２
の反射層１３との接触面における溝形状の深さはグルー
ブ１４の深さｄ₁ と同じか又は光学的膜厚でλ／８以下
ほど小さくなっており、光吸収層１２のグルーブ部とラ
ンド部とで位相差が大きく記録ピットの変調度が大きい
ものである。更にｎ_r ・ｔ₁ とｎ_r ・ｔ₂ との差を上記
のようにすることにより、グルーブ１４の深さｄ₁ を小
さくすることが可能となりグルーブ部の反射率が大きく
なる。

【００５４】上記のｎ_r ・ｔ₁ とｎ_r ・ｔ₂ との差は、
λ／１１以下であることが好ましく、λ／１３以下であ
ることが更に好ましく、λ／１６以下であることがより
一層好ましい。

【００５５】また、ミラー部の反射率に対するグルーブ
底部の反射率の比率が、７０％以上、特に８０％以上、
更に特に９０％以上にすることが好ましい。ミラー部の
反射率に対するグルーブ底部の反射率の比率を増大させ
るためには、グルーブ部の光路長とランド部の光路長と
の差を小さくすればよい。

【００５６】第２図において、プラスチックからなる基
板２１の表面に色素からなる光吸収層２２が形成され、
光吸収層２２の上に金属からなる反射層２３が形成され
ている。基板２１には、プリピット２４が形成されてい
る。光吸収層２２は色素を溶剤に溶解して調製した前記
のように特定の性状を有する光吸収層形成用溶液を、ス
ピンコート法により塗布し乾燥することによって形成さ
れたものである。プリピット２４のピット部２６の光吸
収層２２の光学的膜厚（ｎ_r・ｔ₄ ）（但し、ｎ_r は光
吸収層の屈折率であり、ｔ₄ はピット部２６の光吸収層
２２の膜厚である）と、基板２１のピット間部２５の光
吸収層２２の光学的膜厚（ｎ_r ・ｔ₃ ）（但し、ｎ_r は
光吸収層の屈折率であり、ｔ₃ はピット間部２５の光吸
収層２２の膜厚である）との差は、λ／８以下であるよ
うに形成されている。その結果、光吸収層２２の反射層
２３との接触面における穴形状の深さはピット２４の深
さｄ₂ と同じか又は光学的膜厚でλ／８以下ほど小さく
なっており、光吸収層２２のピット部とピット間部とで
位相差が大きくピットの変調度が大きいものである。そ
の結果、基板のピット形成領域に光吸収層が形成されて
いても、基板のピットを高い変調度で再生することが可
能となる。

【００５７】上記のｎ_r ・ｔ₃ とｎ_r ・ｔ₄ との差は、
λ／１１以下であることが好ましく、λ／１３以下であ
ることが更に好ましく、λ／１６以下であることがより
一層好ましい。

【００５８】本発明の情報記録媒体は、上記光吸収層の
上に更に反射層が形成されたものであるが、上記のよう
な特定された関係の光学的膜厚を有する光吸収層の作用
効果は、反射層が形成されていない情報記録媒体におい
ても同様に奏されるものである。

【００５９】基板にプリグルーブとプリピットとの両方
が形成されている場合は、グルーブの深さｄ₁ はピット
部の深さｄ₂ よりも、光路長（ｎ・ｄ：ｎは基板の屈折
率で、ｄは深さ寸法である）で表わしてλ／１６以上、
特にλ／１４以上、更に特にλ／１２以上小さいことが
好ましい。

【００６０】上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ピ
ット間部の膜厚は、４０〜４００ｎｍ、特に６０〜３０
０ｎｍ、更に特に８０〜２５０ｎｍであることが好まし
い。

【００６１】本発明の情報記録媒体における特定の光学
的膜厚を有する光吸収層、即ち、グルーブ底部の光吸収
層の光学的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との
差がλ／８以下であり、ピット部の光吸収層の光学的膜
厚とピット間部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８
以下である光吸収層は、下記のような方法によって形成
することができる。

