JPH11296910A - 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 トラックピッチを非常に狭くしても、トラッ
キングサーボ及びシークを安定に行うことが可能な光記
録媒体を提供する。 【解決手段】 記録トラックに沿ってグルーブを形成す
る際に、第１のグルーブと第２のグルーブとを２重螺旋
を描くように形成するとともに、これらのグルーブを、
下記式（１），式（２）及び式（３）を満たすように形
成する。なお、Ｘは第１のグルーブの位相深さ、Ｙは第
２のグルーブの位相深さである。 Ｘ≧０．３９５０−０．８３１Ｙ＋２．９３２Ｙ² ・
・・（１） Ｙ≧２．０１０−９．６６１Ｘ＋１１．７７Ｘ² ・
・・（２） Ｙ≦０．８４８０−２．４５０Ｘ＋１．８８０Ｘ² ・
・・（３）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録トラックに沿
ってグルーブが形成されてなる光記録媒体に関する。ま
た、本発明は、そのような光記録媒体を製造する際に使
用される光記録媒体製造用原盤に関する。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体として、円盤状に形成されて
なり、光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディス
クが実用化されている。このような光ディスクには、デ
ータに対応したエンボスピットがディスク基板に予め形
成されてなる再生専用光ディスクや、磁気光学効果を利
用してデータの記録を行う光磁気ディスクや、記録膜の
相変化を利用してデータの記録を行う相変化型光ディス
クなどがある。

【０００３】これらの光ディスクのうち、光磁気ディス
クや相変化型光ディスクのように書き込みが可能な光デ
ィスクでは、通常、記録トラックに沿ったグルーブがデ
ィスク基板に形成される。ここで、グルーブとは、主に
トラッキングサーボを行えるようにするために、記録ト
ラックに沿って形成される、いわゆる案内溝のことであ
る。なお、グルーブとグルーブの間の部分は、ランドと
称される。

【０００４】そして、グルーブが形成されてなる光ディ
スクでは、通常、グルーブで反射回折された光から得ら
れるプッシュプル信号に基づいて、トラッキングサーボ
がなされる。ここで、プッシュプル信号は、グルーブで
反射回折された光を、トラック中心に対して対象に配置
された２つの光検出器により検出し、それら２つの光検
出器からの出力の差をとることにより得られる。

【０００５】ところで、従来、これらの光ディスクで
は、再生装置に搭載される光ピックアップの再生分解能
を向上することで、高記録密度化を達成してきた。そし
て、光ピックアップの再生分解能の向上は、主に、デー
タの再生に使用するレーザ光の波長λを短くしたり、光
ディスク上にレーザ光を集光する対物レンズの開口数Ｎ
Ａを大きくしたりすることにより、実現されてきた。

【０００６】ここで、ＣＤ、ＭＤ、ＭＤＤａｔａ２、Ｄ
ＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭについて、データの再生に
使用するレーザ光の波長λ、対物レンズの開口数ＮＡ、
トラックピッチの値を表１に示す（ＣＤ、ＭＤ、ＭＤＤ
ａｔａ２、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＯＭは、いずれも
光ディスクの商標。）。

【０００７】

【表１】

【０００８】表１に示すように、従来の光ディスクで
は、レーザ光の波長λを短くしたり、対物レンズの開口
数ＮＡを大きくしたりすることにより、狭トラック化が
実現され、これにより、高記録密度化が達成されてい
る。

【０００９】ところで、従来の光ディスクにおいて、ト
ラックピッチは、再生装置の光ピックアップのカットオ
フ周波数の１／２〜２／３程度とされている。ここで、
カットオフ周波数とは、再生信号振幅がほぼ０となる周
波数のことであり、データの再生に使用するレーザ光の
波長をλとし、光ディスク上にレーザ光を集光する対物
レンズの開口数をＮＡとしたとき、２ＮＡ／λで表され
る。

【００１０】このようにトラックピッチがカットオフ周
波数の１／２〜２／３程度とされるのは、安定したトラ
ッキングサーボやトラックのシークを実現するために、
トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分なレベ
ルにて得られるようにする必要があるからである。

【００１１】例えば、近年の高密度光ディスクでは、ト
ラッキングエラー信号としてプッシュプル信号が用いら
れているが、トラッキングサーボを安定に行うには、プ
ッシュプル信号振幅比が０．１５程度以上である必要が
ある。また、シーク時のトラバースカウントやトラック
の半径位置検出にクロストラック信号が使用されるが、
シークを安定に行うには、クロストラック信号振幅が
０．０６程度以上である必要がある。そして、従来の光
ディスクでは、プッシュプル信号振幅比を０．１５以上
とし、且つ、クロストラック信号振幅を０．０６以上と
するには、トラックピッチをカットオフ周波数の１／２
〜２／３程度とする必要があった。

【００１２】なお、プッシュプル信号は、グルーブで反
射回折された光を、図５に示すように、トラック中心に
対して対象に配置された２つの光検出器Ａ，Ｂにより検
出し、それら２つの光検出器Ａ，Ｂからの出力の差（Ａ
−Ｂ）をとることにより得られる。また、クロストラッ
ク信号は、それら２つの光検出器Ａ，Ｂからの出力の和
（Ａ＋Ｂ）をとることにより得られる。

【００１３】そして、プッシュプル信号振幅比は、図６
に示すようにプッシュプル信号の最大振幅をＣとしたと
きに、Ｃ／Ｍmaxで表される。また、クロストラック信
号振幅比は、図６に示すようにクロストラック信号の最
大振幅をＤとしたときに、Ｄ／Ｍmaxで表される。ここ
で、Ｍmaxは、２つの光検出器Ａ，Ｂからの和信号をＭ
としたとき、当該和信号Ｍの最大値、すなわちディスク
鏡面での和信号Ｍの値を示している。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光記録媒体
の高記録密度化に対する要求はとどまるところを知ら
ず、光ディスク等の光記録媒体には更なる高記録密度化
が望まれている。光記録媒体の高記録密度化を図るに
は、例えば、隣接するグルーブの間隔を狭くして、トラ
ックピッチを狭くしてやればよい。しかしながら、従来
の光記録媒体では、トラックピッチをあまりに狭くする
と、トラッキングサーボやシークに必要な信号を十分な
レベルで得ることができなくなってしまい、安定にトラ
ッキングサーボやシークを行うことができなくなってし
まうという問題があった。

【００１５】例えば、ＭＤＤａｔａ２では、トラックピ
ッチは０．９５μｍであり、プッシュプル信号振幅比
は、０．３０程度である。この場合、プッシュプル信号
振幅比は十分に大きく、安定なトラッキングサーボが実
現可能である。しかし、ＭＤＤａｔａ２と同様な構成に
おいて、トラックピッチを０．７５μｍとすると、プッ
シュプル信号振幅比が０．０７程度にまで低下してしま
う。これでは、プッシュプル信号振幅比が小さすぎ、安
定なトラッキングサーボが実現不可能となってしまう。

