JP2000048409A - 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 - Google Patents
光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置Info
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- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光記録媒体の更なる高記録密度化を図る。
【解決手段】 情報信号を示すピットが記録トラックに
沿って形成されてなる光記録媒体において、ピットの幅
ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを０．４〜
０．５５とする。そして、トラッキングサーボを、プッ
シュプル法又は差動プッシュプル法により行う。
沿って形成されてなる光記録媒体において、ピットの幅
ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを０．４〜
０．５５とする。そして、トラッキングサーボを、プッ
シュプル法又は差動プッシュプル法により行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報信号を示すピ
ットが記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体
に関する。また、本発明は、そのような光記録媒体を製
造する際の型となる光記録媒体製造用原盤に関する。ま
た、本発明は、そのような光記録媒体に対して、光を照
射して記録及び／又は再生を行う光記録再生装置に関す
る。
ットが記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体
に関する。また、本発明は、そのような光記録媒体を製
造する際の型となる光記録媒体製造用原盤に関する。ま
た、本発明は、そのような光記録媒体に対して、光を照
射して記録及び／又は再生を行う光記録再生装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体として、円盤状に形成されて
なり光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディスク
が実用化されている。光ディスクには、データに対応し
たピットがディスク基板に予め形成されてなる再生専用
光ディスクや、磁気光学効果を利用してデータの記録再
生を行う光磁気ディスクや、記録膜の相変化を利用して
データの記録再生を行う相変化型光ディスクなどがあ
る。なお、光磁気ディスクや相変化型光ディスク等のよ
うな光ディスクにおいても、通常は、アドレス情報等に
対応したピットがディスク基板に予め形成される。
なり光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディスク
が実用化されている。光ディスクには、データに対応し
たピットがディスク基板に予め形成されてなる再生専用
光ディスクや、磁気光学効果を利用してデータの記録再
生を行う光磁気ディスクや、記録膜の相変化を利用して
データの記録再生を行う相変化型光ディスクなどがあ
る。なお、光磁気ディスクや相変化型光ディスク等のよ
うな光ディスクにおいても、通常は、アドレス情報等に
対応したピットがディスク基板に予め形成される。
【０００３】ところで、コンパクトディスク（ＣＤ）や
ミニディスク（ＭＤ）等の光ディスクでは、３スポット
法でトラッキングサーボを行うようにしている。３スポ
ット法では、光ディスクに入射させる光を、記録トラッ
ク中心に入射させたい主ビームと、主ビームに対して先
行する位置に入射する第１の副ビームと、主ビームに対
して後行する位置に入射する第２の副ビームとに分割す
る。そして、第１の副ビームを、トラック方向に対して
直交する方向に、＋１／４トラック分だけ中心スポット
からずれた位置に入射させ、また、第２の副ビームを、
トラック方向に対して直交する方向に、−１／４トラッ
ク分だけ中心スポットからずれた位置に入射させる。
ミニディスク（ＭＤ）等の光ディスクでは、３スポット
法でトラッキングサーボを行うようにしている。３スポ
ット法では、光ディスクに入射させる光を、記録トラッ
ク中心に入射させたい主ビームと、主ビームに対して先
行する位置に入射する第１の副ビームと、主ビームに対
して後行する位置に入射する第２の副ビームとに分割す
る。そして、第１の副ビームを、トラック方向に対して
直交する方向に、＋１／４トラック分だけ中心スポット
からずれた位置に入射させ、また、第２の副ビームを、
トラック方向に対して直交する方向に、−１／４トラッ
ク分だけ中心スポットからずれた位置に入射させる。
【０００４】このとき、トラッキングサーボに必要な信
号は、第１及び第２の副ビームが光ディスクによって反
射された光を検出することにより得られる。すなわち、
３スポット法では、第１の副ビームが光ディスクによっ
て反射されてなる反射光全体を検出した和信号と、第２
の副ビームが光ディスクによって反射されてなる反射光
全体を検出した和信号との差を取ることにより得られた
信号をトラッキングサーボに用いる。
号は、第１及び第２の副ビームが光ディスクによって反
射された光を検出することにより得られる。すなわち、
３スポット法では、第１の副ビームが光ディスクによっ
て反射されてなる反射光全体を検出した和信号と、第２
の副ビームが光ディスクによって反射されてなる反射光
全体を検出した和信号との差を取ることにより得られた
信号をトラッキングサーボに用いる。
【０００５】なお、データに対応したピットがディスク
基板に予め形成されてなる光ディスクの記録再生時に３
スポット法でトラッキングサーボを行う場合には、ピッ
トの幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを、
０．４程度以下にしておく必要がある。なぜなら、Ｐｗ
／Ｔｐが大きくなると、上記和信号の変調度が充分でな
くなるからである。
基板に予め形成されてなる光ディスクの記録再生時に３
スポット法でトラッキングサーボを行う場合には、ピッ
トの幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを、
０．４程度以下にしておく必要がある。なぜなら、Ｐｗ
／Ｔｐが大きくなると、上記和信号の変調度が充分でな
くなるからである。
【０００６】例えば、ＣＤやＭＤ等の光ディスクでは、
ピット幅Ｐｗは０．５〜０．６μｍ程度、トラックピッ
チＴｐは１．６０μｍ程度とされている。したがって、
ＣＤやＭＤ等の光ディスクにおいて、ピット幅Ｐｗとト
ラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐは０．４を下回って
おり、これならば、３スポット法でのトラッキングサー
ボを安定に行うことができる。
ピット幅Ｐｗは０．５〜０．６μｍ程度、トラックピッ
チＴｐは１．６０μｍ程度とされている。したがって、
ＣＤやＭＤ等の光ディスクにおいて、ピット幅Ｐｗとト
ラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐは０．４を下回って
おり、これならば、３スポット法でのトラッキングサー
ボを安定に行うことができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光記録媒体
の高記録密度化に対する要求はとどまるところを知ら
ず、光ディスク等の光記録媒体には更なる高記録密度化
が望まれている。光記録媒体の高記録密度化を図るに
は、例えば、ピット幅を狭くして、トラックピッチを狭
くしてやればよい。しかしながら、ピット幅をあまりに
狭くすると、光学的に再生を行うことが不可能となって
しまう。そのため、従来の光記録媒体では、トラックピ
ッチを狭くすることで、高記録密度化を図ることは難し
かった。
の高記録密度化に対する要求はとどまるところを知ら
ず、光ディスク等の光記録媒体には更なる高記録密度化
が望まれている。光記録媒体の高記録密度化を図るに
は、例えば、ピット幅を狭くして、トラックピッチを狭
くしてやればよい。しかしながら、ピット幅をあまりに
狭くすると、光学的に再生を行うことが不可能となって
しまう。そのため、従来の光記録媒体では、トラックピ
ッチを狭くすることで、高記録密度化を図ることは難し
かった。
【０００８】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、更なる高記録密度化を進める
