JPS5822266B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPS5822266B2 JPS5822266B2 JP53158762A JP15876278A JPS5822266B2 JP S5822266 B2 JPS5822266 B2 JP S5822266B2 JP 53158762 A JP53158762 A JP 53158762A JP 15876278 A JP15876278 A JP 15876278A JP S5822266 B2 JPS5822266 B2 JP S5822266B2
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- JP
- Japan
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- coating liquid
- liquid
- bead
- viscosity
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7411—Beads or bead coating
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7492—Slide hopper for head or curtain coating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Color Printing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は移送されている長尺可撓性支持体（以下「ウェ
ブ」という）に液状塗布組成物を塗布するだめの方法に
関する。
ブ」という）に液状塗布組成物を塗布するだめの方法に
関する。
液状塗布組成物（以下「塗布液」という）をウェブに塗
布するだめの方法として広く利用されている方法の一つ
に、Ｒｕ５ｓｅｌ１等により米国特許第２７６１７９１
号に提案されたいわゆる多層スライドビード塗布装置を
用いる方法がある。
布するだめの方法として広く利用されている方法の一つ
に、Ｒｕ５ｓｅｌ１等により米国特許第２７６１７９１
号に提案されたいわゆる多層スライドビード塗布装置を
用いる方法がある。
この方法は複数の傾斜面（スライド面）を流れ下る塗布
液を、それが移送されているウェブと出会う点にビード
を形成させるようにし、このビードを介して塗布を行な
うものである。
液を、それが移送されているウェブと出会う点にビード
を形成させるようにし、このビードを介して塗布を行な
うものである。
従ってこの種の装置においてはビードを安定に維持する
ことが、塗布を成功させるために必要である。
ことが、塗布を成功させるために必要である。
しかし、塗布速度が犬となるに従って、安定なビードの
維持は困難になる傾向がある。
維持は困難になる傾向がある。
米国特許第２６８１２９４号には、ビードの下面側を減
圧状態にする手段を設けて、ビードの上下表面に圧力差
を生じさせることにより、ビードを安定化するという技
術が開示されている。
圧状態にする手段を設けて、ビードの上下表面に圧力差
を生じさせることにより、ビードを安定化するという技
術が開示されている。
しかし、ビードの安定性はビードの上下表面間の圧力の
バランスのみに依存するものではなく、ビードの巾方向
のバランス、特に両端部の安定性をも考慮しなければな
らない問題である。
バランスのみに依存するものではなく、ビードの巾方向
のバランス、特に両端部の安定性をも考慮しなければな
らない問題である。
このことは塗布速度を増加させて行くと、多くの場合ビ
ードの破壊がその両端部から発生することからもうなず
かれよう。
ードの破壊がその両端部から発生することからもうなず
かれよう。
両端部からのビードの破壊を防止する方法として、両端
部のみ流量を犬にする方法も知られているが、これは両
端部がそのまま厚塗りになり、これが未乾になる危険が
あり一般には採用することはできない。
部のみ流量を犬にする方法も知られているが、これは両
端部がそのまま厚塗りになり、これが未乾になる危険が
あり一般には採用することはできない。
本発明は従来の塗布方法の上述の如き欠点を除去し、両
端部を厚途りにすることなく、両端部からのビードの破
壊を防止し、高速塗布を可能とする塗布方法を提供する
ことを目的とする。
端部を厚途りにすることなく、両端部からのビードの破
壊を防止し、高速塗布を可能とする塗布方法を提供する
ことを目的とする。
本発明のかかる目的はスライドビード塗布方法において
、スライド面の両端部に、本来の塗布液の粘度よりも低
い粘度を有する第２の塗布液を、本来の塗布液の流量以