【００１６】このように、従来の光記録媒体では、トラ
ックピッチをあまりに狭くすると、トラッキングサーボ
やシークに必要な信号を十分なレベルで得ることができ
なくなってしまい、安定にトラッキングサーボやシーク
を行うことができなくなってしまうという問題があっ
た。このため、従来の光記録媒体では、更なる高記録密
度化を進めることが困難であった。

【００１７】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、トラックピッチを非常に狭く
しても、安定にトラッキングサーボやシークを行うこと
ができ、更なる高記録密度化を進めることが可能な光記
録媒体を提供することを目的としている。また、本発明
は、そのような光記録媒体を製造することが可能な光記
録媒体製造用原盤を提供することも目的としている。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光記録媒体
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成され、所定の
波長λの光が照射されて記録及び／又は再生がなされる
光記録媒体であって、上記グルーブとして、第１のグル
ーブと第２のグルーブとが２重螺旋を描くように形成さ
れてなる。ここで、光入射面から第１のグルーブに至る
媒質の屈折率をｎ_xとし、第１のグルーブの深さをｘと
したときに、ｘ×ｎ_x／λで表される第１のグルーブの
位相深さをＸとする。また、光入射面から第２のグルー
ブに至る媒質の屈折率をｎ_yとし、第２のグルーブの深
さをｙとしたときに、ｙ×ｎ_y／λで表される第２のグ
ルーブの位相深さをＹとする。そして、本発明に係る光
記録媒体は、第１のグルーブ及び第２のグルーブが、下
記式（１），式（２）及び式（３）を満たすように形成
されていることを特徴とする。

【００１９】 Ｘ≧０．３９５０−０．８３１Ｙ＋２．９３２Ｙ² ・・・（１） Ｙ≧２．０１０−９．６６１Ｘ＋１１．７７Ｘ² ・・・（２） Ｙ≦０．８４８０−２．４５０Ｘ＋１．８８０Ｘ² ・・・（３） 以上のような本発明に係る光記録媒体では、第１のグル
ーブ及び第２のグルーブが、上記式（１），式（２）及
び式（３）を満たすように形成されているので、トラッ
クピッチを狭くしても、トラッキングサーボやシークに
必要な信号を十分なレベルで得ることができる。

【００２０】なお、上記光記録媒体において、第１のグ
ルーブと第２のグルーブのうちの少なくとも一方は、少
なくとも一部が蛇行するように形成されたウォブリング
グルーブであることが好ましい。このようにグルーブを
蛇行させてウォブリンググルーブとすることにより、グ
ルーブ自体にアドレス情報を付加することができる。

【００２１】また、本発明に係る光記録媒体製造用原盤
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成され所定の波
長λの光が照射されて記録及び／又は再生がなされる光
記録媒体を製造する際に使用される光記録媒体製造用原
盤である。そして、上記グルーブに対応した凹凸パター
ンとして、第１のグルーブパターンと第２のグルーブパ
ターンとが２重螺旋を描くように形成されてなる。ここ
で、上記光記録媒体の光入射面から第１のグルーブに至
る媒質の屈折率をｎ_xとし、第１のグルーブパターンの
深さをｘ'としたときに、ｘ'×ｎ_x／λで表される第１
のグルーブパターンの位相深さをＸ'とする。また、上
記光記録媒体の光入射面から第２のグルーブに至る媒質
の屈折率をｎ_yとし、第２のグルーブパターンの深さを
ｙ'としたときに、ｙ'×ｎ_y／λで表される第２のグル
ーブパターンの位相深さをＹ'とする。そして、本発明
に係る光記録媒体製造用原盤は、第１のグルーブパター
ン及び第２のグルーブパターンが、下記式（４），式
（５）及び式（６）を満たすように形成されていること
を特徴とする。

【００２２】 Ｘ'≧０．３９５０−０．８３１Ｙ'＋２．９３２Ｙ'² ・・・（４） Ｙ'≧２．０１０−９．６６１Ｘ'＋１１．７７Ｘ'² ・・・（５） Ｙ'≦０．８４８０−２．４５０Ｘ'＋１．８８０Ｘ'² ・・・（６） 以上のような本発明に係る光記録媒体製造用原盤では、
第１のグルーブパターン及び第２のグルーブパターン
が、上記式（４），式（５）及び式（６）を満たすよう
に形成されているので、この光記録媒体製造用原盤を用
いることにより、上記式（１），式（２）及び式（３）
を満たす第１のグルーブ及び第２のグルーブが形成され
てなる光記録媒体を製造することができる。したがっ
て、この光記録媒体製造用原盤によれば、トラックピッ
チを狭くしても、トラッキングサーボやシークに必要な
信号を十分なレベルで得ることが可能な光記録媒体を製
造することができる。

【００２３】なお、上記光記録媒体製造用原盤におい
て、第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターン
のうちの少なくとも一方は、少なくとも一部が蛇行する
ように形成されるウォブリンググルーブに対応した凹凸
パターンであることが好ましい。このような光記録媒体
製造用原盤によれば、ウォブリンググルーブを有する光
記録媒体を作製することができる。そして、グルーブを
蛇行させてウォブリンググルーブとすることにより、グ
ルーブ自体にアドレス情報を付加することができるの
で、第１のグルーブパターンと第２のグルーブパターン
のうちの少なくとも一方をウォブリンググルーブに対応
した凹凸パターンとした上記光記録媒体製造用原盤によ
れば、グルーブ自体にアドレス情報を付加した光記録媒
体を作製することができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の
説明では、グルーブの蛇行のことをウォブリングと称
し、ウォブリングするように形成されたグルーブのこと
をウォブリンググルーブと称する。また、ウォブリング
グルーブに対して、蛇行することなく形成されたグルー
ブのことをストレートグルーブと称する。

【００２５】＜光磁気ディスク＞本発明を適用した光磁
気ディスクについて、要部を拡大した断面図を図１に示
す。

【００２６】この光磁気ディスク１は、円盤状に形成さ
れてなり、磁気光学効果を利用してデータの記録が行わ
れる。そして、この光磁気ディスク１は、ポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）
等からなるディスク基板２上に、光磁気記録がなされる
記録層３と、当該記録層３を保護する保護層４とが形成
されてなる。ここで、記録層３は、例えば、ＳｉＮ等か
らなる誘電体膜と、ＴｅＦｅＣｏ合金等からなる垂直磁
気記録膜と、ＳｉＮ等からなる誘電体膜と、Ａｌ等から
なる反射膜とが積層されてなる。また、保護層４は、例
えば、記録層３の上に紫外線硬化樹脂がスピンコートさ
れてなる。なお、本発明において、記録層３や保護層４
の構成は任意であり、本例に限定されるものではない。

