JP2003045040A - 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、成形用スタンパ及びこれらの製造方法、ならびに光学記録再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＭＤ、ＤＶＤ等の各種の光記録媒体において
高記録密度化を可能とすると共に、良好な記録再生特性
が得られ、且つ高い歩留り、生産性をもって作製し得る
光記録媒体とその製造方法を提供し、また光記録媒体作
製用原盤、成形用スタンパとそれらの製造方法、更に光
記録媒体の記録再生方法を提供する。 【解決手段】 基板１上に少なくともピット８とウォブ
ルランド７とを有する光記録媒体１０にあって、少なく
とも記録領域にウォブルランド７を形成し、ピット８を
凹状パターンとして形成して、ウォブルランド７のラン
ド面７Ｓを情報記録面とし、この情報記録面上を覆って
全面的に、基板１に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜
６を形成して、この光透過性保護膜６側を、情報記録面
に対する照射光Ｌの入射面として構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体、光記
録媒体作製用原盤、成形用スタンパ及びこれらの製造方
法、ならびに光学記録再生方法に係わる。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体として、円盤状に形成されて
成り、光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディス
クが各種実用化されている。このような光ディスクに
は、データに対応したエンボスピットがディスク基板に
予め形成されて成る再生専用光ディスクや、磁気光学効
果を利用してデータの記録を行う光磁気ディスクや、記
録膜の相変化を利用してデータの記録を行う相変化型光
ディスクなどがある。

【０００３】これら光ディスクのうち、光磁気ディスク
や相変化型光ディスクのように書き込みが可能な光ディ
スクでは、通常、記録トラックに沿ったグルーブがディ
スク基板に形成される。ここで、グルーブとは、主にト
ラッキングサーボを行えるようにするために、記録トラ
ックに沿って形成される、いわゆる案内溝であり、グル
ーブとグルーブの開口端間をランドと称す。

【０００４】そしてこのような光ディスクに対する読み
出しの際には、再生光の戻り光を、例えばそれぞれ４分
割ダイオードによる１対の光検出素子に分岐して検出
し、クロストラック信号を、これら１対の光検出素子の
和信号として取り出していわゆるシークないしはトラバ
ースカウントを行い、プッシュプル信号によってトラッ
クエラー信号を取り出してトラッキングサーボを行って
いる。

【０００５】ところで、従来、これらの光ディスクで
は、再生装置に搭載される光ピックアップの再生分解能
を向上させることで、高記録密度化を達成してきた。そ
して、光ピックアップの再生分解能の向上は、主に、デ
ータの再生に使用するレーザ光の波長λを短くしたり、
光ディスク上にレーザ光を集光する対物レンズの開口数
ＮＡを大きくしたりすることにより、光学的に実現させ
てきた。

【０００６】また従来、ＣＤ（Compact Disc）の追記型
のいわゆるＣＤ−Ｒや書換え可能型のＣＤ−ＲＷ、光磁
気（ＭＯ；Magneto Optical)ディスクのＭＤ（Mini Dis
c ）や追記型のいわゆるＷＯＲＭ（Write Once Read Ma
ny）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）の追記型のＤ
ＶＤ−Ｒ、又はＤＶＤの書換え可能型のいわゆるＤＶＤ
＋ＲＷ或いはＤＶＤ−ＲＷ（いずれも光ディスクの登録
商標）の各フォーマットでは、グルーブに記録するグル
ーブ記録フォーマットが提案されている。ＩＳＯ系の光
磁気ディスクの各フォーマットでは、ランドに記録する
ランド記録フォーマットが提案されている。

【０００７】一方ＤＶＤ−ＲＡＭ（Random Access Memo
ry）等においては、光ディスクの高密度化を実現する一
つの方法として、グルーブとランドとの両方に記録する
ことにより、トラック密度を従来の２倍にして高記録密
度化をはかる、いわゆるランドグルーブ記録方式が提案
されている。

【０００８】また近年、次世代光ディスクとして開発が
進められているＤＶＲ（Digital Video Recordable）
や、ＭＤが小径化されたいわゆるμ（マイクロ）−Disc
等の高密度光ディスクにおいても、ランドグルーブ記録
方式が採られて、高記録密度化がはかられている。

【０００９】しかしながら、ＤＶＤ−ＲＡＭ等において
ランドグルーブ記録を行う場合、ランド上の記録とグル
ーブ上の記録において、記録再生時にフォーカス点をそ
れぞれ調節しないと最適な記録再生特性が得られないこ
とから、光学系の複雑化を招くという欠点があった。

【００１０】また、"ISOM 2000 Simulation Of Heat Ge
neration And Conduction On Land/Groove Disc"におい
て、ランド上の記録とグルーブ上の記録とにおいて、記
録ビーム形状が異なる報告があることからも明らかなよ
うに、ランド記録再生特性とグルーブ記録再生特性とを
均一化することは困難であり、同一の光記録媒体におい
て、記録再生特性の異なる領域が存在するという問題が
ある。

【００１１】更にまた、ＤＶＲ等の高密度光ディスクに
おいて、読み取り面に近い方、即ちＤＶＲの場合はラン
ド上の記録再生特性は良好であるが、読み取り面から遠
い方、即ちＤＶＲの場合グルーブでの記録再生特性を良
好に保持することは困難な結果を得ている。従って、こ
のようなＤＶＲ等の高密度光ディスクにおいて、ＤＶＤ
−ＲＯＭ（Read Only Memory）ディスクの信号を直接記
録することは可能ではあるが、ランドグルーブ記録方式
を採って両方のトラックに記録再生する場合の記録再生
特性を良好で且つ均一にすることは実現できていない。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】また、近年ＤＶＲ等の
高密度光ディスクにおいて、図９にその模式的な平面構
成を示すように、ディスクのライセンス供与データ等が
バーコードなどにより記録される内周側のＢＣＡ（Burs
t Cutting Area）領域２２、ディスク自体のＴＯＣ（Ta
ble Of Contents ）等の情報がピット又は図示のように
矩形ウォブルとして記録されるＰＩＣ（Permanet Infor
mation & Control data ）領域２３、更に外周側に記録
再生用等の記録領域２４が設けられて構成される。

【００１３】そして図９に示すように、ＢＣＡ領域２２
は例えばストレート状のグルーブ１７、ＰＩＣ領域２３
では矩形ウォブルグルーブ１８、記録領域２４ではウォ
ブルグルーブ１９が形成され、各グルーブのトラックピ
ッチＴｐ₁ 〜Ｔｐ₃ は例えばＢＣＡ領域２２においてＴ
ｐ₁ ＝２０００ｎｍ、ＰＩＣ領域２３においてＴｐ₂＝
３５０ｎｍ、記録領域２４においてＴｐ₃ ＝３２０ｎｍ
に設定される。ウォブルグルーブの振幅量は例えばＰＩ
Ｃ領域２３においては±１００ｎｍ程度、記録領域２４
においては±１０ｎｍとされる。

【００１４】このように、今後の高密度光ディスクは記
録領域だけでなく、ＢＣＡ領域、ＰＩＣ領域等において
各種のグルーブ形状や、異なるトラックピッチのパター
ン、またグルーブ等がウォブルする場合はその振幅量が
大きく異なるなど、多様な凹凸形状を構成することが必
要となる。

【００１５】従って、記録領域における記録再生特性を
良好にすることだけでなく、その製造にあたって、例え
ば光記録媒体用の原盤を作製する際の原盤用基板上のフ
ォトレジストへのパターン露光及び現像、更にはスタン
パ製造工程の電気メッキ等による凹凸パターンの転写形
成、また基板製造工程の射出成形等など、各製造段階に
おいて、上述したような多様な構成の凹凸パターンを良
好な歩留りをもって形成することが要求されることとな
る。

【００１６】本発明は、上述したような各種の光記録媒
体において、高記録密度化を可能とすると共に、良好な
記録再生特性が得られる光記録媒体を提供することと、
これを高い歩留り、生産性をもって作製し得る光記録媒
体作製用原盤及び成形用スタンパと、これらの製造方法
を提供することを目的とする。また更に本発明は、上述
したような高記録密度の光記録媒体に対し、良好な記録
再生特性が得られる光学記録再生方法を提供することを
目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に少な
くともピットとウォブルランドとを有する光記録媒体に
あって、少なくとも記録領域にウォブルランドを形成
し、ピットを凹状パターンとして形成して、ウォブルラ
ンドのランド面を情報記録面とし、この情報記録面上を
覆って全面的に、基板に比し十分薄い薄膜の光透過性保
護膜を形成して、この光透過性保護膜側を、情報記録面
に対する照射光の入射面として構成する。

【００１８】また本発明は、上述の構成において、ウォ
ブルランドの幅を、ウォブルランド間に設けられるグル
ーブの幅に比し小として構成する。

【００１９】更に本発明による光記録媒体の製造方法
は、上述の構成による光記録媒体を作製し得る製造方法
であって、すなわち、少なくとも原盤用基板の上にフォ
トレジストを被着した後、このフォトレジストが残され
るパターンとして少なくともウォブルランドパターンを
パターニング形成し、フォトレジストが除去されるパタ
ーンとして少なくともピットパターンをパターニング形
成して光記録媒体作製用原盤を作製し、この光記録媒体
作製用原盤を転写して作製した成形用スタンパを用いて
基板を作製し、この基板上に、少なくとも記録層と、基
板に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜とを形成して光
記録媒体を製造する。

【００２０】または、原盤用基板の上のフォトレジスト
の未露光部として少なくともウォブルランドパターンを
形成し、フォトレジストの露光部として少なくともピッ
トパターンを形成して光記録媒体作製用原盤を作製し、
この原盤から光記録媒体を上述の方法と同様に製造す
る。