【００６２】即ち、プリグルーブ又はプリピット及びプ
リグルーブが形成された円盤状の基板上に、色素を溶剤
に溶解して調製した色素溶液であって、該色素溶液の塗
布温度において該色素溶液から該溶剤を蒸発させること
により色素の析出が始まったときの色素懸濁溶液の体積
の、該色素溶液の元の体積に対する比率として定義され
る濃縮限界が９９〜２０％である色素溶液を、スピンコ
ート法により塗布して塗膜を形成した後乾燥することに
よって、上記のような光学的膜厚を有する光吸収層を形
成することができる。

【００６３】上記の光吸収層形成方法において使用され
る上記の色素溶液は、特定の性状を有するもの、即ち、
濃縮限界が９９〜２０％である色素溶液である。本明細
書において、「濃縮限界」の用語は、色素溶液の塗布温
度において該色素溶液から該溶剤を蒸発させることによ
り色素の析出が始まったときの色素懸濁溶液の体積の、
該色素溶液の元の体積に対する比率を意味するものとし
て定義される。例えば、色素を溶剤に溶解した色素溶液
を光吸収層を形成するための塗布温度に維持して溶剤を
蒸発させたとき、溶剤の蒸発に伴なってその体積が減少
し、やがて溶解していた色素が析出してくるが、色素の
析出が始まったときの色素溶液（厳密には色素懸濁溶液
である）の体積が、元の色素溶液の体積の９０％である
色素溶液を、濃縮限界が９０％の色素溶液という。

【００６４】従って、色素溶液の濃縮限界（以下、限界
濃度ということがある）は、色素と溶剤（単一溶剤又は
混合溶剤）との組合せ、溶剤を二種以上の溶剤の組合せ
としたときその種類と比率、色素溶液中の色素の濃度、
塗布温度、等々によって変化する。そのために、特定の
濃縮限界を有する色素溶液を特定の色素について一律に
定めることはできないが、上記のような条件を種々変え
て所望の濃縮限界を有する色素溶液を調製することは、
当業者が容易になし得ることである。

【００６５】上記の光吸収層形成方法において使用する
色素溶液は、濃縮限界が９９〜２０％である色素溶液で
あるが、濃縮限界が９９〜３０％、特に９５〜４０％、
更に特に９０〜５０％である色素溶液であることが好ま
しい。色素溶液の濃縮限界が、上記範囲よりも大きいと
光吸収層の膜厚が全体的に不均一になり、また上記範囲
よりも小さいとグルーブ底部とランド部との光吸収層の
光学的膜厚の差及びピット部とピット間部との光吸収層
の光学的膜厚の差が大きくなる。

【００６６】上記色素溶液を調製するために使用する溶
剤は、色素溶液の濃縮限界を満足するものである限り、
単一の溶剤であってもよく、二種以上の溶剤の混合溶剤
であってもよい。上記溶剤が混合溶剤である場合、使用
する色素の良溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度に
おいて使用する色素を２重量％以上溶解し得る溶剤）
と、使用する色素の貧溶剤（好ましくは、色素溶液の塗
布温度において使用する色素を２重量％以上溶解しない
溶剤）との混合物であることが好ましい。その際に、該
良溶剤と該貧溶剤とは相溶性であり、上記塗布温度にお
いて該貧溶剤の蒸発速度が該良溶剤の蒸発速度よりも大
きくないことが必要である。一般に該貧溶剤の混合割合
を増大させるほど濃縮限界は大きくなる。

【００６７】上記の溶剤としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼンなどのような芳香族炭化
水素系溶剤；ヘキサン、オクタン、ノナン、シクロヘキ
サンなどのような脂肪族炭化水素系溶剤；酢酸のような
有機酸系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、セ
ロソルブアセテートなどのようなエステル系溶剤；アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノンなどのようなケトン系溶剤；ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム、メチ
ルクロロホルム、トリクレン、四塩化炭素、テトラクロ
ロエチレンなどのようなハロゲン化炭化水素系溶剤；テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピルエー
テル、ジオキサン、ダイグライムなどのようなエーテル
系溶剤；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノ
ール、ｎ−ブタノール、アミルアルコール、ジアセトン
アルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、ベンジルアルコールなど
のようなアルコール系溶剤；ジメチルホルムアミドのよ
うなアミド系溶剤；２，２，３，３−テトラフロロプロ
パノールなどのようなフッ素化アルコール、フッ素置換
ケトン、フッ素置換エステル、フッ素置換アミド、フッ
素置換エーテル、フッ素置換芳香族炭化水素、フッ素置
換脂肪族炭化水素などのようなフッ素系溶剤などを挙げ
ることができる。

