JPS5821893A - フレキシブルプリント配線用基板の製造方法 - Google Patents

フレキシブルプリント配線用基板の製造方法

Info

Publication number
JPS5821893A
JPS5821893A JP11936281A JP11936281A JPS5821893A JP S5821893 A JPS5821893 A JP S5821893A JP 11936281 A JP11936281 A JP 11936281A JP 11936281 A JP11936281 A JP 11936281A JP S5821893 A JPS5821893 A JP S5821893A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
weight
parts
bonded
molecule
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11936281A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6360558B2 (ja
Inventor
仲間 敬一郎
北島 一人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Momentive Performance Materials Japan LLC
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Toshiba Silicone Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd, Toshiba Silicone Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP11936281A priority Critical patent/JPS5821893A/ja
Publication of JPS5821893A publication Critical patent/JPS5821893A/ja
Publication of JPS6360558B2 publication Critical patent/JPS6360558B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属箔と融点が260℃以上のプラスチック
フィルムとを接着するに於いて、その接着剤として、 (A)  ケイ素原子に結合したビニル基を分子中に平
均2個以上有し、平均重合度が50〜10,000のポ
リオルガノシロキサン1oo重量部、(B)  ケイ素
原子に結合した水素原子を分子中に平均2個を越える数
を有するポリオルガノハイドロジエンシロキサン、該水
素原子が(Δ)中のケイ素原子に結合したビニル基1モ
ルに対して、0.5〜10モルになる量、 (C)  シリカ系充填剤20〜150重量部、(D)
  一般式(FeO)x (Fe2O3)y  (ただ
し、Xバは0.05〜1.0である。)で表わされる酸
化鉄又は(及び)カーボンブラック0,5〜20重量部
、 (E)白金化合物白金原子として1〜200 ppm、
(F)  分子鎖のケイ素原子に結合した水素原子を分
子中に少なくとも1個と、一般式 %式% びQ2は互いに同−又は相異なる直鎖状又は分枝状のア
ルキレン基、Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す。)
で表わされ、分子鎖のケイ素原子に結合した基を分子中
に少なくとも1個有するポリシロキチン0.5〜50重
量部、から成る接着剤組成物を基板の構成たる融点が2
60℃以上のプラスチックフィルム又は(及び)金属箔
に塗布して乾燥した後、このプラスチックフィルムと金
amとを重ね加熱圧着し、アフターキ=アーすることを
特徴とするフレキシブルプリント配線用基板の製造方法
に関するものである。
電子機器の多様化に伴って、軽量で立体配線の出来るフ
レキシブル配線板の普及が著しいが、最近、安全性の立
場から難撚性の要求が強くなってきており、特に厳しい
難燃性の試験法であるUL 94 V−〇相当の難燃性
が要求されてきている。然し乍ら、ポリイミドフィルム
等の耐熱性プラスチックフィルムは耐熱性、難燃性等に
勝れているものもあるが、接着剤を介して金属箔とプラ
スチックフィルムとを加熱圧着により一体化するフレキ
シブルプリント配線用基板に於いては、接着剤の特性で
基板の接着性、耐熱性及び難燃性等の特性が決まり、接
着剤にこれらの特性を兼備させることは極めて困難であ
った。これは、融点が260 ℃以上のプラスチックフ
ィルム例えば、ポリイミドフィルムと金属箔との接着剤
として耐熱性を発揮させる為に一般的に用いられている
エポキシ樹脂に難燃性の為に臭素を含有する臭素化エポ
キシ樹脂を用いた場合には、耐熱性、接着性が著しく低
下するからである。
本発明者等は種々検討した結果、接着剤として付加反応