【００２１】また更に本発明による光記録媒体作製用原
盤及びその製造方法は、上述の光記録媒体の製造方法に
用い得る構成とする。すなわち、原盤用基板の上にフォ
トレジストを被着した後、所要のパターンの露光及び現
像がなされたフォトレジストに記録情報に対応するパタ
ーン、即ち前述したＴＯＣやＰＩＣ、又はウォブルグル
ーブ、ウォブルランド等の各種情報に対応するパターン
を形成する光記録媒体作製用原盤及びその製造方法にあ
って、現像後にフォトレジストが残されるパターンとし
て少なくともウォブルランドパターンを形成して、現像
後にフォトレジストが除去されるパターンとして少なく
ともピットパターンを形成して光記録媒体作製用原盤を
形成する。

【００２２】または、フォトレジストの未露光部として
少なくともウォブルランドパターンを形成し、フォトレ
ジストの露光部として少なくともピットパターンを形成
する。

【００２３】更に本発明による光記録媒体作製用原盤の
製造方法は、上述の各製造方法において、露光用光とし
て第１及び第２の光ビームを用い、第１の露光ビームに
よりピットパターンのパターン露光を行い、第１及び第
２の露光ビームに目的とするウォブルに対応する光偏向
処理を各々施した後、これら第１及び第２の露光ビーム
を近接する平行光軸上に再合成してこれら第１及び第２
のビームを所定の間隔に配置してフォトレジストにウォ
ブルランドパターンのパターン露光を行うと共に、第２
の露光ビームの照射領域と、隣接する他のウォブルラン
ドパターンを露光する際の第１の露光ビームの照射領域
とを、少なくとも一部重なるようにする。

【００２４】また更に本発明による成形用スタンパ及び
その製造方法は、上述の光記録媒体を作製し得る構成と
する。すなわち、光記録媒体作製用原盤を、現像後にフ
ォトレジストが残されるパターンとして少なくともウォ
ブルランドパターンを形成し、現像後にフォトレジスト
が除去されるパターンとして少なくともピットパターン
を形成して構成する。またはウォブルランドパターンを
未露光部として形成し、ピットパターンを露光部として
光記録媒体作製用原盤を形成して、この光記録媒体作製
用原盤を転写して成形用スタンパを作製する。

【００２５】上述したように、本発明は、基板上にピッ
トとウォブルランドとを有する光記録媒体にあって、特
にそのウォブルランドのランド面を情報記録面とし、こ
の上に形成された光透過性保護膜側から再生光を照射し
て記録を読み取る構成とすることから、再生時には、対
物レンズをより記録層に近接して配置した構成とするこ
とが出来て、高記録密度化をはかるために対物レンズの
開口数ＮＡを大きくしてもこま収差の増大を回避するこ
とができ、更に、ＮＡを大きく、再生光の波長λを短く
しても、スキューマージンの低下を回避することができ
て、高記録密度化従って大容量化をはかることができ
る。

【００２６】また本発明によれば、原盤用基板の上にフ
ォトレジストを被着して、現像後にフォトレジストが残
されるパターンとして少なくともウォブルランドパター
ンを形成し、現像後にこのフォトレジストが除去される
パターンとして少なくともピットパターンを形成する
か、またはウォブルランドパターンをフォトレジストの
未露光部として形成し、ピットパターンをフォトレジス
トの露光部として形成して光記録媒体作製用原盤を製造
する。

【００２７】すなわち、ポジ型のフォトレジストを用い
る場合は、露光部は現像後に除去され、未露光部は現像
後に残されるパターンとなるものであるが、上述した本
発明により光記録媒体作製用原盤を作製して、これを転
写して成形用スタンパを形成する場合は、成形用スタン
パのピットパターンの形状は凸状パターンとなる。

【００２８】したがって、高記録密度化に伴ってピット
が微細化された場合においても、凸状のピットパターン
を有する本発明構成の成形スタンパによって射出成形法
や２Ｐ(Photo-Polymerization)法等によって光記録媒体
の基板を成形する際に、良好に形状を保持しつつ転写成
形することができることとなり、ピットが凹状パターン
とされた成形用スタンパを用いて成形する場合に比し格
段に歩留りの向上、生産性の向上をはかることができ
る。

【００２９】更に本発明は、上述のウォブルランドパタ
ーンのパターン露光を行う際に、露光用光として第１及
び第２の光ビームを用い、第１の露光ビームによりピッ
トパターンのパターン露光を行い、各露光用光に目的と
するウォブルに対応する光偏向処理を施した後、これら
第１及び第２の露光ビームを近接する平行光軸上に再合
成して、各ビームが所定の間隔をもって配置されるよう
にしてフォトレジストにウォブルランドパターンのパタ
ーン露光を行うと共に、第２の露光ビームの照射領域
と、隣接する他のウォブルランドパターンを露光する際
の第１の露光ビームの照射領域とを、少なくとも一部重
なるようにするものであり、第１及び第２の露光ビーム
の間隔と、各ビームの幅とを適切に選定することによっ
て、ウォブルランドの幅とその間のグルーブの幅とを精
度良く制御することができる。例えば、ウォブルランド
の幅を、これに挟まれたグルーブの幅に比して確実に精
度良く小とすることが可能となる。

【００３０】従って、例えば相変化材料、光磁気記録材
料等より成る記録層を用いた光記録媒体のように、記録
後に記録層の記録マーク部の反射率が低下ないしは上昇
して、この部分における反射光量等が変化するように構
成された光記録媒体に適用する場合には、ウォブルラン
ドの幅をグルーブ幅より狭くすることによって、記録後
のクロストラック信号（ＣＴＳ）の出力レベルの低減化
を抑制して、安定したクロストラック信号を得て、シー
クないしはトラバースカウントを安定に行うことができ
る。

【００３１】また本発明は、ウォブルグルーブとウォブ
ルランドとを有する光記録媒体にあって、ウォブルラン
ドのランド面を情報記録面とし、ウォブルグルーブは凹
状パターンとして構成するものである。そしてこの情報
記録面上を覆って全面的に、少なくとも基板に比し十分
薄い薄膜の光透過性保護膜を形成して、この光透過性保
護膜側を、情報記録面に対する照射光の入射面として構
成する。

【００３２】また本発明による光記録媒体の製造方法
は、上述の構成による光記録媒体を作製し得る製造方法
であって、すなわち、少なくとも原盤用基板の上にフォ
トレジストを被着した後、フォトレジストが残されるパ
ターンとして少なくともウォブルランドパターンをパタ
ーニング形成し、フォトレジストが除去されるパターン
として少なくともウォブルグルーブパターンをパターニ
ング形成して光記録媒体作製用原盤を作製し、この光記
録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用スタンパを
用いて基板を作製し、基板上に、少なくとも記録層と、
基板に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜とを形成す
る。

【００３３】または、少なくとも原盤用基板の上にフォ
トレジストを被着した後、フォトレジストの未露光部と
して少なくともウォブルランドパターンをパターニング
形成し、フォトレジストの露光部として少なくともウォ
ブルグルーブパターンをパターニング形成して光記録媒
体作製用原盤を作製し、この後上述の製造方法と同様に
光記録媒体を作製する。

【００３４】更に本発明による光記録媒体作製用原盤及
びその製造方法は、上述の光記録媒体の製造方法に用い
得る構成とする。すなわち、原盤用基板の上にフォトレ
ジストを被着した後、現像後にフォトレジストが残され
るパターンとして少なくともウォブルランドパターンを
形成し、現像後にフォトレジストが除去されるパターン
として少なくともウォブルグルーブパターンを形成す
る。

【００３５】または、少なくともウォブルランドパター
ンをフォトレジストの未露光部として形成し、少なくと
もウォブルグルーブパターンをフォトレジストの露光部
として形成する。

【００３６】更に本発明は、上述の光記録媒体作製用原
盤の製造方法において、ウォブルランドパターンのパタ
ーン露光を行う際に、露光用光として第１の露光ビーム
及び第２の露光ビームを用い、第１の露光ビームにより
フォトレジストにウォブルグルーブのパターン露光を行
い、第１及び第２の露光ビームに目的とするウォブルに
対応する光偏向処理を各々施した後、第１及び第２の露
光ビームを近接する平行光軸上に再合成し、第１及び第
２の露光ビームを所定の間隔に配置してフォトレジスト
にウォブルランドのパターン露光を行うと共に、第２の
露光ビームの照射領域と、隣接する他のウォブルランド
パターンを露光する際の第１の露光ビームの照射領域と
を、少なくとも一部重なるようにする。

【００３７】また本発明による成形用スタンパ及びその
製造方法は、上述の光記録媒体を作製し得る構成とす
る。すなわち、原盤用基板の上にフォトレジストを被着
した後、少なくともウォブルランドパターンを、現像後
にフォトレジストが残されるパターンとして形成し、少
なくともウォブルグルーブパターンを現像後にフォトレ
ジストが除去されるパターンとして光記録媒体作製用原
盤を形成し、この光記録媒体作製用原盤から転写して形
成した成形用スタンパのウォブルランドパターンを凹状
パターンとし、ウォブルグルーブパターンを凸状パター
ンとして形成する。

【００３８】或いは、光記録媒体作製用原盤の少なくと
もウォブルランドパターンをフォトレジストの未露光部
として形成し、少なくともウォブルグルーブパターンを
フォトレジストの露光部として形成する。

【００３９】上述したように、本発明においては、ウォ
ブルグルーブとウォブルランドとを有する光記録媒体に
あっては、ウォブルランドを光記録媒体の記録領域に対
する照射光の入射面に突出する構成とし、ウォブルグル
ーブは凹状パターンとして形成し、ウォブルランドに記
録情報の記録再生を行う構成とするものである。

【００４０】このような本発明によれば、上述したよう
に第１及び第２の露光ビームを所定の間隔をもって配置
してフォトレジストに対し露光し、未露光部として少な
くともウォブルランドパターンを形成する一方、ウォブ
ルグルーブパターンは第１の露光ビームにより露光部と
して形成するようにし、すなわちポジ型フォトレジスト
を用いる場合は、ウォブルランドパターンを現像後にフ
ォトレジストが残されるパターンとして形成し、ウォブ
ルグルーブパターンを現像後にフォトレジストが除去さ
れるパターンとして形成することから、後段の実施の形
態において詳細に説明するように、例えばウォブルグル
ーブの振幅が比較的広いパターンとして形成される場合
に、露光部の重複部分に未露光部が生じてしまうことを
回避することができて、良好な形状をもってパターン露
光を行うことができることとなる。

