JPH0615066B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPH0615066B2 JPH0615066B2 JP63257281A JP25728188A JPH0615066B2 JP H0615066 B2 JPH0615066 B2 JP H0615066B2 JP 63257281 A JP63257281 A JP 63257281A JP 25728188 A JP25728188 A JP 25728188A JP H0615066 B2 JPH0615066 B2 JP H0615066B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- solvent
- support
- coating liquid
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/32—Processes for applying liquids or other fluent materials using means for protecting parts of a surface not to be coated, e.g. using stencils, resists
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7455—Edge bead nonuniformity coated at the border
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は可撓性帯状支持体に塗布液を塗布する方法、特
に写真感光材料や磁気記録媒体等の製造に用いられるエ
クストルージョン型塗布方法に関するものである。
に写真感光材料や磁気記録媒体等の製造に用いられるエ
クストルージョン型塗布方法に関するものである。
（従来技術） 従来、可撓性帯状支持体に塗布液を塗布する塗布方法と
しては、ロール型塗布方法、ビード型塗布方法、スライ
ドコート型塗布方法、エクストルージョン型塗布方法等
があるが、何れも塗布装置としては前記可撓性帯状支持
体の巾より広い巾方向寸法を持ち、且つ塗布液が塗布さ
れる塗布部分の巾は前記可撓性帯状支持体の巾より狭
く、第２図に示す様な前記可撓性帯状支持体１の塗布面
両端部には数mm乃至十数mmの塗布液２が塗布されない部
分Ａが生じる。
しては、ロール型塗布方法、ビード型塗布方法、スライ
ドコート型塗布方法、エクストルージョン型塗布方法等
があるが、何れも塗布装置としては前記可撓性帯状支持
体の巾より広い巾方向寸法を持ち、且つ塗布液が塗布さ
れる塗布部分の巾は前記可撓性帯状支持体の巾より狭
く、第２図に示す様な前記可撓性帯状支持体１の塗布面
両端部には数mm乃至十数mmの塗布液２が塗布されない部
分Ａが生じる。
従って、特にエクストルージョン型塗布装置の様に塗布
ヘッドを走行している前記可撓性帯状支持体に押しつけ
ながら塗布液を塗布する場合には、前記可撓性帯状支持
体と前記塗布ヘッドとの間隙が極めて狭いので、前記可
撓性帯状支持体両端の塗布液未塗布部と前記塗布ヘッド
とが接触してしまう。そこで、前記塗布ヘッドは前記未
塗布部の支持体表面を削り取り、削り取られた該削りカ
スは前記塗布ヘッドの塗布部エッジ両端に付着する。ま
た、前記支持体表面に付着していた異物も前記塗布ヘッ
ドの塗布部エッジに捕足される。
ヘッドを走行している前記可撓性帯状支持体に押しつけ
ながら塗布液を塗布する場合には、前記可撓性帯状支持
体と前記塗布ヘッドとの間隙が極めて狭いので、前記可
撓性帯状支持体両端の塗布液未塗布部と前記塗布ヘッド
とが接触してしまう。そこで、前記塗布ヘッドは前記未
塗布部の支持体表面を削り取り、削り取られた該削りカ
スは前記塗布ヘッドの塗布部エッジ両端に付着する。ま
た、前記支持体表面に付着していた異物も前記塗布ヘッ
ドの塗布部エッジに捕足される。
そして、この様に前記塗布部両端に堆積した付着物は前
記可撓性帯状支持体の両端を押上げるので、前記可撓性
帯状支持体に塗布される塗布液の巾方向の塗布厚みが均
一にならず、前記支持体の両端近傍の塗布層が圧塗りに
なってしまうという問題があった。
記可撓性帯状支持体の両端を押上げるので、前記可撓性
帯状支持体に塗布される塗布液の巾方向の塗布厚みが均
一にならず、前記支持体の両端近傍の塗布層が圧塗りに
なってしまうという問題があった。
そこで、上記問題点を解消するため特開昭61-257268号
公報に開示されている様に、可撓性帯状支持体に塗布液
を塗布する直前に該支持体面の塗布液が施されるべき部
分の両側端外側の塗布液が施されない部分に、予め溶剤
を塗布する塗布方法が提案されている。該塗布方法によ