架橋型シリコーン樹脂を用いることにより、フレキシブ
ルプリント配線用基板として必要な引き剥がし強さく接
着性)、半田耐熱性、難燃性等の特性が満たされること
を見い出し、本発明を完成させるに至った。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明に於ける金属箔としては、銅箔、アルミニウム箔
、ニッケル箔、ニクロム箔等の導電性を有する金属箔が
使用出来る。
本発明に於けるプラスチックフィルムとしては、ポリイ
ミドフィルム、ポリアミドフィルム= 5− イルム、ポリアミドフィルム、ポリスルホンフィルム、
二軸延伸ポリエステルフィルム等の融点が260℃以上
のプラスチックフィルムが使用出来る。
接着剤組成物の各成分について説明する。
仄)のポリオルガノシロキサンは、シリコーン接着剤の
ベースポリマーであって実質的に直鎖状の骨格を為し、
(B)によって網状高分子を形成する為には、ケイ素原
子(−結合したビニル基を分子中に平均2個以上有する
ことが必要である。
ケイ素原子に結合した有機基としては、上記のビニル基
の他に、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基の様なアルキシ基、フェニル基の様なアリール基
、ベンジル基、β−フェニルエチル基、β−フェニルプ
ロピル基の様なアラルキル基、β−シアノエチル基、3
.3.3−)リフルオロプロピル基、クロロフェニル基
の様な置換炭化水素基が例示されるが、ポリジオルガノ
シロキサンの特徴である耐熱性、 6− 耐寒性を示し、且つ合成し易く取扱いも容易な点で、該
有機基中の85%以上がメチル基であることが好ましく
、ビニル基以外の有機基が実質的に総てメチル基である
ことが更に好ましい。
分子末端は通常トリメチルシリル基、ジメチルビニルシ
リル基、ジメチルフェニルシリル基の様なトリオルガノ
シリル基か水酸基で閉塞される。平均重合度はシロキサ
ン単位として50〜10.000の範囲であることが好
ましい、、50未満では架橋によって十分な機械的強度
が得られず引き剥がし強さが弱い。また、ポリジオルガ
ノシロキサンの粘度が低くなって配合した(0)やfD
)が沈降する為(1均−な接着剤層が得られない。
また、10,000を越えると合成し叶い上、(0)や
FD)を均一(二分散させることが極めて困難になる接
着側層1:十分な機械的強度、特1:衝撃や剪断力が働
いたときに耐える力を与えるには、重合度が3,000
〜10,000の範囲であることが好ましい。
(B)のポリオルガノハイドロジエンシロキサンはその
ケイ素−水素結合が(B)の触媒作用によって、(A)
のケイ素原子に結合したビニル基と反応することにより
、仏)を架橋して網状高分子とするものであり、斯々る
網状化の為には分子中にケイ素原子に結合した水素原子
を平均2個を越える数を有することが必要である。分子
骨格は直鎖状、分岐状、環状の何れでもよい。ケイ素原
子に結合した有機基としては(A>に例示した様なアル
ギル基、アリール基、アラルキル基及び]U換炭化炭化
水素例示されるが、(A)との間に良好な相溶性をもつ
為には(A>と同様な有機基の構成であることが好まし
く、(A)の場合と同様な理由から、メチル基であるこ
とが好ましい。(B)の配合量は、<A、)中のケイ素
原子に結合したビニル基1モルに対して(B)のケイ素
原子に結合した水素原子が0.5〜10モルの間である
。0.5モル未満では硬化が十分行われず半田耐熱性が
得られず、10モルを越えると硬化後も未反応のケイ素
−水素結合の残存量が多いので耐熱性が低下する。また
、勝れた引き剥がし強さを付与する為には、上記の水素
原子の量が、2,5〜6モルの間であることが好ましい
。2.5モル未満又は6モルを越えると、十分な引き剥
がし強さが得られない。
(0)のシリカ系充填剤は、接着剤に機械的強度耐熱性
及び難燃性を与えるもので、煙霧質シリカ、沈殿シリカ
、シリカエアロゲル、焼成シリカの様な補強性の強いも
の、粉砕石英、溶融シリカ、珪藻土の様な大量に系に配
合出来て難燃性を付与するものが例示される。接着剤に
耐湿性や耐熱水性を与える為に、上記の補強性充填剤の
表面をオルガノクロロシラン、ポリジメチルシロキサン
、ヘキサメチルジシランの様な有機ケイ素化合物で処理
して、表面のシラノール基の一部又は全部を改質するこ
とが好ましい。
(0)の配合量は(A)100重量部に対して20〜1
50重量部好ましくは40〜100重量部の範囲である
。20重量1部以下では引き剥がし強さや難燃性が十分
でなく150重量部を越えると接着剤層が硬くなり過ぎ
十分な引き剥がし強さが得られ= 9− ない。また、勝れた難燃性を得る為には(C)のうち粉
砕石英又は溶融シリカの量が30〜100重量部あるこ
とが好ましい。30重量部未満では十分な難燃性が得ら
れず、100重量部を越えると沈降し易く均一な接着剤
層が得られない。
(D)の酸化鉄、カーボンブラックは、接着剤層に勝れ
た難燃性を付与するもので、一般式(Fe0))x(F
ears )yで表わされ、Xとyの比0.05〜1.