【００４１】従って本発明によれば、ＤＶＲ等の高密度
光ディスクを最適な形状をもってパターン露光を行い、
目的とする光記録媒体作製用原盤、成形用スタンパ、光
記録媒体を歩留り良く生産することができて、生産性の
向上、コストの低減化をはかることができる。

【００４２】しかも、上述したようにウォブルランドを
所望の幅をもって精度よく形成し、例えばウォブルラン
ドの幅をウォブルグルーブの幅より狭くすることによっ
て安定したクロストラック信号を得ることができるな
ど、良好な記録再生特性を保持することができる光記録
媒体を提供することができる。

【００４３】更にこの本発明構成による光記録媒体に対
し、その情報記録面であるウォブルランドのランド面に
記録再生を行うことによって、安定したクロストラック
信号の得られる記録再生特性に優れた光学記録再生方法
を提供することができる。

【００４４】また更に本発明は、上述の光学記録再生方
法において、光記録媒体の少なくともウォブルランド及
びウォブルグルーブのウォブル情報を再生することによ
って、２種のウォブル情報を良好な再生特性をもって再
生することができる。更に本発明は、光記録媒体の記録
領域に対する照射光に使用する対物レンズの開口数をＮ
Ａとしたとき、ＮＡを０．８５±０．０５とすることに
よって、高記録密度の光記録媒体に対し、良好な記録再
生特性をもって記録再生を行うことができる。

【００４５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の各例
を、図面を参照して詳細に説明する。先ず、ディスク状
の光透過性の基板上に、ピットとウォブルランドを設け
て成る光記録媒体、この光記録媒体を作製するために用
いる光記録媒体作製用原盤、原盤から成形した成形用ス
タンパ及びこれらの製造方法、更に、光記録媒体を用い
る光学記録再生方法の一実施の形態について説明する
が、本発明はこれらの例に限定されるものではなく、そ
の他種々の形態を採り得ることはいうまでもない。

【００４６】先ず、本発明の実施の形態における光記録
媒体の一例の構成を図１及び図２を参照して説明する。
この例においては、記録情報のフォーマット情報等のい
わゆるＴＯＣ(Table Of Contents）をディスク内周部に
ピットとして設け、その外側にウォブルランドを設け、
このランド面上に記録情報が記録され、ウォブル情報と
してアドレス情報が記録された場合を示す。

【００４７】この光記録媒体の要部の略線的拡大断面図
を図１に示す。図１において、１は光透過性の基板で、
その上に、例えば反射層２、第１の誘電体層３、記録層
４及び第２の誘電体層５が順次積層形成されて構成され
る。

【００４８】基板１には、ウォブルランド７、ピット８
が形成されて成る。ウォブルランド７のランド面７Ｓ
は、記録情報が記録される情報記録面とされる。一方、
上述のＴＯＣ等が記録されたピット８は、凹状パターン
として設けられる。９はランド７の間のグルーブを示
す。

【００４９】そして、これらウォブルランド７及びピッ
ト８上を覆って全面的に、光透過性保護膜６を、その表
面が平坦面となるように、例えばＵＶ硬化樹脂等がスピ
ンコート法等により被着形成されて、本発明による光記
録媒体１０が構成される。

【００５０】そして、この光記録媒体１０の再生にあた
っては、再生用のレーザ光Ｌは、対物レンズ５４を介し
て、光透過性保護膜６側から照射されて、記録情報の読
み取りが行われるようになされる。

【００５１】図２は、この光記録媒体におけるウォブル
ランド７及びピット８の一部を光透過性保護膜側からみ
た模式的な構成を示す図である。ウォブルランド７は突
出したパターンとして形成され、一方ピット８は、凹状
パターンとして形成される。９はグルーブ、２０は記録
領域、２１はＴＯＣ領域をそれぞれ示す。

【００５２】次に、このような本発明による光記録媒体
を作製するための光記録媒体作製用原盤及び成形スタン
パについて説明する。図３Ａ及びＢは、上述したような
ウォブルランドの凸状パターンとピットの凹状パターン
とが混在する光記録媒体を作製するための光記録媒体作
製用原盤及び成形用スタンパのそれぞれの一部を拡大し
た断面を示す説明図である。

【００５３】図３Ａにおいて、１１はガラス等より成る
原盤用基板を示す。この原盤１１の表面にポジ型のフォ
トレジスト１２が被着形成され、後述する所定のパター
ン露光によって、ウォブルランドに対応するウォブルラ
ンドパターン１３が、フォトレジスト１２が残されるい
わば凸状パターンとして形成される。また、ピットに対
応するピットパターン１４は、フォトレジスト１２が除
去されて設けられたいわば凹状パターンとして形成さ
れ、光記録媒体作製用原盤１５が構成される。

【００５４】図３Ａ中、Ｌw1及びＬw2はウォブルランド
パターン１３をパターン露光するための第１及び第２の
露光ビームの強度分布を模式的に示したもので、この場
合、目的とするウォブルランドの両側のグルーブ部に露
光ビームが照射されてこの部分が現像によって除去され
るようになされる。このとき、第１及び第２の露光ビー
ムの間隔ｄが所要の幅に選定されることによって、ウォ
ブルランドパターン１３の幅を精度良く制御することが
できる。

【００５５】そして、この場合ディスク状の原盤用基板
１１上を、一周して隣接する次のウォブルランドパター
ン１３をパターン露光する際には、第１の露光ビームＬ
w1の照射する領域が、一周前の第２の露光ビームＬw2の
照射領域と一部が重なるようにする。

【００５６】このとき、この露光ビームの重なる領域の
幅を適切に選定することによって、一周前の第２の露光
ビームと第１の露光ビームとの照射領域の幅、したがっ
て現像後にフォトレジスト１２が除去される幅を精度良
く制御することができて、図３Ａに示すように、例えば
ウォブルランドパターン１３の幅が、これらの間のグル
ーブパターンの幅に比し小となるようにすることができ
る。

【００５７】そして、Ｌp はピットパターンに対応する
露光ビームの強度分布を模式的に示す。ピットパターン
１４の露光の際には、ピットが存在する部分で露光ビー
ムをＯＮとして、ピットが存在しない部分で露光ビーム
をＯＦＦとすることによって、ピットが存在する部分の
みがフォトレジスト１２が除去されるパターンとなるよ
うにピットパターン１４が形成される。

【００５８】その後、図示しないが、このパターニング
されたフォトレジスト上を覆って、全面的に無電界メッ
キ法等により、ニッケル被膜等より成る導電化膜を被着
した後、導電化膜が被着された光記録媒体作製用原盤を
電鋳装置に取り付け、電気メッキ法により導電化膜層上
に例えば３００±５μｍ程度の厚さになるようにニッケ
ルメッキ層を形成する。

【００５９】続いて、ニッケルメッキ層が厚く被着され
た原盤用基板１１から、ニッケルメッキ層をカッター等
で剥離し、凹状パターン及び凸状パターンが形成された
フォトレジストをアセトン等を用いて洗浄して、図３Ｂ
に示すように、原盤１１上でのウォブルランドパターン
１３が反転したパターンの反転ウォブルランドパターン
１３ｎ、原盤１１上でのピットパターン１４が反転した
パターンの反転ピットパターン１４ｎが形成された、成
形用スタンパ１６が得られる。

【００６０】そしてこの成形用スタンパ１６を用いて、
ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）やＰＣ（ポリカ
ーボネイト）等の透明樹脂に成形を行い、微小な凹凸
（信号に相当するピットやランドパターン）が転写され
た透明基板を成形する。

【００６１】その後、この透明基板を、上述の図１にお
いて説明した基板１として、この上に各層を被着形成す
ることによって、本発明による光記録媒体を得ることが
できる。

【００６２】次に、上述の図３Ａにおいて説明した、光
記録媒体作製用原盤の具体的な露光工程を、図４を参照
して、光学記録装置の構成例と共に詳細に説明する。

【００６３】先ず、この光学記録装置の構成について説
明する。本実施形態において使用できる光学記録装置と
しては、光源２５は特に限定されるものではなく、適宜
選択可能であるが、例えばＫｒレーザ（波長λ＝３５１
ｎｍ）を記録用露光ビームとして発振するレーザ源を使
用することができる。

【００６４】この光源２５より出射された露光ビームＬ
Ｂ₀ は、平行ビームのまま直進してビームスプリッタＢ
Ｓ１及びＢＳ２で反射され、２つの露光ビームＬＢ₁ 及
びＬＢ₂ に分割される。第１の露光ビームＬＢ₁ は、第
１の変調光学系３０に導かれ、集光レンズＬ１１により
音響光学変調器ＡＯＭ１に集光され、この音響光学変調
器ＡＯＭ１によって強度変調されて発散し、再び光学レ
ンズＬ１２により平行ビームとなる。

【００６５】同様に、第２の露光ビームＬＢ₂ は、第２
の変調光学系４０に導かれ、集光レンズＬ２１により音
響光学変調器ＡＯＭ２に集光されて強度変調されて発散
し、光学レンズＬ２２により平行ビームとして出射され
る。

【００６６】各音響光学変調機ＡＯＭ１及び２は、それ
ぞれブラッグ条件を満たすように配置され、このＡＯＭ
１及び２に供給される超音波に基づいて強度変調され
る。第１の露光ビームは例えば２−７信号でピットの信
号を強度変調され、第２の露光ビームは例えばＤＣ信号
によりランドの信号を連続変調される。

【００６７】そして第１の露光ビームＬＢ₁ は、ミラー
Ｍ１により反射されて進行方向が９０°曲げられた上
で、λ／２板ＨＷＰ１を通過した後、移動光学テーブル
４５に水平に且つ光軸に沿って導入され、偏光ビームス
プリッタＰＢＳ１、λ／２板ＨＷＰ２及び偏光ビームス
プリッタＰＢＳ２に入射する。