下の流量で送液しながら塗布を行なうことによって達成
される。
、スライド面の両端部に、本来の塗布液の粘度よりも低
い粘度を有する第２の塗布液を、本来の塗布液の流量以
下の流量で送液しながら塗布を行なうことによって達成
される。
以下、本発明をその実施態様につき図面に基いて詳細に
説明する。
説明する。
第１図は従来のスライドビード塗布装置を示す側面図で
あり、バックアップロール１に巻き掛けられる形で移送
されるウェブ２に、スライドホッパー型塗布ヘッド３，
４から供給される塗布液１１．１２が、ビード１５を形
成しつつ塗布される様子を示している。
あり、バックアップロール１に巻き掛けられる形で移送
されるウェブ２に、スライドホッパー型塗布ヘッド３，
４から供給される塗布液１１．１２が、ビード１５を形
成しつつ塗布される様子を示している。
７，８は塗布液供給ポンプ、５．６はキャビティ、９，
１０はスロットを示している。
１０はスロットを示している。
１３は減圧室で吸引ブロワ−１４に接続されており、ビ
ード１５の背面（図の下側）を減圧する作用を果してい
る。
ード１５の背面（図の下側）を減圧する作用を果してい
る。
第２図は、本発明の一実施態様を示すスライドビード塗
布装置の一部破断斜視図である。
布装置の一部破断斜視図である。
本実施態様の特徴は、従来の塗布においては少くとも一
つの塗布液がスライドホッパーの全中にわたって均一に
供給され、これがウェブに塗布されるものであったのに
対して、本実施態様ではスライドホッパーの両端に設け
られた側板１８．１９に接する第１の塗布液（以下「本
来の塗布液」という）の外側に、より低粘度の第２の塗
布液２２．２３を合わせて塗布することである。
つの塗布液がスライドホッパーの全中にわたって均一に
供給され、これがウェブに塗布されるものであったのに
対して、本実施態様ではスライドホッパーの両端に設け
られた側板１８．１９に接する第１の塗布液（以下「本
来の塗布液」という）の外側に、より低粘度の第２の塗
布液２２．２３を合わせて塗布することである。
低粘度の第２の塗布液２２，２３は給液口、２０．２１
より供給され、吐出口１８．１９より押し出されて塗布
される。
より供給され、吐出口１８．１９より押し出されて塗布
される。
第２図では吐出口１８゜１９はスライドホッパーの先端
に設けられているが、スライド面のより上流部に設けて
もよい。
に設けられているが、スライド面のより上流部に設けて
もよい。
また、ここに供給ばれる第２の塗布液は、一般的には本
来の塗布液の物性を損うことのない液体であり、かつビ
ードの両縁部を維持することが可能なシ程度の表面張力
を有する液体であればよく、後述する如く、本来の塗布
液より低粘度であることが望ましい。
来の塗布液の物性を損うことのない液体であり、かつビ
ードの両縁部を維持することが可能なシ程度の表面張力
を有する液体であればよく、後述する如く、本来の塗布
液より低粘度であることが望ましい。
すなわち、一般にスライドビード塗布においては塗布液
の粘度が低い方が、より高速の塗布が可シ能である。
の粘度が低い方が、より高速の塗布が可シ能である。
ところが、塗布速度の上昇にともなう乾燥負荷の増大を
軽減させるために、塗布液を濃厚化（低含水率化）する
と、塗布液粘度も上昇する。
軽減させるために、塗布液を濃厚化（低含水率化）する
と、塗布液粘度も上昇する。
一方、塗布液膜表面の乱れを防止するためには、ある程
度以上の粘度（１０〜１００ｃｐ）が必Ｊ要であり、塗
布液の高粘度化はやむを得ない方向でもある。
度以上の粘度（１０〜１００ｃｐ）が必Ｊ要であり、塗
布液の高粘度化はやむを得ない方向でもある。
本発明者等はビードの安定化について研究を行なった結
果塗布ヘッドの両端部に低粘度の第２の塗布液を供給す
ることにより、ビードの安定化をこ達成することができ
たものである。
果塗布ヘッドの両端部に低粘度の第２の塗布液を供給す
ることにより、ビードの安定化をこ達成することができ
たものである。
これにより破壊されやすいビード両端部が強化され高速
塗布においても安定化した塗布が可能になる。
塗布においても安定化した塗布が可能になる。
本発明において用いられる塗布液は格別限定されないが
、写真感光材料、磁気記録材料、感圧複４写紙の製造に
好適に適用しうる。
、写真感光材料、磁気記録材料、感圧複４写紙の製造に
好適に適用しうる。
本発明を写真感光材料の製造に用いる場合、写真用塗布
液の製法、組成、必要な添加剤、ウェブの材質、各種の
処理等は、特公昭４９−１４１３０号、同４９−２４１
３３号、同４９−３５４４７号に開示されたものが全て
利用することが出来る。
液の製法、組成、必要な添加剤、ウェブの材質、各種の
処理等は、特公昭４９−１４１３０号、同４９−２４１
３３号、同４９−３５４４７号に開示されたものが全て
