JPS58127324A - 電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成装置Info
- Publication number
- JPS58127324A JPS58127324A JP966882A JP966882A JPS58127324A JP S58127324 A JPS58127324 A JP S58127324A JP 966882 A JP966882 A JP 966882A JP 966882 A JP966882 A JP 966882A JP S58127324 A JPS58127324 A JP S58127324A
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- Japan
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- data
- arithmetic processing
- electron beam
- beam exposure
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は電子ビーム露光装置のための描画デ−夕を作成
する電子ビーム露光装置の描画データ作成装置に関する
。
する電子ビーム露光装置の描画データ作成装置に関する
。
発明の技術的背景とその問題点
電子ビーム露光装置で必要とする描画データを作成する
処理において、特に集積回路用の描画データの場合には
、集積回路の集積度が近年−ますます増加している。た
とえば１００万図形もの描画データを作成する場合があ
る。このような大賞データを電子ビーム露光装置が所望
とする形式の描画データに変換するための処理には、膨
大な処理時間を要し、数時間になってしまう。
処理において、特に集積回路用の描画データの場合には
、集積回路の集積度が近年−ますます増加している。た
とえば１００万図形もの描画データを作成する場合があ
る。このような大賞データを電子ビーム露光装置が所望
とする形式の描画データに変換するための処理には、膨
大な処理時間を要し、数時間になってしまう。
一方、描画データが用意された後の電子ビーム露光装置
における描画時間は年々高速化され、最近では数分乃至
数１０分と速°〈なっている。
における描画時間は年々高速化され、最近では数分乃至
数１０分と速°〈なっている。
このため、電子ビーム露光装置のための描画データ作成
が集積回路製造工程におけるメトルネックになシつつあ
る。
が集積回路製造工程におけるメトルネックになシつつあ
る。
発明の目的
本発明は上記した事情に鑑みてなされたもので、電子ビ
ーム露光装置に供給するための描画データを作成するの
に必要なデータ変換時間を著しく短縮して大幅な能率向
上を図り得る電子ビーム露光装置のための描画データ作
成装置を提供することを目的とする。
ーム露光装置に供給するための描画データを作成するの
に必要なデータ変換時間を著しく短縮して大幅な能率向
上を図り得る電子ビーム露光装置のための描画データ作
成装置を提供することを目的とする。
発明の概要
本発明の描画データ作成装置は、演舞処理装置を複数の
演算処理機器によυ構成し、描画ツヤターンを複数の区
画に分け、各区画毎のパターンデータのデータ変換処理
を独立して並列に処理して処理時間を減少させておシ、
さらに各区画の配置位置を指定すると共に同一データと
なる複数の区画については１区画だけデータ変換して変
換データを複数の区画で使用することを可能としておシ
、処理すべき・ｆターンデータ数を飛躍的に減少させる
ことを特徴としてお夛、これによって処理時間の高速化
を実現できる。
演算処理機器によυ構成し、描画ツヤターンを複数の区
画に分け、各区画毎のパターンデータのデータ変換処理
を独立して並列に処理して処理時間を減少させておシ、
さらに各区画の配置位置を指定すると共に同一データと
なる複数の区画については１区画だけデータ変換して変
換データを複数の区画で使用することを可能としておシ
、処理すべき・ｆターンデータ数を飛躍的に減少させる
ことを特徴としてお夛、これによって処理時間の高速化
を実現できる。
発明の実施例
以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例に係る電子ビーム露光装置の
描画データ作成装置を示している。
描画データ作成装置を示している。
図において、１は描画ノｆターンデータを入力するため
の例えば磁気テープ等のオンラインストレージ１１や磁
気ディスク等のオフラインストレージ１！を有する描画
ツヤター７７″−タ入力機器、２は電子ビーム露光装置
の描画データ作成を高速に処理するために描画パターン
の区画分割方法を指定すると共に、所望とする描画デー
タを得るために分割された各区画をどのように配置する
かという配置位置情報とを指定するための例えばグラフ
ィック端末装置２１やカード読取装置２１等を有する区
画分割指定機器、３は後述する演算処理装置４からの変
換結果データを一旦記録しておき電子ビーム露光装置３
３の描画データ作成装置へ上記記録したデータ変換結果
を供給するための例えば磁気ディスク等のオンラインス
トレージ３！や磁気テープ等のオフラインストレージ３
１を含む変換結果データ出力機器である。また、上記電
子ビーム露光装置３３は前記演算処理装置４からの変換
結果データに基づいて直接所望の・リーンを描画するよ
うに用いられる場合もある。そして、演算処理装置４は
、入力されるｉＪ？ターンデータに対して必要なデータ
変換を行なうためのものであシ、複数の演算処理器４１
〜４ｓおよび作業用記憶機器４・のほか、これらの演算