ことが可能な光記録媒体を提供することを目的としてい
る。また、本発明は、そのような光記録媒体を製造する
ことが可能な光記録媒体製造用原盤を提供することも目
的としている。また、本発明は、光記録媒体の更なる高
記録密度化を進めることが可能な光記録再生装置を提供
することも目的としている。
て提案されたものであり、更なる高記録密度化を進める
ことが可能な光記録媒体を提供することを目的としてい
る。また、本発明は、そのような光記録媒体を製造する
ことが可能な光記録媒体製造用原盤を提供することも目
的としている。また、本発明は、光記録媒体の更なる高
記録密度化を進めることが可能な光記録再生装置を提供
することも目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光記録媒体
は、情報信号を示すピットが記録トラックに沿って形成
されてなる光記録媒体であって、上記ピットの幅Ｐｗと
トラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが、０．４〜０．
５５の範囲内にあることを特徴とする。なお、この光記
録媒体は、プッシュプル法又は差動プッシュプル法によ
りトラッキングサーボが行われることが好ましい。
は、情報信号を示すピットが記録トラックに沿って形成
されてなる光記録媒体であって、上記ピットの幅Ｐｗと
トラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが、０．４〜０．
５５の範囲内にあることを特徴とする。なお、この光記
録媒体は、プッシュプル法又は差動プッシュプル法によ
りトラッキングサーボが行われることが好ましい。
【００１０】以上のような本発明に係る光記録媒体で
は、ピット幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔ
ｐを、従来の光記録媒体よりも大きくし、０．４〜０．
５５としている。したがって、ピット幅Ｐｗをあまり狭
くすることなく、トラックピッチＴｐを狭くして、高記
録密度化を図ることができる。なお、ピット幅Ｐｗとト
ラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを大きくしても、ト
ラッキングサーボを３スポット法ではなく、プッシュプ
ル法又は差動プッシュプル法により行うようにすれば、
十分に安定にトラッキングサーボを行うことができる。
は、ピット幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔ
ｐを、従来の光記録媒体よりも大きくし、０．４〜０．
５５としている。したがって、ピット幅Ｐｗをあまり狭
くすることなく、トラックピッチＴｐを狭くして、高記
録密度化を図ることができる。なお、ピット幅Ｐｗとト
ラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを大きくしても、ト
ラッキングサーボを３スポット法ではなく、プッシュプ
ル法又は差動プッシュプル法により行うようにすれば、
十分に安定にトラッキングサーボを行うことができる。
【００１１】また、本発明に係る光記録媒体製造用原盤
は、上記のような本発明に係る光記録媒体を製造する際
の型となる光記録媒体製造用原盤である。すなわち、本
発明に係る光記録媒体製造用原盤は、情報信号を示すピ
ットが記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体
を製造する際の型となる光記録媒体製造用原盤であり、
当該光記録媒体製造用原盤を用いて作製される光記録媒
体に形成されるピットの幅ＰｗとトラックピッチＴｐと
の比Ｐｗ／Ｔｐが、０．４〜０．５５の範囲内にあるこ
とを特徴とする。
は、上記のような本発明に係る光記録媒体を製造する際
の型となる光記録媒体製造用原盤である。すなわち、本
発明に係る光記録媒体製造用原盤は、情報信号を示すピ
ットが記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体
を製造する際の型となる光記録媒体製造用原盤であり、
当該光記録媒体製造用原盤を用いて作製される光記録媒
体に形成されるピットの幅ＰｗとトラックピッチＴｐと
の比Ｐｗ／Ｔｐが、０．４〜０．５５の範囲内にあるこ
とを特徴とする。
【００１２】また、本発明に係る光記録再生装置は、記
録及び／又は再生の対象として、上記のような本発明に
係る光記録媒体を用いることを特徴とする。すなわち、
本発明に係る光記録再生装置は、情報信号を示すピット
が記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体に対
して、光を照射して記録及び／又は再生を行う光記録再
生装置であって、記録及び／又は再生の対象となる光記
録媒体に形成されたピットの幅ＰｗとトラックピッチＴ
ｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが、０．４〜０．５５の範囲内にあ
ることを特徴とする。なお、この光記録再生装置は、プ
ッシュプル法又は差動プッシュプル法によりトラッキン
グサーボを行うことが好ましい。
録及び／又は再生の対象として、上記のような本発明に
係る光記録媒体を用いることを特徴とする。すなわち、
本発明に係る光記録再生装置は、情報信号を示すピット
が記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体に対
して、光を照射して記録及び／又は再生を行う光記録再
生装置であって、記録及び／又は再生の対象となる光記
録媒体に形成されたピットの幅ＰｗとトラックピッチＴ
ｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが、０．４〜０．５５の範囲内にあ
ることを特徴とする。なお、この光記録再生装置は、プ
ッシュプル法又は差動プッシュプル法によりトラッキン
グサーボを行うことが好ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、本発明を再生専用の光ディスクに適用した場合を例
に挙げて、図面を参照しながら詳細に説明する。
て、本発明を再生専用の光ディスクに適用した場合を例
に挙げて、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１４】＜光ディスク＞本発明を適用した光ディス
クについて、要部を拡大した断面図を図１に示す。
クについて、要部を拡大した断面図を図１に示す。
【００１５】この光ディスク１は、円盤状に形成されて
なり、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリカ
ーボネート（ＰＣ）等からなるディスク基板２上に、Ａ
ｌ等からなる光反射層３と、当該光反射層３を保護する
保護層４とが形成されてなる。
なり、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリカ
ーボネート（ＰＣ）等からなるディスク基板２上に、Ａ
ｌ等からなる光反射層３と、当該光反射層３を保護する
保護層４とが形成されてなる。
【００１６】この光ディスク１には、記録領域の一部を
拡大した図１に示すように、情報信号に対応したピット
５が予め形成されている。これらのピット５は、記録ト
ラックに沿ってスパイラル状又は同心円状に形成され
る。そして、本発明を適用した光ディスク１では、これ
らのピット５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ
／Ｔｐが、０．４〜０．５５の範囲内とされる。すなわ
ち、例えば、トラックピッチＴｐが０．９５μｍのと
き、ピット５の幅Ｐｗは、０．３８〜０．５２μｍ程度
とされる。
拡大した図１に示すように、情報信号に対応したピット
５が予め形成されている。これらのピット５は、記録ト
ラックに沿ってスパイラル状又は同心円状に形成され
る。そして、本発明を適用した光ディスク１では、これ
らのピット５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ
／Ｔｐが、０．４〜０．５５の範囲内とされる。すなわ
ち、例えば、トラックピッチＴｐが０．９５μｍのと
き、ピット５の幅Ｐｗは、０．３８〜０．５２μｍ程度
とされる。
【００１７】この光ディスク１では、ピット５の幅Ｐｗ
とトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを、従来の光記
録媒体よりも大きくし、０．４〜０．５５としている。
