JPS58162848A - 分析炉 - Google Patents
分析炉Info
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- JPS58162848A JPS58162848A JP58022964A JP2296483A JPS58162848A JP S58162848 A JPS58162848 A JP S58162848A JP 58022964 A JP58022964 A JP 58022964A JP 2296483 A JP2296483 A JP 2296483A JP S58162848 A JPS58162848 A JP S58162848A
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- furnace
- analytical
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B17/00—Furnaces of a kind not covered by any preceding group
- F27B17/02—Furnaces of a kind not covered by any preceding group specially designed for laboratory use
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N31/00—Investigating or analysing non-biological materials by the use of the chemical methods specified in the subgroup; Apparatus specially adapted for such methods
- G01N31/12—Investigating or analysing non-biological materials by the use of the chemical methods specified in the subgroup; Apparatus specially adapted for such methods using combustion
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- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は分析装置、％に分析炉に関するものである。
物質試料を制御された温度および槙境条件の下で試験す
るために多種類の分析炉が開発されてきた。このような
炉は例えば灰融解試験を行なうために使用される。すな
わち、灰試料を炉内に挿入し、炉内の温度を上昇させ、
試料を観察して灰の樵々の変形温度を決定する。 １つの周知の分析装置は一般に円筒形の炉を含み、この
炉は炉室を画定しかつ炉室と連通する開口を有する床を
含むものである。この分析装置はさらに試料支持用プラ
ットホームを含み、このプラットホームは炉床開口と同
心整合しかつプラットホームが炉内に配置されるところ
の分析位置と、プラットホームが炉の下方（配置される
ところの装荷位置との間で垂直方向に移動可能である。 プラットホームは装荷および除荷することが比較的困難
である。すなわち、プラットホームは装荷位置にあると
きでも炉の直下方に配置される。したかつ
るために多種類の分析炉が開発されてきた。このような
炉は例えば灰融解試験を行なうために使用される。すな
わち、灰試料を炉内に挿入し、炉内の温度を上昇させ、
試料を観察して灰の樵々の変形温度を決定する。 １つの周知の分析装置は一般に円筒形の炉を含み、この
炉は炉室を画定しかつ炉室と連通する開口を有する床を
含むものである。この分析装置はさらに試料支持用プラ
ットホームを含み、このプラットホームは炉床開口と同
心整合しかつプラットホームが炉内に配置されるところ
の分析位置と、プラットホームが炉の下方（配置される
ところの装荷位置との間で垂直方向に移動可能である。 プラットホームは装荷および除荷することが比較的困難
である。すなわち、プラットホームは装荷位置にあると
きでも炉の直下方に配置される。したかつ
【、試料をプ
ラットホーム上に置きまたプラットホームから堆り去る
ためＫは、炉の下Ｋ、さらに詳述すると降下プラットホ
ームと炉床との間に手を伸ばさなければならない。 分析装置の後部分における炉および試料プラットホーム
の典盤的配置は試料処理をさらに複雑にしている。 抵抗形の分析炉は炉壁中を通って炉室内へ延在する複数
の電気発熱体を含む。通常、炉は着脱可能なカバーを含
み、発熱体を収容するために要氷される開口、チャンネ
ルまたはボアのため、炉室内の空気が比較的急速に炉か
ら流出する。これは炉の温度調整を困難にしかつ炉の′
区力賛求ｔ７および分析装置の操作費を壇加す・る。 発熱体を炉内に密封するために発熱体と炉の各種部分と
の間にｊスケットが配置されてきたけれども、これらの
ガスケットは比較的に脆弱であって容易に破損される。 さらに、ガスケットは典型的にはリング形部材であり、
これは炉壁の上衣面と炉カバーとの間の唯一の固定位置
にのみ配置されうる。 上記間趙点は本発明によって解決される。本発明の一面
に従って、炉室と、プラットホームか炉室内に支持され
るところの分析位置と、プラットホームが接近を便利に
するために炉から遠隔の所に配置されるところの装荷位
置との間で移動可能な試料支持プラットホームとを含む
分析装置炉が提供される。 本発明の別の面に従って、複数の発熱体が炉中を通って
炉室内へ延在し、第一および第二のスロット機構を一定
する、第一および第二の絶縁部材が発熱体の各種部分を
協同的に受入れ、この構造により発熱体が貫通する点に
おける炉壁を介する熱損失が大幅に低減される。好適実
施態様では、第一のスロット１ｆｓ構と第二のスロット
４！Ｉ構は互に角配向される。スロットは互に角配向さ
れているため、第一の部材の一部分が第二のスロット機
構の露出部分を通る空気流を制限し、同様に第二の部材
の部分が第一のスロット機構の露出部分を通る空気流を
制限する。 炉の熱損失が低減されるので、炉室内の温度はより精密
に調整することができ、かつ炉の電力要求量が低減され
る。 本発明のこれらおよび他の目的、利点および特徴を工以
下の説明ならびに添付図面を参照することによってさら
によく理解されるであろう。 本発明の好適実施態様に従って構成された分析装置炉が
図面ＫＩＯで示されている。第１．２図に見られるよう
に、分析装置ＩＯはハウジングまたはキャビネット１２
、ハウジング内に支持されかつ炉ＵｔＳ（第３図）を画
定する炉１４を含む。 分析装重炉はまた試料ペデスタル１６およびペデスタル
輸込機構ｉｓ （第２．５．６図）を含む。 複数の加熱体加（第３図）が炉室内に配置されかつ試料
のｌｉ！ｉＩ解のための熱を供給するために制御される
。 ハウジング１２ （第１．２図）は水平の作業区域ムを
固定する長方形台ηを含む。主電力スイッチ２ｂ（第１
図が台ご内に配置されて炉の主電力制御を与える。キー
ボード２８（％−１，２図）は 乙上に装着されかつ台
から恢′方かつ上方に傾斜させられ、ディスプレイパネ