【００２７】この光磁気ディスク１は、記録領域の一部
を拡大した図２に示すように、ディスク基板２にウォブ
リンググルーブ６とストレートグルーブ７とが２重螺旋
を描くように（すなわちダブルスパイラル状に）形成さ
れており、ウォブリンググルーブ６とストレートグルー
ブ７との間のランドの部分に、光磁気記録によるデータ
の記録が行われる。

【００２８】すなわち、ウォブリンググルーブ６とスト
レートグルーブ７の間の部分であって、ディスク内周側
がストレートグルーブ７となっている部分が、情報信号
が記録される第１の記録トラックTrackＡとなり、ま
た、ウォブリンググルーブ６とストレートグルーブ７の
間の部分であって、ディスク内周側がウォブリンググル
ーブ６となっている部分が、情報信号が記録される第２
の記録トラックTrackＢとなる。

【００２９】ここで、ウォブリンググルーブ６は、±１
０ｎｍの振幅にて一定の周期で蛇行するように形成され
ている。すなわち、この光磁気ディスク１では、一方の
グルーブ（すなわちウォブリンググルーブ６）を±１０
ｎｍの振幅にてウォブリングさせることにより、グルー
ブにアドレス情報を付加している。

【００３０】なお、ここでは、ダブルスパイラル状に形
成されてなる２つのグルーブがウォブリンググルーブ６
とストレートグルーブ７とからなる例を挙げるが、本発
明に係る光記録媒体において、これらの２つのグルーブ
は、両方ともストレートグルーブであっても良いし、ま
た、両方ともウォブリンググルーブであっても良い。た
だし、グルーブをウォブリングさせた場合には、グルー
ブ自体にアドレス情報を付加することができるという利
点がある。しかも、本例のように、一方のグルーブをウ
ォブリンググルーブとして、他方のグルーブをストレー
トグルーブとした場合には、両方のグルーブをウォブリ
ンググルーブにした場合に比べて、狭トラック化を図り
やすいので、更なる高記録密度化を実現できる。

【００３１】そして、この光磁気ディスク１において、
トラックピッチTPitchは０．５０μｍとされている。こ
こで、トラックピッチTPitchは、ウォブリンググルーブ
６とストレートグルーブ７の中心位置の間隔に相当す
る。すなわち、この光磁気ディスク１において、ウォブ
リンググルーブ６とストレートグルーブ７の中心位置の
間隔は、０．５０μｍとされている。

【００３２】なお、以下の説明では、隣接するストレー
トグルーブ７の中心位置の間隔のことをトラックピリオ
ドTPeriodと称する。トラックピリオドTPeriodは、トラ
ックピッチTPitchの２倍に相当するものであり、この光
磁気ディスク１においてトラックピリオドTPeriodは、
１．００μｍとされている。

【００３３】そして、本発明を適用してなる光磁気ディ
スク１では、ウォブリンググルーブ６とストレートグル
ーブ７とが、それらの深さが異なるように形成されてい
る。具体的には、ウォブリンググルーブ６及びストレー
トグルーブ７のうち、深い方のグルーブの位相深さをＸ
とし、浅い方のグルーブの位相深さをＹとしたとき、ウ
ォブリンググルーブ６及びストレートグルーブ７は、下
記式（１−１），式（１−２）及び式（１−３）を満た
すように形成されている。

【００３４】 Ｘ≧０．３９５０−０．８３１Ｙ＋２．９３２Ｙ² ・・・（１−１） Ｙ≧２．０１０−９．６６１Ｘ＋１１．７７Ｘ² ・・・（１−２） Ｙ≦０．８４８０−２．４５０Ｘ＋１．８８０Ｘ² ・・・（１−３） なお、深い方のグルーブの位相深さＸは、この光磁気デ
ィスク１に対する記録再生時に使用されるレーザ光の波
長をλとし、光磁気ディスク１の光入射面から当該グル
ーブに至る媒質の屈折率をｎ_xとし、当該グルーブの深
さをｘとしたときに、ｘ×ｎ_x／λで表される。また、
浅い方のグルーブの位相深さＹは、この光磁気ディスク
１に対する記録再生時に使用されるレーザ光の波長をλ
とし、光磁気ディスク１の光入射面から当該グルーブに
至る媒質の屈折率をｎ_yとし、当該グルーブ７の深さを
ｙとしたときに、ｙ×ｎ_y／λで表される。

【００３５】なお、光磁気ディスク１の光入射面からウ
ォブリンググルーブ６に至る媒質、及び光磁気ディスク
１の光入射面からストレートグルーブ７に至る媒質は、
いずれもディスク基板２である。したがって、ディスク
基板２の屈折率をｎとすると、ｎ_x＝ｎ_y＝ｎである。

【００３６】以上のような光磁気ディスク１では、後述
する実験結果からも分かるように、ウォブリンググルー
ブ６及びストレートグルーブ７が上記式（１−１），式
（１−２）及び式（１−３）を満たすように形成されて
いるので、トラッキングサーボやシークに必要な信号を
十分なレベルで得ることができる。

【００３７】＜レーザカッティング装置＞以上のような
光磁気ディスク１を製造する際には、当該光磁気ディス
ク１の原盤となる光記録媒体製造用原盤の作製にレーザ
カッティング装置が使用される。以下、光記録媒体製造
用原盤の作製に使用されるレーザカッティング装置の一
例について、図３を参照して詳細に説明する。

【００３８】図３に示したレーザカッティング装置１０
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して潜像を形成するためのものである。このレ
ーザカッティング装置１０でフォトレジスト１２に潜像
を形成する際、フォトレジスト１２が塗布されたガラス
基板１１は、移動光学テーブル上に設けられた回転駆動
装置に取り付けられる。そして、フォトレジスト１２を
露光する際、ガラス基板１１は、フォトレジスト１２の
全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるよう
に、図中矢印Ａ１に示すように回転駆動装置によって回
転駆動されるとともに、移動光学テーブルによって平行
移動される。

【００３９】このレーザカッティング装置１０は、２つ
の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光するこ
とが可能となっており、ウォブリンググルーブ６に対応
した潜像と、ストレートグルーブ７に対応した潜像と
を、それぞれの露光ビームにより形成する。すなわち、
このレーザカッティング装置１０では、第１の露光ビー
ムによってウォブリンググルーブ６に対応した潜像を形
成し、第２の露光ビームによってストレートグルーブ７
に対応した潜像を形成する。

【００４０】このレーザカッティング装置１０は、レー
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光の光軸上に配された検
光子１５と、検光子１５を透過してきたレーザ光を反射
光と透過光とに分割する第１のビームスプリッタ１７
と、第１のビームスプリッタ１７を透過してきたレーザ
光を反射光と透過光とに分割する第２のビームスプリッ
タ１８と、第２のビームスプリッタ１８を透過してきた
レーザ光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Photo De
tector）１９と、電気光学変調器１４に対して信号電界
を印加して当該電気光学変調器１４から出射されるレー
ザ光強度を調整するオートパワーコントローラ（ＡＰ
Ｃ：Auto Power Controller）２０とを備えている。