したがって、ピット５の幅Ｐｗをあまり狭くすることな
く、トラックピッチＴｐを狭くして、高記録密度化を図
ることできる。なお、ピット５の幅Ｐｗとトラックピッ
チＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを大きくしても、後述する評価
結果からも分かるように、トラッキングサーボを３スポ
ット法ではなく、プッシュプル法又は差動プッシュプル
法により行うようにすれば、十分に安定にトラッキング
サーボを行うことができる。
とトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを、従来の光記
録媒体よりも大きくし、０．４〜０．５５としている。
したがって、ピット５の幅Ｐｗをあまり狭くすることな
く、トラックピッチＴｐを狭くして、高記録密度化を図
ることできる。なお、ピット５の幅Ｐｗとトラックピッ
チＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを大きくしても、後述する評価
結果からも分かるように、トラッキングサーボを３スポ
ット法ではなく、プッシュプル法又は差動プッシュプル
法により行うようにすれば、十分に安定にトラッキング
サーボを行うことができる。
【００１８】なお、本発明に係る光記録再生装置では、
記録媒体として、上述した光ディスク１のように、ピッ
ト５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが
０．４〜０．５５とされた記録媒体を用いる。そして、
記録及び／又は再生時には、このような記録媒体に光ビ
ームを照射し、その反射光からプッシュプル法又は差動
プッシュプル法により、トラッキングサーボエラー信号
を検出してトラッキングサーボを行う。このような光記
録再生装置では、プッシュプル法又は差動プッシュプル
法によりトラッキングサーボを行うことで、ピット５の
幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐの値が大
きな光ディスクであっても、安定にトラッキングサーボ
を行うことができる。
記録媒体として、上述した光ディスク１のように、ピッ
ト５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが
０．４〜０．５５とされた記録媒体を用いる。そして、
記録及び／又は再生時には、このような記録媒体に光ビ
ームを照射し、その反射光からプッシュプル法又は差動
プッシュプル法により、トラッキングサーボエラー信号
を検出してトラッキングサーボを行う。このような光記
録再生装置では、プッシュプル法又は差動プッシュプル
法によりトラッキングサーボを行うことで、ピット５の
幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐの値が大
きな光ディスクであっても、安定にトラッキングサーボ
を行うことができる。
【００１９】＜レーザカッティング装置＞以上のような
光ディスク１を製造する際には、当該光ディスク１の原
盤となる光記録媒体製造用原盤の作製にレーザカッティ
ング装置が使用される。以下、光記録媒体製造用原盤の
作製に使用されるレーザカッティング装置の一例につい
て、図３を参照して詳細に説明する。
光ディスク１を製造する際には、当該光ディスク１の原
盤となる光記録媒体製造用原盤の作製にレーザカッティ
ング装置が使用される。以下、光記録媒体製造用原盤の
作製に使用されるレーザカッティング装置の一例につい
て、図３を参照して詳細に説明する。
【００２０】図３に示したレーザカッティング装置１０
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して、光ディスク１のピット５に対応した潜像
を形成するためのものである。このレーザカッティング
装置１０でフォトレジスト１２に潜像を形成する際、フ
ォトレジスト１２が塗布されたガラス基板１１は、移動
光学テーブル上に設けられた回転駆動装置に取り付けら
れる。そして、フォトレジスト１２を露光する際、ガラ
ス基板１１は、フォトレジスト１２の全面にわたって所
望のパターンでの露光がなされるように、図中矢印Ａに
示すように回転駆動装置によって回転駆動されるととも
に、移動光学テーブルによって平行移動される。
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して、光ディスク１のピット５に対応した潜像
を形成するためのものである。このレーザカッティング
装置１０でフォトレジスト１２に潜像を形成する際、フ
ォトレジスト１２が塗布されたガラス基板１１は、移動
光学テーブル上に設けられた回転駆動装置に取り付けら
れる。そして、フォトレジスト１２を露光する際、ガラ
ス基板１１は、フォトレジスト１２の全面にわたって所
望のパターンでの露光がなされるように、図中矢印Ａに
示すように回転駆動装置によって回転駆動されるととも
に、移動光学テーブルによって平行移動される。
【００２１】このレーザカッティング装置１０は、レー
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光を反射光と透過光とに
分割するビームスプリッタ１５と、ビームスプリッタ１
５を透過してきたレーザ光を検出するフォトディテクタ
（ＰＤ：Photo Detector）１６と、電気光学変調器１４
に対して信号電界を印加して当該電気光学変調器１４か
ら出射されるレーザ光強度を調整するオートパワーコン
トローラ（ＡＰＣ：Auto Power Controller）１７とを
備えている。
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光を反射光と透過光とに
分割するビームスプリッタ１５と、ビームスプリッタ１
５を透過してきたレーザ光を検出するフォトディテクタ
（ＰＤ：Photo Detector）１６と、電気光学変調器１４
に対して信号電界を印加して当該電気光学変調器１４か
ら出射されるレーザ光強度を調整するオートパワーコン
トローラ（ＡＰＣ：Auto Power Controller）１７とを
備えている。
【００２２】上記レーザカッティング装置１０におい
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ１７から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度
とされる。
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ１７から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度
とされる。
【００２３】なお、光源１３には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが４１３ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが４１３ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。
【００２４】そして、電気光学変調器１４から出射され
たレーザ光は、先ず、ビームスプリッタ１５によって反
射光と透過光とに分けられる。
たレーザ光は、先ず、ビームスプリッタ１５によって反
射光と透過光とに分けられる。
【００２５】ビームスプリッタ１５を透過したレーザ光
は、フォトディテクタ１６によって、その光強度が検出
され、当該光強度に応じた信号がフォトディテクタ１６
からオートパワーコントローラ１７に送られる。そし
て、フォトディテクタ１６から送られてきた信号に応じ
て、オートパワーコントローラ１７は、フォトディテク
タ１６によって検出される光強度が所定のレベルにて一
定となるように、電気光学変調器１４に対して印加する
信号電界を調整する。これにより、電気光学変調器１４
から出射するレーザ光の光強度が一定となるように、自
動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）が施され、
ノイズの少ない安定したレーザ光が得られる。
は、フォトディテクタ１６によって、その光強度が検出
され、当該光強度に応じた信号がフォトディテクタ１６
からオートパワーコントローラ１７に送られる。そし
て、フォトディテクタ１６から送られてきた信号に応じ
て、オートパワーコントローラ１７は、フォトディテク
タ１６によって検出される光強度が所定のレベルにて一
定となるように、電気光学変調器１４に対して印加する
信号電界を調整する。これにより、電気光学変調器１４