処理器４１〜４１１％作業用記憶機器４・と前記描画パ
ターンデータ入力機器１、区画分割指定機器２、変換結
果データ出力機器３との間でデータの入出力を制御する
コントローラ４丁を含んでいる。
の例えば磁気テープ等のオンラインストレージ１１や磁
気ディスク等のオフラインストレージ１！を有する描画
ツヤター７７″−タ入力機器、２は電子ビーム露光装置
の描画データ作成を高速に処理するために描画パターン
の区画分割方法を指定すると共に、所望とする描画デー
タを得るために分割された各区画をどのように配置する
かという配置位置情報とを指定するための例えばグラフ
ィック端末装置２１やカード読取装置２１等を有する区
画分割指定機器、３は後述する演算処理装置４からの変
換結果データを一旦記録しておき電子ビーム露光装置３
３の描画データ作成装置へ上記記録したデータ変換結果
を供給するための例えば磁気ディスク等のオンラインス
トレージ３！や磁気テープ等のオフラインストレージ３
１を含む変換結果データ出力機器である。また、上記電
子ビーム露光装置３３は前記演算処理装置４からの変換
結果データに基づいて直接所望の・リーンを描画するよ
うに用いられる場合もある。そして、演算処理装置４は
、入力されるｉＪ？ターンデータに対して必要なデータ
変換を行なうためのものであシ、複数の演算処理器４１
〜４ｓおよび作業用記憶機器４・のほか、これらの演算
処理器４１〜４１１％作業用記憶機器４・と前記描画パ
ターンデータ入力機器１、区画分割指定機器２、変換結
果データ出力機器３との間でデータの入出力を制御する
コントローラ４丁を含んでいる。
第２図は上記装置においてメモリ集積回路の描画データ
を得るためにデータ変換する場合の区画分割の一例を示
しておシ、この例を参考にして上記装置の動作を説明す
る。この例では、２個のメモリアレイＭＡとセンスアン
ｆｓムとアドレス回路ＡＣとを含む描画パターン全体が
第２図（ｂ）に示すように２４種類の区画に分割されて
データ変換が打衣われている。即ち、先ず描画・９タ一
ンデータ入力機器１から描画・母ターンデータを演算処
理装置４に入力させると共に、上記描画データの区画分
割情報とその配置位置情報とを区画分割指定機器２から
演算処理装置４に入力させる。演算処理装置４のコント
ローラ４７は、これらの描画・９ターンデータと区画分
割方法指定情報とを受けとりて各区画別Ｋｆｉ立して描
画パターンデータを演算処理機器４１〜４ｓに送出する
。演算処理機器４１〜４ｓａ、これら各区画別の描画パ
ターンデータを独立して並列にデータ変換処理を行なう
。この変換されたデータは、配置位置情報に基づいて各
区画別に作業用記憶機器４・に一時記憶され、必要に応
じてコントローラ４７を通じて変換結果データ出力機器
３に送出される。この時、コントローラ４７は前記指定
機器２から受けとっていえ各区画が描画ノ母ターンのど
Ｏ位置に配置するかを指定する配置位置情報に基いて送
出制御を行なうものであシ、これＫよりて所望とする描
画データを出力する。出力機器３で杜、これらの変換デ
ータをストレージ’１ｅＪ１に記憶したり、あるいは変
換結果データ（描画データ）に基づき直接に電子ビーム
露光装置３１で所望の描画Ｉリーンを作成する。
を得るためにデータ変換する場合の区画分割の一例を示
しておシ、この例を参考にして上記装置の動作を説明す
る。この例では、２個のメモリアレイＭＡとセンスアン
ｆｓムとアドレス回路ＡＣとを含む描画パターン全体が
第２図（ｂ）に示すように２４種類の区画に分割されて
データ変換が打衣われている。即ち、先ず描画・９タ一
ンデータ入力機器１から描画・母ターンデータを演算処
理装置４に入力させると共に、上記描画データの区画分
割情報とその配置位置情報とを区画分割指定機器２から
演算処理装置４に入力させる。演算処理装置４のコント
ローラ４７は、これらの描画・９ターンデータと区画分
割方法指定情報とを受けとりて各区画別Ｋｆｉ立して描
画パターンデータを演算処理機器４１〜４ｓに送出する
。演算処理機器４１〜４ｓａ、これら各区画別の描画パ
ターンデータを独立して並列にデータ変換処理を行なう
。この変換されたデータは、配置位置情報に基づいて各
区画別に作業用記憶機器４・に一時記憶され、必要に応
じてコントローラ４７を通じて変換結果データ出力機器
３に送出される。この時、コントローラ４７は前記指定
機器２から受けとっていえ各区画が描画ノ母ターンのど
Ｏ位置に配置するかを指定する配置位置情報に基いて送
出制御を行なうものであシ、これＫよりて所望とする描
画データを出力する。出力機器３で杜、これらの変換デ
ータをストレージ’１ｅＪ１に記憶したり、あるいは変
換結果データ（描画データ）に基づき直接に電子ビーム
露光装置３１で所望の描画Ｉリーンを作成する。
ｔた、メモリアレイＭＡとセンスアンプ８ムについては
それぞれ区画３と５のデータの繰シ返しであル、前記演
算処理装置４では配置位置情報に基いて上記のような複
数区画で同一〇／中ターンデータに対しては一区画分（
−回）だけデータ変換する。従りて、メモリアレイＭＡ
については区画３が３０回繰シ返しているので、変換す
る・ヤターンデータ数社％。に減少し、センスアンプ８
Ａについては区画５が５回縁シ返しているので、変換す
るノナターンデータ数はイに減少する。このような同一
データの区画処ｌＩ祉コント■−ラ４テにて制御してい
る。従って、区画分割の方法唸できるだけ同一データと
なる区画が多く発生するように設定することが好ましい
。
それぞれ区画３と５のデータの繰シ返しであル、前記演
算処理装置４では配置位置情報に基いて上記のような複
数区画で同一〇／中ターンデータに対しては一区画分（
−回）だけデータ変換する。従りて、メモリアレイＭＡ
については区画３が３０回繰シ返しているので、変換す