利用することが出来る。
ここに写真用塗布液としては、写真乳剤の如く感光性の
ものに限らず、下塗り用塗布液、ハレーション防止用塗
布液バック層用塗布液等写真感光材料の製造に用いられ
るあらゆる塗布液が含まれる。
ものに限らず、下塗り用塗布液、ハレーション防止用塗
布液バック層用塗布液等写真感光材料の製造に用いられ
るあらゆる塗布液が含まれる。
本発明を磁気記録材料の製造に用いる場合、磁気記録材
料用塗布液の製法、組成、必要な添加剤、ウェブの材質
、各種の処理等は、特願昭５ｌ−）１５４４９１号明細
書に開示されたものが全て利用しうる。
料用塗布液の製法、組成、必要な添加剤、ウェブの材質
、各種の処理等は、特願昭５ｌ−）１５４４９１号明細
書に開示されたものが全て利用しうる。
ここに、磁気記録材料用塗布液としては、磁性塗布液、
バンクコート用塗布液等磁気記録材料の製造に用いられ
るあらゆる塗布液が含まれる。
バンクコート用塗布液等磁気記録材料の製造に用いられ
るあらゆる塗布液が含まれる。
１ また本発明に係る塗布方法を磁気記録材料の製造に
適用する場合には、塗布液より成る薄膜部に配向装置を
設けて配向性を向上せしめると共に塗布液より成る薄膜
の安定性を向上させる等磁性塗布液、磁気記録材料に特
有な実施条件を設定する）必要があるが、これについて
は、特願昭５１−９６６７５号明細書に開示されたもの
が全て利用しうる。
適用する場合には、塗布液より成る薄膜部に配向装置を
設けて配向性を向上せしめると共に塗布液より成る薄膜
の安定性を向上させる等磁性塗布液、磁気記録材料に特
有な実施条件を設定する）必要があるが、これについて
は、特願昭５１−９６６７５号明細書に開示されたもの
が全て利用しうる。
本発明を感圧複写紙の製造に用いる場合、感圧複写紙用
塗布液の製法、組成、必要な添加剤、つ：ニブの材質、
各種の処理等は、特願昭５１−７６７４３号明細書に開
示されたものが全て利用しうる。
塗布液の製法、組成、必要な添加剤、つ：ニブの材質、
各種の処理等は、特願昭５１−７６７４３号明細書に開
示されたものが全て利用しうる。
ここに、感圧複写紙用塗布液としては、マイクロカプセ
ルを主成分とする塗布液、顕色剤を主成１分とする塗布
液等感圧複写紙の製造に用いられるあらゆる塗布液が含
まれる。
ルを主成分とする塗布液、顕色剤を主成１分とする塗布
液等感圧複写紙の製造に用いられるあらゆる塗布液が含
まれる。
また本発明に係る塗布方法を感圧複写紙の製造に適用す
る場合には、感圧複写紙用塗布液に特有な実施条件を設
定する必要があるが、これについては特願昭５１−７６
７４３号明細書に開示されたものが使用しうる。
る場合には、感圧複写紙用塗布液に特有な実施条件を設
定する必要があるが、これについては特願昭５１−７６
７４３号明細書に開示されたものが使用しうる。
本発明はとくに写真感光材料の塗布に有効である。
この場合に好適な低粘度の第２の塗布液としては、各種
の界面活性剤の水溶液または界面活性剤の低濃度ゼラチ
ン水溶液等をあげることができる。
の界面活性剤の水溶液または界面活性剤の低濃度ゼラチ
ン水溶液等をあげることができる。
界面活性剤としては、たとえばサポニン（ステロイド系
）、アルキレンオキサイド誘導体（例エバポリエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール／ポリプロピレン
グリコール縮合物、ポリエチレングリコールアルキルま
たはアルキルアリールエーテル、ポリエチレングリコー
ルエステル類、ポリエチレングリコールソルビタンエス
テル類、ポリアルキレングリコールアルキルアミンまた
はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド付加
物類）、グリシドール誘導体（たとえばアルケニルコハ
ク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグリセリ
ド）、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖のアルキ
ルエステル類、同ｕ。
）、アルキレンオキサイド誘導体（例エバポリエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール／ポリプロピレン
グリコール縮合物、ポリエチレングリコールアルキルま
たはアルキルアリールエーテル、ポリエチレングリコー
ルエステル類、ポリエチレングリコールソルビタンエス
テル類、ポリアルキレングリコールアルキルアミンまた
はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド付加
物類）、グリシドール誘導体（たとえばアルケニルコハ