【００４１】上記レーザカッティング装置１０におい
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ２０から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度
とされた上で検光子１５に入射する。ここで、検光子１
５はＳ偏光だけを透過する検光子であり、この検光子１
５を透過してきたレーザ光はＳ偏光となる。

【００４２】なお、光源１３には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが３５１ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。

【００４３】そして、検光子１５を透過してきたＳ偏光
のレーザ光は、先ず、第１のビームスプリッタ１７によ
って反射光と透過光とに分けられ、更に、第１のビーム
スプリッタ１７を透過したレーザ光は、第２のビームス
プリッタ１８によって反射光と透過光とに分けられる。
なお、このレーザカッティング装置１０では、第１のビ
ームスプリッタ１７によって反射されたレーザ光が第１
の露光ビームとなり、第２のビームスプリッタ１８によ
って反射されたレーザ光が第２の露光ビームとなる。

【００４４】第２のビームスプリッタ１８を透過したレ
ーザ光は、フォトディテクタ１９によって、その光強度
が検出され、当該光強度に応じた信号がフォトディテク
タ１９からオートパワーコントローラ２０に送られる。
そして、フォトディテクタ１９から送られてきた信号に
応じて、オートパワーコントローラ２０は、フォトディ
テクタ１９によって検出される光強度が所定のレベルに
て一定となるように、電気光学変調器１４に対して印加
する信号電界を調整する。これにより、電気光学変調器
１４から出射するレーザ光の光強度が一定となるよう
に、自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）が施
され、ノイズの少ない安定したレーザ光が得られる。

【００４５】また、上記レーザカッティング装置１０
は、第１のビームスプリッタ１７によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第１の変調光学系２２
と、第２のビームスプリッタ１８によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第２の変調光学系２３
と、第１及び第２の変調光学系２２，２３によって光強
度変調が施された各レーザ光を再合成してフォトレジス
ト１２上に集光するための光学系２４とを備えている。

【００４６】そして、第１のビームスプリッタ１７によ
って反射されてなる第１の露光ビームは、第１の変調光
学系２２に導かれ、第１の変調光学系２２によって光強
度変調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１
８によって反射されてなる第２の露光ビームは、第２の
変調光学系２３に導かれ、第２の変調光学系２３によっ
て光強度変調が施される。

【００４７】すなわち、第１の変調光学系２２に入射し
た第１の露光ビームは、集光レンズ２９によって集光さ
れた上で音響光学変調器３０に入射し、この音響光学変
調器３０によって、所望する露光パターンに対応するよ
うに光強度変調される。ここで、音響光学変調器３０に
使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル
（ＴｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そし
て、音響光学変調器３０によって光強度変調された第１
の露光ビームは、コリメートレンズ３１によって平行光
とされた上で、第１の変調光学系２２から出射される。

【００４８】ここで、音響光学変調器３０には、当該音
響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２
が取り付けられている。そして、フォトレジストの露光
時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ１が駆動
用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ１に応じて駆動
用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動さ
れ、第２の露光ビームに対して光強度変調が施される。

【００４９】具体的には、例えば、一定の深さのウォブ
リンググルーブ６に対応したグルーブパターンの潜像を
フォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レ
ベルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３２に入力され、当該
ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光学
変調器３０が駆動される。これにより、所望するグルー
ブパターンに対応するように、第１の露光ビームに対し
て光強度変調が施される。

【００５０】また、第２の変調光学系２３に入射した第
２の露光ビームは、集光レンズ３３によって集光された
上で音響光学変調器３４に入射し、この音響光学変調器
３４によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器３４に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔ
ｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器３４によって光強度変調された第２の露
光ビームは、コリメートレンズ３５によって平行光とさ
れるとともに、λ／２波長板３６を透過することにより
偏光方向が９０°回転させられた上で、第２の変調光学
系２３から出射される。

【００５１】ここで、音響光学変調器３４には、当該音
響光学変調器３４を駆動するための駆動用ドライバ３７
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ２が
駆動用ドライバ３７に入力され、当該信号Ｓ２に応じて
駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動
され、第２の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【００５２】具体的には、例えば、一定の深さのストレ
ートグルーブ７に対応したグルーブパターンの潜像をフ
ォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レベ
ルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３７に入力され、当該Ｄ
Ｃ信号に応じて駆動用ドライバ３７によって音響光学変
調器３４が駆動される。これにより、所望するグルーブ
パターンに対応するように、第２の露光ビームに対して
光強度変調が施される。

【００５３】以上のようにして、第１の露光ビームは第
１の変調光学系２２によって光強度変調が施され、第２
の露光ビームは第２の変調光学系２３によって光強度変
調が施される。このとき、第１の変調光学系２２から出
射された第１の露光ビームはＳ偏光のままであるが、第
２の変調光学系２３から出射された第２の露光ビーム
は、λ／２波長板３６を透過することにより偏光方向が
９０°回転させられているので、Ｐ偏光となっている。

【００５４】そして、第１の変調光学系２２から出射さ
れた第１の露光ビームは、ミラー４１によって反射さ
れ、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれ、偏向
光学系４６に入射する。そして、第１の露光ビームは、
偏向光学系４６によって光学偏向が施された上で、ミラ
ー４４によって反射されて進行方向が９０°曲げられた
上で偏光ビームスプリッタ４５に入射する。一方、第２
の変調光学系３２から出射された第２の露光ビームは、
ミラー４２によって反射され、移動光学テーブル上に水
平且つ平行に導かれ、そのまま偏光ビームスプリッタ４
５に入射する。

【００５５】ここで、偏向光学系４６は、ウォブリング
グルーブのウォブリングに対応するように、第１の露光
ビームに対して光学偏向を施すためのものである。すな
わち、第１の変調光学系２２から出射され偏向光学系４
６に入射した第１の露光ビームは、ウェッジプリズム４
７を介して音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optical
Deflector）４８に入射し、この音響光学偏向器４８に
よって、所望する露光パターンに対応するように光学偏
向が施される。ここで、音響光学偏向器４８に使用され
る音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ
₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、音響
光学偏向器４８によって光学偏向が施された第１の露光
ビームは、ウエッジプリズム４９を介して偏向光学系４
６から出射される。

【００５６】ここで、音響光学偏向器４８には、当該音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、当該駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor）５１からの高周波信号が、アドレス情報を含む制
御信号Ｓ３によりＦＭ変調され供給される。そして、フ
ォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターン
に応じた信号が、電圧制御発振器５１から駆動用ドライ
バ５０に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ５
０によって音響光学偏向器４８が駆動され、これによ
り、第１の露光ビームに対して光学偏向が施される。