【００６８】上記の光吸収層形成において、上記色素溶
液が上記濃縮限界を満足するものである限り特に限定さ
れるものではないが、その取扱いの便宜上及びスピンコ
ート法により基板状の全体的に均一な膜厚の光吸収層を
形成させるために、上記色素溶液中の上記色素の濃度は
０．５〜１５重量％、特に１〜１０重量％、更に特に
１．５〜８重量％であることが好ましい。上記色素溶液
中には、さらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑
剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

【００６９】結合剤を使用する場合に結合剤としては、
例えばゼラチン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等
のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなど
の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができ
る。

【００７０】上記色素溶液をスピンコート法により基板
上に塗布するに際しては、それ自体公知の装置及び方法
を使用して行なうことができる。上記色素溶液を、一般
に０〜１００℃、特に５〜８０℃、更に特に１０〜６０
℃の温度で塗布することが好ましい。基板の回転数は、
色素溶液を塗布するときは、一般に１０〜１０００r.p.
m.、特に１００〜５００r.p.m.にすることが好ましく、
色素塗膜を乾燥するときは、一般に３００〜１００００
r.p.m.、特に５００〜７０００r.p.m.、更に特に７００
〜４０００r.p.m.にすることが好ましい。

【００７１】本発明の情報記録媒体の光吸収層の上には
更に反射層が設けられる。反射層の材料としてはＢｅ、
Ｂ、Ｃ、Ｓｃ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ａｓ、Ｏｓ、Ｔｌ、Ａｔ、
Ｆｒ、Ｒａ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇ
ｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂなどの金属及
び半金属を挙げることができる。これらの中でもＣ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｉｎ及びステンレ
ス鋼が特に好ましい。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用
いてもよい。

【００７２】反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより記録層の上に形成することができる。特に、ス
パッタリングによって反射層を成膜することが好まし
い。反射層の層厚は一般には１０〜３００ｎｍ、好まし
くは４０〜２００ｎｍの範囲にある。

【００７３】反射層として貴金属反射層を設けた場合
は、その上にＡｌなどの金属密着層又は有機物の密着層
を設けることができる。

【００７４】この反射層の上に、情報記録媒体全体、特
に光吸収層及び反射層を物理的及び化学的に保護する目
的で保護層を設けてもよい。また、この保護層は、基板
の光吸収層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を
高めるために設けてもよい。

【００７５】保護層に用いられる材料の例としては、無
機物質としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 、Ｍｇ
Ｆ₂ 、ＳｎＯ₂ 等を挙げることができる。また、有機物
質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性
樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂
である。

【００７６】保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂などを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したの
ち、この塗布液を塗布し、乾燥することによって形成す
ることができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま
もしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこ
の塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることに
よって保護層を形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂
としては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ
（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレ
ート等の（メタ）アクリレートのオリゴマー類、（メ
タ）アクリル酸エステル等のモノマー類等と光重合開始
剤等との通常のＵＶ硬化性樹脂を使用することができ
る。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。保護層の材料としてＵＶ硬化性樹脂を用いるこ
とが好ましい。

【００７７】保護層の層厚は一般には０．１〜１００μ
ｍ、好ましくは０．５〜２０μｍの範囲にある。

【００７８】上記以外にも、保護層は、たとえばプラス
チックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して
反射層の上にラミネートすることにより形成することが
できる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の
方法により設けられてもよい。