0の範囲である酸化鉄とカーボンブラックを単独又は併
用して使用出来る。両者を比較すると酸化鉄の方がより
高い難燃性を与える。
酸化鉄のXとyの比が上記の範囲以外では、十分な難燃
性が得られない。(D)の配合量は、(A)100重量
部に対して0.5〜20重量部の範囲である。0.5重
量部未満では難燃性が十分でなく、20重量部を越すと
引き剥がし強さの低下を来たす。
(E)の白金化合物は、(A)のビニル基と(B)のケ
イ素−水素結合を反応させることにより(A)を(B)
で架橋させる為の触媒であり、また、硬化後の接 10
− 着剤に難燃性を付与する重要な成分である。(E)とし
ては、塩化白金酸、塩化白金−オレフィン錯体、塩化白
金−ジアルキルエーテル錯体、塩化白金−ビニル基含有
ポリシロキサン錯体、0価及び2価の白金−ホスフィン
錯体並びに白金−ホスファイト錯体、アセチルアセトナ
ト白金等が例示される。@)の配合量はその種類によっ
ても適正な範囲が相違するが、(A)に対して、白金原
子として1〜200 ppm好ましくは5〜50ppm
の範囲である。(E)が少な過ぎると十分な難燃性が得
られず、また、多すぎると半田耐熱性の低下を来たす。
(F)のポリシロキサンは、勝れた引き剥がし強さな付
与するもので、シロキサン骨格は、直鎖状、分岐状、環
状の何れでもよいが、合成の容易なことから、通常、直
鎖状又は環状のものが用いられる。また、水素原子と −Q’−C−0Q2Si(OR)3は、通常、シロギナ
ン骨格の別々のケイ素原子に結合するが、同一のケイ素
原子に結合しても差支えない。Q’及びC2は同一でも
相異なってもよく、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基、ブチレン基等が例示され、プロピレン基、ブチレ
ン基は、直鎖状でも分岐状でもよい。合成の容易なこと
と耐加水分解性から、Qlはメチレン基又は1,2−プ
ロピレン基 C2はケイ素原子とエステル酸素原子を少
なくとも3個の炭素鎖によって結ぶアルキレン基、特に
1,3−プロピレン基であることが好ましい。Rとして
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げら
れるが、良好な引き剥がし強さを得るには、メチル基又
はエテル基が好ましい。(F)の配合量は、(A)10
0重量部に対して0.5〜50重量部好ましくは、2〜
10重量部の範囲である。0.5重量部未満では接着性
が十分でなく50重量部を越えると耐熱性と難燃性が低
下するからである。
この他、接着剤中には任意の成分として、その他の離燃
剤、耐熱性向上剤、(C)及び(Dlを(A)と混和す
るときの加工助剤、安定剤等、公知のものを配合しても
差支えない。
本発明の接着剤は、通常(A)、 (C1,(D)、 
(E)及び(G)から成るベースと(B)及び(F)か
ら成る架橋剤組成物を別々に調整しておき、使用直前に
ベースと架橋剤組成物を混合して調整するが、(A、)
、 (C)及び/又は(Glの一部を架橋剤組成物に配
合してもよく、(E)を別個に保存してもよい。また、
後者の場合、混合の便宜の為に(八)の一部を(E)と
共存させても差支えない。
本発明に於けるプラスチックフィルムと金属箔との貼り
合せは常法により行える。例えば、特公昭55−194
38にある様に、プラスチックフィルムを送り出し塗布
ロールで接着剤をフィルムの片面に塗布し、次いで乾燥
部を通過させて接着剤を乾かす。一方、金属箔を送り出
し、加熱された圧着ロールで接着剤付きフィルムと連続
的に貼合せる。次いで、乾燥炉で接着剤をアフターキー
アーし半田耐熱性、引き剥がし強さを向」ニさせる。
以下実施例について説明する。
 13 一 実施例1 下記のポリシロキサンS−1〜S−9を用いて、第1表
の様な配合比で接着剤A−1〜A−18を調整した。即
ち、A−1を例にとると、ポリシロキサンS−1、煙霧
質シリカ、粉砕シリカを混練機で十分に混練し、更に酸
化鉄と白金−ビニルシロキサン錯体を添加して混練し、
ベースコンパウンドを得た。これをトルエンに稀釈し、
これに予め混合しておいたポリシロキサンS−4とS−
6の混合液を配合して十分に攪拌し、接着剤A−1を得
た。同様にしてA−2〜A−18の接着剤を得た。
次いで、厚さ50μmのポリイミドフィルム(カプトン
:デーポン社製)に前記接着剤例えばA−1を乾燥後で
厚さが約20μmになる様に塗布し、130℃2分間乾
燥後、厚さ35μm電解銅箔を加熱ロールで貼合せ、1
60℃10時間アフターキーアーし、フレキシブルプリ
ント配線用基板B−1を得た。同様にしてA ?、〜A