【００６８】第２の露光ビームＬＢ₂ は、ミラーＭ２に
より反射されて進行方向が９０°曲げられた上で、同様
に移動光学テーブル４５に水平に且つ光軸に沿って導入
される。そして偏向光学系ＯＤによって光学偏向が施さ
れた上で、ビームスプリッタＢＳ４により２つのウォブ
ルした露光ビームに分割される。

【００６９】ビームスプリッタＢＳ４によって反射され
て進行方向が９０°曲げられた第２−１の露光ビーム
は、偏光ビームスプリッターＰＢＳ１によって反射され
て再度進行方向が９０°曲げられて、λ／２板ＨＷＰ２
及び偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に入射する。

【００７０】一方、ビームスプリッタＢＳ４を透過した
第２−２の露光ビームは、ミラーＭ４によって反射され
て進行方向が９０°曲げられて、偏光ビームスプリッタ
ＰＢＳ２に反射され、進行方向が更に９０°曲げられ
る。

【００７１】このようにして、各露光ビームは進行方向
が同一方向となるように再合成され、偏光ビームスプリ
ッタＰＢＳ２から出射された第１、第２−１及び第２−
２の露光ビームＬＢ₁ 、ＬＢ₂₁及びＬＢ₂₂は、拡大レン
ズＬ３によって所定のビーム径とされた上でミラーＭ５
によって反射されて対物レンズ５４へと導かれ、この対
物レンズ５４によって、原盤用基板１１の上にフォトレ
ジスト１２に集光される。原盤用基板１１は、図示しな
いが回転駆動手段により矢印ａで示すように回転され
る。一点鎖線ｃは、基板１１の中心軸を示す。

【００７２】また、第１、第２−１及び第２−２の露光
ビームＬＢ₁ 、ＬＢ₂₁及びＬＢ₂₂は、移動光学テーブル
４５によって平行移動される。これにより、第１、第２
−１及び第２−２の露光ビームＬＢ₁ 、ＬＢ₂₁及びＬＢ
₂₂の照射軌跡に応じた潜像が、フォトレジスト１２の全
面にわたって形成されることとなる。

【００７３】ここで、偏向光学系ＯＤは、ウェッジプリ
ズム４７、音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optical
Deflector ）４８、ウェッジプリズム４９により構成さ
れる。第２の露光ビームＬＢ₂ は、ウェッジプリズム４
７を介して音響光学偏向器４８に入射し、この音響光学
偏向器４８によって、所望する露光パターンに対応する
ように光学偏向が施される。

【００７４】この音響光学偏向器４８に使用される音響
光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ₂ ）か
ら成る音響光学素子が好適である。そして、音響光学偏
向器４８によって光学偏向が施された第２の露光ビーム
ＬＢ₂ は、ウェッジプリズム４９を介して偏向光学系Ｏ
Ｄから出射される。

【００７５】尚、ウェッジプリズム４７、４９は、音響
光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラッ
グ条件を満たすように第２の露光ビームＬＢ₂ が入射す
ると共に、音響光学偏向器４８によって第２の露光ビー
ムＬＢ₂ に対して光学偏向を施しても、ビームの水平高
さが変わらないようにする機能を持つ。換言すれば、こ
れらウェッジプリズム４７、４９と音響光学偏向器４８
は、音響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面が第２
の露光ビームＬＢ₂ に対してブラッグ条件を満たし、且
つ偏向光学系ＯＤから出射されたときのビームの水平高
さが変わらないように配置される。

【００７６】ここで、音響光学偏向器４８には、この音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、この駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor)５１からの高周波信号が、正弦波で変調され供給さ
れる。そして、フォトレジストの露光の際には、所望す
る露光パターンに応じた信号が電圧制御発振器５１から
駆動用ドライバ５０に入力され、この信号に応じて駆動
用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８が駆動さ
れ、これにより、第２の露光ビームＬＢ₂ に対して所望
のウォブリングに対応した光学偏向が施される。

【００７７】尚、上述の偏光ビームスプリッタＰＢＳ１
及びＰＢＳ２は、Ｓ偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するよ
うになされている。そして、第１の変調光学系３０から
出射された第１の露光ビームＬＢ₁ は、λ／２板ＨＷＰ
１を透過することにより偏光方向が９０°回転させられ
ているので、Ｐ偏光となっており偏光ビームスプリッタ
ＰＢＳ１及びＰＢＳ２を透過する。

【００７８】また、第２−１及び第２−２の露光ビーム
ＬＢ₂₁及びＬＢ₂₂はＳ偏光であり、偏光ビームスプリッ
タＰＢＳ１及びＰＢＳ２によって反射され、偏光ビーム
スプリッタＰＢＳ２で光軸方向に再合成される。

【００７９】これら再合成された第２−１及び第２−２
の露光ビームＬＢ₂₁及びＬＢ₂₂は、偏光ビームスプリッ
タＰＢＳ２の角度を変えることにより、フォトレジスト
１２の上に半径方向に間隔ｄをもって隔てられるように
配置する。各ビームの強度は同一になるように、λ／２
波長板ＨＷＰ２の回転調整を行う。

【００８０】このような構成による光学記録装置を用い
て、図３Ａにおいて説明したような、凸状パターンのウ
ォブルランドパターン１３と、凹状パターンのピットパ
ターン１４とを、露光することができる。

【００８１】例えば、第１の露光ビームＬＢ₁ によっ
て、所定のピットパターンの反転パターンとなるパター
ン露光、即ちピットが存在する部分でＯＮ、ピットが存
在しない部分でＯＦＦとする露光を行う。このとき、ポ
ジ型のフォトレジストを用いる場合は、現像後に露光部
分が除去されることから、目的とするピットのパターン
を、現像後にフォトレジストが除去されるパターンとし
て形成されたピットパターン１４を得ることができる。

【００８２】一方、第２−１及び第２−２の露光ビーム
ＬＢ₂₁及びＬＢ₂₂に所定のウォブリングを施して露光を
行うと共に、第２−１の露光ビームＬＢ₂₁の照射領域
が、一周前の第２−２の露光ビームＬＢ₂₂の照射領域に
一部重なるようにすることによって、目的とするウォブ
ルランドパターン１３を、未露光部に形成することがで
きる。

【００８３】このとき、第２−１の露光ビームと第２−
２の露光ビームの間隔ｄを適切に選定すると共に、第２
−１の露光ビームとこれより一周前の第２−２の露光ビ
ームの重なる領域の幅を適切に選定することによって、
ウォブルランドパターン１３の幅を、これらの間の間
隔、いわゆるグルーブの幅に比し小とすることができ
る。

【００８４】そして、上述の製造方法によりパターン露
光が施された原盤用基板１１を、フォトレジスト１２が
上部になるように現像機のターンテーブルに載置して、
この原盤用基板を水平に保持しつつ回転させ、フォトレ
ジスト１２上に現像液を滴下して、フォトレジスト１２
の現像処理を施す。これにより、原盤用基板の信号形成
面には、図３Ａにおいて説明した構成の記録信号に基づ
く凹凸パターンが形成され、本発明による光記録媒体作
製用原盤を得ることができる。

【００８５】次に、本発明による実施例を説明する。

【００８６】この例においては、上述の方法により、光
記録媒体作製用原盤を作製するにあたり、原盤用基板と
してガラス板を用い、ポジ型のフォトレジストを塗布し
て、以下の条件により信号面のパターン露光を行った。

【００８７】この場合、ウォブリング信号として、周波
数９５６．５ｋＨｚにてランドをウォブリングさせるこ
とにより、ランドにアドレス情報を付加する構成とした
例で、例えば中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信号を
周波数９５６．５ｋＨｚの制御信号にて正弦波信号を、
上述の図４において説明した装置において、電圧制御発
振器５１から駆動用ドライバ５０に供給する。

【００８８】そして、この信号に応じて駆動用ドライバ
５０によって音響光学偏向器４８を駆動し、その音響光
学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周波数９
５６．５ｋＨｚのウォブリングに対応するように、第２
−１及び第２−２の露光ビームＬＢ₂₁及びＬＢ₂₂に対し
て光学偏向を施す。これにより、フォトレジスト１２上
に集光される第２−１及び第２−２の露光ビームＬＢ₂₁
及びＬＢ₂₂の光スポットの位置が、周波数９５６．５ｋ
Ｈｚ、振幅±１０ｎｍにて、原盤用基板１１の半径方向
に振動するように光学偏向を行って、ウォブルランドパ
ターン１３の露光を行った。

【００８９】この場合の露光条件は、ウォブルランドは
レーザパワー０．２ｍｊ／ｍ、ピットはレーザパワー
０．２５ｍｊ／ｍ程度として、第１の変調光学系３０に
よりピット変調（２−７変調）、第２の変調光学系４０
によりＤＣ変調をトラックピッチ０．３５μｍで記録し
た。線速は５．２８ｍ／ｓとした。

【００９０】この例では、第２−１の露光ビームと第２
−２の露光ビームの間の未露光部をウォブルランドとす
る上述の露光方法によって、ウォブルランド幅を制御
し、ウォブルランド幅１７０ｎｍ、１４８ｎｍ、１２７
ｎｍ、トラックピッチ３５０ｎｍと、グルーブ幅（トラ
ックピッチからウォブルランド幅を差し引いた値とな
る）に比し狭小な幅とされたウォブルランドを形成し
た。

【００９１】また、ピットパターン１４は、上述の方法
によって、この場合ディスク状原盤の内部にＴＯＣ情報
に対応するパターン露光を行った。

【００９２】このようにして、原盤用基板１１上のフォ
トレジスト１２にパターン露光を行った後、現像処理を
施して、図３Ａにおいて説明した構成の光記録媒体作製
用原盤を形成する。続いて、前述の図３Ｂにおいて説明
したように、成形用スタンパ１６を形成する。

【００９３】その後、このマザースタンパ１７を用い
て、ポリカーボネート（屈折率１．５９）等より成る光
透過性樹脂を例えば射出成形法によって、成形用スタン
パ１６の凹凸パターンが転写された基板１を厚さ例えば
１．１ｍｍとして形成する。この基板の形成方法として
は、その他成形用スタンパ１６の上にフォトポリマーを
塗布した後、ＰＭＭＡ等のベースプレートを密着した後
硬化、剥離して形成するいわゆる２Ｐ法を用いることも
できる。