れば、前記支持体の両端部は塗布ヘッドと直接接触する
ことなく、予め塗布された溶剤層による潤滑作用により
前記支持体の削れは防止でき、又支持体上の異物はその
まま通過させることができる。従って、前記支持体両端
部の押上げが防止され、前記支持体を両端近傍の塗布層
の圧塗りを防ぐことができた。
公報に開示されている様に、可撓性帯状支持体に塗布液
を塗布する直前に該支持体面の塗布液が施されるべき部
分の両側端外側の塗布液が施されない部分に、予め溶剤
を塗布する塗布方法が提案されている。該塗布方法によ
れば、前記支持体の両端部は塗布ヘッドと直接接触する
ことなく、予め塗布された溶剤層による潤滑作用により
前記支持体の削れは防止でき、又支持体上の異物はその
まま通過させることができる。従って、前記支持体両端
部の押上げが防止され、前記支持体を両端近傍の塗布層
の圧塗りを防ぐことができた。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、前記特開昭61-257268号公報に開示され
た塗布方法では、第３図に示す様に、支持体面の塗布液
が施されるべき部分の両側端外側の塗布液が施されない
部分に塗布された前記溶剤７により、前記塗布液２が前
記塗布ヘッド３のエッジ両端及び塗布巾規制板６を伝っ
て前記支持体１の巾方向に滲み出すといった問題が生じ
た。
た塗布方法では、第３図に示す様に、支持体面の塗布液
が施されるべき部分の両側端外側の塗布液が施されない
部分に塗布された前記溶剤７により、前記塗布液２が前
記塗布ヘッド３のエッジ両端及び塗布巾規制板６を伝っ
て前記支持体１の巾方向に滲み出すといった問題が生じ
た。
そこで、例えば磁気記録媒体の製造工程において、この
様な滲み出しが前記支持体１の側端部ないしは裏面に達
すると、前記支持体１を走行させている搬送ロールに前
記塗布液２が付着し、前記支持体１を汚すと共に、その
後の表面処理工程におけるカレンダーロールをも汚すこ
とになる。その結果、表面処理工程後の前記支持体表面
に異物による傷跡が付き、磁気記録特性を低下させると
いった問題が生じる。
様な滲み出しが前記支持体１の側端部ないしは裏面に達
すると、前記支持体１を走行させている搬送ロールに前
記塗布液２が付着し、前記支持体１を汚すと共に、その
後の表面処理工程におけるカレンダーロールをも汚すこ
とになる。その結果、表面処理工程後の前記支持体表面
に異物による傷跡が付き、磁気記録特性を低下させると
いった問題が生じる。
そこで、本発明の目的は上記塗布方法における問題点を
解決し、塗布厚みが均一で表面性の良い塗布層を形成す
ると共に塗布液の滲み出しが起こり難い塗布方法を提供
することにある。
解決し、塗布厚みが均一で表面性の良い塗布層を形成す
ると共に塗布液の滲み出しが起こり難い塗布方法を提供
することにある。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記した塗布液滲み出しの原因に関し種々
検討を重ねた結果、これは、前記塗布液２に含まれる溶
剤及び前記溶剤７の溶解性パラメータもしくは溶剤組成
が比較的近くそれぞれ相溶性を有する場合に、前記塗布
液２と前記溶剤７の接触界面で混合が生じ、前記塗布液
２が前記溶剤７側に滲み出すことを見出した。
検討を重ねた結果、これは、前記塗布液２に含まれる溶
剤及び前記溶剤７の溶解性パラメータもしくは溶剤組成
が比較的近くそれぞれ相溶性を有する場合に、前記塗布
液２と前記溶剤７の接触界面で混合が生じ、前記塗布液
２が前記溶剤７側に滲み出すことを見出した。
即ち本発明の上記目的は、可撓性帯状支持体に塗布液を
塗布する直前に該支持体面の塗布液が塗布されるべき部
分の両側端外側の塗布液が塗布されない部分に予め溶剤
を塗布してから前記塗布液を塗布する塗布方法におい
て、前記支持体に予め塗布される溶剤が前記塗布液中の
溶剤に対して、その溶解性パラメータであるＳＰ値の差
が２５℃で１．２以上離れている溶剤であることを特徴
とする塗布方法により達成される。
塗布する直前に該支持体面の塗布液が塗布されるべき部
分の両側端外側の塗布液が塗布されない部分に予め溶剤
を塗布してから前記塗布液を塗布する塗布方法におい
て、前記支持体に予め塗布される溶剤が前記塗布液中の
溶剤に対して、その溶解性パラメータであるＳＰ値の差
が２５℃で１．２以上離れている溶剤であることを特徴
とする塗布方法により達成される。
尚、前記ＳＰ値とは溶剤の溶解性パラメータδを表す値
であり、下記計算式（Ｉ）により求められる。
であり、下記計算式（Ｉ）により求められる。
〔式中、ΔＨｖは溶剤の蒸発潜熱を表し、ｄは溶剤の密
度を表し、Ｍは溶剤の分子量を表し、Ｔは溶剤の絶対温
度を表し、Ｒは分子気体定数（1.986 cal/mol）を表
す。〕 又、前記ΔＨｖは下記計算式（II）により求められる。