−18の接着剤を用いて、B−2〜B−18のフレキシ
ブルプ 14− リント配線用基板を得た。このものの性能を表2に示す
S−1:0.2モル%のメチルビニルシロキシ単位と残
余のジメチルシロキシ単位 から成り、末端がトリメチルシリル基 で閉塞され、平均重合度が7,000のポリジオルガノ
シロキサ〕/ S−2:  0.2モル%のメチルビニルシロキシ単位
、8モル%のジフェニルシロキシ 単位及び残余のジメチルシロキシ単位 から成り、末端がジメチルビニルシリ ル基で閉塞され、平均重合度が5,000のポリジオル
ガノシロキサン S−3:  ジメチルシロキシ単位から成り、末端がジ
メチルビニルシリル基で閉塞さ れた平均重合度1,500のポリジオルガノシロキサン 5−4=  メチルハイドロジエンシロキシ単位から成
り、末端がトリメチルシリル基 で閉塞された平均重合度30のポリメ チルハイドロジエンシロキサン S−5:60モル%のメチルハイドロジエンシロキシ単
位と残余のジメチルシロキ シ単位から成り、末端がトリメチルシ リル基で閉塞された平均重合度50の ポリメチルハイドロジエンシロキサン (CH3)2 で表わされるポリシロキサン 5−7=  分子式 で表わされるポリシロキサン (CH2)3 CO(CHJa si (OCHs)s
i1 で表わされるポリシロキサン S−9:S−3と間じ化学構造である平均重合度45の
ポリジオルガノシロキサン ベースポリマーとして、平均重合度50未満のものを用
いると(A−10’)、十分な引き剥がし強さが得られ
ない(B−10)。
ポリオルガノハイドロジエンシロギサンの量と性能との
関係がA−11〜A14.  B−11〜14でポリオ
ルガノハイドロジエンが少な過ぎても、多過ぎても半田
耐熱性及べ引き剥がし強さが低い。
シリカ系充填剤の情については、多過ぎると(A−15
)引き剥がし強さが低下し、少な過ぎると(A−41)
引き剥がし強さ、難燃性が低下する。
酸化鉄のlは多過ぎると(A−17)引き剥がし 17
− 強さ、表面抵抗が低下し、少な過ぎると(A−16)難
燃性が低下する。また、η々比が0の酸化鉄では(A−
7)M、燃性が得られない。
(F)のポリシロキサンの旨については、多過ぎても、
少な過ぎても(A−11,A−14)引き剥がし強さ、
半田耐熱性が低下する。
適正な配合量であるA−1〜6では、引き剥がし強さ、
半田耐熱性、難燃性等の良好な特性が得られた。
実施例2 プラスチックフィルムとしてポリアミドイミドフィルム
(厚さ5011m )を、接着剤としてA−1を用いる
以外は実施例1と同様の方法により、フレキシブルプリ
ント配線用基板(B−19)を得た。このものの性能を
表2に示す。
実施例3 金属箔としてアルミニウム箔(厚さ50μ??L)を、
接着剤としてA−1を用いる以外は実施例】と同様の方
法により、フレキシブルプリント配線用基板(B−20
)を得た。
 18− このものの性能を表2に示す。
−19− 特開+1.’7s8−21893 C8)形   窓 ム    入 卿 駆 ど く 日    互

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 シリコーン接着剤として、 (A)  ケイ素原子に結合したビニル基を分子中1′
    −平均2個以上有し、平均重合度が50〜10,000
    のポリオルガノシロキサン100重量部、iB)  ケ
    イ素原子に結合した水素原子を分子中に平均2個を越え
    る数を有するポリオルガツノ\イド・ロジエンシロヤサ
    ン、該水素原子がfAl中のケイ素原子に結合したビニ
    ル基1モルに対して、0.5〜10モルも二なる量、 (C)  シリカ系充填剤20〜150重量部、+D)
      一般式(Fe0)x (Fe2O3)y  (ただ
    し、ゾは0.05〜1.0である。)で表わされる酸化
    鉄又は(及び)カーボンブラック0.5〜20重り部、 (E)  白金化合物、白金原子として1〜200 P
    Pm 。 (F)  ケイ素原子に結合した水素原子を分子中に少
    なくとも1個と、一般式 Q2は互いに同−又は相異なる直鎖状又は分枝状のアル
    キレン基、Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で
    表わされ、ケイ素原子に結合した基を分子中に少なくと
    も1個有するポリシロキサン0.5〜50重量部、 からなる接着剤組成物を基板の構成たる融点が260℃
    以上のプラスチックフィルム又は(及び)金属箔に塗布