【００９４】いずれの成形方法を採る場合においても、
本発明によれば、反転ピットパターン１４ｎが凸状パタ
ーンとされていることから、ピット形状を良好に転写す
ることができる。また大量に基板を転写する場合には、
成形用スタンパ１６を更に２回転写して、別体の成形用
スタンパを作製し、これにより基板１を形成してもよ
い。この場合も同様に、良好にピット及びウォブルラン
ドを転写形成することができる。

【００９５】そしてこの上に、Ａｌ合金等より成る光反
射層２、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ 等より成る第１の誘電体層
３、ＧｅＳｂＴｅ合金、ＡｇＩｎＳｎＴｅ合金、ＧｅＩ
ｎＳｂＴｅ合金等から成る相変化材料より成る記録層
４、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ 等より成る第２の誘電体層５を順
次スパッタリング等により被着形成する。そしてこれら
各層を覆って全面的に紫外線硬化樹脂等より成る光透過
性保護膜７を、スピンコート法等により塗布し、紫外線
照射により硬化させて、例えば厚さ０．１ｍｍの光透過
性保護膜７を形成し、本発明によるＤＶＲ型構成の光記
録媒体を得ることができる。

【００９６】このようにして作製された光記録媒体に対
し、波長４０６ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８
５の光ピックアップを備えたＤＶＲ評価機を用いて再生
特性の評価を行った。

【００９７】このように、本発明においてはウォブルラ
ンドのランド面を情報記録面とし、この上に形成された
光透過性保護膜側から再生光を照射して記録を読み取る
構成とすることから、再生時には、対物レンズをより記
録層に近接して配置した構成とすることが出来て、高記
録密度化をはかるために対物レンズの開口数ＮＡを上述
のように０．８５と大きくしてもこま収差の増大を回避
することができ、更に、ＮＡを大きく、再生光の波長λ
を４０６ｎｍ程度に短波長化しても、スキューマージン
の低下を回避することができて、高記録密度化に従って
大容量化をはかることができる。

【００９８】この例では、相変化材料の記録特性によっ
て、記録部分が反射率の低い相となるものであるが、上
述したように、記録領域とされるウォブルランドの幅を
狭小化して構成したことによって、記録後のＣＴＳ（ク
ロストラック信号）の低減化を回避して、安定にＣＴＳ
を用いることができる。

【００９９】そして、上述の１７０ｎｍ、１４８ｎｍ、
１２７ｎｍとされた３種類のウォブルランド７に１−７
変調で記録を行い、その再生を上記評価機により行った
ところ、光記録媒体の記録領域全面においてジッター
８．４から９．０％程度再生することができ、良好な記
録再生特性を得る事ができた。

【０１００】更に、ウォブルランドのアドレス情報も安
定に再生することを実現できた。また、ピット信号の再
生は、ジッター７．６％程度再生することができ、良好
な再生特性を得ることができた。

【０１０１】尚、上述の実施例においては、光記録媒体
の記録層として相変化材料を用いた場合を示したが、本
発明は、その他ＭＯ（光磁気）膜、色素層等による追記
もしくは書換え可能な記録層等、各種の材料による光記
録媒体に適用することができる。

【０１０２】更に、光記録媒体内のピットとウォブルラ
ンドの配置構成、ウォブリング信号の内容等、本発明は
上述の例において説明した構成に限ることなく、その他
種々の材料構成を採り得ることはいうまでもない。

【０１０３】次に、本発明による他の実施の形態につい
て説明する。以下の実施の形態においては、基板上に少
なくともウォブルグルーブとウォブルランドとを有する
光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、成形用スタンパと
これらの製造方法を示す。先ず、本発明による光記録媒
体の一例の要部の略線的断面構成を図５に示す。図５に
おいて、図１と重複する部分には同一符号を付して重複
説明を省略する。

【０１０４】この例では、基板上にウォブルランド７と
ウォブルグルーブ１８とが設けられる。ウォブルグルー
ブ１８の担持する記録情報としては、前述の図９におい
て説明した例えばＰＩＣ領域のディスク自体のＴＯＣ等
の情報とし得る。この場合、上述したようにそのトラッ
クピッチは３５０ｎｍ程度、ウォブル情報の振幅は±１
００ｎｍ程度であり、矩形波状の断続溝パターン形状と
なる。そして、ランド面７Ｓが情報記録面とされるウォ
ブルランド７は、トラックピッチが例えば３２０ｎｍ程
度、ウォブル情報の振幅は例えば±１０ｎｍ程度であ
る。

【０１０５】上述のウォブルグルーブ１８を、ウォブル
ランド７と同様に、前述したように第１及び第２の露光
ビームによって、現像後に除去されるパターンとして、
すなわち未露光部として形成しようとすると、矩形波状
のウォブルランドパターンを形成することとなる。この
場合、図１０にその一例の略線的拡大平面構成を示すよ
うに、ウォブルランドパターン１３は、第１の露光ビー
ムによる第１のスポット６１と、第２の露光ビームによ
る第２のスポット６２との間に形成され、このウォブル
ランドパターン１３を形成する領域以外には、第１及び
第２のスポット６１及び６２の間に間隙は生じない。
尚、図１０において、第１のスポット及びこれによりパ
ターン照射される領域には、その理解を容易にするため
に斜線を付して示す。

【０１０６】ところが、上述したように、振幅が±１０
０ｎｍ程度と比較的大きい振幅の矩形波状のウォブルラ
ンドパターン６３を形成しようとすると、目的とするウ
ォブルランドパターン６３を形成する領域以外に、第１
及び第２のスポット６１及び６２の間に不要な間隙、す
なわち未露光部６８が形成されてしまい、この間隙を埋
込むような大きなランドパターンを形成することは困難
であり、良好な形状のウォブルランドパターン６３を形
成することが難しい。図１０においてＡ_L1及びＡ_L2はそ
れぞれウォブルランドパターン１３、矩形波状のウォブ
ルランドパターン６３の振幅を示す。

【０１０７】また、図１１に示すように、ウォブル信号
の振幅の大きさが、ウォブルランドパターン１３に比し
て大きいウォブルグルーブパターン６４を第１及び第２
の露光ビームの間の未露光部として形成しようとする場
合においても、同様に第１及び第２のスポット６１及び
６２の間に未露光部６８が生じてしまい、良好なパター
ン露光を行うことができない。図１１においても、第１
のスポット及びこれによりパターン照射される領域には
斜線を付して示す。

【０１０８】しかしながら、本発明においては、図６に
示すように、ウォブルランドパターン１３と共に、矩形
波状のウォブルグルーブパターン６４を形成する構成と
する。この場合は、目的とする領域以外に不要な未露光
部が生じることがなく、目的とする振幅の良好な形状の
矩形ウォブルパターンを形成することができる。図６に
おいて、ウォブルランドパターン１３を照射する第１の
スポット６１及びこれにより露光される領域を、その理
解を容易にするために斜線を付して示す。

【０１０９】または、図７に示すように、ウォブルラン
ドパターン１３に比してウォブル信号の振幅量が大とさ
れるウォブルグルーブパターン６４を、不要な未露光部
を生じることなく良好な形状をもってパターン形成する
ことができる。図７において、図６と同一の部分には同
一符号を付して重複説明を省略する。また図７において
も、ウォブルランドパターン１３を照射する第１のスポ
ット及びこれによりパターン照射される領域には斜線を
付して示す。

【０１１０】次に、このようなウォブルランドパターン
１３とウォブルグルーブパターン６４とを形成し得る光
学記録装置の一例を、図８を参照して説明する。図８に
おいて、前述の図４と重複する部分には同一符号を付し
て重複説明を省略する。

【０１１１】先ず、図８においては、光源２５から出射
された露光ビームＬＢ₀ は、ビームスプリッタＢＳ２に
より分割され、それぞれ第１及び第２の露光ビームＬＢ
₁ 及びＬＢ₂ が、第１の変調光学系３０及び第２の変調
光学系４０に入射される。各変調光学系３０及び４０か
ら出射された露光ビームＬＢ₁ 及びＬＢ₂ は、移動光学
テーブル４５にそれぞれ導かれ、第１及び第２の偏向光
学系ＯＤ１及びＯＤ２に入射される。

【０１１２】ここで、第１及び第２の偏向光学系ＯＤ１
及びＯＤ２は、ウォブルランド又はウォブルグルーブに
対応するように、第１及び第２の露光ビームＬＢ₁ 及び
ＬＢ ₂ に対して光学偏向を施すためのものである。ウォ
ブルグルーブを形成する際に第１の露光ビームを用いる
場合には、第１の偏向光学系ＯＤ１のみにウォブルグル
ーブのウォブル信号に対応する光学偏向を施す。すなわ
ち、第１又は第２の偏向光学系は、それぞれウェッジプ
リズム４７１、音響光学偏向器４８１及びウェッジプリ
ズム４９１、またはウェッジプリズム４７２、音響光学
偏向器４８２及びウェッジプリズム４９２とより構成さ
れる。音響光学偏向器４８１及び４８２の音響光学素子
としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ₂ ）からなる音
響光学素子が好適である。

【０１１３】各ウェッジプリズムが、音響光学偏向器の
音響光学素子の格子面に対してブラッグ条件を満たすよ
うに配置されるのは、上述の図４において説明した例と
同様である。また、各音響光学偏向器４８１及び４８２
には、それぞれ駆動用ドライバ５０１及び５０２が取り
付けられ、更に各駆動用ドライバ５０１及び５０２に、
電圧制御発振器５１１及び５１１からの高周波信号が、
アドレス情報等を含む制御信号Ｓ４により位相変調（Ph
ase Moduration）されて供給される。そして、フォトレ
ジスト１２の露光時には、所望する露光パターンに応じ
た信号が電圧制御発振器５１１及び５１２から駆動用ド
ライバ５０１及び５０２に入力され、この信号に応じて
駆動用ドライバ５０１及び５０２によって音響光学偏向
器４８１及び４８２が駆動され、第１及び第２の露光ビ
ームＬＢ₁ 及びＬＢ₂ に対して光学偏向が施される。