度を表し、Ｍは溶剤の分子量を表し、Ｔは溶剤の絶対温
度を表し、Ｒは分子気体定数（1.986 cal/mol）を表
す。〕 又、前記ΔＨｖは下記計算式（II）により求められる。
ΔＨｖ＝23.7Ｔｂ＋0.02Ｔｂ２−2950……（II） 〔式中、Ｔｂは溶剤の沸点を表す。〕 次に、前記溶剤の区分によって下記の補正値を加算す
る。
る。
・炭化水素系溶剤 補正なし ・ケトン系溶剤（沸点100℃以上） 補正なし ・ケトン系溶剤（沸点100℃以下） ＋０．５ ・エステル系溶剤 ＋０．６ ・アルコール系溶剤 ＋１．４ 更に、前記溶剤が混合溶剤の場合は、それぞれの溶剤の
体積分率の合計値とし、溶剤以外の添加剤（例えば、水
に対しての界面活性剤等）の効果は考えない。
体積分率の合計値とし、溶剤以外の添加剤（例えば、水
に対しての界面活性剤等）の効果は考えない。
（以上、共立出版刊「塗料の流動と顔料分散」、理工出
版刊「解説塗料学」、講談社出版刊「溶剤便覧」参
照。） また、前記塗布液中の溶剤が複数の溶剤組成から成る混
合溶剤の場合、それぞれの溶剤の体積分率の合計値を前
記ＳＰ値として比較することが好ましい。
版刊「解説塗料学」、講談社出版刊「溶剤便覧」参
照。） また、前記塗布液中の溶剤が複数の溶剤組成から成る混
合溶剤の場合、それぞれの溶剤の体積分率の合計値を前
記ＳＰ値として比較することが好ましい。
以下、本発明の一実施例により詳細に説明する。
（実施例） 下記第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れて十
分に混合分散させた後、エポキシ樹脂（エポキシ当量 5
00）を30重量部加えて均一に混合分散させて作製した磁
性塗布液を、厚さ15μ，巾520mmのポリエチレンテレフ
タート支持体上に、塗布量：20cc／m2，塗布速度：200m
／分，塗布部張力：10kg／520mm幅，塗布巾：500mmとな
るように塗布した。従って、前記支持体の塗布面両面側
端には、それぞれ片側10mmの未塗布部が形成される。
分に混合分散させた後、エポキシ樹脂（エポキシ当量 5
00）を30重量部加えて均一に混合分散させて作製した磁
性塗布液を、厚さ15μ，巾520mmのポリエチレンテレフ
タート支持体上に、塗布量：20cc／m2，塗布速度：200m
／分，塗布部張力：10kg／520mm幅，塗布巾：500mmとな
るように塗布した。従って、前記支持体の塗布面両面側
端には、それぞれ片側10mmの未塗布部が形成される。
又、塗布装置は、第１図に示す様なエクストルージョン
型ヘッドから成る塗布装置を用いた。
型ヘッドから成る塗布装置を用いた。
即ち、該塗布装置のエクストルージョンヘッド３は、可
撓性帯状支持体１の巾よりも広い巾方向寸法を有してお
り、該巾方向に亘って塗布液を吐出するスロット８が構
成されている。また、該スロット８の巾方向両端部に
は、塗布巾を設定して塗布液が吐出されないようする規
制板６が嵌められている。従って、前記可撓性帯状支持
体１の塗布面両端側端には、それぞれ巾Ａの未塗布部が
形成される。
撓性帯状支持体１の巾よりも広い巾方向寸法を有してお
り、該巾方向に亘って塗布液を吐出するスロット８が構
成されている。また、該スロット８の巾方向両端部に
は、塗布巾を設定して塗布液が吐出されないようする規
制板６が嵌められている。従って、前記可撓性帯状支持
体１の塗布面両端側端には、それぞれ巾Ａの未塗布部が
形成される。
そこで、前記塗布装置によって可撓性帯状支持体１の上
に塗布液が塗布されて塗布面２が形成されるが、その直
前に該塗布液が塗布されるべき部分の両側端外側の塗布
液が塗布されない部分に予め溶剤層７が塗布される。こ
の溶剤の塗布する巾は、塗布装置のドクターエッジ４に
より前記未塗布部のほぼ全面に拡がるか、又は前記塗布
面２に少し入り込むまでに拡がる様に適宜調節され、塗
布厚みは前記塗布面２の塗布厚みに対応して設定され
る。
に塗布液が塗布されて塗布面２が形成されるが、その直
前に該塗布液が塗布されるべき部分の両側端外側の塗布
液が塗布されない部分に予め溶剤層７が塗布される。こ
の溶剤の塗布する巾は、塗布装置のドクターエッジ４に
より前記未塗布部のほぼ全面に拡がるか、又は前記塗布
面２に少し入り込むまでに拡がる様に適宜調節され、塗
布厚みは前記塗布面２の塗布厚みに対応して設定され
る。
塗布される塗布量は、ドクターエッジ４により広がった
後で0.01〜10cc／m2の範囲、好ましくは0.05〜5cc／m2
の範囲で設定される。
後で0.01〜10cc／m2の範囲、好ましくは0.05〜5cc／m2
の範囲で設定される。
又、塗布方法は既知の方法を適宜応用すればよい。即
ち、エアドクター、ブレードコータ、ロードコータ、ナ
イフコータ、スライドコータ、ロールコータ、グラビア