から出射するレーザ光の光強度が一定となるように、自
動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）が施され、
ノイズの少ない安定したレーザ光が得られる。
【００２６】一方、ビームスプリッタ１５によって反射
されたレーザ光は、フォトレジスト１２を露光するため
の露光ビームとなる。この露光ビームは、変調光学系２
１に導かれ、変調光学系２１によって光強度変調が施さ
れる。
されたレーザ光は、フォトレジスト１２を露光するため
の露光ビームとなる。この露光ビームは、変調光学系２
１に導かれ、変調光学系２１によって光強度変調が施さ
れる。
【００２７】そして、変調光学系２１に入射した露光ビ
ームは、集光レンズ２２によって集光された上で音響光
学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modulator）２３
に入射し、この音響光学変調器２３によって、所望する
露光パターンに対応するように光強度変調される。ここ
で、音響光学変調器２３に使用される音響光学素子とし
ては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2）からなる音響光
学素子が好適である。そして、音響光学変調器２３によ
って光強度変調された露光ビームは、コリメートレンズ
２４によって平行光とされた上で、変調光学系２１から
出射される。
ームは、集光レンズ２２によって集光された上で音響光
学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modulator）２３
に入射し、この音響光学変調器２３によって、所望する
露光パターンに対応するように光強度変調される。ここ
で、音響光学変調器２３に使用される音響光学素子とし
ては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2）からなる音響光
学素子が好適である。そして、音響光学変調器２３によ
って光強度変調された露光ビームは、コリメートレンズ
２４によって平行光とされた上で、変調光学系２１から
出射される。
【００２８】ここで、音響光学変調器２３には、当該音
響光学変調器２３を駆動するための駆動用ドライバ２５
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓが駆
動用ドライバ２５に入力され、当該信号Ｓに応じて駆動
用ドライバ２５によって音響光学変調器２３が駆動さ
れ、露光ビームに対して光強度変調が施される。
響光学変調器２３を駆動するための駆動用ドライバ２５
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓが駆
動用ドライバ２５に入力され、当該信号Ｓに応じて駆動
用ドライバ２５によって音響光学変調器２３が駆動さ
れ、露光ビームに対して光強度変調が施される。
【００２９】具体的には、例えば、２−８変調が施され
たピットパターンの潜像をフォトレジスト１２に形成す
るような場合には、２−８変調が施されたピットパター
ンに対応した変調信号が駆動用ドライバ２５に入力さ
れ、当該変調信号に応じて駆動用ドライバ２５によって
音響光学変調器２３が駆動される。これにより、２−８
変調が施されたピットパターンに対応するように、露光
ビームに対して光強度変調が施される。
たピットパターンの潜像をフォトレジスト１２に形成す
るような場合には、２−８変調が施されたピットパター
ンに対応した変調信号が駆動用ドライバ２５に入力さ
れ、当該変調信号に応じて駆動用ドライバ２５によって
音響光学変調器２３が駆動される。これにより、２−８
変調が施されたピットパターンに対応するように、露光
ビームに対して光強度変調が施される。
【００３０】以上のように変調光学系２１によって光強
度変調が施された露光ビームは、ミラー２６によって反
射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれ
る。そして、この露光ビームは、拡大レンズ２７によっ
て所定のビーム径とされた上でミラー２８によって反射
されて対物レンズ２９へと導かれ、当該対物レンズ２９
によってフォトレジスト１２上に集光される。これによ
り、フォトレジスト１２が露光され、フォトレジスト１
２に潜像が形成されることとなる。このとき、フォトレ
ジスト１２が塗布されているガラス基板１１は、上述し
たように、フォトレジスト１２の全面にわたって所望の
パターンでの露光がなされるように、図中矢印Ａに示す
ように回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、
移動光学テーブルによって平行移動される。この結果、
露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト
１２の全面にわたって形成されることとなる。
度変調が施された露光ビームは、ミラー２６によって反
射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれ
る。そして、この露光ビームは、拡大レンズ２７によっ
て所定のビーム径とされた上でミラー２８によって反射
されて対物レンズ２９へと導かれ、当該対物レンズ２９
によってフォトレジスト１２上に集光される。これによ
り、フォトレジスト１２が露光され、フォトレジスト１
２に潜像が形成されることとなる。このとき、フォトレ
ジスト１２が塗布されているガラス基板１１は、上述し
たように、フォトレジスト１２の全面にわたって所望の
パターンでの露光がなされるように、図中矢印Ａに示す
ように回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、
移動光学テーブルによって平行移動される。この結果、
露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト
１２の全面にわたって形成されることとなる。
【００３１】なお、露光ビームをフォトレジスト１２の
上に集光するための対物レンズ２９は、より微細なピッ
トパターンを形成できるようにするために、開口数ＮＡ
が大きい方が好ましく、具体的には、開口数ＮＡが０．
９程度の対物レンズが好適である。
上に集光するための対物レンズ２９は、より微細なピッ
トパターンを形成できるようにするために、開口数ＮＡ
が大きい方が好ましく、具体的には、開口数ＮＡが０．
９程度の対物レンズが好適である。
【００３２】また、このように露光ビームをフォトレジ
スト１２に照射する際は、必要に応じて、拡大レンズ２
７によって露光ビームのビーム径を変化させ、対物レン
ズ２９に対する有効開口数を調整するようにしてもよ
い。これにより、フォトレジスト１２の表面に集光され
る露光ビームのスポット径を変化させることができる。
スト１２に照射する際は、必要に応じて、拡大レンズ２
７によって露光ビームのビーム径を変化させ、対物レン
ズ２９に対する有効開口数を調整するようにしてもよ
い。これにより、フォトレジスト１２の表面に集光され
る露光ビームのスポット径を変化させることができる。
【００３３】＜光ディスクの製造方法＞つぎに、図１及
び図２に示した光ディスク１の製造方法について、具体
的な一例を挙げて詳細に説明する。
び図２に示した光ディスク１の製造方法について、具体
的な一例を挙げて詳細に説明する。
【００３４】光ディスクを作製する際は、先ず、原盤工
程として、光ディスク１のディスク基板２に形成される
ピット５に対応した凹凸パターンを有する光記録媒体製
造用原盤を作製する。
程として、光ディスク１のディスク基板２に形成される
ピット５に対応した凹凸パターンを有する光記録媒体製
造用原盤を作製する。
【００３５】この原盤工程においては、先ず、表面を研
磨した円盤状のガラス基板１１を洗浄し乾燥させ、その
後、このガラス基板１１上に感光材料であるフォトレジ
スト１２を塗布する。次に、このフォトレジスト１２を
上記レーザカッティング装置１０によって露光し、ピッ
ト５に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
磨した円盤状のガラス基板１１を洗浄し乾燥させ、その
後、このガラス基板１１上に感光材料であるフォトレジ
スト１２を塗布する。次に、このフォトレジスト１２を
上記レーザカッティング装置１０によって露光し、ピッ
ト５に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【００３６】なお、後述する評価用光ディスクを作製す
る際、レーザカッティング装置１０の光源１３には、波