ルＩかキーボードに隣接して白々かも垂直上方に延在し
かつディスプレイ諺な含む。円弧状のペデスタル隔ｉｉ
［壁あがディスプレイパネルｌからハウジング１２０側
面あまで延在する。第２図に見られるように、壁真に円
のＡセグメントの円弧状横断面を有する。炉キャビネッ
ト蕊がキーボード公、ディスプレイパネル加および隔室
壁あの上方に支持されかつ煙りガラス前窓４０を含む。 キャビネットあは一般に垂直でありかつ本技術分野の通
常の知識を有する者には周知の方法で炉１４を支持して
いる。 炉１４ （第１．３図）は円筒形の外側壁詔な有し、円
形の床４２と炉床伺が炉の下部分を構成している。床４
２と炉床利は環状部材であり、狭い部分４６ ｍと広い
部分４６ ｂを有する攻付きメア４６を画定している。 床４２の上表面は円形凹部またはボケツ）５０を画定し
、この中に炉床４４が配置されている。ホケット（資）
の直径は炉床Ｉの外径と大体同一であり、床４２と炉床
４４が密接に嵌合するようになっている。さらに、床４
２は横状***部５２を画定し、この***部は後述するよ
うに９４１１壁を床４２の中央に置く、管状ボア８は軸
方向ボア４６ Ｋ Ｉｔ直に床部材Ｃ中を通って半径方
向に延在し、ついで床４２と炉床Ｉ中を通って上方に延
在して炉室１５と遅過している。担体または反応ガスは
加圧ガス源をボア５４に取り付けることによって炉室１
５に導入される。 炉の儒をは外肯うイナ聞、中間ライナ印、内側ライナ心
および発熱体支持体−な含む。同心配置のライナ聞、印
、心はすべて円筒形でありかつ互に密接嵌合するように
寸法を定められている。内−ｊライナ心の内径は炉室１
５の横限界を画定しかつ中間ライナ舶の内極および炉床
Ｉの外径と実質的に等しい外径を有する。同様に、中間
ライナ印は外側ライナ郭の内径と実質的に等しい外径を
有する。外側ライナ詔はさらに下部、・・状凹部（資）
と上部壌状凹部困を画定し、外側ライナを炉１４の他の
部品に対して同心に配置している。外−ライナ聞は床部
材４２上に配置され、除起［５２が凹部圀中に密接嵌合
して床４２を外側ライナに対して同心に配置している。 中間ライナωは炉床４４とｍＭｋｆ！に合しかつ***部
５２上に位置している。最後に、内側ライナ成は炉床４
４主に位置している０円筒形の、半径方向に延在するボ
ア７０は観察孔の役目をし、２イナ詔、印、成を頁通し
、かつ炉室内の試料を特に加熱中績察するための手段を
与えている。 炉側壁の頂部には砿状支持部材關があり、この支持部材
は外側ライナ聞および床４２の外径に実質的に等しい外
径を有する。支持部材図は下方に延在する横状***部７
２を有し、この***部はポケット簡の直径に＊質的に等
しい外径を有する。支持部材６４（第４図も参照）は外
負２イナ詔上に位置し、***部７２がポヶッ）６８内に
配置されて支持部材を外側ライナと同心にしている。支
持部材−の内径は内側ライナ成の内径と実質的に同一で
ある。支持部材例の上表面７４は平坦でありかつ６対の
離間した発熱鉢受は入れチャンネル７６ａ、；６ｂを含
む。６対のチャンネル７６ｍ、７６ｂは互に平行に配向
されかつ支持部材４の外衣面７８から内六面−まで延在
する。さらに、６対のチャンネル７６ａ、７６ｂはチャ
ンネル間を延在する支持部材間の半径に平行に延在する
。 ガスケツトドは発熱体支持部材−の潰上に配置されかつ
支持部材−と実質的に等しい外径を有する。さらに、カ
バー８４がガスケット圏上に位置しかつガスケツ）８２
と実質的に等しい外径を有する。頂部プラグ８６は円筒
形部材であり、その拡大上部円筒形部分８８が縮小下部
円筒形部分９０に一体に接合されている。下部分冊の外
径はガスケツ）Ｄの内径に実質的に等しく、拡大部分冊
の外極はカバー８４の内極に実質的に等しい。したがっ
て、プラグ８６は力ヵ−８４およびガスづ・ット８２と
密接歌合しかつガスケット上に位置している。 炉はまた加熱体スペーサ９２（第３．４図）を含み、ス
ペーサ９２は円筒形部材であり、支持部材間の内径に実
質的に等しい外径およびプラグ８６の下部分９０の外径
ＫＷ質的に等しい直径の軸方向に延在するボア９３を有
する。スペーサ９２は６対のスロット９４を含み、６対
のスロット９４畠、９４ｂはスペーサを垂直に貫通しか
つスペーサの外表面から内方に貫通している。６対のス
ロツ） ９４ｍ、 ９４ｂはスペーサ９２に関して半径
方向に細長くかつ支持部材ｌのチャンネル７６ｇ＋、７
６ｂとそれぞれ整合するように配置されている。さらに
、６対のスロツ） ９４ｍ、９４ｂは相互にかつそれら
の間を延在するスペーサ９２０半径に平行である。 口１プ９５が６対のスロット９４ｍ、 ９４ｂによって
一定されている。 横状の炉室カバー９６は中間ライナ印の内径に実質的に
等しい外径を有し、その中央ボア９９はプラグ間の下部
分９０の外径に実質的に等しい直径を有する。カバー９
６は内側ライナーの櫃状頂表面上に位置しかつその直上
に配置されたスペーサ９２を支持している。カバーＭ家
平坦部材でありかつこれを貫通する６つの均等に離間し
た細長いスロット９８（第３図）を含む。各スロツ、ト
郭はスペーサ９２の一対のスロット９４ａ、９４ｂの下
方に配置され、細長いＵ字形加熱体が細長いスロット対
９４ａ、 ９４ｂおよびこれとｊｌｉ ＋ｔｉ整合した
スロット９８を通して下方へ挿入されるようになってい
る。スロット９４と９８はそれらの縦軸が角関係に配−
Ｊされシ好適実施態様で、は直角をなしている。第３図
に見られるように、スペーサ９２の各ロープ９５は加熱
体加の脚部博聞の関連スロット９８の中央部分を実質的
におおっている。 複数の加熱体２０（第３．４図）は炉室１５中へ下方に
延在する。加熱体かは市販のものであり、好適にはニケ
イ化モリブデンから製作されている諸加熱体かは一対の
平行脚部１（）Ｌｌａ、ＩＩ）Ｕｂを含む 字形部材で
あり、これらの脚部は支持部材間のチャンネル７６ａ、
７６ｂ中を水平に通り、スペーサ９２のスロツ） ９４
ａ、 ９４ｂおよびカバー％のスロツ）９８中を下方へ
通って炉室１５中へ延在する。加熱体４１は周知の方法
で電力源１４４（２）１０図）から電力を与えられてｆ
ｇｔｓ内に熱−を発生する。 第４図に見られるよう罠、チャンネル１６およびスロツ
）９４．９８は加熱体加の脚部向を密接に受け入れるよ
うに寸法を定められている。かくして、胸部１００ａ、
１（２）ｂの外径はチャンネル７６およびスロット９４
の幅と実質的に同一である。ざらに、脚部１（Ｋｌ ａ
と＋ｔＭｌ ｂ間の外間隔はカバー％中に形成された接
疎方向に延在するスロット９８と冥質的に同一である。 スペーサ９２とカバー９６はそれにより協同して加熱体
Ｊを炉１４内ＫＩ！對し、空気が加熱体脚部１１）Ｕａ
、１曲ｂＫ沿って上方へ流れるのを制限する。もちろん
、炉１４を構成する部材のおのおのおよび部材１６はア
ルミナのような適当な耐火セラミック材料から作られて
いる。 試料支持ペデスタル１６（第１．３図）は円筒形基底部
分１０２およびこれに一体に接合されかつこれから上方
に延在する狭い円筒形プラットホーム部分１０４を含む
。水平に延在する試料プラットホーム１０６はペデスタ
ル１６の上表面である。ペデスタル１６はアルミニウム
カップ１０８ 内に支持され、カップ１０８は一般にカ
ップ状の譲状部材である。 ペデスタル輸送機＠ｔＳ（第５．６図）はロッドレスシ
リンダ１１０およびこれにピボット結合された支持プレ