【００５７】具体的には、例えば、周波数８４．６７２
ｋＨｚにてグルーブをウォブリングさせることにより、
グルーブにアドレス情報を付加するような場合には、例
えば中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信号を周波数８
４．６７２ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調した信号を、
電圧制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給す
る。そして、この信号に応じて、駆動用ドライバ５０に
よって音響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向
器４８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これに
より、周波数８４．６７２ｋＨｚのウォブリングに対応
するように、第１の露光ビームに対して光学偏向を施
す。

【００５８】そして、このような偏向光学系４６によっ
て、ウォブリンググルーブ６のウォブリングに対応する
ように光学偏向が施された第１の露光ビームは、上述し
たように、ミラー４４によって反射されて進行方向が９
０°曲げられた上で偏光ビームスプリッタ４５に入射す
る。

【００５９】ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされている。
そして、第１の変調光学系２２から出射され偏向光学系
４６によって光学偏向が施された第１の露光ビームは、
Ｓ偏光であり、また、第２の変調光学系２３から出射さ
れた第２の露光ビームは、Ｐ偏光である。したがって、
第１の露光ビームは当該偏光ビームスプリッタ４５によ
って反射され、第２の露光ビームは当該偏光ビームスプ
リッタ４５を透過する。これにより、第１の変調光学系
２２から出射され偏向光学系４６によって光学偏向が施
された第１の露光ビームと、第２の変調光学系２３から
出射された第２の露光ビームとは、進行方向が同一方向
となるように再合成される。

【００６０】そして、進行方向が同一方向となるように
再合成されて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第
１及び第２の露光ビームは、拡大レンズ５２によって所
定のビーム径とされた上でミラー５３によって反射され
て対物レンズ５４へと導かれ、当該対物レンズ５４によ
ってフォトレジスト１２上に集光される。これにより、
フォトレジスト１２が露光され、フォトレジスト１２に
潜像が形成されることとなる。このとき、フォトレジス
ト１２が塗布されているガラス基板１１は、上述したよ
うに、フォトレジスト１２の全面にわたって所望のパタ
ーンでの露光がなされるように、図中矢印Ａ１に示すよ
うに回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移
動光学テーブルによって平行移動される。この結果、第
１及び第２の露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フ
ォトレジスト１２の全面にわたって形成されることとな
る。

【００６１】なお、露光ビームをフォトレジスト１２の
上に集光するための対物レンズ５４は、より微細なグル
ーブパターンを形成できるようにするために、開口数Ｎ
Ａが大きい方が好ましく、具体的には、開口数ＮＡが
０．９程度の対物レンズが好適である。

【００６２】また、このように第１及び第２の露光ビー
ムをフォトレジスト１２に照射する際は、必要に応じ
て、拡大レンズ５２によって第１及び第２の露光ビーム
のビーム径を変化させ、対物レンズ５４に対する有効開
口数を調整する。これにより、フォトレジスト１２の表
面に集光される第１及び第２の露光ビームのスポット径
を変化させることができる。

【００６３】ところで、偏光ビームスプリッタ４５に入
射した第１の露光ビームは、当該偏光ビームスプリッタ
４５の反射面にて、第２の露光ビームと合成される。こ
こで、偏光ビームスプリッタ４５は、当該偏向ビームス
プリッタの反射面が、当該反射面で合成されて出射され
る光の進行方向に対して適度な反射角をなすように配さ
れる。

【００６４】具体的には、偏光ビームスプリッタ５４の
反射面の反射角は、第１の露光ビームに対応するスポッ
トと、第２の露光ビームに対応するスポットとの、ガラ
ス基板１１の半径方向における間隔が、トラックピッチ
TPitchに対応するように設定しておく。これにより、第
１の露光ビームによりウォブリンググルーブ６に対応す
る部分を露光し、同時に、第２の露光ビームによりスト
レートグルーブ７に対応する部分を露光することが可能
となる。

【００６５】以上のようなレーザカッティング装置１０
では、ウォブリンググルーブ６に対応した潜像を形成す
るための第１の露光ビームに対応した光学系と、ストレ
ートグルーブ７に対応した潜像を形成するための第２の
露光ビームに対応した光学系とを備えているので、この
レーザカッティング装置１０だけで、ウォブリンググル
ーブ６に対応した潜像と、ストレートグルーブ７に対応
した潜像とをまとめて形成することができる。しかも、
このレーザカッティング装置１０では、第１の露光ビー
ムと第２の露光ビームとを合成するための偏向ビームス
プリッタ４５の向きを調整することにより、第１の露光
ビームの照射位置と第２の露光ビームの照射位置とを容
易に調整することができる。

【００６６】＜光磁気ディスクの製造方法＞つぎに、図
１及び図２に示した光磁気ディスク１の製造方法につい
て、具体的な一例を挙げて詳細に説明する。

【００６７】光磁気ディスク１を作製する際は、先ず、
原盤工程として、ウォブリンググルーブ６及びストレー
トグルーブ７に対応した凹凸パターンを有する光記録媒
体製造用原盤を作製する。

【００６８】この原盤工程においては、先ず、表面を研
磨した円盤状のガラス基板１１を洗浄し乾燥させ、その
後、このガラス基板１１上に感光材料であるフォトレジ
スト１２を塗布する。次に、このフォトレジスト１２を
上記レーザカッティング装置１０によって露光し、ウォ
ブリンググルーブ６及びストレートグルーブ７に対応し
た潜像をフォトレジスト１２に形成する。

【００６９】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際、レーザカッティング装置１０の光源１３に
は、波長λが３５１ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレー
ザを使用し、第１及び第２の露光ビームをフォトレジス
ト１２上に集光するための対物レンズ５４には、開口数
ＮＡが０．９のものを使用した。また、拡大レンズには
焦点距離が７０ｍｍのレンズを使用した。

【００７０】そして、フォトレジスト１２をレーザカッ
ティング装置１０によって露光する際は、第１及び第２
の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光するこ
とにより、ウォブリンググルーブ６及びストレートグル
ーブ７に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成す
る。

【００７１】ここで、第１の露光ビームによってフォト
レジスト１２を露光することにより、ウォブリンググル
ーブ６に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する
際は、第１の露光ビームに対して、第１の変調光学系２
２により光強度変調を施すとともに、光学偏向系４６に
より光学偏向を施す。

【００７２】具体的には、先ず、一定レベルのＤＣ信号
を駆動用ドライバ３２に入力し、当該ＤＣ信号に基づい
て駆動用ドライバ３２によって音響光学変調器３０を駆
動し、これにより、ウォブリンググルーブ６のパターン
に対応するように、第１の露光ビームに対して光強度変
調を施す。ここで、ウォブリンググルーブ６は一定の深
さの連続した溝であるので、ウォブリンググルーブ６に
対応した潜像を形成している間は、第１の露光ビームの
光強度が一定となるように光強度変調を施す。