る・ヤターンデータ数社％。に減少し、センスアンプ８
Ａについては区画５が５回縁シ返しているので、変換す
るノナターンデータ数はイに減少する。このような同一
データの区画処ｌＩ祉コント■−ラ４テにて制御してい
る。従って、区画分割の方法唸できるだけ同一データと
なる区画が多く発生するように設定することが好ましい
。
上述しえよつな電子ビーム露光装置の描画ｒ−タ作成装
置において、描画データを作成すゐ丸めに必要なデータ
変換の所要時間の概算式は次の通９である。但し、演算
処理装置４が複数の演算処理機器を保持するために高速
化される機能の概算については、単純に実装される演算
処理機器の機器数分の１になるものとしている。
置において、描画データを作成すゐ丸めに必要なデータ
変換の所要時間の概算式は次の通９である。但し、演算
処理装置４が複数の演算処理機器を保持するために高速
化される機能の概算については、単純に実装される演算
処理機器の機器数分の１になるものとしている。
変換所要時間の概算式は次式で示される。
私
ここで、Ｔは従来の電子ビーム露光装置の描画データ作
成所要時間 ７Ｆは本発明の電子ビーム露光装置の描画
データ作成所要時間、１紘繰シ返し利用される分割区画
によって減少する全体描画ノ４ターン数に対する変換す
るΔターン数の割合、Ｍは演算処理装置に実装される演
算処理機器の機器数である。
成所要時間 ７Ｆは本発明の電子ビーム露光装置の描画
データ作成所要時間、１紘繰シ返し利用される分割区画
によって減少する全体描画ノ４ターン数に対する変換す
るΔターン数の割合、Ｍは演算処理装置に実装される演
算処理機器の機器数である。
したがって、第２図に示し九メモリ集積回路の・ｆター
ンデータを本装置を用いてデータ変換する場合の変換所
要時間は前式（１）より１７士−ＬｘＴ となる。
ンデータを本装置を用いてデータ変換する場合の変換所
要時間は前式（１）より１７士−ＬｘＴ となる。
００
但し、演算処理機器数舅をｒｌｅＪ、減少する変換ノリ
ーン数の割合にとしてメモリアレイＭムがイ。で、セン
スアンプ８ムが％であるが平均してイ◎としている。す
なわち、本装置にて第２図のメモリ集積回路のノリーン
データをデータ変換すれば、変換所要時間は従来のオ◎
０に短縮できる。
ーン数の割合にとしてメモリアレイＭムがイ。で、セン
スアンプ８ムが％であるが平均してイ◎としている。す
なわち、本装置にて第２図のメモリ集積回路のノリーン
データをデータ変換すれば、変換所要時間は従来のオ◎
０に短縮できる。
つま）、上記電子ビーム露光装置の描画データ作成装置
によれば、データ変換すべき−り一ンデータ数を数分の
１から数１０分の１に減らすことｋよりて、描画データ
作成の所要時間が数分の１から数１０分の１に短縮でき
るばかシでなく、さらに加えて分割され九各区画内に含
まれるノターンテータのデータ変換処理を各区画を独立
して並列に処理するととｋよって、単純には演算４６１
１鋏置４に実装される演算処３！器の機器数分の１にデ
ータ変換処理が短縮される。
によれば、データ変換すべき−り一ンデータ数を数分の
１から数１０分の１に減らすことｋよりて、描画データ
作成の所要時間が数分の１から数１０分の１に短縮でき
るばかシでなく、さらに加えて分割され九各区画内に含
まれるノターンテータのデータ変換処理を各区画を独立
して並列に処理するととｋよって、単純には演算４６１
１鋏置４に実装される演算処３！器の機器数分の１にデ
ータ変換処理が短縮される。
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、従来、数時間を要す
る電子ビーム露光装置の描画−一夕作成処理の所要時間
を着しく短縮でき、大幅な能率向上を図シ得る電子ビー
ム露光装置の描画データ作成装置を提供できる。
る電子ビーム露光装置の描画−一夕作成処理の所要時間
を着しく短縮でき、大幅な能率向上を図シ得る電子ビー
ム露光装置の描画データ作成装置を提供できる。
第１図は本発明の一実施例に係る電子ビーム篇光装置の
描画データ作成装置の構成図、第２図（ａ） 、 （ｂ
）は上記装置によってデータ変換されるメモリ集積回路
のパターン例とその区画分割例を示す図である。 １・・・描画／４タ一ンデータ入力機器、２・・・区画
分割指定機器、３・・・変換結果データ出力機器、４・
・・演算処理装置、４１〜４＄・・・演算処理機器、４
ａ・・・作業用記憶機器、４７−・・コント四−ラ、３
ｓ・・・電子ビーム露光装置。
描画データ作成装置の構成図、第２図（ａ） 、 （ｂ
）は上記装置によってデータ変換されるメモリ集積回路
のパターン例とその区画分割例を示す図である。 １・・・描画／４タ一ンデータ入力機器、２・・・区画
分割指定機器、３・・・変換結果データ出力機器、４・
・・演算処理装置、４１〜４＄・・・演算処理機器、４
ａ・・・作業用記憶機器、４７−・・コント四−ラ、３
ｓ・・・電子ビーム露光装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１＞ 描画／４’ターンのデータを出力するデータ
入力機器と、前記描画・臂ターンを複数の区画に分割す
るための区画分割指定情報を出力する区画分割指定機器
と、この指定機器からの区画分割指定情報に基いて前記
データ入力機器からの描画・ぐターン入力を複数のパタ
ーンに区画し、各区画側に独立した演算処理機器によシ
所望のｒ−夕変換を行なって電子ビーム露光のために必
要な所望の描画データを得る演算処理手段とを具備する
ことを特徴とする電子ビーム露光装置の描画データ作成
装置。 （２）前記区画分割指定機器は、前記演算処理装置によ
シ分割してデータ変換された各区画を所望とする描画デ
ータ全体のどの位置に配置するかを指定する配置位置指