ク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグリセリ
ド）、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖のアルキ
ルエステル類、同ｕ。
くウレタン類またはエーテル類などの非イオン性界面活
性剤；トリテルペノイド系サポニン、アルキルカルボン
酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスル
フォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アル
キル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステル類、Ｎ−
アシル−Ｎ−アルキルタウリン類、スルホコハク酸エス
テル類、スルホアルキルポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルリン酸
エステル類などのような、カルボキシ基、スルホ基、ホ
スホ基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノアルキル
スルホン酸類、アミノアルキル硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベタイン類、アミンイミド類、アミンオキ
シド類などの両性界面活性剤；アルキルアミン塩類、脂
肪族あるいは芳香族第４級アンモニウム塩類、ピリジニ
ウム、イミダゾリウムなどの複素環第４級アンモニウム
塩類、および脂肪族または複素環を含むホスホニウムま
だはスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用い
ることができる。
性剤；トリテルペノイド系サポニン、アルキルカルボン
酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスル
フォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アル
キル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステル類、Ｎ−
アシル−Ｎ−アルキルタウリン類、スルホコハク酸エス
テル類、スルホアルキルポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルリン酸
エステル類などのような、カルボキシ基、スルホ基、ホ
スホ基、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノアルキル
スルホン酸類、アミノアルキル硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベタイン類、アミンイミド類、アミンオキ
シド類などの両性界面活性剤；アルキルアミン塩類、脂
肪族あるいは芳香族第４級アンモニウム塩類、ピリジニ
ウム、イミダゾリウムなどの複素環第４級アンモニウム
塩類、および脂肪族または複素環を含むホスホニウムま
だはスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用い
ることができる。
これらの界面活性剤の具体例は、米国特許２２４０４７
２号、同２８３１７６６号、同３１５８４８４号、同３
２１０１９１号、同３２９４５４０号、同３５０７６６
０号、同２７３９８９１号、同２８２３１２３号、同３
０６８１０１号、同３４１５６４９号、同３６６６４７
８号、同３７５６８２８号、同３１３３８１６号、同３
４４１４１３号、同３４７５１７４号、同３５４５９７
４号、同３７２６６８３号、同３８４３３６８号、同２
２７１６２３号、同２２８８２２６号、同２９４４９０
０号、同３２５３９１９号、同３６７１２４７号、同３
７２２０２１号、同３５８９９０６号、同３６６６４７
８号、同３５７４９２４号、英国特許１０１２４９５号
、同１０２２８７８号、同１１７９２９０号、同１１９
８４５０号、同１３９７２１８号、同１１３８５１４号
、同１１５９８２５号、同１３７４７８０号、同１５０
７９６１号、同１５０３２１８号などに記載のものであ
る。
２号、同２８３１７６６号、同３１５８４８４号、同３
２１０１９１号、同３２９４５４０号、同３５０７６６
０号、同２７３９８９１号、同２８２３１２３号、同３
０６８１０１号、同３４１５６４９号、同３６６６４７
８号、同３７５６８２８号、同３１３３８１６号、同３
４４１４１３号、同３４７５１７４号、同３５４５９７
４号、同３７２６６８３号、同３８４３３６８号、同２
２７１６２３号、同２２８８２２６号、同２９４４９０
０号、同３２５３９１９号、同３６７１２４７号、同３
７２２０２１号、同３５８９９０６号、同３６６６４７