    して乾燥した後、このプラスチックフィルムと金属箔と
    を重ね加熱圧着し、アフターキュアーすることを特徴と
    するフレキシブルプリント配線用基板の製造方法。
JP11936281A 1981-07-31 1981-07-31 フレキシブルプリント配線用基板の製造方法 Granted JPS5821893A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11936281A JPS5821893A (ja) 1981-07-31 1981-07-31 フレキシブルプリント配線用基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11936281A JPS5821893A (ja) 1981-07-31 1981-07-31 フレキシブルプリント配線用基板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5821893A true JPS5821893A (ja) 1983-02-08
JPS6360558B2 JPS6360558B2 (ja) 1988-11-24

Family

ID=14759612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11936281A Granted JPS5821893A (ja) 1981-07-31 1981-07-31 フレキシブルプリント配線用基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5821893A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62149981A (ja) * 1985-12-25 1987-07-03 カンボウプラス株式会社 耐熱性シ−ト
JPH02307294A (ja) * 1989-05-23 1990-12-20 Furukawa Saakitsuto Fuoiru Kk 印刷回路用銅箔
JPH0429885A (ja) * 1990-05-28 1992-01-31 Pioneer Electron Corp 情報記録媒体
US6004679A (en) * 1991-03-14 1999-12-21 General Electric Company Laminates containing addition-curable silicone adhesive compositions
JP2013128108A (ja) * 2011-12-16 2013-06-27 Prologium Holding Inc 接着剤としてのシリコン層を有するpcb構造体
CN112312647A (zh) * 2019-08-02 2021-02-02 辉能科技股份有限公司 具硅胶黏合层的电路板结构

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3010034U (ja) * 1994-10-11 1995-04-18 クリステック株式会社 ダイヤモンドソーブレード

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5448853A (en) * 1977-09-26 1979-04-17 Toshiba Silicone Organopolysiloxane curable into rubbery state
JPS5519438A (en) * 1978-07-26 1980-02-12 Mitsubishi Electric Corp Brazing method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5448853A (en) * 1977-09-26 1979-04-17 Toshiba Silicone Organopolysiloxane curable into rubbery state
JPS5519438A (en) * 1978-07-26 1980-02-12 Mitsubishi Electric Corp Brazing method

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62149981A (ja) * 1985-12-25 1987-07-03 カンボウプラス株式会社 耐熱性シ−ト