【００７３】次いで、第１の変調光学系２２によって光
強度変調が施された第１の露光ビームに対して、偏向光
学系４６により光学偏向を施す。具体的には、電圧制御
発振器５１から高周波信号を制御信号にてＦＭ変調して
駆動用ドライバ５０に供給し、この信号に基づいて駆動
用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８を駆動し
て、当該音響光学偏向器４８の音響光学素子のブラッグ
角を変化させ、これにより、第１の露光ビームに対して
光学偏向を施す。

【００７４】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際は、中心周波数２２４ＭＨｚの高周波信号を周
波数８４．６７２ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調して、
電圧制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給し
た。そして、この信号に基づいて、駆動用ドライバ５０
によって音響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏
向器４８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これ
により、フォトレジスト１２上に集光される第１の露光
ビームの光スポットの位置が、周波数８４．６７２ｋＨ
ｚ，振幅±１０ｎｍにて、ガラス基板１１の半径方向に
振動するように光学偏向を行った。

【００７５】そして、このように光強度変調及び光学偏
向を施した第１の露光ビームを、対物レンズ５４によっ
てフォトレジスト１２上に集光することにより、フォト
レジスト１２を露光し、ウォブリンググルーブ６に対応
した潜像をフォトレジスト１２に形成する。

【００７６】また、第１の露光ビームによりフォトレジ
スト１２を露光するのと同時に、第２の露光ビームによ
ってフォトレジスト１２を露光することにより、ストレ
ートグルーブ７に対応した潜像をフォトレジスト１２に
形成する。

【００７７】第２の露光ビームによってフォトレジスト
１２を露光することにより、ストレートグルーブ７に対
応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第２
の露光ビームに対して、第２の変調光学系２３により光
強度変調を施す。

【００７８】具体的には、一定レベルのＤＣ信号を駆動
用ドライバ３７に入力し、当該ＤＣ信号に基づいて駆動
用ドライバ３７によって音響光学変調器３４を駆動し、
これにより、ストレートグルーブ７のパターンに対応す
るように、第２の露光ビームに対して光強度変調を施
す。ここで、ストレートグルーブ７は一定の深さの連続
した溝であるので、ストレートグルーブ７に対応した潜
像を形成している間は、第２の露光ビームの光強度が一
定となるように光強度変調を施す。

【００７９】そして、このように光強度変調を施した第
２の露光ビームを、対物レンズ５４によってフォトレジ
スト１２上に集光することにより、フォトレジスト１２
を露光し、ストレートグルーブ７に対応した潜像をフォ
トレジスト１２に形成する。

【００８０】なお、このようにフォトレジスト１２を露
光して、ウォブリンググルーブ６及びストレートグルー
ブ７に対応した潜像を形成する際は、フォトレジスト１
２が塗布されているガラス基板１１を、所定の回転速度
にて回転駆動させるとともに、所定の速度にて平行移動
させる。

【００８１】具体的には、後述する評価用光磁気ディス
クを作製する際、ガラス基板１１の回転速度は、第１及
び第２の露光ビームによる光スポットとフォトレジスト
１２との相対的な移動速度が線速１．０ｍ／ｓｅｃとな
るようにした。そして、当該ガラス基板１１を１回転毎
に１．００μｍ（すなわちトラックピリオドTPeriodの
分）だけ、移動光学テーブルによってガラス基板１１の
半径方向に平行移動させた。

【００８２】以上のように第１及び第２の露光ビームに
よってフォトレジスト１２を露光することにより、ウォ
ブリンググルーブ６に対応した潜像と、ストレートグル
ーブ７に対応した潜像とが、ダブルスパイラル状にフォ
トレジスト１２に形成される。

【００８３】なお、このように第１及び第２の露光ビー
ムによってフォトレジスト１２を露光する際は、駆動用
ドライバ３２，３７に入力するＤＣ信号のレベルを調整
して、第２の露光ビームのパワーと第３の露光ビームの
パワーとが異なるようにしておく。これにより、ウォブ
リンググルーブ６に対応した潜像の深さと、ストレート
グルーブ７に対応した潜像の深さとが異なるものとな
る。

【００８４】また、上記レーザカッティング装置１０で
は、第１の露光ビームによる光スポットと、第２の露光
ビームによる光スポットとのガラス基板１１の半径方向
における間隔が、トラックピッチTPitchに対応するよう
に、偏光ビームスプリッタ４５の反射面の反射角を設定
しておく。

【００８５】このように偏光ビームスプリッタ４５の反
射面の反射角を設定しておくことにより、第１の露光ブ
ームによってウォブリンググルーブ６に対応した潜像が
形成されるとともに、当該ウォブリンググルーブ６に隣
接したストレートグルーブ７に対応した潜像が第２の露
光ビームによって形成されることとなる。このことは、
換言すれば、ウォブリンググルーブ６とストレートグル
ーブ７との相対的な位置決めは、偏向ビームスプリッタ
４５の向きを調整することにより実現できるということ
でもある。

【００８６】そして、以上のようにしてフォトレジスト
１２に潜像を形成した後、フォトレジスト１２が塗布さ
れている面が上面となるように、ガラス基板１１を現像
機のターンテーブル上に載置する。そして、当該ターン
テーブルを回転させることによりガラス基板１１を回転
させながら、フォトレジスト１２上に現像液を滴下して
現像処理を施して、ガラス基板１１上にウォブリンググ
ルーブ６及びストレートグルーブ７に対応した凹凸パタ
ーンを形成する。

【００８７】次に、上記凹凸パターン上に無電界メッキ
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板１１を電鋳装置に取り付
け、電気メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメ
ッキ層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成
する。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキ
をアセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写され
た面に残存しているフォトレジスト１２を除去する。

【００８８】以上の工程により、ガラス基板１１上に形
成されていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる
光記録媒体製造用原盤、すなわち、ウォブリンググルー
ブ６及びストレートグルーブ７に対応した凹凸パターン
が形成された光記録媒体製造用原盤が完成する。

【００８９】なお、この光記録媒体製造用原盤は、本発
明が適用されてなる光記録媒体製造用原盤である。すな
わち、この光記録媒体製造用原盤は、記録トラックに沿
ってウォブリンググルーブ６及びストレートグルーブ７
が形成されてなる光磁気ディスク１を製造する際に使用
される光記録媒体製造用原盤であって、ウォブリンググ
ルーブ６に対応した凹凸パターンである第１のグルーブ
パターンと、ストレートグルーブ７に対応した凹凸パタ
ーンである第２のグルーブパターンとがダブルスパイラ
ル状に形成されてなる。そして、第１のグルーブパター
ンと第２のグルーブパターンとは、それらの深さが互い
に異なるように形成されている。