【０１１４】そして、第２の偏向光学系ＯＤ２から出射
された第２の露光ビームＬＢ₂ がミラーＭ４により偏光
ビームスプリッタＰＢＳに入射され、第１の偏向光学系
ＯＤ１から出射された第１の露光ビームＬＢ₁ と、近接
する平行光軸上に所定の間隔をもって配置されること
は、前述の図４において説明した実施の形態と同様であ
る。すなわちこの場合においても、ウォブルランドパタ
ーンを形成する際に第１及び第２の露光ビームの間隔を
偏光ビームスプリッタＰＢＳの角度を変えることにより
調整し、原盤用基板１１上のフォトレジスト１２に、半
径方向に所定の間隔を隔てて照射されるように設定する
ことができる。ここで偏光ビームスプリッタＰＢＳはＳ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされ、第１の
露光ビームＬＢ₁ は１／２波長板ＨＷＰを透過すること
により偏光方向が９０°回転させれているのでＰ偏光と
なって偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過し、第２の露
光ビームＬＢ₂ はＳ偏光であり、偏光ビームスプリッタ
ＰＢＳにおいて反射する。

【０１１５】以上説明した光学記録装置によって、ウォ
ブルグルーブパターンを形成する際には第１の露光ビー
ムＬＢ₁ のみを用いて、所定の光学偏向を施したパター
ン露光を行い、ウォブルランドパターンを形成する際に
は、第１及び第２の露光ビームＬＢ₂ を用いて、各露光
ビームにそれぞれ目的とする光学偏向を施した後、所定
の間隔をもって近接した平行光軸上に各ビームを合成し
て、フォトレジスト１２上に、未露光部として、すなわ
ちポジ型レジストを用いる場合は現像後に残されるパタ
ーンとして所望のウォブルランドパターンに対応するパ
ターン露光を行うことができる。

【０１１６】またこのとき、第２の露光ビームＬＢ₂ の
照射領域が、隣接する次のウォブルランドパターンを形
成する第１の露光ビームＬＢ₁ の照射領域と一部重なる
ようにすることによって、隣接するウォブルランドパタ
ーンの間に隙間を生じることなく、良好な形状をもって
パターン露光を行うことができる。しかもこの場合、各
露光ビームＬＢ₁ 及びＬＢ₂ の幅と間隔を適切に選定す
ることによって、ウォブルランドパターンの幅を、これ
の間のウォブルグルーブパターンの幅に比して小とする
ことができる。

【０１１７】そして、このようにしてパターン露光が施
されたフォトレジスト１２に対し、現像機において現像
処理を施すことによって、ウォブルランドパターン１３
が未露光部すなわち現像後に残されるパターンとして、
ウォブルグルーブパターン６４が露光部すなわち現像後
に除去されるパターンとして形成された光記録媒体作製
用原盤を得ることができる。

【０１１８】更に、この光記録媒体作製用原盤から、電
気メッキ法等によりウォブルランドパターンが凹状パタ
ーンとして形成され、ウォブルグルーブパターンが凸状
パターンとして形成された成形用スタンパを形成するこ
とができ、この成形用スタンパを用いて、射出成形法、
２Ｐ法等によって前述の図５において説明した構成の基
板１を得ることができる。

【０１１９】次に、本発明による実施例を説明する。以
下の例においても前述の実施例と同様に、光記録媒体作
製用原盤を作製するにあたり、原盤用基板としてガラス
板を用い、ポジ型のフォトレジストを塗布して、以下の
条件により信号面のパターン露光を行った。

【０１２０】この場合は、記録領域のウォブルランド
は、周波数９５６．５ｋＨｚの制御信号にて正弦波を用
いてウォブルさせ、ＰＩＣ領域の矩形ウォブルグルーブ
は、中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信号を、ＰＩＣ
の矩形ウォブル信号又は周波数９５６．５ｋＨｚの制御
信号にて正弦波信号または三角波（鋸波）信号を、上述
の図８における電圧制御発振器５１１及び５１２から駆
動用ドライバ５０１及び５０２に供給して、第１及び第
２の露光ビームＬＢ₁ 及びＬＢ₂ に対して光学偏向を行
った。

【０１２１】また、光学記録装置における露光条件は、
ＰＩＣ領域のウォブルグルーブは、第１の変調光学系３
０に変調を行い、更にウォブル信号を、第１の偏向光学
系ＯＤ₁ において偏向処理を施して第１の露光ビームＬ
Ｂ₁ のみによりパターン露光を行って、現像後に除去さ
れるパターンとして、すなわち露光部として形成した。
ウォブルグルーブを露光する際のレーザのパワーは０．
２５ｍＪ／ｍであり、トラックピッチを０．３５μｍと
して記録した。レーザ光源としては波長３５１ｎｍのＫ
ｒレーザを使用した。ウォブル信号の振幅量Ａ_G は±１
００ｎｍである。線速は５．２８ｍ／ｓである。

【０１２２】記録領域のウォブルランドは、第１の変調
光学系３０、第２の変調光学系４０の両方を変調し、更
に、第１の偏向光学系ＯＤ１及び第２の偏向光学系ＯＤ
２によりそれぞれウォブル信号に対応する偏向処理を施
して、第１及び第２の露光ビームＬＢ₁ 及びＬＢ₂ を所
定の間隔をもって配置して現像後に残されるパターンと
して、すなわち未露光部として形成した。ウォブルラン
ドを露光する際のレーザのパワーは各々０．２０ｍＪ／
ｍであり、トラックピッチは０．３２μｍとして記録し
た。ウォブル信号の振幅量Ａ_L は±１０ｎｍである。

【０１２３】そしてこのようにして形成した光記録媒体
作製用原盤から、前述の実施例と同様に、無電界メッキ
法、電気メッキ法等を用いてＮｉより成る成形用スタン
パを厚さ３００±５μｍとして形成した。

【０１２４】そして更に、この成形用スタンパから、屈
折率１．５９のＰＣより成るディスク状の基板を射出成
形法により、基板厚１．１ｍｍとして形成した。基板の
形成方法としては、前述したようにＰＭＭＡ等を用いて
２Ｐ法を用いることもできる。そしてこの基板１の上
に、Ａｌ合金等より成る反射層２、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ 等
より成る第１の誘電体層３、ＧｅＳｂＴｅ合金等の相変
化材料より成る記録層４、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ 等より成る
第２の誘電体層５を順次スパッタリング等によって成膜
して、その後、第２の誘電体層５の上に、紫外線硬化樹
脂をスピンコート等により塗布し、紫外線を照射して硬
化させることにより厚さ０．１ｍｍの光透過性保護膜５
を形成した。

【０１２５】この光記録媒体に対し、波長４０６ｎｍの
光源を有し、対物レンズの開口数ＮＡが０．８５±０．
０５、以下の例では０．８５のＤＶＲ型構成の評価機を
用いて、記録再生特性の評価を行った。上述の光学記録
装置において、第１及び第２の露光ビームの間隔ｄを適
切に選定することによって、ウォブルランドの幅を、１
６８ｎｍ、１５０ｎｍ、１２８ｎｍとして形成すること
ができた。トラックピッチは３２０ｎｍであり、ウォブ
ルランドの間のグルーブに比しランド面の幅を狭くする
ことができたことがわかる。

【０１２６】また、図５に示すように、ウォブルランド
７のランド面は照射光Ｌの入射側に向かって突出するよ
うに形成され、情報記録面における記録再生特性を良好
にすることができる。一方ウォブルグルーブ１８は凹状
パターンとして形成される。グルーブ部は照射光Ｌの入
射側から遠い方となるが、ウォブルグルーブパターンは
良好に形成されることから、ＰＩＣのウォブル信号の再
生特性を良好に保持することができる。

【０１２７】上述の３種類のウォブルランド幅１６８ｎ
ｍ、１５０ｎｍ、１２８ｎｍに形成した光記録媒体に対
し、その情報記録面即ちランド面に１−７変調で記録再
生を行い、ジッター８．３〜８．９％で再生することが
でき、良好な記録再生特性を実現できた。更に、ウォブ
ルランドのウォブルアドレス情報を安定に再生すること
ができた。また、ＰＩＣの矩形ウォブルグルーブのＰＩ
Ｃウォブル信号の再生は、ジッター３．６％にて再生す
ることができ、良好な再生特性を実現できた。

【０１２８】上述したように、本発明においては、ピッ
トとウォブルランド、またはウォブルグルーブとウォブ
ルランドとが混在する光記録媒体において、光記録媒体
に対する記録再生用の照射光の入射側に近接して情報記
録面を構成することによって、良好な記録再生特性を得
ることができる。従って、例えばランドグルーブ記録方
式を採る場合のように、ランド部とグルーブ部との記録
再生特性の不一致による不都合を回避できる。

【０１２９】また、再生時に対物レンズをより記録層に
近接して配置したニアフィールド構成とすることができ
て、高記録密度化をはかるために対物レンズの開口数Ｎ
Ａを大きくしてもこま収差の増大を回避することがで
き、更に、ＮＡを大きく、再生光の波長λを短波長化し
てもスキューマージンの低下を回避することができて、
高記録密度化従って大容量化をはかることができる。

【０１３０】更に、ピットや矩形状等のウォブルグルー
ブは、基板上に凹状パターンとすることから、成形用ス
タンパからの成形時に良好に形状を保持して形成するこ
ができ、光記録媒体の歩留り、生産性の向上をはかるこ
とができる。更にまた、振幅がウォブルランドパターン
の振幅と比較して大きいウォブルグルーブのウォブル情
報を良好に保持して形成することができることから、ピ
ットに加えて矩形波状パターン等各種形状のウォブル情
報の記録再生特性の低下を回避することもできる。

【０１３１】以上、本発明の実施例を説明したが、上述
の実施例は本発明の技術的思想に基づいて様々に変形、
変更が可能である。例えば光記録媒体の記録層としてＭ
Ｏ膜、色素材料膜等により追記もしくは書換え可能な記
録層を用いるなど、各種の材料による光記録媒体に適用
することができる。