ート１１２を含む。シリンダ１１０はイリノイ州エルム
ハースト（Ｅｌｍｈｕｒｓｔ）のオリがコーボレーシｖ
ｉ ｙ （Ｏｒｉｇａ Ｃｏｐｏｒａｆｌｏｎ）からタ
イプ２００／ａｌとして市販されているものである。 シリンダ１１０はブラケット１１３によってハウジング
１２の一面あに固着されている（１２図参照）。 シリンダ１１０は垂直方向に移動可能な要素１１４を一
体に含み、要素１１４はシリンダの高さに沿って上下に
移動する。Ｌ字形ブラケット１１６は二またに分かれた
脚部１１８を有し、脚部１１８はポル） １２０を使用
して移動可能要素１１４に固着されている。脚部１１８
からブラケット１１６の水平脚部１２２が延在する。支
持プレート１１２はピボットビン１２４で脚部１２２上
に水平配向をなしてピボット支持された平坦部材である
。かくして、支持プレート１１２はピン１２４の垂直軸
線を中心として水平平面内で自由に回動することができ
る。作業プラットホーム１３０（第１．２．５図）はね
じを使用して部材１１２にこれをおおう関係で固着され
ている。プラットホーム１３０は一体前面１３１を含み
、この前面は部材１１２およびこれによって支持された
部材１３０．１６を手動で回動させるためのハンドル１
３３を支持している。駆動シャ７ ） １２６は部材１
３０を介して支持プレート１１２中に支持され、支持プ
ｖ、−） １１２の下側に固着された電気モータ１２８
で駆動される。カップ１０８は駆動シャフト１２６の端
上にこれと共に回転するように支持されている。したが
って、モータ１２８が作動させられると、駆動シャフト
１２６はカップ１０８およびペデスタル１６を回転させ
る。この回転製作は試料の均一加熱および試料中の最小
温度勾配を確実にする。センサ１３２はカップ１０８に
隣接して作業プラットホーム１３０シに装着されてカッ
プの回転位置を検出する。センサ１３２の構造および動
作については本願と同日付けで出願された米国特許出願
第２１５５．１７１号に許述されている。 第２．８．９図は作業プラットホーム１３０シたがって
試料プラットホーム１０６の移動を所定水平平面および
所定喬直麿に制限するための案内機構を示す。隔富壁詞
は水平みぞ１３４ｍと、側面あに近接しかつ水平みぞ１
３４ｍと遅過する垂直みぞ１３４ｂとを含むみそ機構１
３４を含む。スタッドまたは突起１３８が作業プラット
ホーム１３０からみぞ１３４中へ延在する。スタッド１
３８はみぞ１３４中でのみ移動し、これらは共に作業プ
ラットホーム１３０およびその上に支持された試料プラ
ットホーム１０６の移動を所定水平平面に分った移動の
みまたは庚定垂直線に沿った移動のみに制限する遅動装
置の役目をする。スタッド１３８がみぞ１３４ｂ中に配
置されているときには、ペデスタル１６はボア荀および
炉１４と同心整合し、したがってペデスタル１６が上方
へ移動させられるとき、それは第３図に見られるように
炉１４内へ移動する。スタッド１３８がみぞ１３４中で
移動するとき、ペデスタル１６は３つの基本位置へかつ
３つの基本位置間で移動させられ−る。分析位置は第３
図に示されており、この位置においてペデスタル１６は
ボア４６と垂直または同心整合しかつ炉ｍ１５内へ完全
に挿入されている。この位置において、試料プラットホ
ーム１０６は観察孔７０と整合した炉室１５の中央部分
に配置されて〜・くる。スタッド１３８がみぞ１３４ｂ
中を下方に移動すると、シリンダ１１０の作動によって
ペデスタル１６は炉１４かも第２．７図に示された不作
動位置へ押出され、この位置においてペデスタルは炉と
垂直整合しているが、試料プラットホーム１０６は炉の
下方に配置されかつこれと整合している。スタッド１３
８がみぞ１３４鳳中を移動してみそ１３４ｂから遠ざか
ると、ペデスタル１６はｔ７１！Ｊ１図に示された装荷
位１（第２図に破線で示され℃いる）へ水平に回動させ
られ、この位置において試料プラットホーム１０６は炉
１４から出てその下方に配置されている。かくして、円
筒炉１４が下方に延長された場合、この仮想延長部は装
荷位置にあるペデスタル１６のどの部分も通過しないこ
とになる。 第１０図は適当なインターフェイス回路を含むコンピュ
ータ１４０を使用する分析装置のコントロールシステム
を示す。コンピュータはキーボード公から指令信号を受
信するためにキーボードに結合され、ディスプレイｎ、
ペデスタルモータ１２８、ガス制御装置１４２および発
熱体電力源１４４ＫＭ合された出力ボートを有し、゛こ
れらへ適当な制御信号を送る。コンピュータはここで記
載されるように炉を制御するために通常の要領でプログ
ラムを組み込まれている。ガス辿ｊ碑装に１４２はボア
５４（第３図参照）にガスを導入するためのソレノイド
パルプのような任意の周知装置であり、電力源１４４は
加熱体か（第３図）へ電流を送給する。 分′＃装置炉１０が操作されるべきときＫは、分析中炉
室１５内に維持されるべき温度および環境に関する所望
情報がキーボード公を介してコンピュータ１４０にエン
トリされる。ペデスタル１６・は第１図に示された装荷
位ｗ（第２図に破線で示されている）へ移動させられ、
この位置においてプラットホーム１０６は、プラットホ
ームハンドル１３３を把持してプラットホームを前方へ
回動させることによって、炉１４から出てその下方に配
置されている。分析されるべき試料がついでプラットホ
ーム１０６上に置かれる。随意的には試料はプラットホ
ーム１０６上に置かれた試料トレイ中に置かれる。つい
でオペレータはノ・ンドル１３３を把持しかつ作業プラ
ットホーム１３０をピボットビン１２４を中心として回
動させ、この結果ペデスタル１６が第２．７図に示され
たその作動位置へ水平に移動させられ、プラットホーム
１０６が炉１４と垂直整合して炉の下方に配置される。 部材１３０がそのように回動させられると、スタッド１
３８は水平みぞ１３４１中を第８図に示された位置まで
移動する。オペレータがアップ・ダウンスイッチ器を押
すとシリンダは要素１１４を上方へ移動させ、これによ
り作業プラットホーム１３０およびペデスタル１６が第
３図に示された分析位置へ運び上げられる。スタッド１
３８桟ペデスタル１６がその作動位置へ回動させられて
スタッド１３ｇが第８図に示されたように配置されるま
で、ペデスタル１６が上方へ移動させられないことを保
址する。同様に、ペデスタル１６が上方移動な開始して
スタッド１３８がみぞ１３４ｂに入ると、作業プラット
ホーム１３０およびペデスタル１６は装荷位置の方へ前
方に回動させることかできない。 ペデスタル１６が分析位置へ完全に上昇させられた後、
コンピュータ１４０はガス制御装置１４２、ペデスタル
モータ１２８および電力源１４４へ適切な信号を発出し
てオペレータが選択した所望の温度、槙境およびペデス
タル回転を生ずる。コンピュータ１４０は分析中これら
の制御信号を変更してペデスタル１６を押出することな
く炉室１５内の温度または、！ｊ！境を震えることもで
きる。プラットホーム１０６上の試料の状態は試料分析
中ｆｌｉｌ花祭孔およびガラス４０を通して観察されう
る。 分析の児了かコンピュータ１４０によって決定されたと
き、信号がガス制御装置１４２および電力源へ発出され
て炉Ｍｌｂ内へのガスの導入を終結するとともに加熱体
加への電力な切る。冷却時期後、オペレータはアップ・