長λが４１３ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレーザを使
用し、露光ビームをフォトレジスト１２上に集光するた
めの対物レンズ２９には、開口数ＮＡが０．９のものを
使用した。
る際、レーザカッティング装置１０の光源１３には、波
長λが４１３ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレーザを使
用し、露光ビームをフォトレジスト１２上に集光するた
めの対物レンズ２９には、開口数ＮＡが０．９のものを
使用した。
【００３７】また、後述する評価用光ディスクを作製す
る際、上記レーザカッティング装置１０の変調光学系２
１において、集光レンズ２２には焦点距離が８０ｍｍの
レンズを使用し、コリメートレンズ２４には焦点距離が
８０ｍｍのレンズを使用した。また、拡大レンズ２７に
は、焦点距離が６０ｍｍ、８０ｍｍ又は１００ｍｍのレ
ンズを使用した。
る際、上記レーザカッティング装置１０の変調光学系２
１において、集光レンズ２２には焦点距離が８０ｍｍの
レンズを使用し、コリメートレンズ２４には焦点距離が
８０ｍｍのレンズを使用した。また、拡大レンズ２７に
は、焦点距離が６０ｍｍ、８０ｍｍ又は１００ｍｍのレ
ンズを使用した。
【００３８】そして、フォトレジスト１２をレーザカッ
ティング装置１０によって露光することにより、ピット
５に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際
は、変調光学系２１により露光ビームに対して光強度変
調を施す。具体的には、例えば、２−８変調が施された
ピットパターンに対応した変調信号を駆動用ドライバ２
５に入力し、当該変調信号に基づいて駆動用ドライバ２
５によって音響光学変調器２３を駆動し、これにより、
２−８変調が施されたピットパターンに対応するよう
に、露光ビームに対して光強度変調を施す。そして、こ
のように光強度変調を施した露光ビームを、対物レンズ
２９によってフォトレジスト１２上に集光することによ
り、フォトレジスト１２を露光し、ピット５に対応した
潜像をフォトレジスト１２に形成する。
ティング装置１０によって露光することにより、ピット
５に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際
は、変調光学系２１により露光ビームに対して光強度変
調を施す。具体的には、例えば、２−８変調が施された
ピットパターンに対応した変調信号を駆動用ドライバ２
５に入力し、当該変調信号に基づいて駆動用ドライバ２
５によって音響光学変調器２３を駆動し、これにより、
２−８変調が施されたピットパターンに対応するよう
に、露光ビームに対して光強度変調を施す。そして、こ
のように光強度変調を施した露光ビームを、対物レンズ
２９によってフォトレジスト１２上に集光することによ
り、フォトレジスト１２を露光し、ピット５に対応した
潜像をフォトレジスト１２に形成する。
【００３９】なお、このようにフォトレジスト１２を露
光して、ピット５に対応した潜像を形成する際は、フォ
トレジスト１２が塗布形成されているガラス基板１１
を、所定の回転速度にて回転駆動させるとともに、所定
の速度にて平行移動させる。
光して、ピット５に対応した潜像を形成する際は、フォ
トレジスト１２が塗布形成されているガラス基板１１
を、所定の回転速度にて回転駆動させるとともに、所定
の速度にて平行移動させる。
【００４０】具体的には、後述する評価用光ディスクを
作製する際、ガラス基板１１の回転速度は、露光ビーム
による光スポットとフォトレジスト１２との相対的な移
動速度が線速１．０ｍ／ｓｅｃとなるようにした。そし
て、当該ガラス基板１１を１回転毎に０．９５μｍ（す
なわちトラックピッチＴｐの分）だけ、移動光学テーブ
ルによってガラス基板１１の半径方向に平行移動させ
た。
作製する際、ガラス基板１１の回転速度は、露光ビーム
による光スポットとフォトレジスト１２との相対的な移
動速度が線速１．０ｍ／ｓｅｃとなるようにした。そし
て、当該ガラス基板１１を１回転毎に０．９５μｍ（す
なわちトラックピッチＴｐの分）だけ、移動光学テーブ
ルによってガラス基板１１の半径方向に平行移動させ
た。
【００４１】以上のように露光ビームによってフォトレ
ジスト１２を露光することにより、例えば２−８変調が
施されたピットパターンに対応した潜像が、スパイラル
状又は同心円状にフォトレジスト１２に形成される。
ジスト１２を露光することにより、例えば２−８変調が
施されたピットパターンに対応した潜像が、スパイラル
状又は同心円状にフォトレジスト１２に形成される。
【００４２】そして、以上のようにしてフォトレジスト
１２に潜像を形成した後、フォトレジスト１２が塗布さ
れている面が上面となるように、ガラス基板１１を現像
機のターンテーブル上に載置する。そして、当該ターン
テーブルを回転させることによりガラス基板１１を回転
させながら、フォトレジスト１２上に現像液を滴下して
現像処理を施して、ガラス基板１１上にピット５に対応
した凹凸パターンを形成する。
１２に潜像を形成した後、フォトレジスト１２が塗布さ
れている面が上面となるように、ガラス基板１１を現像
機のターンテーブル上に載置する。そして、当該ターン
テーブルを回転させることによりガラス基板１１を回転
させながら、フォトレジスト１２上に現像液を滴下して
現像処理を施して、ガラス基板１１上にピット５に対応
した凹凸パターンを形成する。
【００４３】次に、上記凹凸パターン上に無電界メッキ
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板１１を電鋳装置に取り付
け、電気メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメ
ッキ層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成
する。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキ
をアセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写され
た面に残存しているフォトレジスト１２を除去する。
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板１１を電鋳装置に取り付
け、電気メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメ
ッキ層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成
する。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキ
をアセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写され
た面に残存しているフォトレジスト１２を除去する。
【００４４】以上の工程により、ガラス基板１１上に形
成されていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる
光記録媒体製造用原盤、すなわち、ピット５に対応した
凹凸パターンが形成された光記録媒体製造用原盤が完成
する。
成されていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる
光記録媒体製造用原盤、すなわち、ピット５に対応した
凹凸パターンが形成された光記録媒体製造用原盤が完成
する。
【００４５】次に、転写工程として、フォトポリマー法
（いわゆる２Ｐ法）を用いて、上記光記録媒体製造用原
盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２を作製す
る。
（いわゆる２Ｐ法）を用いて、上記光記録媒体製造用原
盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２を作製す
る。
【００４６】具体的には、先ず、光記録媒体製造用原盤
の凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平
滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フ
ォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、
フォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。こ