【００７９】本発明の情報記録媒体への情報の記録は、
情報記録媒体を定線速度（好ましくは１．２〜２．８ｍ
／秒、特に好ましくは１．２〜１．４ｍ／秒）にて回転
させながら、基板側から該プレグルーブの底部にレーザ
ー光を照射してグルーブ上にある光吸収層に再生用のピ
ットを形成して信号を記録することにより行なう。信号
としてはＣＤフォーマットのＥＦＭ信号を記録すること
が本発明の効果を得る上で好ましい。一般に、記録光と
しては７５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半
導体レーザービームが用いられる。本発明の情報記録媒
体では、１０ｍＷ以下のレーザーパワーで記録すること
ができる。

【００８０】上記の記録後のピットは、基板及び／又は
色素がレーザ光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇
華、変形或るいは変質することにより、基板−色素間に
凸状、波状、凹状等の変化が起こったり、色素内で変化
が起こったり、色素−金属反射層間で変化が起こったり
するなどの形態のものである。

【００８１】上記記録方法により、本発明の情報記録媒
体にＣＤフォーマット信号などを定線速度で記録を行う
ことにより、信号の変調度、再生Ｃ／Ｎなどの優れた記
録再生特性を得ることができ、さらに記録時のトラッキ
ング性、特にプッシュプル法によるトラッキング性が優
れたものとなる。また本発明の光ディスクは高反射率を
有するので、記録されたＣＤフォーマット信号を市販の
ＣＤプレーヤーを用いて再生することができる。更にＲ
ＯＭ領域が設けられた本発明の情報記録媒体の場合は、
ＲＯＭ領域においてもＣＤ規格を満足する高い変調度の
再生信号を得ることができる。

【００８２】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。ただし、これらの各例は本発明を制限するものでは
ない。

【００８３】［実施例１］直径４６ｍｍ〜８０ｍｍの領
域にＥＦＭ信号を記録したプリピット（ピットの半値
幅：０．６μｍ、ピットの深さ：１３０ｎｍ）が形成さ
れ、直径８０ｎｍ〜１１８ｍｍの領域にプリグルーブ
（トラックピッチ：１．６μｍ、グルーブの半値幅：
０．５μｍ、グルーブの深さ：６０ｎｍ）が形成された
円盤状のポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内
径：１５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ）を用意した。この基
板の、走査トンネル顕微鏡（ＵＮＩＳＯＫＵ社製、ＵＳ
Ｍ−１０１）を使用して測定し、前記式（１）により求
めた、グルーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒａ）は、２
×１０^-3μｍであった。

【００８４】この基板を２３℃に維持し、その上に、
２，２，３，３−テトラフロロプロパノール９５重量部
とジクロルエタン５重量部との混合処理液（２３℃）を
スピンコート法により基板回転数１０００r.p.m.の速度
で１０秒間塗布した後、同じ回転数で３０秒間乾燥する
ことによって、基板の表面を処理した。この混合処理液
の２３℃での上記ポリカーボネートに対する溶解力は、
２ｇ／ｍｌであった。また、上記と同様にして求めた、
処理された基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒ
ａ）は、０．５×１０^-3μｍであった。

【００８５】一方、下記構造式（Ａ）を有する色素
（Ａ）を、プロピレングリコールモノエチルエーテルに
溶解して、色素（Ａ）を２．４重量％含有する色素溶液
を調製した。この色素溶液の２３℃における濃縮限界は
７０％であった。

【００８６】

【化１】

【００８７】この色素溶液を２３℃に維持し、２３℃の
上記基板上に上記色素溶液をスピンコート法により基板
回転数２００r.p.m.の速度で４秒間塗布した後、回転数
７００r.p.m.で３０秒間乾燥して光吸収層を形成した。

【００８８】形成された光吸収層の上に、４８０Ｗ、タ
ーゲット−基板距離９５ｍｍ、ガス圧２Ｐａ、レート２
ｎｍ／秒の条件下で、ＡｕをＤＣスパッタリングして膜
厚が１００ｎｍのＡｕからなる反射層を形成した。

【００８９】上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性
樹脂（商品名：３０７０、スリーボンド社製）をスピン
コート法により回転数１５００r.p.m.の速度で塗布した
後、高圧水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚２
μｍの保護層を形成した。