【０１３２】更に、光記録媒体内のピットとウォブルラ
ンド、またはウォブルグルーブとウォブルランドの配置
構成、ウォブル信号の内容等、本発明は上述の例に限定
されることなく、その他種々の材料構成を採り得ること
はいうまでもない。

【０１３３】

【発明の効果】上述したように、本発明は、基板上にピ
ットとウォブルランド、またはウォブルグルーブとウォ
ブルランドとを有する光記録媒体にあって、特にそのウ
ォブルランドのランド面を情報記録面とし、この上に形
成された光透過性保護膜側から再生光を照射して記録を
読み取る構成とすることから、再生時には、対物レンズ
をより記録層に近接して配置したニアーフィールド構成
とすることが出来て、高記録密度化をはかるために対物
レンズの開口数ＮＡを大きくしてもこま収差の増大を回
避することができ、更に、ＮＡを大きく、再生光の波長
λを低減化しても、スキューマージンの低下を回避する
ことができて、高記録密度化従って大容量化をはかるこ
とができる。

【０１３４】また本発明によれば、成形用スタンパのピ
ット形状が凸状パターンであることから、高記録密度化
に伴ってピットが微細化された場合においても、良好に
形状を保持しつつ転写成形することができることから、
凹状パターンを有する成形用スタンパを用いて成形する
場合に比し格段に歩留りの向上、生産性の向上をはかる
ことができる。

【０１３５】更に本発明によれば、上述のウォブルラン
ドパターンのパターン露光を行う際に、露光用光に目的
とするウォブルに対応する光偏向処理を施した後、第１
及び第２の露光ビームに分割し、これら第１及び第２の
露光ビームを所定の間隔をもって同期してフォトレジス
トをパターン露光すると共に、第２の露光ビームの照射
領域と、隣接するウォブルランドパターンを露光する際
の第１の露光ビームの照射領域とを、少なくとも一部重
なるようにすることによって、第１及び第２の露光ビー
ムの間隔と、第２の露光ビームと隣接するウォブルラン
ドパターンを露光する第１の露光ビームの重なる領域の
幅とを適切に選定することによって、ウォブルランドの
幅とその間のグルーブの幅とを精度良く制御することが
できる。

【０１３６】従って、例えば相変化材料より成る記録層
を用いた光記録媒体のように、記録後に記録層の記録マ
ーク部の反射率が低下して、この部分における反射光量
が減少するように構成された光記録媒体に適用する場合
には、ウォブルランドの幅をグルーブ幅より狭くするこ
とによって、記録後のクロストラック信号（ＣＴＳ）の
出力レベルの低減化を抑制して、安定したクロストラッ
ク信号を得て、シークないしはトラバースカウントを安
定に行うことができる。

【０１３７】更に、ウォブルグルーブの振幅がウォブル
ランドの振幅に比して大とされる場合や、またＰＩＣ領
域等において矩形ウォブルグルーブとされる場合におい
ても、本発明によればウォブルグルーブを基板上に凹状
パターンとして形成し光記録媒体を構成することから、
振幅の比較的大きい各種形状、例えば矩形波状等のウォ
ブルパターンを良好に形成することができ、ＰＩＣのウ
ォブル情報を安定に良好な再生特性をもって再生するこ
とが可能となる。

【０１３８】したがって、本発明によれば、上述したよ
うにウォブルランドのランド面を情報記録面として良好
な記録再生特性が得られ、且つ高記録密度化を可能と
し、また更に光記録媒体上のすべての領域において安定
したウォブル信号の再生が可能な光記録媒体と、これを
用いた光学記録再生方法を提供することができる。

【０１３９】特に、光記録媒体の記録領域に対する照射
光に使用する対物レンズの開口数ＮＡを０．８５±０．
０５とすることによって、確実に高記録密度の光記録媒
体に対し、良好な記録再生特性を保持することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】光記録媒体の一例の断面図である。

【図２】光記録媒体の一例の構成図である。

【図３】光記録媒体作製用原盤及び成形用スタンパの説
明図である。

【図４】光記録媒体作製用原盤の製造工程の説明図であ
る。

【図５】光記録媒体の一例の断面図である。

【図６】光記録媒体の一例の構成図である。

【図７】光記録媒体の一例の構成図である。

【図８】光記録媒体作製用原盤の製造工程の説明図であ
る。

【図９】光記録媒体の一例の構成図である。

【図１０】光記録媒体の一例の構成図である。

【図１１】光記録媒体の一例の構成図である。

【符号の説明】

１…基板、２…反射層、３…第１の誘電体層、４…記録
層、５…第２の誘電体層、６…光透過性保護膜、７…ウ
ォブルランド、７Ｓ…ランド面、８…ピット、１１…原
盤用基板、１２…フォトレジスト、１３…ウォブルラン
ドパターン、１３ｎ…反転ウォブルランドパターン、１
４…ピットパターン、１４ｎ…反転ピットパターン、１
５…光記録媒体作製用原盤、１６…成形用スタンパ、１
８…ウォブルグルーブ、２０…記録領域、２１…ＴＯＣ
領域、２２…ＢＣＡ領域、２３…ＰＩＣ領域、２４…記
録領域、２５…光源、３０…変調光学系、３２…音響光
学変調器、４０…変調光学系、４２…音響光学変調器、
４５…移動光学テーブル、４７…ウェッジプリズム、４
８…音響光学偏向器、４９…ウェッジプリズム、５０…
駆動用ドライバ、５１…電圧制御発振器、５４…対物レ
ンズ、６１…第１のスポット、６２…第２のスポット、
６３…ウォブルランドパターン、６４…ウォブルグルー
ブパターン、６８…未露光部、４７１…ウェッジプリズ
ム、４７２…ウェッジプリズム、４８１…音響光学偏向
器、４８２…音響光学偏向器、４９１…ウェッジプリズ
ム、４９２…ウェッジプリズム、５０１…駆動用ドライ
バ、５０２…駆動用ドライバ、５１１…電圧制御発振
器、５１２…電圧制御発振器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５６１Ｎ ５６１Ｑ 7/26 7/26 ５０１ ５０１ ５１１ ５１１ Ｆターム(参考） 5D029 LC08 WA02 WB02 WB11 5D090 AA01 BB01 BB03 BB04 BB05 BB10 CC01 CC04 CC14 CC16 DD03 FF11 GG03 GG10 GG17 GG36 GG38 HH01 KK06 KK09 KK13 KK14 LL01 5D119 AA11 AA22 AA23 AA38 BA01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB09 CA05 DA01 DA05 EB02 EB14 EC40 FA03 GA01 JA10 JA27 JA31 JA55 JB02 5D121 BB01 BB21 BB26 BB38 CB00 EE00