ダウンスイッチ羽を作動させてシリンダを制御し、これ
により要素１１４がシリンダ１１０に旧って下方へ移動
し、ペデスタル１６を第２．７図に示された下位置すな
わち不作動位置に運送する。スベレータはついでハンド
ル１３３を把持して作業プラットホーム１３０を回転さ
せ、これによりペデスタル１６は第１図に示された装荷
位置（＃２図に破森で示されている）へ水平に移動する
。プラットホーム１０６上の試料はついで目視検査され
、次の処理のために除去される。 発熱体Ｊは一部協同スペーサ９２およびカバー９６によ
って炉１４内に絶縁密封されている。部材９２．９６は
協同して発熱体ＪＫｒ８って炉１４から出る空気流を低
減する。スロット９４と９８は角配向され、脚部】圓ａ
と１圓す間のスロットの部分が部材９２上のロープ９５
の１つによっておおわれるようになっている。さらに、
スペーサ９２は発熱体側を炉室１５内に均等に離間配置
する役をする。 発熱体」がなんらかの理由で交換されなければならない
場合には、プラグ８６、カバー８４およびガスケット圏
が厳重に炉１４から除去される。つい１′交換されるべ
き発熱体が電力源１４４から分離され、ついで交換され
るべき発熱体が電力源１４４かも分離され、ついでスペ
ーサ９２が支持部財団から上方へ引出される。ついで交
換されるべき発熱体側か部材９６から上方へ引出され、
その際発熱体は扁連スロット９８を通って出る。ついで
新発熱体が空になったスロット９８を通して挿入されか
つ支持部材４の関連チャンネル７６ａ、７６ｂ中に位に
させられる。ついでスペーサ９２が発熱体側のＩｔＱｌ
ｌ（３）と整合したスロット９４に再挿入される。つい
でガスケット８２が発熱体側を支持部材閤内ＫＶ！封す
るために再配置される。カバー８４およびプラグ８６も
また内配置される。 以上の説明は本発明の好適実施態様の説明を意図したも
のであることか坤解されるべきである。特許請求の範囲
で規定された本発明の精神およびより広い面から離脱す
ること−なく種々の変化や変更がなされうる。
ラットホーム上に置きまたプラットホームから堆り去る
ためＫは、炉の下Ｋ、さらに詳述すると降下プラットホ
ームと炉床との間に手を伸ばさなければならない。 分析装置の後部分における炉および試料プラットホーム
の典盤的配置は試料処理をさらに複雑にしている。 抵抗形の分析炉は炉壁中を通って炉室内へ延在する複数
の電気発熱体を含む。通常、炉は着脱可能なカバーを含
み、発熱体を収容するために要氷される開口、チャンネ
ルまたはボアのため、炉室内の空気が比較的急速に炉か
ら流出する。これは炉の温度調整を困難にしかつ炉の′
区力賛求ｔ７および分析装置の操作費を壇加す・る。 発熱体を炉内に密封するために発熱体と炉の各種部分と
の間にｊスケットが配置されてきたけれども、これらの
ガスケットは比較的に脆弱であって容易に破損される。 さらに、ガスケットは典型的にはリング形部材であり、
これは炉壁の上衣面と炉カバーとの間の唯一の固定位置
にのみ配置されうる。 上記間趙点は本発明によって解決される。本発明の一面
に従って、炉室と、プラットホームか炉室内に支持され
るところの分析位置と、プラットホームが接近を便利に
するために炉から遠隔の所に配置されるところの装荷位
置との間で移動可能な試料支持プラットホームとを含む
分析装置炉が提供される。 本発明の別の面に従って、複数の発熱体が炉中を通って
炉室内へ延在し、第一および第二のスロット機構を一定
する、第一および第二の絶縁部材が発熱体の各種部分を
協同的に受入れ、この構造により発熱体が貫通する点に
おける炉壁を介する熱損失が大幅に低減される。好適実
施態様では、第一のスロット１ｆｓ構と第二のスロット
４！Ｉ構は互に角配向される。スロットは互に角配向さ
れているため、第一の部材の一部分が第二のスロット機
構の露出部分を通る空気流を制限し、同様に第二の部材
の部分が第一のスロット機構の露出部分を通る空気流を
制限する。 炉の熱損失が低減されるので、炉室内の温度はより精密
に調整することができ、かつ炉の電力要求量が低減され
る。 本発明のこれらおよび他の目的、利点および特徴を工以
下の説明ならびに添付図面を参照することによってさら
によく理解されるであろう。 本発明の好適実施態様に従って構成された分析装置炉が
図面ＫＩＯで示されている。第１．２図に見られるよう
に、分析装置ＩＯはハウジングまたはキャビネット１２
、ハウジング内に支持されかつ炉ＵｔＳ（第３図）を画
定する炉１４を含む。 分析装重炉はまた試料ペデスタル１６およびペデスタル
輸込機構ｉｓ （第２．５．６図）を含む。 複数の加熱体加（第３図）が炉室内に配置されかつ試料
のｌｉ！ｉＩ解のための熱を供給するために制御される
。 ハウジング１２ （第１．２図）は水平の作業区域ムを
固定する長方形台ηを含む。主電力スイッチ２ｂ（第１
図が台ご内に配置されて炉の主電力制御を与える。キー
ボード２８（％−１，２図）は 乙上に装着されかつ台
から恢′方かつ上方に傾斜させられ、ディスプレイパネ
ルＩかキーボードに隣接して白々かも垂直上方に延在し
かつディスプレイ諺な含む。円弧状のペデスタル隔ｉｉ
［壁あがディスプレイパネルｌからハウジング１２０側
面あまで延在する。第２図に見られるように、壁真に円
のＡセグメントの円弧状横断面を有する。炉キャビネッ
ト蕊がキーボード公、ディスプレイパネル加および隔室
壁あの上方に支持されかつ煙りガラス前窓４０を含む。 キャビネットあは一般に垂直でありかつ本技術分野の通
常の知識を有する者には周知の方法で炉１４を支持して
いる。 炉１４ （第１．３図）は円筒形の外側壁詔な有し、円
形の床４２と炉床伺が炉の下部分を構成している。床４
２と炉床利は環状部材であり、狭い部分４６ ｍと広い
部分４６ ｂを有する攻付きメア４６を画定している。 床４２の上表面は円形凹部またはボケツ）５０を画定し
、この中に炉床４４が配置されている。ホケット（資）
の直径は炉床Ｉの外径と大体同一であり、床４２と炉床
４４が密接に嵌合するようになっている。さらに、床４
２は横状***部５２を画定し、この***部は後述するよ
うに９４１１壁を床４２の中央に置く、管状ボア８は軸
方向ボア４６ Ｋ Ｉｔ直に床部材Ｃ中を通って半径方
向に延在し、ついで床４２と炉床Ｉ中を通って上方に延
在して炉室１５と遅過している。担体または反応ガスは
加圧ガス源をボア５４に取り付けることによって炉室１
５に導入される。 炉の儒をは外肯うイナ聞、中間ライナ印、内側ライナ心
および発熱体支持体−な含む。同心配置のライナ聞、印
、心はすべて円筒形でありかつ互に密接嵌合するように
寸法を定められている。内−ｊライナ心の内径は炉室１
５の横限界を画定しかつ中間ライナ舶の内極および炉床
Ｉの外径と実質的に等しい外径を有する。同様に、中間
ライナ印は外側ライナ郭の内径と実質的に等しい外径を
有する。外側ライナ詔はさらに下部、・・状凹部（資）
と上部壌状凹部困を画定し、外側ライナを炉１４の他の
部品に対して同心に配置している。外−ライナ聞は床部
材４２上に配置され、除起［５２が凹部圀中に密接嵌合
して床４２を外側ライナに対して同心に配置している。 中間ライナωは炉床４４とｍＭｋｆ！に合しかつ***部
５２上に位置している。最後に、内側ライナ成は炉床４
４主に位置している０円筒形の、半径方向に延在するボ
ア７０は観察孔の役目をし、２イナ詔、印、成を頁通し