８号、同３５７４９２４号、英国特許１０１２４９５号
、同１０２２８７８号、同１１７９２９０号、同１１９
８４５０号、同１３９７２１８号、同１１３８５１４号
、同１１５９８２５号、同１３７４７８０号、同１５０
７９６１号、同１５０３２１８号などに記載のものであ
る。
以下、本発明の効果を明確にするために実施例を挙げる
。
。
実施例
第１図および第２図に示したスライドビード塗布装置を
用いて、第１表に示す組成、物性を有する塗布液の単層
塗布を行なった。
用いて、第１表に示す組成、物性を有する塗布液の単層
塗布を行なった。
ウェブは厚み１８０μ、巾１８ｃｒｎのポリエチレンテ
レフタレートフィルム、送液量ハ２０ＣＣ／ｃｆ７Ｚ。
レフタレートフィルム、送液量ハ２０ＣＣ／ｃｆ７Ｚ。
ｍｉｎ、ビード背圧−２０ｍｍＡｑで低速で塗り付けた
後、塗布速度を徐々に連続的に上昇させて行き、ビード
の破壊する速度（これを「限界塗布速度」という）を観
察により測定した。
後、塗布速度を徐々に連続的に上昇させて行き、ビード
の破壊する速度（これを「限界塗布速度」という）を観
察により測定した。
第１図に示した従来方式では限界塗布速度は３７ ｍ
／ｍ ｉｎ （塗布量５４．１ ｃｒ：／ｌｒ？ ）で
あった。
／ｍ ｉｎ （塗布量５４．１ ｃｒ：／ｌｒ？ ）で
あった。
第２図に示した本発明の塗面方式で、低粘度の第２の塗
布液として水に界面活性剤を添加した液を用いた場合の
結果は下記の通りであった。
布液として水に界面活性剤を添加した液を用いた場合の
結果は下記の通りであった。
低粘度の送液量 限界塗布速度 塗布量１０ｃｃ／ｃ
ｒ／Ｌｍｉｎ １３４ｍ／ｍｉｎ １４．９ｃｃ
／ｉ２０ ／／ １８２ ／／
１１．０／／３０ ／／ ２
１５ ＩＩ ９．３１１但し、低粘度塗
布液の塗布中は両端部それぞれ３７１１７ＩＬであった
。
ｒ／Ｌｍｉｎ １３４ｍ／ｍｉｎ １４．９ｃｃ
／ｉ２０ ／／ １８２ ／／
１１．０／／３０ ／／ ２
１５ ＩＩ ９．３１１但し、低粘度塗
布液の塗布中は両端部それぞれ３７１１７ＩＬであった
。
第１図は従来のスライドビード塗布装置の側面図、第２
図は本発明の実施態様を示す斜視図である。 １・・・バックアップロール、２・・・ウェブ、３，４
・・・塗布ヘッド、１６．１７・・・側板、１８．１９
・・・低粘度塗布液吐出口。
図は本発明の実施態様を示す斜視図である。 １・・・バックアップロール、２・・・ウェブ、３，４
・・・塗布ヘッド、１６．１７・・・側板、１８．１９
・・・低粘度塗布液吐出口。
Claims (1)
- １ スライドビード塗布方法について、スライド面の両
端部に、本来の塗布液の粘度よりも低い粘度を有する液
を、本来の塗布液の流量以下の流量で送液しながら塗布
することを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53158762A JPS5822266B2 (ja) | 1978-12-19 | 1978-12-19 | 塗布方法 |
| US06/101,383 US4297396A (en) | 1978-12-19 | 1979-12-07 | Coating method |
| GB7942576A GB2037189B (en) | 1978-12-19 | 1979-12-11 | Slide bead coating |
| DE2950947A DE2950947C2 (de) | 1978-12-19 | 1979-12-18 | Verfahren zum Aufbringen einer flüssigen Beschichtungsmischung mittels eines Gleitwulstes auf einen langen, flexiblen Träger oder eine lange, flexible Bahn, der bzw. die transportiert wird, und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53158762A JPS5822266B2 (ja) | 1978-12-19 | 1978-12-19 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5584577A JPS5584577A (en) | 1980-06-25 |
| JPS5822266B2 true JPS5822266B2 (ja) | 1983-05-07 |
Family
ID=15678778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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