【００９０】このようにして、基板、色素記録層、反射
層及び保護層からなる情報記録媒体を製造した。

【００９１】得られた情報記録媒体について、プリグル
ーブ形成領域では、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜
厚、ランド部の光吸収層の光学的膜厚、及びＣ／Ｎ値
を、プリピット形成領域では、ピット部の光吸収層の光
学的膜厚、ピット間部の光吸収層の光学的膜厚、及び１
１Ｔ変調度を、下記の評価方法により測定した。評価結
果を表１に記載する。

【００９２】［実施例２］実施例１において、基板の表
面を処理するための処理液を、２，２，３，３−テトラ
フロロプロパノール９０重量部とメチルエチルケトン１
０重量部との混合処理液（２３℃におけるポリカーボネ
ートに対する溶解力は、３ｇ／ｍｌ）に変えた他は、実
施例１におけると同様にして基板の表面を処理した。処
理された基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒ
ａ）は、０．４×１０^-3μｍであった。

【００９３】上記のようにして表面処理した基板を使用
した他は実施例１におけると同様にして、基板、色素記
録層、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製造し
た。

【００９４】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示
す。

【００９５】［比較例１］実施例１において、処理液に
より基板の表面処理を行なわなかった他は実施例１にお
けると同様にして、基板、色素記録層、反射層及び保護
層からなる情報記録媒体を製造した。

【００９６】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示
す。

【００９７】［比較例２］実施例１において、基板の表
面を処理するための処理液を、２，２，３，３−テトラ
フロロプロパノール７０重量部とジクロルエタン３０重
量部との混合処理液（２３℃におけるポリカーボネート
に対する溶解力は、１２ｇ／ｍｌ）に変えた他は、実施
例１におけると同様にして基板の表面を処理した。処理
された基板のグルーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒａ）
は、０．２×１０^-3μｍであった。

【００９８】上記のようにして表面処理した基板を使用
した他は実施例１におけると同様にして、基板、色素記
録層、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製造し
た。

【００９９】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示
す。

【０１００】［実施例３］フォトレジスト層（シプレー
社製、ＭＰ１３５０Ｊ、膜厚１２０ｎｍ）が設けられた
ガラス円板に、プリピット及びプリグルーブをレーザカ
ッティングし、現像処理した後、フォトレジスト層を１
２０℃で１時間ポストベークし、常法によりニッケルメ
ッキしてスタンパを作製した。

【０１０１】このようにして作製したスタンパを使用
し、ポリカーボネートを射出成形して、直径４６ｍｍ〜
８０ｍｍの領域にＥＦＭ信号を記録したプリピット（ピ
ットの半値幅：０．６μｍ、ピットの深さ：１３０ｎ
ｍ）が形成され、直径８０ｎｍ〜１１８ｍｍの領域にプ
リグルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、グルーブの
半値幅：０．５μｍ、グルーブの深さ：６０ｎｍ）が形
成された円盤状の基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５
ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ）を製造した。この基板のグル
ーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒａ）は、０．７×１０
^-3μｍであった。

【０１０２】上記の基板を使用した他は実施例１におけ
ると同様にして、基板、色素記録層、反射層及び保護層
からなる情報記録媒体を製造した。

【０１０３】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示
す。

【０１０４】［比較例３］実施例３において、スタンパ
を製造する工程での、現像処理したフォトレジスト層の
ポストベークの条件を温度１００℃、時間３０分間に変
えた他は実施例３におけると同様にしてスタンパを作製
した。

【０１０５】このようにして作製したスタンパを使用し
た他は実施例３におけると同様にして、射出成形により
ポリカーボネート基板を製造した。この基板のグルーブ
底部の中心線平均あらさ（Ｒａ）は、２×１０^-3μｍで
あった。