、かつ炉室内の試料を特に加熱中績察するための手段を
与えている。 炉側壁の頂部には砿状支持部材關があり、この支持部材
は外側ライナ聞および床４２の外径に実質的に等しい外
径を有する。支持部材図は下方に延在する横状***部７
２を有し、この***部はポケット簡の直径に＊質的に等
しい外径を有する。支持部材６４（第４図も参照）は外
負２イナ詔上に位置し、***部７２がポヶッ）６８内に
配置されて支持部材を外側ライナと同心にしている。支
持部材−の内径は内側ライナ成の内径と実質的に同一で
ある。支持部材例の上表面７４は平坦でありかつ６対の
離間した発熱鉢受は入れチャンネル７６ａ、；６ｂを含
む。６対のチャンネル７６ｍ、７６ｂは互に平行に配向
されかつ支持部材４の外衣面７８から内六面−まで延在
する。さらに、６対のチャンネル７６ａ、７６ｂはチャ
ンネル間を延在する支持部材間の半径に平行に延在する
。 ガスケツトドは発熱体支持部材−の潰上に配置されかつ
支持部材−と実質的に等しい外径を有する。さらに、カ
バー８４がガスケット圏上に位置しかつガスケツ）８２
と実質的に等しい外径を有する。頂部プラグ８６は円筒
形部材であり、その拡大上部円筒形部分８８が縮小下部
円筒形部分９０に一体に接合されている。下部分冊の外
径はガスケツ）Ｄの内径に実質的に等しく、拡大部分冊
の外極はカバー８４の内極に実質的に等しい。したがっ
て、プラグ８６は力ヵ−８４およびガスづ・ット８２と
密接歌合しかつガスケット上に位置している。 炉はまた加熱体スペーサ９２（第３．４図）を含み、ス
ペーサ９２は円筒形部材であり、支持部材間の内径に実
質的に等しい外径およびプラグ８６の下部分９０の外径
ＫＷ質的に等しい直径の軸方向に延在するボア９３を有
する。スペーサ９２は６対のスロット９４を含み、６対
のスロット９４畠、９４ｂはスペーサを垂直に貫通しか
つスペーサの外表面から内方に貫通している。６対のス
ロツ） ９４ｍ、 ９４ｂはスペーサ９２に関して半径
方向に細長くかつ支持部材ｌのチャンネル７６ｇ＋、７
６ｂとそれぞれ整合するように配置されている。さらに
、６対のスロツ） ９４ｍ、９４ｂは相互にかつそれら
の間を延在するスペーサ９２０半径に平行である。 口１プ９５が６対のスロット９４ｍ、 ９４ｂによって
一定されている。 横状の炉室カバー９６は中間ライナ印の内径に実質的に
等しい外径を有し、その中央ボア９９はプラグ間の下部
分９０の外径に実質的に等しい直径を有する。カバー９
６は内側ライナーの櫃状頂表面上に位置しかつその直上
に配置されたスペーサ９２を支持している。カバーＭ家
平坦部材でありかつこれを貫通する６つの均等に離間し
た細長いスロット９８（第３図）を含む。各スロツ、ト
郭はスペーサ９２の一対のスロット９４ａ、９４ｂの下
方に配置され、細長いＵ字形加熱体が細長いスロット対
９４ａ、 ９４ｂおよびこれとｊｌｉ ＋ｔｉ整合した
スロット９８を通して下方へ挿入されるようになってい
る。スロット９４と９８はそれらの縦軸が角関係に配−
Ｊされシ好適実施態様で、は直角をなしている。第３図
に見られるように、スペーサ９２の各ロープ９５は加熱
体加の脚部博聞の関連スロット９８の中央部分を実質的
におおっている。 複数の加熱体２０（第３．４図）は炉室１５中へ下方に
延在する。加熱体かは市販のものであり、好適にはニケ
イ化モリブデンから製作されている諸加熱体かは一対の
平行脚部１（）Ｌｌａ、ＩＩ）Ｕｂを含む 字形部材で
あり、これらの脚部は支持部材間のチャンネル７６ａ、
７６ｂ中を水平に通り、スペーサ９２のスロツ） ９４
ａ、 ９４ｂおよびカバー％のスロツ）９８中を下方へ
通って炉室１５中へ延在する。加熱体４１は周知の方法
で電力源１４４（２）１０図）から電力を与えられてｆ
ｇｔｓ内に熱−を発生する。 第４図に見られるよう罠、チャンネル１６およびスロツ
）９４．９８は加熱体加の脚部向を密接に受け入れるよ
うに寸法を定められている。かくして、胸部１００ａ、
１（２）ｂの外径はチャンネル７６およびスロット９４
の幅と実質的に同一である。ざらに、脚部１（Ｋｌ ａ
と＋ｔＭｌ ｂ間の外間隔はカバー％中に形成された接
疎方向に延在するスロット９８と冥質的に同一である。 スペーサ９２とカバー９６はそれにより協同して加熱体
Ｊを炉１４内ＫＩ！對し、空気が加熱体脚部１１）Ｕａ
、１曲ｂＫ沿って上方へ流れるのを制限する。もちろん
、炉１４を構成する部材のおのおのおよび部材１６はア
ルミナのような適当な耐火セラミック材料から作られて
いる。 試料支持ペデスタル１６（第１．３図）は円筒形基底部
分１０２およびこれに一体に接合されかつこれから上方
に延在する狭い円筒形プラットホーム部分１０４を含む
。水平に延在する試料プラットホーム１０６はペデスタ
ル１６の上表面である。ペデスタル１６はアルミニウム
カップ１０８ 内に支持され、カップ１０８は一般にカ
ップ状の譲状部材である。 ペデスタル輸送機＠ｔＳ（第５．６図）はロッドレスシ
リンダ１１０およびこれにピボット結合された支持プレ
ート１１２を含む。シリンダ１１０はイリノイ州エルム
ハースト（Ｅｌｍｈｕｒｓｔ）のオリがコーボレーシｖ
ｉ ｙ （Ｏｒｉｇａ Ｃｏｐｏｒａｆｌｏｎ）からタ
イプ２００／ａｌとして市販されているものである。 シリンダ１１０はブラケット１１３によってハウジング
１２の一面あに固着されている（１２図参照）。 シリンダ１１０は垂直方向に移動可能な要素１１４を一
体に含み、要素１１４はシリンダの高さに沿って上下に
移動する。Ｌ字形ブラケット１１６は二またに分かれた
脚部１１８を有し、脚部１１８はポル） １２０を使用
して移動可能要素１１４に固着されている。脚部１１８
からブラケット１１６の水平脚部１２２が延在する。支
持プレート１１２はピボットビン１２４で脚部１２２上
に水平配向をなしてピボット支持された平坦部材である
。かくして、支持プレート１１２はピン１２４の垂直軸
線を中心として水平平面内で自由に回動することができ
る。作業プラットホーム１３０（第１．２．５図）はね
じを使用して部材１１２にこれをおおう関係で固着され
ている。プラットホーム１３０は一体前面１３１を含み
、この前面は部材１１２およびこれによって支持された
部材１３０．１６を手動で回動させるためのハンドル１
３３を支持している。駆動シャ７ ） １２６は部材１
３０を介して支持プレート１１２中に支持され、支持プ
ｖ、−） １１２の下側に固着された電気モータ１２８
で駆動される。カップ１０８は駆動シャフト１２６の端
上にこれと共に回転するように支持されている。したが
って、モータ１２８が作動させられると、駆動シャフト
１２６はカップ１０８およびペデスタル１６を回転させ
る。この回転製作は試料の均一加熱および試料中の最小
温度勾配を確実にする。センサ１３２はカップ１０８に
隣接して作業プラットホーム１３０シに装着されてカッ
プの回転位置を検出する。センサ１３２の構造および動
作については本願と同日付けで出願された米国特許出願
第２１５５．１７１号に許述されている。 第２．８．９図は作業プラットホーム１３０シたがって
試料プラットホーム１０６の移動を所定水平平面および
所定喬直麿に制限するための案内機構を示す。隔富壁詞
は水平みぞ１３４ｍと、側面あに近接しかつ水平みぞ１
３４ｍと遅過する垂直みぞ１３４ｂとを含むみそ機構１