コータ、キスコータ、スプレイコータ、スロットオリフ
ィスコータ等の他、ウェットな布等を押しつける方法、
更に細い注射針状の中空から液体を吹き出して塗る方法
がある。
ち、エアドクター、ブレードコータ、ロードコータ、ナ
イフコータ、スライドコータ、ロールコータ、グラビア
コータ、キスコータ、スプレイコータ、スロットオリフ
ィスコータ等の他、ウェットな布等を押しつける方法、
更に細い注射針状の中空から液体を吹き出して塗る方法
がある。
そして、予め前記支持体１の未塗布部に塗布する溶剤を
第２表に示す各溶剤に代えて各々塗布した後、前記塗布
液を塗布して製造された磁気記録媒体について、前記塗
布液の滲み出し状況を観察した。その結果を第２表に示
す。
第２表に示す各溶剤に代えて各々塗布した後、前記塗布
液を塗布して製造された磁気記録媒体について、前記塗
布液の滲み出し状況を観察した。その結果を第２表に示
す。
第 １ 表 組成 ・γ−Fe2O3 (Hc700 Oe) 100重量部 ・塩化ビニル，酢酸ビニル共重合体 10重量部 ・カーボンブラック 12重量部 （平均粒径20μｍ） ・ポリウレタン樹脂 「ニッポンラン−2301」 8重量部 （日本ポリウレタン(株)製） ・ステアリン酸 1重量部 ・ステアリン酸ブチル 1重量部 ・ポリイソシアネート 「コロネートＬ」 8重量部 （日本ポリウレタン(株)製） ・溶媒 メチルエチルケトン 120重量部 酢酸ブチル 170重量部 トルエン 10重量部 第２表から明らかなように、塗布液中の混合溶剤のＳＰ
値に対して、ＳＰ値の差が1.2以上離れている溶剤を用
いた実施例においては、滲み出しの無い良好な塗布層を
形成することができた。しかし、ＳＰ値の差が1.2未満
の溶剤を用いた実施例においては、塗布層が不安定にな
り、滲み出しも大きくなってしまった。
値に対して、ＳＰ値の差が1.2以上離れている溶剤を用
いた実施例においては、滲み出しの無い良好な塗布層を
形成することができた。しかし、ＳＰ値の差が1.2未満
の溶剤を用いた実施例においては、塗布層が不安定にな
り、滲み出しも大きくなってしまった。
尚、上記実施例においては磁気記録媒体を製造する際の
磁性層の塗布方法について述べたが、本発明の塗布方法
はこれ限らず、例えば写真感光材料を製造する際の感光
層を塗布方法等に用いることが出来ることは言うまでも
ない。
磁性層の塗布方法について述べたが、本発明の塗布方法
はこれ限らず、例えば写真感光材料を製造する際の感光
層を塗布方法等に用いることが出来ることは言うまでも
ない。
（発明の効果） 以上述べたように、本発明の塗布方法では、可撓性帯状
支持体に塗布液を塗布する直前に該支持体面の塗布液が
塗布されるべき部分の両側端外側の塗布液が塗布されな
い部分に、予め前記塗布液に含まれる溶剤に対してその
溶解性パラメータであるＳＰ値の差が２５℃で１．２以
上離れている溶剤を塗布してから前記塗布液を塗布す
る。そこで、前記塗布液と前記溶剤の接触界面での混合
が生じ難くなり、前記塗布液が前記溶剤側に滲み出すこ
とを防ぐことができる。
支持体に塗布液を塗布する直前に該支持体面の塗布液が
塗布されるべき部分の両側端外側の塗布液が塗布されな
い部分に、予め前記塗布液に含まれる溶剤に対してその
溶解性パラメータであるＳＰ値の差が２５℃で１．２以
上離れている溶剤を塗布してから前記塗布液を塗布す
る。そこで、前記塗布液と前記溶剤の接触界面での混合
が生じ難くなり、前記塗布液が前記溶剤側に滲み出すこ
とを防ぐことができる。
従って、塗布厚みが均一で表面性の良い塗布層を形成す
ると共に塗布液の滲み出しが起こり難い塗布方法を提供
することができた。
ると共に塗布液の滲み出しが起こり難い塗布方法を提供
することができた。
第１図は本発明の塗布方法に用いられる塗布装置の塗布
状態を示す部分拡大図、第２図は可撓性帯状支持体上の
塗布層の塗布状態を表す部分拡大断面図、第３図は塗布
液の滲み出し状態を表す塗布部の部分拡大断面図であ
る。 （図中の符号） １……可撓性帯状支持体、２……塗布面 ３……エクストルージョンヘッド ４……ドクターエッジ、５……バックエッジ ６……規制板、７……溶剤層 ８……スロット。
状態を示す部分拡大図、第２図は可撓性帯状支持体上の
塗布層の塗布状態を表す部分拡大断面図、第３図は塗布
液の滲み出し状態を表す塗布部の部分拡大断面図であ
る。 （図中の符号） １……可撓性帯状支持体、２……塗布面 ３……エクストルージョンヘッド ４……ドクターエッジ、５……バックエッジ ６……規制板、７……溶剤層 ８……スロット。
Claims (1)
- 【請求項１】可撓性帯状支持体に塗布液を塗布する直前
に該支持体面の塗布液が塗布されるべき部分の両側端外
側の塗布液が塗布されない部分に予め溶剤を塗布してか
ら前記塗布液を塗布する塗布方法において、前記支持体