【０１０６】上記の基板を使用した他は実施例１におけ
ると同様にして、基板、色素記録層、反射層及び保護層
からなる情報記録媒体を製造した。

【０１０７】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示
す。

【０１０８】［情報記録媒体の評価］上記で得られた情
報記録媒体を、ディスク評価装置（ＮＡ：０．５、レー
ザー波長：７８０ｎｍ) 及びＥＦＭエンコーダ(KEN-WOO
D)を用いて、記録する際のレーザーパワー（記録パワ
ー）を６ｍＷ、定線速度：１．３ｍ／秒にてプレグルー
ブの底部にＥＦＭ記録を行なった。

【０１０９】（１）グルーブ底部の光吸収層の光学的膜
厚 光吸収層の絶対膜厚を、断面部の超高分解能電子顕微鏡
（株式会社日立製作所製Ｓ９００）観察によって測定
し、光吸収層の屈折率を、別に形成した色素薄膜の反射
率、透過率、及び絶対膜厚を測定した結果から求め、こ
れらの絶対膜厚と屈折率とから光学的膜厚を算出した。

【０１１０】（２）ランド部の光吸収層の光学的膜厚 上記１）の方法と同様にして求めた。

【０１１１】（３）グルーブ領域のＣ／Ｎ 上記の条件で記録された情報を、再生パワー０．５ｍ
Ｗ、定線速度１．３ｍ／秒の条件で再生し、スペクトル
アナライザー（ＲＢＷ：１０ｋＨｚ、ＶＢＷ：１００ｋ
Ｈｚ）にてキャリヤーとノイズの出力レベルの比（Ｃ／
Ｎ）を測定した。

【０１１２】（４）ピット部の光吸収層の光学的膜厚 上記１）の方法と同様にして求めた。

【０１１３】（５）ピット間部の光吸収層の光学的膜厚 上記１）の方法と同様にして求めた。

【０１１４】（６）１１Ｔ変調度 上記記録されたＣＤフォーマット信号のうち記録長１１
Ｔの直流再生信号について、信号部分とミラー部（信号
の無い部分）の信号強度を測定し、その変調度（Ｃ）を
次式により求めた。 Ｃ＝［（ＳH −ＳL ）／ＳH ］×１００ （ＳH:信号の最大強度、ＳL:信号の最小強度）

【０１１５】

【表１】

【０１１６】表１より明らかなように、実施例の情報記
録媒体は、プリグルーブ形成領域（情報記録領域）でＣ
／Ｎが大きく、プリピット形成領域（ＲＯＭ領域）で変
調度が大きく優れた性能を有するものである。

【０１１７】これに対して、比較例の情報記録媒体は、
プリピット形成領域（ＲＯＭ領域）での変調度は実施例
の情報記録媒体と同程度であるものの、プリグルーブ形
成領域でＣ／Ｎが著しく小さいものである。

【０１１８】

【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、レーザ光の照
射によりグルーブ形成領域へ情報を記録した後、Ｃ／
Ｎ、変調度及び反射率が高く、また、プリピットが追加
して形成されたものでは、プリピット形成領域へ光吸収
層が形成されていても変調度の高い再生信号を得ること
ができるという、顕著に優れた情報記録媒体である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録媒体の一実施例のプリグルー
ブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図であ
る。

【図２】本発明の情報記録媒体の一実施例のプリピット
領域における断面の一部を模式的に示す断面図である。

【図３】従来公知の情報記録媒体のプリグルーブ領域に
おける断面の一部を模式的に示す断面図である。

【符号の説明】

１１、２１、３１ 基板 １２、２２、３２ 光吸収層 １３、２３、３３ 反射層 １４、３４ プリグルーブ ２４ プリピット １５、３５ ランド部 ２５ ピット間部 １６、３６ グルーブ底部 ２６ ピット部

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プリグルーブが形成された円盤状の樹脂
   製基板上に、レーザ光を照射して再生用のピットを形成
   することにより情報の記録が可能な色素を含む光吸収層
   が設けられ、更に該光吸収層上に金属からなる反射層が
   設けられてなる情報記録媒体であって、該基板のプリグ
   ルーブのグルーブ底部の中心線平均あらさ（Ｒａ）が
   ０．００１μｍ以下であり、且つ、グルーブ底部の光吸
   収層の光学的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚と
   の差がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下
   であることを特徴とする情報記録媒体。