定情報を前記区画分割指定情報と共に前記演算処理手段
へ出力し、前記演算処理手段は上記配置位置指定情報に
基いて各区画の配置を定めて所望とする描画データを得
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子ビ
ーム露光装置の描１ＩｉＩｆ−タ作成装置。 （３）前記区画分割指定機器は、互いに同一データとな
る区画を複数個発生させるための指定を行なう区画分割
指定情報を出力し、かつ上記同一データとなる区画を所
望とする描画データ全体における複数の区画に配置する
ための配置位置指定情報を出力し、前記演算処理手段は
同一データとなる複数の区画については１区画のみのデ
ータ変換処理を行ない、この変換ｒ−タを前記配置位置
指定情報に基いて複数の区画に用いることを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の電子ビーム露光装置の描画
弁−タ作成装置０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP966882A JPS58127324A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP966882A JPS58127324A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58127324A true JPS58127324A (ja) | 1983-07-29 |
Family
ID=11726586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP966882A Pending JPS58127324A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 電子ビ−ム露光装置の描画デ−タ作成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58127324A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS637632A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Toshiba Mach Co Ltd | ビ−ム走査描画装置 |
| US5008830A (en) * | 1988-08-10 | 1991-04-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of preparing drawing data for charged beam exposure system |
| JPH04125916A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-27 | Fujitsu Ltd | データ変換処理装置 |
| JP2017168848A (ja) * | 2009-05-20 | 2017-09-21 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | デュアルパス走査 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5511303A (en) * | 1978-07-10 | 1980-01-26 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Electron-beam exposure device |
-
1982
- 1982-01-25 JP JP966882A patent/JPS58127324A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5511303A (en) * | 1978-07-10 | 1980-01-26 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Electron-beam exposure device |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS637632A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Toshiba Mach Co Ltd | ビ−ム走査描画装置 |
| US5008830A (en) * | 1988-08-10 | 1991-04-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of preparing drawing data for charged beam exposure system |
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| JP2017168848A (ja) * | 2009-05-20 | 2017-09-21 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | デュアルパス走査 |
| US10692696B2 (en) | 2009-05-20 | 2020-06-23 | Asml Netherlands B.V. | Deflection scan speed adjustment during charged particle exposure |
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