３４を含む。スタッドまたは突起１３８が作業プラット
ホーム１３０からみぞ１３４中へ延在する。スタッド１
３８はみぞ１３４中でのみ移動し、これらは共に作業プ
ラットホーム１３０およびその上に支持された試料プラ
ットホーム１０６の移動を所定水平平面に分った移動の
みまたは庚定垂直線に沿った移動のみに制限する遅動装
置の役目をする。スタッド１３８がみぞ１３４ｂ中に配
置されているときには、ペデスタル１６はボア荀および
炉１４と同心整合し、したがってペデスタル１６が上方
へ移動させられるとき、それは第３図に見られるように
炉１４内へ移動する。スタッド１３８がみぞ１３４中で
移動するとき、ペデスタル１６は３つの基本位置へかつ
３つの基本位置間で移動させられ−る。分析位置は第３
図に示されており、この位置においてペデスタル１６は
ボア４６と垂直または同心整合しかつ炉ｍ１５内へ完全
に挿入されている。この位置において、試料プラットホ
ーム１０６は観察孔７０と整合した炉室１５の中央部分
に配置されて〜・くる。スタッド１３８がみぞ１３４ｂ
中を下方に移動すると、シリンダ１１０の作動によって
ペデスタル１６は炉１４かも第２．７図に示された不作
動位置へ押出され、この位置においてペデスタルは炉と
垂直整合しているが、試料プラットホーム１０６は炉の
下方に配置されかつこれと整合している。スタッド１３
８がみぞ１３４鳳中を移動してみそ１３４ｂから遠ざか
ると、ペデスタル１６はｔ７１！Ｊ１図に示された装荷
位１（第２図に破線で示され℃いる）へ水平に回動させ
られ、この位置において試料プラットホーム１０６は炉
１４から出てその下方に配置されている。かくして、円
筒炉１４が下方に延長された場合、この仮想延長部は装
荷位置にあるペデスタル１６のどの部分も通過しないこ
とになる。 第１０図は適当なインターフェイス回路を含むコンピュ
ータ１４０を使用する分析装置のコントロールシステム
を示す。コンピュータはキーボード公から指令信号を受
信するためにキーボードに結合され、ディスプレイｎ、
ペデスタルモータ１２８、ガス制御装置１４２および発
熱体電力源１４４ＫＭ合された出力ボートを有し、゛こ
れらへ適当な制御信号を送る。コンピュータはここで記
載されるように炉を制御するために通常の要領でプログ
ラムを組み込まれている。ガス辿ｊ碑装に１４２はボア
５４（第３図参照）にガスを導入するためのソレノイド
パルプのような任意の周知装置であり、電力源１４４は
加熱体か（第３図）へ電流を送給する。 分′＃装置炉１０が操作されるべきときＫは、分析中炉
室１５内に維持されるべき温度および環境に関する所望
情報がキーボード公を介してコンピュータ１４０にエン
トリされる。ペデスタル１６・は第１図に示された装荷
位ｗ（第２図に破線で示されている）へ移動させられ、
この位置においてプラットホーム１０６は、プラットホ
ームハンドル１３３を把持してプラットホームを前方へ
回動させることによって、炉１４から出てその下方に配
置されている。分析されるべき試料がついでプラットホ
ーム１０６上に置かれる。随意的には試料はプラットホ
ーム１０６上に置かれた試料トレイ中に置かれる。つい
でオペレータはノ・ンドル１３３を把持しかつ作業プラ
ットホーム１３０をピボットビン１２４を中心として回
動させ、この結果ペデスタル１６が第２．７図に示され
たその作動位置へ水平に移動させられ、プラットホーム
１０６が炉１４と垂直整合して炉の下方に配置される。 部材１３０がそのように回動させられると、スタッド１
３８は水平みぞ１３４１中を第８図に示された位置まで
移動する。オペレータがアップ・ダウンスイッチ器を押
すとシリンダは要素１１４を上方へ移動させ、これによ
り作業プラットホーム１３０およびペデスタル１６が第
３図に示された分析位置へ運び上げられる。スタッド１
３８桟ペデスタル１６がその作動位置へ回動させられて
スタッド１３ｇが第８図に示されたように配置されるま
で、ペデスタル１６が上方へ移動させられないことを保
址する。同様に、ペデスタル１６が上方移動な開始して
スタッド１３８がみぞ１３４ｂに入ると、作業プラット
ホーム１３０およびペデスタル１６は装荷位置の方へ前
方に回動させることかできない。 ペデスタル１６が分析位置へ完全に上昇させられた後、
コンピュータ１４０はガス制御装置１４２、ペデスタル
モータ１２８および電力源１４４へ適切な信号を発出し
てオペレータが選択した所望の温度、槙境およびペデス
タル回転を生ずる。コンピュータ１４０は分析中これら
の制御信号を変更してペデスタル１６を押出することな
く炉室１５内の温度または、！ｊ！境を震えることもで
きる。プラットホーム１０６上の試料の状態は試料分析
中ｆｌｉｌ花祭孔およびガラス４０を通して観察されう
る。 分析の児了かコンピュータ１４０によって決定されたと
き、信号がガス制御装置１４２および電力源へ発出され
て炉Ｍｌｂ内へのガスの導入を終結するとともに加熱体
加への電力な切る。冷却時期後、オペレータはアップ・
ダウンスイッチ羽を作動させてシリンダを制御し、これ
により要素１１４がシリンダ１１０に旧って下方へ移動
し、ペデスタル１６を第２．７図に示された下位置すな
わち不作動位置に運送する。スベレータはついでハンド
ル１３３を把持して作業プラットホーム１３０を回転さ
せ、これによりペデスタル１６は第１図に示された装荷
位置（＃２図に破森で示されている）へ水平に移動する
。プラットホーム１０６上の試料はついで目視検査され
、次の処理のために除去される。 発熱体Ｊは一部協同スペーサ９２およびカバー９６によ
って炉１４内に絶縁密封されている。部材９２．９６は
協同して発熱体ＪＫｒ８って炉１４から出る空気流を低
減する。スロット９４と９８は角配向され、脚部】圓ａ
と１圓す間のスロットの部分が部材９２上のロープ９５
の１つによっておおわれるようになっている。さらに、
スペーサ９２は発熱体側を炉室１５内に均等に離間配置
する役をする。 発熱体」がなんらかの理由で交換されなければならない
場合には、プラグ８６、カバー８４およびガスケット圏
が厳重に炉１４から除去される。つい１′交換されるべ
き発熱体が電力源１４４から分離され、ついで交換され
るべき発熱体が電力源１４４かも分離され、ついでスペ
ーサ９２が支持部財団から上方へ引出される。ついで交
換されるべき発熱体側か部材９６から上方へ引出され、
その際発熱体は扁連スロット９８を通って出る。ついで
新発熱体が空になったスロット９８を通して挿入されか
つ支持部材４の関連チャンネル７６ａ、７６ｂ中に位に
させられる。ついでスペーサ９２が発熱体側のＩｔＱｌ
ｌ（３）と整合したスロット９４に再挿入される。つい
でガスケット８２が発熱体側を支持部材閤内ＫＶ！封す
るために再配置される。カバー８４およびプラグ８６も
また内配置される。 以上の説明は本発明の好適実施態様の説明を意図したも
のであることか坤解されるべきである。特許請求の範囲
で規定された本発明の精神およびより広い面から離脱す
ること−なく種々の変化や変更がなされうる。
第１図は試料装荷、除荷位置に示された本発明に係る分
析装＊ｒの斜視図である。 第２図は炉が破線で示された分析装置の平面図である。 第３図は炉の垂直断面図である。 第４図は第３図のＷ−Ｎ平面に沿って取られた炉の断面
図である。 第５図は試料ペデスタルを支持する昇降０回動機構の側