JPH02307294A (ja) * 1989-05-23 1990-12-20 Furukawa Saakitsuto Fuoiru Kk 印刷回路用銅箔
JPH0429885A (ja) * 1990-05-28 1992-01-31 Pioneer Electron Corp 情報記録媒体
JP2518954B2 (ja) * 1990-05-28 1996-07-31 パイオニア株式会社 情報記録媒体
US6004679A (en) * 1991-03-14 1999-12-21 General Electric Company Laminates containing addition-curable silicone adhesive compositions
JP2013128108A (ja) * 2011-12-16 2013-06-27 Prologium Holding Inc 接着剤としてのシリコン層を有するpcb構造体
CN112312647A (zh) * 2019-08-02 2021-02-02 辉能科技股份有限公司 具硅胶黏合层的电路板结构
JP2021027307A (ja) * 2019-08-02 2021-02-22 輝能科技股▲分▼有限公司Prologium Technology Co., Ltd. 接着剤としてのシリコーン層を有するpcb構造
CN112312647B (zh) * 2019-08-02 2022-05-06 辉能科技股份有限公司 具硅胶黏合层的电路板结构

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6360558B2 (ja) 1988-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI667292B (zh) 硬化性有機聚矽氧烷組合物及電氣、電子零件之保護劑或接著劑組合物
JP2522721B2 (ja) オルガノポリシロキサン組成物及びそのゲル硬化物
JP2614472B2 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
WO2018043270A1 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および電気・電子部品の保護剤または接着剤組成物
JPH07119366B2 (ja) 接着性シリコーン組成物
JP5345908B2 (ja) オルガノポリシルメチレン及びオルガノポリシルメチレン組成物
JPH04222871A (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPH01313565A (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPH02218755A (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
KR950009160B1 (ko) 실리콘고무 조성물
JPH0422181B2 (ja)
JP2508891B2 (ja) シリコ―ンゴム組成物及びその硬化物
JPS6334901B2 (ja)
JP3048241B2 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPS5821893A (ja) フレキシブルプリント配線用基板の製造方法
JPS6348902B2 (ja)
JP3983333B2 (ja) 付加反応硬化型オルガノポリシロキサン組成物
WO2020145249A1 (ja) 付加硬化型自己接着性シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム硬化物
JP3102284B2 (ja) 接着性シリコーン組成物
WO2021065990A1 (ja) フロロシリコーンゴム積層体の製造方法およびフロロシリコーンゴム積層体
JP2547135B2 (ja) シリコーン複合体の製造方法
US5346723A (en) Method for curing organosiloxane compositions in the presence of cure inhibiting materials
JP6580371B2 (ja) 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物および電気・電子機器
JP2974229B2 (ja) フルオロシリコ−ンゴム組成物
JP3020382B2 (ja) オルガノポリシロキサン組成物