こで、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポ
リメチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベ
ースプレートを使用する。
の凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平
滑に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フ
ォトポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、
フォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。こ
こで、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポ
リメチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベ
ースプレートを使用する。
【００４７】その後、紫外線を照射してフォトポリマー
を硬化させ、その後、光記録媒体製造用原盤を剥離する
ことにより、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写さ
れてなるディスク基板（いわゆる２Ｐディスク）を作製
する。
を硬化させ、その後、光記録媒体製造用原盤を剥離する
ことにより、光記録媒体製造用原盤の表面形状が転写さ
れてなるディスク基板（いわゆる２Ｐディスク）を作製
する。
【００４８】なお、ここでは、光記録媒体製造用原盤に
形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板２に
転写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板２を作
製する例を挙げたが、ディスク基板２を量産するような
場合には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネー
ト等の透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板
２を作製するようにしても良いことは言うまでもない。
形成された凹凸パターンがより正確にディスク基板２に
転写されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板２を作
製する例を挙げたが、ディスク基板２を量産するような
場合には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネー
ト等の透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板
２を作製するようにしても良いことは言うまでもない。
【００４９】次に、成膜工程として、光記録媒体製造用
原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２の上に
光反射層３及び保護層４を形成する。具体的には、例え
ば、先ず、ディスク基板２の凹凸パターンが形成された
面上に、Ａｌ等からなる光反射層３を蒸着やスパッタリ
ング等によって成膜し、その後、上記光反射層３の上に
紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、当該紫
外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化させることに
より、保護層４を形成する。
原盤の表面形状が転写されてなるディスク基板２の上に
光反射層３及び保護層４を形成する。具体的には、例え
ば、先ず、ディスク基板２の凹凸パターンが形成された
面上に、Ａｌ等からなる光反射層３を蒸着やスパッタリ
ング等によって成膜し、その後、上記光反射層３の上に
紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、当該紫
外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化させることに
より、保護層４を形成する。
【００５０】以上の工程により、光ディスク１が完成す
る。
る。
【００５１】＜光ディスクの評価＞つぎに、上述のよう
な製造方法にて、ピット５の幅Ｐｗの異なる複数の評価
用光ディスクを作製し、それらの評価を行った結果につ
いて説明する。
な製造方法にて、ピット５の幅Ｐｗの異なる複数の評価
用光ディスクを作製し、それらの評価を行った結果につ
いて説明する。
【００５２】ここで、ピット５の幅Ｐｗの制御は、光記
録媒体製造用原盤作製時の露光ビームのパワーを変化さ
せたり、当該露光ビームのスポット径を拡大レンズ２７
を交換して変化させたりすることにより行った。すなわ
ち、評価用光ディスクの評価を行うにあたっては、ま
ず、ピット５に対応した潜像を形成するための露光ビー
ムのパワーやスポット径を変化させて、複数の光記録媒
体製造用原盤を作製し、その後、それらの光記録媒体製
造用原盤を用いて２Ｐ法により評価用光ディスクを作製
した。なお、評価用光ディスクのディスク基板の材料に
は、屈折率１．４９のポリメチルメタクリレートを使用
した。
録媒体製造用原盤作製時の露光ビームのパワーを変化さ
せたり、当該露光ビームのスポット径を拡大レンズ２７
を交換して変化させたりすることにより行った。すなわ
ち、評価用光ディスクの評価を行うにあたっては、ま
ず、ピット５に対応した潜像を形成するための露光ビー
ムのパワーやスポット径を変化させて、複数の光記録媒
体製造用原盤を作製し、その後、それらの光記録媒体製
造用原盤を用いて２Ｐ法により評価用光ディスクを作製
した。なお、評価用光ディスクのディスク基板の材料に
は、屈折率１．４９のポリメチルメタクリレートを使用
した。
【００５３】そして、このように作製した、ピット５の
幅Ｐｗの異なる複数の評価用光ディスクについて、トラ
ッキングサーボ特性を評価するとともに、再生信号のジ
ッター値を測定した。なお、トラッキングサーボ特性の
評価は、３スポット法でトラッキングサーボを行った場
合と、プッシュプル法でトラッキングサーボを行った場
合と、差動プッシュプル法でトラッキングサーボを行っ
た場合とについて、それぞれ行った。ここで、トラッキ
ングサーボ特性の評価、並びにジッター値の測定には、
レーザ光の波長λが６５０ｎｍ、対物レンズの開口数Ｎ
Ａが０．５２の光ピックアップを用いた。
幅Ｐｗの異なる複数の評価用光ディスクについて、トラ
ッキングサーボ特性を評価するとともに、再生信号のジ
ッター値を測定した。なお、トラッキングサーボ特性の
評価は、３スポット法でトラッキングサーボを行った場
合と、プッシュプル法でトラッキングサーボを行った場
合と、差動プッシュプル法でトラッキングサーボを行っ
た場合とについて、それぞれ行った。ここで、トラッキ
ングサーボ特性の評価、並びにジッター値の測定には、
レーザ光の波長λが６５０ｎｍ、対物レンズの開口数Ｎ
Ａが０．５２の光ピックアップを用いた。
【００５４】トラッキングサーボ特性の評価、及び再生
信号のジッター値の測定の結果を、光記録媒体製造用原
盤作製時の露光条件、及び光ディスク１に形成されたピ
ットパターンに関する値とともに、表１に示す。なお、
評価用光ディスクに形成されたピット５の幅Ｐｗの測定
は、実際には、評価用光ディスク自体を測定するのでは
なく、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターン
を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Micros
cope）で測定することにより行った。すなわち、ここで
は、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンが
ディスク基板に精度良く転写されるものと仮定し、光記
録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンの形状を測
定した結果を、評価用光ディスクに形成されたピット５
の幅Ｐｗを示す値として用いた。
信号のジッター値の測定の結果を、光記録媒体製造用原
盤作製時の露光条件、及び光ディスク１に形成されたピ
ットパターンに関する値とともに、表１に示す。なお、
評価用光ディスクに形成されたピット５の幅Ｐｗの測定
は、実際には、評価用光ディスク自体を測定するのでは
なく、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターン
を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Micros
cope）で測定することにより行った。すなわち、ここで
は、光記録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンが
ディスク基板に精度良く転写されるものと仮定し、光記
録媒体製造用原盤に形成された凹凸パターンの形状を測
定した結果を、評価用光ディスクに形成されたピット５
の幅Ｐｗを示す値として用いた。
【００５５】
【表１】
【００５６】表１に示すように、３スポット法でトラッ
キングサーボを行ったのでは、ピット５の幅Ｐｗとトラ
ックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが０．４を越えるよう
になると、安定にトラッキングサーボを行うことができ
なくなってしまった。
キングサーボを行ったのでは、ピット５の幅Ｐｗとトラ
ックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが０．４を越えるよう
になると、安定にトラッキングサーボを行うことができ
なくなってしまった。
【００５７】しかし、プッシュプル法又は差動プッシュ
プル法でトラッキングサーボを行うようにすれば、ピッ
ト５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが
０．４を越えても、安定にトラッキングサーボを行うこ
とが可能であった。
プル法でトラッキングサーボを行うようにすれば、ピッ
ト５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが
０．４を越えても、安定にトラッキングサーボを行うこ
とが可能であった。
【００５８】すなわち、ピット５の幅Ｐｗとトラックピ
ッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを０．４以上とした光ディス
ク１においても、プッシュプル法又は差動プッシュプル
法でトラッキングサーボを行うようにすれば、安定にト
ラッキングサーボを行うことが可能となる。
ッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐを０．４以上とした光ディス
ク１においても、プッシュプル法又は差動プッシュプル
法でトラッキングサーボを行うようにすれば、安定にト
ラッキングサーボを行うことが可能となる。
【００５９】そして、ピット５の幅Ｐｗとトラックピッ
チＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが大きければ、ピット５の幅Ｐ
ｗをあまり狭くすることなく、トラックピッチＴｐを狭
くすることが可能となり、高記録密度化を図ることがで
きる。すなわち、本発明を適用した光ディスク１では、
ピット５の幅Ｐｗをあまり狭くすることなく、トラック
ピッチＴｐだけを狭くして、高記録密度化を図ることが
できる。
チＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが大きければ、ピット５の幅Ｐ
ｗをあまり狭くすることなく、トラックピッチＴｐを狭
くすることが可能となり、高記録密度化を図ることがで
きる。すなわち、本発明を適用した光ディスク１では、
ピット５の幅Ｐｗをあまり狭くすることなく、トラック
ピッチＴｐだけを狭くして、高記録密度化を図ることが
できる。
【００６０】ところで、ピット５の幅Ｐｗとトラックピ
ッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐがあまりに大きくなると、表
１に示すように、再生信号のジッター値が悪くなってし
まう。一般に、再生信号のジッター値は、８％程度以下
に抑えることが要求されている。そこで、本発明では、
ピット５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔ
ｐを０．５５以下と規定している。表１からも分かるよ
うに、ピット５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐ
ｗ／Ｔｐが０．５５以下であれば、再生信号のジッター
値は８％以下となる。
ッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐがあまりに大きくなると、表
１に示すように、再生信号のジッター値が悪くなってし
まう。一般に、再生信号のジッター値は、８％程度以下
に抑えることが要求されている。そこで、本発明では、
ピット５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔ
ｐを０．５５以下と規定している。表１からも分かるよ
うに、ピット５の幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐ
ｗ／Ｔｐが０．５５以下であれば、再生信号のジッター
値は８％以下となる。
【００６１】なお、本発明は、情報信号を示すピットが
記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体、並び
にその製造に使用される光記録媒体製造用原盤に対して
広く適用可能であり、本発明の対象となる光記録媒体
は、再生専用の光記録媒体に限定される訳ではない。す
なわち、グルーブ等が形成されデータの書き込みが可能
とされた光記録媒体であっても、情報信号を示すピット
が記録トラックに沿って形成されてなる領域を有してい
るならば、本発明適用の対象となりうる。
記録トラックに沿って形成されてなる光記録媒体、並び
にその製造に使用される光記録媒体製造用原盤に対して
広く適用可能であり、本発明の対象となる光記録媒体
は、再生専用の光記録媒体に限定される訳ではない。す
なわち、グルーブ等が形成されデータの書き込みが可能
とされた光記録媒体であっても、情報信号を示すピット
が記録トラックに沿って形成されてなる領域を有してい
るならば、本発明適用の対象となりうる。
【００６２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、光記録媒体の狭トラック化を図り、光記録媒
体の更なる高記録密度化を実現することが可能となる。
によれば、光記録媒体の狭トラック化を図り、光記録媒
体の更なる高記録密度化を実現することが可能となる。
【図１】本発明を適用した光ディスクの一例について、
その要部を拡大して示す断面図である。
その要部を拡大して示す断面図である。
【図２】本発明を適用した光ディスクの一例について、
その記録領域の一部を拡大して示す図である。
その記録領域の一部を拡大して示す図である。
【図３】本発明に係る光記録媒体及び光記録媒体製造用
原盤を作製する際に使用されるレーザカッティング装置
の一例について、その光学系の概要を示す図である。
原盤を作製する際に使用されるレーザカッティング装置
の一例について、その光学系の概要を示す図である。
１ 光ディスク、 ２ ディスク基板、 ３ 光反射
層、 ４ 保護層、 ５ピット
層、 ４ 保護層、 ５ピット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有馬 光雄 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 WB11 WC03 5D090 AA01 BB01 BB02 FF02 GG07 5D121 AA01 BA01
Claims (6)
- 【請求項１】 情報信号を示すピットが記録トラックに
沿って形成されてなる光記録媒体であって、 上記ピットの幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／
Ｔｐが、０．４〜０．５５の範囲内にあることを特徴と
する光記録媒体。 - 【請求項２】 プッシュプル法又は差動プッシュプル法
によりトラッキングサーボが行われることを特徴とする
請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 情報信号を示すピットが記録トラックに
沿って形成されてなる光記録媒体を製造する際の型とな
る光記録媒体製造用原盤であって、 上記光記録媒体に形成されるピットの幅Ｐｗとトラック
ピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔｐが、０．４〜０．５５の範
囲内にあることを特徴とする光記録媒体製造用原盤。 - 【請求項４】 上記光記録媒体は、プッシュプル法又は
差動プッシュプル法によりトラッキングサーボが行われ
ることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体製造用原
盤。 - 【請求項５】 情報信号を示すピットが記録トラックに
沿って形成されてなる光記録媒体に対して、光を照射し
て記録及び／又は再生を行う光記録再生装置であって、 記録及び／又は再生の対象となる光記録媒体に形成され
たピットの幅ＰｗとトラックピッチＴｐとの比Ｐｗ／Ｔ
ｐが、０．４〜０．５５の範囲内にあることを特徴とす
る光記録再生装置。 - 【請求項６】 プッシュプル法又は差動プッシュプル法
によりトラッキングサーボを行うことを特徴とする請求
項５記載の光記録再生装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10211499A JP2000048409A (ja) | 1998-07-27 | 1998-07-27 | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 |
| US09/354,239 US6349085B1 (en) | 1998-07-27 | 1999-07-16 | High density recording medium with pit width to track pitch ratio in the range of 0.4 to 0.55 for push-pull tracking servo control |
| EP99114442A EP0982716B1 (en) | 1998-07-27 | 1999-07-22 | Optical recording medium and master to produce it |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10211499A JP2000048409A (ja) | 1998-07-27 | 1998-07-27 | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000048409A true JP2000048409A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16606964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10211499A Pending JP2000048409A (ja) | 1998-07-27 | 1998-07-27 | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6349085B1 (ja) |
| EP (1) | EP0982716B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000048409A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000149331A (ja) | 1998-11-02 | 2000-05-30 | Sony Corp | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置 |
| JP2000311352A (ja) * | 1999-04-26 | 2000-11-07 | Sharp Corp | 光ディスク及び光記録再生装置 |
| JP2002063747A (ja) * | 2000-08-18 | 2002-02-28 | Sony Corp | 記録媒体および記録媒体原盤ならびに記録媒体の製造方法 |
Citations (7)
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| JPH07210872A (ja) * | 1994-01-19 | 1995-08-11 | Toshiba Corp | 光ディスクおよび光ディスク装置 |
| JPH0887747A (ja) * | 1994-02-02 | 1996-04-02 | Sanyo Electric Co Ltd | ディスク及びディスク再生方法 |
| JPH08235642A (ja) * | 1996-03-11 | 1996-09-13 | Seiko Epson Corp | 光学式記録媒体用基板 |
| JPH0981969A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-03-28 | Toshiba Corp | 光ディスクおよび光ディスク装置 |
| JPH09204681A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-08-05 | Sony Corp | 記録媒体記録再生装置および記録媒体記録再生方法 |
| JPH1021565A (ja) * | 1996-07-03 | 1998-01-23 | Nippon Columbia Co Ltd | 光ピックアップ装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03142717A (ja) | 1989-10-27 | 1991-06-18 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク |
| US5602825A (en) | 1994-01-19 | 1997-02-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical disk and optical disk apparatus |
| US5838657A (en) | 1994-02-02 | 1998-11-17 | Sanyo Electric Co., Ltd. | High density optical disc and optical disc player |
| US5477527A (en) * | 1994-02-02 | 1995-12-19 | Sanyo Electric Co., Ltd. | High density optical disc and optical disc player |
| JP3268126B2 (ja) * | 1994-07-06 | 2002-03-25 | シャープ株式会社 | 光記録媒体 |
| JPH09306034A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-11-28 | Sony Corp | 光学式記録媒体 |
-
1998
- 1998-07-27 JP JP10211499A patent/JP2000048409A/ja active Pending
-
1999
- 1999-07-16 US US09/354,239 patent/US6349085B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-22 EP EP99114442A patent/EP0982716B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05197962A (ja) * | 1992-01-20 | 1993-08-06 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク及び光ディスク再生装置 |
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| JPH0887747A (ja) * | 1994-02-02 | 1996-04-02 | Sanyo Electric Co Ltd | ディスク及びディスク再生方法 |
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| JPH1021565A (ja) * | 1996-07-03 | 1998-01-23 | Nippon Columbia Co Ltd | 光ピックアップ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0982716B1 (en) | 2011-11-30 |
| EP0982716A1 (en) | 2000-03-01 |
| US6349085B1 (en) | 2002-02-19 |
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