面図である。 第６図は試料ペデスタル、センサ、作業プラットホーム
を取り外して支持プラットホームの２位置を示す第５図
の機構の平面−である。 第７図は不作動位置にある試料ペデスタルの部分側面図
である。 第８図は！ｓ２図の■−■−に沿って蝦られた部分断面
図である。 第９図は第８図に示された構造の部分平面図である。 第１θ図は炉の制御回路を示すブロック電気回路図であ
る。 １０ ・・・ 分析装置炉 １２ ・・・ ハウジング １４−・炉 １５−・ 炉室 １６ −・ 試料ペデスタル 加 −・ 発熱体 器、あ−・スイッチ 昂 ・・・ キーボード （資）・・・ ディスプレイパネル 〜 ・−・ ディスプレイ 謔 ・・・ 炉キャビネット 伺 ・・・ 炉床 ８ ・・・ ボア 詔、印、６２・・・２イナ ６４ −・・ 支持部材 ７０ ・・・ Ｗ察孔 ７６ ・・・ チャンネル 羽 ・・・ ガスケット あ ・・・ カバー ８６ ・・・ プラグ ９２・・・スペーサ ％ ・・・スロット ％ ・・・ カバー 憾 −・スロット １００ −発熱体脚部 １０６−・・試料プラットホーム １０８ ・・・アルオニつムカッグ １１０ −・ シリンダ １１４−・移動可能費素 １１６ ・・・・Ｌ字形プクケット １２４ ・・・ ピボットビン １２６−・・駆動シャフト １２８ ・・・電気モータ １８０−・・作業プラットホーム １９２・−センナ １３８−・ ハンドル １Ｂ４ −・・ みぞ １３８ −・ スタッド １４０ ・・・ コンピュータ １４２ ・・・ ガス制御装置 １４４ −・電力源
析装＊ｒの斜視図である。 第２図は炉が破線で示された分析装置の平面図である。 第３図は炉の垂直断面図である。 第４図は第３図のＷ−Ｎ平面に沿って取られた炉の断面
図である。 第５図は試料ペデスタルを支持する昇降０回動機構の側
面図である。 第６図は試料ペデスタル、センサ、作業プラットホーム
を取り外して支持プラットホームの２位置を示す第５図
の機構の平面−である。 第７図は不作動位置にある試料ペデスタルの部分側面図
である。 第８図は！ｓ２図の■−■−に沿って蝦られた部分断面
図である。 第９図は第８図に示された構造の部分平面図である。 第１θ図は炉の制御回路を示すブロック電気回路図であ
る。 １０ ・・・ 分析装置炉 １２ ・・・ ハウジング １４−・炉 １５−・ 炉室 １６ −・ 試料ペデスタル 加 −・ 発熱体 器、あ−・スイッチ 昂 ・・・ キーボード （資）・・・ ディスプレイパネル 〜 ・−・ ディスプレイ 謔 ・・・ 炉キャビネット 伺 ・・・ 炉床 ８ ・・・ ボア 詔、印、６２・・・２イナ ６４ −・・ 支持部材 ７０ ・・・ Ｗ察孔 ７６ ・・・ チャンネル 羽 ・・・ ガスケット あ ・・・ カバー ８６ ・・・ プラグ ９２・・・スペーサ ％ ・・・スロット ％ ・・・ カバー 憾 −・スロット １００ −発熱体脚部 １０６−・・試料プラットホーム １０８ ・・・アルオニつムカッグ １１０ −・ シリンダ １１４−・移動可能費素 １１６ ・・・・Ｌ字形プクケット １２４ ・・・ ピボットビン １２６−・・駆動シャフト １２８ ・・・電気モータ １８０−・・作業プラットホーム １９２・−センナ １３８−・ ハンドル １Ｂ４ −・・ みぞ １３８ −・ スタッド １４０ ・・・ コンピュータ １４２ ・・・ ガス制御装置 １４４ −・電力源
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 炉室を一定し、下部分が前記炉室と連通する開口を
有する囲い； 分析されるべき試料を支持するプラットホーム； 前記プラットホームが前記開口を通って延在しかつ前記
炉室内に配置されるところの上昇分析位置と、前記プラ
ットホームおよびその上に支持された試料が炉の下方に
配置されるところの下降位置との間で前記プラットホー
ムを移動させるための第一の機構； 館記炉の下方の下降位置と、前記プラットホーム上の試
料の装荷および除荷を容易にするために前記プラットホ
ームが前記炉との■直整合から外れた所に配置されると
ころの達隔懺荷位置との間で前記プラットホームの移動
を可能にする機構； からなる分析炉。 ２ 第一の移動機構が、垂直に移動可能な要素を含むシ
リンダおよび前記要素を前記プラットホームに結合する
機構からなる特許請求の範囲！１項記載の分析炉。 ３ 移動を可能にする機構が要素に結合されている特許
請求の範囲第２項記載の分析炉。 ４ 移動を可能にする機＠Ｌ】プラットホームを垂直軸
を中心として回動させる機構からなる特許請求の範囲第
３．１ＪＬ記載の分析炉。 ５ プラットホームが下降位置の上方にあるとき下降位
−と装荷位置との間のプラットホームの水平移動を防止
する連動機構を含む特許請求の範囲第４項記載の分析炉
。 ６ 連動機構が、プラットホームに隣接しかつ適合みぞ
を含む壁と、プラットホームの１つから前記みぞ中へ延
在する従節機構とからなり、前記プラットホームが前記
みぞで決定されたパターン中でのみ移動できるようにし
た＃ｆｆ１ｌｉｌ求の範囲第５項記載の分析炉。 ７ みぞがプラットホームの移動を垂直移動かまたは水
平移動に制限するためＫＬ字形である特許請求の範囲第
６項記載の分析炉。 ８ 室を含む炉壁； 一端で接合された一対の細長い離間脚部を含むＵ字形発
熱体； 前記端および陣間脚部が貫通する細長いスロットを画定
し、前記脚部の縦軸線と前記スロットの縦軸線とが直交
関係になるようにする第一の絶縁部材； カｊｌｆ；１ｙｉ１２１１１ｆＰ文ＩＦＦ：ｉ−’；Ｈ
ａとｉｓ二のスロットを有し、前記第二のスロットの縦
軸線と前記脚部の縦軸−とが平行になるようにする第二
の絶縁部材； かうなる分析炉。 ９ 炉室を画定し、下部分が前記炉室と連通する開口を
有する囲い； 分析されるべき試料を支持するプラットホーム； 前記プラットホームが前記開口を通って延在しかつ前記
炉室内に配置されるところの上昇分析位置と、前記プラ
ットホームおよびその上に支持された試料が炉の下方に
配置されるところの下降位置との間で前記プラットホー
ムを移動させるための第一の機構； 前記炉の下方の下降位置と、前記プラット申−五上の試
料の装荷および除荷を容易にするために前記プラットホ
ームが前記炉との垂直整合から外れた所に配置されると
ころの遠隔装荷位置との間で前記プラットホームの移動
を可能にする機構； 一端で接合された一対の細長い離間脚部を含むＵ字形発
熱体； ｒ３ｉＩ記端および離間脚部が負通ずる細長いスロット
を含み、前記ａｉ４１部の縦軸線と前記スロットの蛙＠
線とが直交関係になるようにしかつ前記脚部が前記炉室
内で延在するように前記囲いにｚＪシて配置された第一
の絶縁部材；前記第一の絶縁部材に隣接して延在しかつ
前記脚部を受は入れるための離間した第二のスロットを
有し、前記第二のスロットの縦軸線と前記脚部の縦軸線
とが平行になるようにする第二の絶縁部材； からなる分析炉。 ｔＯ炉室と連通する開口を有する下部分を含む。 前記炉室を画定する壁機構； 分析されるべき試料を支持するプラットホーム； 前記プラットホームが前記炉室内に配置されるところの
上昇分析位置と、前記プラットその ホームおよび１に支持された試料が前記炉の下方に配置
されるところの下降位置との間で前記プラットホームを
喬直に移動させる機構； 前記下降位置と、前記プラットホームの装荷および除荷