に予め塗布される溶剤が前記塗布液中の溶剤に対して、
その溶解性パラメータであるＳＰ値の差が２５℃で１．
２以上離れている溶剤であることを特徴とする塗布方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63257281A JPH0615066B2 (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 塗布方法 |
| US07/417,160 US4976992A (en) | 1988-10-14 | 1989-10-04 | Coating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63257281A JPH0615066B2 (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02107381A JPH02107381A (ja) | 1990-04-19 |
| JPH0615066B2 true JPH0615066B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=17304196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63257281A Expired - Lifetime JPH0615066B2 (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 塗布方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4976992A (ja) |
| JP (1) | JPH0615066B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2687245B2 (ja) * | 1989-09-29 | 1997-12-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US5275842A (en) * | 1992-04-30 | 1994-01-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
| EP0575879A2 (en) * | 1992-06-24 | 1993-12-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Pretreated substrate for slide bead coating |
| JP3367572B2 (ja) * | 1993-12-08 | 2003-01-14 | 日本板硝子株式会社 | 撥水被膜の形成方法 |
| SE502162C2 (sv) * | 1993-12-22 | 1995-09-04 | Btg Kaelle Inventing Ab | Förfarande för anordning för bestrykning av en löpande bana |
| JP2005296699A (ja) * | 2004-04-06 | 2005-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | バー塗布方法及び装置 |
| JP2006002094A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Brother Ind Ltd | インクジェット記録用インクセット及びその製造方法 |
| US9005711B2 (en) * | 2008-10-24 | 2015-04-14 | Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. | Method for forming a lubricating film |
| JP6391039B2 (ja) * | 2014-01-23 | 2018-09-19 | 株式会社リコー | クリーニングブレードの製造方法、クリーニングブレード、画像形成装置、プロセスカートリッジ |
| US10012944B2 (en) * | 2014-04-09 | 2018-07-03 | Ricoh Company, Ltd. | Method for manufacturing cleaning blade, cleaning blade, image formation device, and process cartridge |