【００９０】次に、転写工程として、フォトポリマー法
（いわゆる２Ｐ法）を用いて、上記光記録媒体製造用原
盤の表面形状が転写されてなるディスク基板を作製す
る。

【００９１】具体的には、先ず、光記録媒体製造用原盤
の凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平
滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フ
ォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、
フォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。こ
こで、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポ
リメチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベ
ースプレートを使用する。

【００９２】その後、紫外線を照射してフォトポリマー
を硬化させ、その後、光記録媒体製造用原盤を剥離する
ことにより、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写さ
れてなるディスク基板２を作製する。

【００９３】なお、ここでは、光記録媒体製造用原盤に
形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板２に
転写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板２を作
製する例を挙げたが、ディスク基板２を量産するような
場合には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネー
ト等の透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板
２を作製するようにしても良いことは言うまでもない。

【００９４】次に、成膜工程として、光記録媒体製造用
原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２上に記
録層３及び保護層４を形成する。具体的には、例えば、
先ず、ディスク基板２の凹凸パターンが形成された面上
に、ＳｉＮ等からなる第１の誘電体膜と、ＴｅＦｅＣｏ
合金等からなる垂直磁気記録膜と、ＳｉＮ等からなる第
２の誘電体膜とをスパッタリングによって順次成膜し、
更に、第２の誘電体膜上にＡｌ等からなる光反射膜を蒸
着によって成膜することにより、第１の誘電体膜、垂直
磁気記録膜、第２の誘電体膜及び光反射膜からなる記録
層３を形成する。その後、上記記録層３上に紫外線硬化
樹脂をスピンコート法により塗布し、当該紫外線硬化樹
脂に対して紫外線を照射し硬化させることにより、保護
層４を形成する。

【００９５】以上の工程により、光磁気ディスク１が完
成する。

【００９６】＜光磁気ディスクの評価＞つぎに、上述の
ような製造方法にて、ウォブリンググルーブ６及びスト
レートグルーブ７の深さの異なる複数の評価用光磁気デ
ィスクを作製し、それらの評価を行った結果について説
明する。

【００９７】ここで、ウォブリンググルーブ６及びスト
レートグルーブ７の深さの制御は、第１の露光ビーム及
び第２の露光ビームのパワーを制御することにより行っ
た。

【００９８】すなわち、評価用光磁気ディスクの評価を
行うにあたっては、まず、ウォブリンググルーブ６に対
応した潜像を形成するための第１の露光ビームのパワ
ー、或いはストレートグルーブ７に対応した潜像を形成
するための第２の露光ビームのパワーを変化させて、複
数の光記録媒体製造用原盤を作製し、その後、これらの
光記録媒体製造用原盤を用いて２Ｐ法により評価用光磁
気ディスクを作製した。なお、これらの評価用光磁気デ
ィスクのディスク基板の材料には、屈折率１．４９のポ
リメチルメタクリレートを使用した。

【００９９】そして、このように作製した、ウォブリン
ググルーブ６及びストレートグルーブ７の深さの異なる
複数の評価用光磁気ディスクについて、プッシュプル信
号及びクロストラック信号の測定を行った。ここで、プ
ッシュプル信号及びクロストラック信号の測定には、レ
ーザ光の波長λが６５０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ
が０．５２の光ピックアップを用いた。

【０１００】そして、これらの評価用光磁気ディスクに
ついて、プッシュプル信号振幅比が０．１５以上、且つ
クロストラック信号振幅比が０．０６以上となるとき
の、ウォブリンググルーブ６及びストレートグルーブ７
の深さを調べた。

【０１０１】その結果、図４中の点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，
ｅ，ｆ，ｇ，ｈ，ｉ，ｊで囲まれた領域内であれば、プ
ッシュプル信号振幅比が０．１５以上、且つクロストラ
ック信号振幅比が０．０６以上となることが分かった。

【０１０２】なお、図４において、縦軸は、ウォブリン
ググルーブ６及びストレートグルーブ７のうちの浅い方
のグルーブについて、当該グルーブの位相深さＹを示し
ている。また、横軸は、ウォブリンググルーブ６及びス
トレートグルーブ７のうちの深い方のグルーブについ
て、当該グルーブの位相深さＸを示している。

【０１０３】ここで、点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅを結ぶ近似
直線Ｌ１は下記式（２−１）で表され、点ｅ，ｆ，ｇ，
ｈを結ぶ近似直線Ｌ２は下記式（２−２）で表され、点
ｈ，ｉ，ｊ，ａを結ぶ近似直線Ｌ３は下記式（２−３）
で表された。

【０１０４】 Ｘ＝０．３９５０−０．８３１Ｙ＋２．９３２Ｙ² ・・・（２−１） Ｙ＝２．０１０−９．６６１Ｘ＋１１．７７Ｘ² ・・・（２−２） Ｙ＝０．８４８０−２．４５０Ｘ＋１．８８０Ｘ² ・・・（２−３） したがって、点ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ，ｉ，
ｊで囲まれた領域は、下記式（３−１），式（３−２）
及び式（３−３）を満たす領域として、近似的に表すこ
とができる。

【０１０５】 Ｘ≧０．３９５０−０．８３１Ｙ＋２．９３２Ｙ² ・・・（３−１） Ｙ≧２．０１０−９．６６１Ｘ＋１１．７７Ｘ² ・・・（３−２） Ｙ≦０．８４８０−２．４５０Ｘ＋１．８８０Ｘ² ・・・（３−３） このことは、換言すれば、ウォブリンググルーブ６及び
ストレートグルーブ７のうち、深い方のグルーブの位相
深さをＸとし、浅い方のグルーブの位相深さをＹとした
ときに、ウォブリンググルーブ６及びストレートグルー
ブ７が、上記式（３−１），式（３−２）及び式（３−
３）を満たすように形成されていれば、プッシュプル信
号振幅比が０．１５以上、且つクロストラック信号振幅
比が０．０６以上となり、安定なトラッキングサーボ及
びシークが可能であるということである。

【０１０６】ここで、レーザ光の波長λは６５０ｎｍ、
対物レンズの開口数ＮＡは０．５２であるので、光ピッ
クアップのカットオフ周波数２ＮＡ／λは、１６００mm
^-1である。一方、評価用光磁気ディスクのトラックピッ
チTPitchは０．５０μｍであるので、その空間周波数は
２０００mm^-1である。このように、評価用光磁気ディス
クでは、トラックピッチTPitchの空間周波数のほうが光
ピックアップのカットオフ周波数２ＮＡ／λよりも大き
くなっている。

【０１０７】従来は、このようにトラックピッチTPitch
の空間周波数のほうが光ピックアップのカットオフ周波
数２ＮＡ／λよりも大きいと、十分なレベルのプッシュ
プル信号やクロストラック信号を得ることができず、安
定なトラッキングサーボやシークができなくなってしま
っていた。