な容易にするために前記プラットホームが前記壁機構と
の垂直整合から外れた所に配置されるところの装荷位置
との間で前記プラットホームを水平に移動させる機構； からなる分析炉。 １１ 垂直移動８！桝が喬直移動可能なｊｉ！素を含
むロッドレスシリンダからなる特許請求の範囲第１０項
記載の分析炉。 Ｕ 水平移＃ＪＪ機構が１直移動可能なｇｉ隼上に作動
支持されている特許請求の範囲第１１項記載の分析炉。 １３ 水平移動機構がプラットホームを垂直軸を中心
として回動させる機構からなる特許請求の範囲第１２項
記載の分析炉。 １４ 水平移動機構が―直接動機構上に作動支持され
ている特許請求の範囲第１０項記載の分析炉。 １５ 水平移動機構がプラットホームを垂直軸を中心
として回動させる機構からなる特許請求の範囲第１４項
記載の分析炉。 １６ 水平移動機構がプラットホームを垂直軸を中心
として回動させる機構からなる特許請求の範囲第１０項
記載の分析炉。 １７ プラット小−人が垂直軸を中心として回転可能
である特許請求の範囲第１Ｏ項記載の分析炉。 １８ 装荷位置と下降位置との間のプラットホームの
水平移動を制限しかつ下降位置と分析位置との間のプラ
ットホームの垂直移動を制限する機構を具備する特許請
求の範囲第１θ項記載の分析炉。 １９ 制限機構が、みぞを画定する機構と、移動機構
の１つから前記みぞ中へ延在する従節とからなり、前記
従節が前記みぞ中でのみ移動できるようにした特許請求
の範囲第１８項記載の分析炉。 ２０１つの移動機構が水平移動機構からなる特許請求の
範囲第１９項記載の分析炉。 η 室を画定しかつ前記室と連通する開口を有する床を
含む炉： 垂直に移動可能な要素； 実質的に水平の平面内で回動するように前記移動可能な
ｇ！素にピボット装着された回動可能なＪｊ！！素； 前記回動可能な要ｌＡＫよって作動支持された試料支持
プラットホーム； を具備し、前記回動可能な要素および移動可能な要素を
第一の位置へ移動させることＫよって前記プラットホー
ムが前記室内の分析位置へ移動させられるよさにしかつ
前記回動可能なｊＩＩ素および移動可能なＩｌ！素を第
二の位置へ移動させることによって前記プラットホーム
が前記炉の下方のかつ前記炉の垂直延長点ｆ）外貴の装
荷位置へ移動させられるようにした、ことを特徴とする
分析装置。 乙無直に移動可能なｌ！素を支持するロッドレスシリン
ダを具備する特許請求の範囲第２１項記載の分析装置。 お プラットホームが垂直軸を中心として回転可能であ
る特許請求の範囲第η項記載の分析装置。 別 プラットホームの特定垂直線への垂直移動を制限し
かつプラットホームの特定水平面への水平移動を制限す
る機構を具備する特許請求の範囲第５項記載の分析装置
。 δ 制限機構が、みぞと、回動可能な要素から前記みぞ
中へ延在するスタッドとからなり、′＃記スタッドが前
記みぞ中でのみ移動できるようＫした特許請求の範囲ｌ
ｌＡ２４項記載の分析装置。 ２６ 室を画定する壁機構； 前記壁ａ構を通って前記室中へ延在しかつ一対の離間脚
部を含む複数の発熱体； 前記脚部を受は入れかつ複数の細長い第一のスロット機
構を含む第一の絶縁部材を具備し、加熱体の１つが前記
第一のスロット機構のおのおのを通って延在していると
と；前記第一の絶縁部材に隣接しかつ複数の対の細長い
第二のスロット機構を一定する第二の絶縁部材を具備し
、前記離間脚部の対の１つが前記第二のスロット機構の
対のおのおのを通って延在し、前記第二のスロット機構
の各対が前記第一の絶縁部材の第一のスロット機構の１
つに対して内配置されて前記発熱体まわりの熱損失を低
減するようにしたこと；からなる分析炉。 ご 第一の絶縁部材が実質的に円筒形であり、第一のス
ロット機構のおのおのが第一の絶縁部材の半径に対して
撫直に配向されている特許請求の範囲第か項記載の分析
炉。 あ 第二のスロット機構の対のおのおのが実質的に平行
である特許請求の範囲第漢項または第ｎ項記載の分析炉
。 ２９８ｇ二の絶縁部材が実質的に円筒形であり、第二の
スロット機構の対のおのおのが、縦方向ｒ（かつ第二の
スロット機構の前記各対間を延在する第二の絶縁部材の
半径に平行な方向に横方向内方に延在する特許請求の範
囲第あ項記載の分析炉。 加 壁恰栴は横断面が実質的に円形であり、第一および
第二の絶縁部材もまた横断面が実質的に円形であって壁
機構と密接嵌合するようにした特許請求の範囲第６項記
載の分析炉。 ３１ 第二のスロット機構の対のおのおのが関連する
第一のスロット機構に実質的Ｋｍ直である％Ｗ！ｆ請求
の範囲第か項記載の分析炉。 ３２ 第一のスロット機構のおのおのが、これを通っ
て延在する発熱体を密接に受は入れるように寸法を定め
られている特許請求の範囲第加須記載の分析炉。 ３３ 第二の絶縁部材が、発熱体の離間脚部の各対間
で第一のスロット機構の実質的に全部をおおっている特
許請求の範囲第か項または第凋項紀載の分析炉。 真 室を画定する一Ｐ壁； 一対の離間脚部を含む発熱体； 前記離間脚部が貫通する細長いスロットを画定する第一
の絶縁部材； 前記細長いスロットを介する熱損失を量減するために前
記離間脚部間で前記スロットの一部分をおおう機構； かうなる分析炉。 ３５ 第一の絶縁部材が複数の細長いスロットを画定
し、発熱体の１つが前記スロットの１つを通って延在し
、おおう機構が離間脚部間で前記スロットのおのおのの
一部分をおおっている特許請求の範囲第あ項記載の分析
炉。 あ スロットのおのおのがＦ！Ａ遅する発熱体を密接に
受は入れているｔＰ！ｆ肝錆求の範囲第掴項記載の分析
炉。 ３７ 各部分が一対の関ａｍ部間の実質的に全距離か
らなる特許請求の範囲第掴項記載の分ゼ「炉。 あ おおり機構が、離間脚部の対の１つ間をそれぞれ延
在する複数のローブを含む第二の絶縁部材からなる特許
請求の範囲第あ項記載の分析炉。 ３９ 炉は実質的に円筒形であり、第一および籐二の
絶縁部Ｉは横断面が実質的に内形であってｐ・と密接に
嵌合している特許請求の範囲第３８ｍ記載の分析炉。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/355,213 US4462963A (en) | 1982-03-05 | 1982-03-05 | Analytical furnace |
| US355213 | 1982-03-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58162848A true JPS58162848A (ja) | 1983-09-27 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP58022964A Pending JPS58162848A (ja) | 1982-03-05 | 1983-02-16 | 分析炉 |
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| JP (1) | JPS58162848A (ja) |
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| GB (1) | GB2116321A (ja) |
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