| CN107908075A (zh) * | 2017-12-14 | 2018-04-13 | 信利（惠州）智能显示有限公司 | 一种预设边框的涂胶方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5822266B2 (ja) * | 1978-12-19 | 1983-05-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JPS61257268A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP63257281A patent/JPH0615066B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-10-04 US US07/417,160 patent/US4976992A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4976992A (en) | 1990-12-11 |
| JPH02107381A (ja) | 1990-04-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0615066B2 (ja) | 塗布方法 | |
| WO1995029768A1 (fr) | Procede de peinture en continu | |
| EP0652052B1 (en) | Coating method | |
| JPH0824874B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JP2565412B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPH0550004A (ja) | 塗布液の塗布方法および塗布装置 | |
| JP2001321707A (ja) | 塗料の塗布装置と塗布方法 | |
| JP2670834B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び装置 | |
| JP2001104851A (ja) | 塗料の塗布方法および塗布装置 | |
| JP3383380B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US5114753A (en) | Method and apparatus for coating web while preventing contact of edge portions thereof with coating head | |
| JPH10290946A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
| JP2691602B2 (ja) | 塗布方法及びその装置 | |
| JPH04123317A (ja) | 塗布液の塗布方法および塗布装置 | |
| JPH0822411B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JP3319087B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US5698033A (en) | Apparatus for the production of a magnetic recording medium | |
| JP3340874B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JPH03161A (ja) | 塗布方法 | |
| JP2753851B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPH0759311B2 (ja) | 塗布方法及び装置 | |
| JPH081061A (ja) | カーテン塗布方法及びその装置 | |
| JPH03143568A (ja) | 塗布方法 | |
| JPH0550003A (ja) | 塗布液の塗布方法および塗布装置 | |
| JP2855032B2 (ja) | 塗布方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080302 Year of fee payment: 14 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080302 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090302 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090302 Year of fee payment: 15 |