【０１０８】しかしながら、本発明を適用した光磁気デ
ィスク１では、上述の実験結果からも分かるように、ウ
ォブリンググルーブ６及びストレートグルーブ７を上記
式（３−１），式（３−２）及び式（３−３）を満たす
ように形成することにより、十分なレベルのプッシュプ
ル信号やクロストラック信号を確保しつつ、トラックピ
ッチTPitchの空間周波数を光ピックアップのカットオフ
周波数２ＮＡ／λよりも大きくすることが可能となって
いる。すなわち、本発明を適用することにより、十分な
レベルのプッシュプル信号やクロストラック信号を確保
しつつ、トラックピッチTPitchを狭くして、記録密度を
大幅に向上することが可能となる。

【０１０９】なお、本発明は、記録トラックに沿ってグ
ルーブが形成されてなる光記録媒体、並びにその製造に
使用される光記録媒体製造用原盤に対して広く適用可能
であり、本発明の対象となる光記録媒体は、例えば、再
生専用の光記録媒体、繰り返しデータの書き換えが可能
な光記録媒体、或いはデータの追記は可能だか消去はで
きないような光記録媒体のいずれでもよい。

【０１１０】また、データの記録方法も特に限定される
ものではなく、本発明の対象となる光記録媒体は、例え
ば、予めエンボスピット等によりデータが書き込まれて
いる再生専用の光記録媒体、磁気光学効果を利用してデ
ータの記録を行う光磁気記録媒体、或いは記録層の相変
化を利用してデータの記録を行う相変化型光記録媒体の
いずれでもよい。

【０１１１】また、本発明は、記録領域の少なくとも一
部にグルーブが形成されている光記録媒体、並びにその
製造に使用される光記録媒体製造用原盤に対して広く適
用可能である。すなわち、例えば、記録領域全体にグル
ーブが形成されていてもよいし、或いは、グルーブが形
成されることなくエンボスピットによってデータが記録
されているような領域が記録領域内に存在していてもよ
い。

【０１１２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、トラックピッチを非常に狭くしても、安定に
トラッキングサーボやシークを行うことが可能な光記録
媒体、並びにそのような光記録媒体を製造することが可
能な光記録媒体製造用原盤を提供することができる。し
たがって、本発明によれば、狭トラック化を更に進め
て、光記録媒体の更なる高記録密度化を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光磁気ディスクの一例につい
て、その要部を拡大して示す断面図である。

【図２】本発明を適用した光磁気ディスクの一例につい
て、その記録領域の一部を拡大して示す図である。

【図３】本発明に係る光記録媒体及び光記録媒体製造用
原盤を作製する際に使用されるレーザカッティング装置
の一例について、その光学系の概要を示す図である。

【図４】ウォブリンググルーブ及びストレートグルーブ
の深さとプッシュプル信号及びクロストラック信号との
関係を示す図である。

【図５】プッシュプル信号及びクロストラック信号の検
出方法を説明するための図である。

【図６】プッシュプル信号振幅比及びクロストラック信
号振幅比を説明するための図である。

【符号の説明】

１ 光磁気ディスク、 ２ ディスク基板、 ３ 記録
層、 ４ 保護層、６ ウォブリンググルーブ、 ７
ストレートグルーブ

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【手続補正書】

【提出日】平成１０年８月１８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図６

【補正方法】変更

【補正内容】

【図６】

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
   れ、所定の波長λの光が照射されて記録及び／又は再生
   がなされる光記録媒体であって、 上記グルーブとして、第１のグルーブと第２のグルーブ
   とが２重螺旋を描くように形成されてなり、 光入射面から第１のグルーブに至る媒質の屈折率をｎ_x
   とし、第１のグルーブの深さをｘとしたときに、ｘ×ｎ
   _x／λで表される第１のグルーブの位相深さをＸとし、 光入射面から第２のグルーブに至る媒質の屈折率をｎ_y
   とし、第２のグルーブの深さをｙとしたときに、ｙ×ｎ
   _y／λで表される第２のグルーブの位相深さをＹとした
   とき、 第１のグルーブ及び第２のグルーブは、下記式（１），
   式（２）及び式（３）を満たすように形成されているこ
   とを特徴とする光記録媒体。 Ｘ≧０．３９５０−０．８３１Ｙ＋２．９３２Ｙ² ・・・（１） Ｙ≧２．０１０−９．６６１Ｘ＋１１．７７Ｘ² ・・・（２） Ｙ≦０．８４８０−２．４５０Ｘ＋１．８８０Ｘ² ・・・（３）
2. 【請求項２】 上記第１のグルーブと上記第２のグルー
   ブのうちの少なくとも一方は、少なくとも一部が蛇行す
   るように形成されたウォブリンググルーブであることを
   特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】 記録及び／又は再生に使用される対物レ
   ンズの開口数をＮＡ、光の波長をλとしたとき、２×Ｎ
   Ａ／λで表されるカットオフ周波数よりも、トラックピ
   ッチの空間周波数が大きいことを特徴とする請求項１記
   載の光記録媒体。
4. 【請求項４】 記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
   れ所定の波長λの光が照射されて記録及び／又は再生が
   なされる光記録媒体を製造する際に使用される光記録媒
   体製造用原盤であって、 上記グルーブに対応した凹凸パターンとして、第１のグ
   ルーブパターンと第２のグルーブパターンとが２重螺旋
   を描くように形成されてなり、 上記光記録媒体の光入射面から第１のグルーブに至る媒
   質の屈折率をｎ_xとし、第１のグルーブパターンの深さ
   をｘ'としたときに、ｘ'×ｎ_x／λで表される第１のグ
   ルーブパターンの位相深さをＸ'とし、 上記光記録媒体の光入射面から第２のグルーブに至る媒
   質の屈折率をｎ_yとし、第２のグルーブパターンの深さ
   をｙ'としたときに、ｙ'×ｎ_y／λで表される第２のグ
   ルーブパターンの位相深さをＹ'としたとき、 第１のグルーブパターン及び第２のグルーブパターン
   は、下記式（４），式（５）及び式（６）を満たすよう
   に形成されていることを特徴とする光記録媒体製造用原
   盤。 Ｘ'≧０．３９５０−０．８３１Ｙ'＋２．９３２Ｙ'² ・・・（４） Ｙ'≧２．０１０−９．６６１Ｘ'＋１１．７７Ｘ'² ・・・（５） Ｙ'≦０．８４８０−２．４５０Ｘ'＋１．８８０Ｘ'² ・・・（６）
5. 【請求項５】 上記第１のグルーブパターンと上記第２
   のグルーブパターンのうちの少なくとも一方は、少なく
   とも一部が蛇行するように形成されるウォブリンググル
   ーブに対応した凹凸パターンであることを特徴とする請
   求項４記載の光記録媒体製造用原盤。