Claims (36)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に少なくともピットとウォブルラ
   ンドとを有する光記録媒体にあって、 少なくとも記録領域に上記ウォブルランドが形成され、 上記ピットは、凹状パターンとして形成され、 上記ウォブルランドのランド面が情報記録面とされ、 該情報記録面上を覆って全面的に、上記基板に比し十分
   薄い薄膜の光透過性保護膜が形成され、 該光透過性保護膜側が、上記情報記録面に対する照射光
   の入射面とされたことを特徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】 上記ウォブルランドの幅が、上記ウォブ
   ルランド間に設けられるグルーブの幅に比し小とされた
   ことを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
3. 【請求項３】 基板上に少なくともピットとウォブルラ
   ンドとを有する光記録媒体の製造方法にあって、 少なくとも原盤用基板の上にフォトレジストを被着した
   後、 上記フォトレジストが残されるパターンとして少なくと
   もウォブルランドパターンをパターニング形成し、 上記フォトレジストが除去されるパターンとして少なく
   ともピットパターンをパターニング形成して光記録媒体
   作製用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用ス
   タンパを用いて基板を作製し、 上記基板上に、少なくとも記録層と、上記基板に比し十
   分薄い薄膜の光透過性保護膜とを形成することを特徴と
   する光記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 基板上に少なくともピットとウォブルラ
   ンドとを有する光記録媒体の製造方法にあって、 少なくとも原盤用基板の上にフォトレジストを被着した
   後、 上記フォトレジストに対する未露光部として少なくとも
   ウォブルランドパターンをパターニング形成し、 上記フォトレジストに対する露光部として少なくともピ
   ットパターンをパターニング形成して光記録媒体作製用
   原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用ス
   タンパを用いて基板を作製し、 上記基板上に、少なくとも記録層と、上記基板に比し十
   分薄い薄膜の光透過性保護膜とを形成することを特徴と
   する光記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 原盤用基板の上にフォトレジストが被着
   され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記フ
   ォトレジストに記録情報に対応するパターンが形成され
   る光記録媒体作製用原盤にあって、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
   少なくともウォブルランドパターンが形成され、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
   て少なくともピットパターンが形成されて成ることを特
   徴とする光記録媒体作製用原盤。
6. 【請求項６】 原盤用基板の上にフォトレジストが被着
   され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記フ
   ォトレジストが記録情報に対応するパターンとして形成
   される光記録媒体作製用原盤にあって、 上記フォトレジストの未露光部として少なくともウォブ
   ルランドパターンが形成され、 上記フォトレジストの露光部として少なくともピットパ
   ターンが形成されて成ることを特徴とする光記録媒体作
   製用原盤。
7. 【請求項７】 原盤用基板の上にフォトレジストを被着
   して、所要のパターンの露光及び現像により上記フォト
   レジストに記録情報に対応するパターンを形成する光記
   録媒体作製用原盤の製造方法にあって、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
   少なくともウォブルランドパターンを形成し、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
   て少なくともピットパターンを形成することを特徴とす
   る光記録媒体作製用原盤の製造方法。
8. 【請求項８】 原盤用基板の上にフォトレジストを被着
   して、所要のパターンの露光及び現像により上記フォト
   レジストに記録情報に対応するパターンを形成する光記
   録媒体作製用原盤の製造方法にあって、 上記フォトレジストの未露光部として少なくともウォブ
   ルランドパターンを形成し、 上記フォトレジストの露光部として少なくともピットパ
   ターンを形成することを特徴とする光記録媒体作製用原
   盤の製造方法。
9. 【請求項９】 上記ウォブルランドパターンのパターン
   露光を行う際に、 露光用光として第１の露光ビーム及び第２の露光ビーム
   を用い、 上記第１の露光ビームにより上記ピットパターンのパタ
   ーン露光を行い、 上記第１及び第２の露光ビームに目的とするウォブルに
   対応する光偏向処理を各々施した後、上記第１及び第２
   の露光ビームを近接する平行光軸上に再合成し、上記第
   １及び第２の露光ビームを所定の間隔に配置して上記フ
   ォトレジストに上記ウォブルランドのパターン露光を行
   うと共に、 上記第２の露光ビームの照射領域と、隣接する他の上記
   ウォブルランドパターンを露光する際の上記第１の露光
   ビームの照射領域とを、少なくとも一部重なるようにす
   ることを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体作製用
   原盤の製造方法。
10. 【請求項１０】 上記ウォブルランドパターンのパター
    ン露光を行う際に、 露光用光として第１の露光ビーム及び第２の露光ビーム
    を用い、 上記第１の露光ビームにより上記ピットパターンのパタ
    ーン露光を行い、 上記第１及び第２の露光ビームに目的とするウォブルに
    対応する光偏向処理を各々施した後、上記第１及び第２
    の露光ビームを近接する平行光軸上に再合成し、上記第
    １及び第２の露光ビームを所定の間隔に配置して上記フ
    ォトレジストに上記ウォブルランドのパターン露光を行
    うと共に、 上記第２の露光ビームの照射領域と、隣接する他の上記
    ウォブルランドパターンを露光する際の上記第１の露光
    ビームの照射領域とを、少なくとも一部重なるようにす
    ることを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体作製用
    原盤の製造方法。
11. 【請求項１１】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記
    フォトレジストが記録情報に対応するパターンとして形
    成された光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形
    用スタンパにあって、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともウォブルランド
    パターンは現像後に上記フォトレジストが残されるパタ
    ーンとして形成され、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともピットパターン
    は現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンと
    して形成されて成ることを特徴とする成形用スタンパ。
12. 【請求項１２】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記
    フォトレジストに記録情報に対応するパターンが形成さ
    れた光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用ス
    タンパにあって、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともウォブルランド
    パターンは上記フォトレジストの未露光部として形成さ
    れ、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともピットパターン
    は上記フォトレジストの露光部として形成されて成るこ
    とを特徴とする成形用スタンパ。
13. 【請求項１３】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記
    フォトレジストに記録情報に対応するパターンが形成さ
    れた光記録媒体作製用原盤を転写して作製する成形用ス
    タンパの製造方法にあって、 原盤用基板の上にフォトレジストを被着した後、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
    少なくともウォブルランドパターンを形成し、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
    て少なくともピットパターンを形成して光記録媒体作製
    用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤から転写して作製することを
    特徴とする成形用スタンパの製造方法。
14. 【請求項１４】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記
    フォトレジストに記録情報に対応するパターンが形成さ
    れた光記録媒体作製用原盤を転写して作製する成形用ス
    タンパの製造方法にあって、 原盤用基板の上にフォトレジストを被着した後、 上記フォトレジストの未露光部として少なくともウォブ
    ルランドパターンを形成し、 上記フォトレジストの露光部として少なくともピットパ
    ターンを形成して光記録媒体作製用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤から転写して作製することを
    特徴とする成形用スタンパの製造方法。
15. 【請求項１５】 基板上に少なくともウォブルグルーブ
    とウォブルランドとを有する光記録媒体にあって、 少なくとも記録領域に上記ウォブルランドが形成され、 上記ウォブルグルーブは凹状パターンとして形成され、 上記ウォブルランドのランド面が情報記録面とされ、 該情報記録面上を覆って全面的に、少なくとも上記基板
    に比し十分薄い薄膜の光透過性保護膜が形成され、 該光透過性保護膜側が、上記情報記録面に対する照射光
    の入射面とされたことを特徴とする光記録媒体。
16. 【請求項１６】 上記ウォブルグルーブのウォブル信号
    の振幅の大きさが、上記ウォブルランドのウォブル信号
    の振幅の大きさに比して大とされることを特徴とする請
    求項１５に記載の光記録媒体。
17. 【請求項１７】 上記ウォブルグルーブが矩形ウォブル
    グルーブとされることを特徴とする請求項１５に記載の
    光記録媒体。
18. 【請求項１８】 上記ウォブルグルーブのウォブル信号
    の振幅の大きさが、３０ｎｍ以上とされることを特徴と
    する請求項１５に記載の光記録媒体。
19. 【請求項１９】 基板上に少なくともウォブルグルーブ
    とウォブルランドとを有する光記録媒体の製造方法にあ
    って、 少なくとも原盤用基板の上にフォトレジストを被着した
    後、 上記フォトレジストが残されるパターンとして少なくと
    もウォブルランドパターンをパターニング形成し、 上記フォトレジストが除去されるパターンとして少なく
    ともウォブルグルーブパターンをパターニング形成して
    光記録媒体作製用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用ス
    タンパを用いて基板を作製し、 上記基板上に、少なくとも記録層と、上記基板に比し十
    分薄い薄膜の光透過性保護膜とを形成することを特徴と
    する光記録媒体の製造方法。
20. 【請求項２０】 基板上に少なくともウォブルグルーブ
    とウォブルランドとを有する光記録媒体の製造方法にあ
    って、 少なくとも原盤用基板の上にフォトレジストを被着した
    後、 上記フォトレジストの未露光部として少なくともウォブ
    ルランドパターンをパターニング形成し、 上記フォトレジストの露光部として少なくともウォブル
    グルーブパターンをパターニング形成して光記録媒体作
    製用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用ス
    タンパを用いて基板を作製し、 上記基板上に、少なくとも記録層と、上記基板に比し十
    分薄い薄膜の光透過性保護膜とを形成することを特徴と
    する光記録媒体の製造方法。
21. 【請求項２１】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記
    フォトレジストに記録情報に対応するパターンが形成さ
    れる記録媒体作製用原盤にあって、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
    少なくともウォブルランドパターンが形成され、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
    て少なくともウォブルグルーブパターンが形成されて成
    ることを特徴とする光記録媒体作製用原盤。
22. 【請求項２２】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像により上記フォ
    トレジストに記録情報に対応するパターンが形成される
    光記録媒体作製用原盤にあって、 上記フォトレジストの未露光部として少なくともウォブ
    ルランドパターンが形成され、 上記フォトレジストの露光部として少なくともウォブル
    グルーブパターンが形成されてなることを特徴とする光
    記録媒体作製用原盤。
23. 【請求項２３】 原盤用基板の上にフォトレジストを被
    着して、所要のパターンの露光及び現像により上記フォ
    トレジストに記録情報に対応するパターンを形成する光
    記録媒体作製用原盤の製造方法にあって、 原盤用基板上にフォトレジストを被着した後、 上記フォトレジストの未露光部として少なくともウォブ
    ルランドパターンを形成し、 上記フォトレジストの露光部として少なくともウォブル
    グルーブパターンを形成することを特徴とする光記録媒
    体作製用原盤の製造方法。
24. 【請求項２４】 原盤用基板の上にフォトレジストを被
    着して、所要のパターンの露光及び現像により上記フォ
    トレジストに記録情報に対応するパターンを形成する光
    記録媒体作製用原盤の製造方法にあって、 原盤用基板上にフォトレジストを被着した後、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
    少なくともウォブルランドパターンを形成し、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
    て少なくともウォブルグルーブパターンを形成すること
    を特徴とする光記録媒体作製用原盤の製造方法。
25. 【請求項２５】 上記ウォブルランドパターンのパター
    ン露光を行う際に、 露光用光として第１の露光ビーム及び第２の露光ビーム
    を用い、 上記第１の露光ビームにより上記フォトレジストにウォ
    ブルグルーブのパターン露光を行い、 上記第１及び第２の露光ビームに目的とするウォブルに
    対応する光偏向処理を各々施した後、上記第１及び第２
    の露光ビームを近接する平行光軸上に再合成し、上記第
    １及び第２の露光ビームを所定の間隔に配置して上記フ
    ォトレジストに上記ウォブルランドのパターン露光を行
    うと共に、 上記第２の露光ビームの照射領域と、隣接する他の上記
    ウォブルランドパターンを露光する際の上記第１の露光
    ビームの照射領域とを、少なくとも一部重なるようにす
    ることを特徴とする請求項２３に記載の光記録媒体作製
    用原盤の製造方法。
26. 【請求項２６】 上記ウォブルランドパターンのパター
    ン露光を行う際に、 露光用光として第１の露光ビーム及び第２の露光ビーム
    を用い、 上記第１の露光ビームにより上記フォトレジストにウォ
    ブルグルーブのパターン露光を行い、 上記第１及び第２の露光ビームに目的とするウォブルに
    対応する光偏向処理を各々施した後、上記第１及び第２
    の露光ビームを近接する平行光軸上に再合成し、上記第
    １及び第２の露光ビームを所定の間隔に配置して上記フ
    ォトレジストに上記ウォブルランドのパターン露光を行
    うと共に、 上記第２の露光ビームの照射領域と、隣接する他の上記
    ウォブルランドパターンを露光する際の上記第１の露光
    ビームの照射領域とを、少なくとも一部重なるようにす
    ることを特徴とする請求項２４に記載の光記録媒体作製
    用原盤の製造方法。
27. 【請求項２７】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記
    フォトレジストに記録情報に対応するパターンが形成さ
    れた光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用ス
    タンパにあって、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともウォブルランド
    パターンは、現像後に上記フォトレジストが残されるパ
    ターンとして形成され、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともウォブルグルー
    ブパターンは、現像後に上記フォトレジストが除去され
    るパターンとして形成され成り、 上記成形用スタンパのウォブルランドパターンは凹状パ
    ターンとされ、 上記成形用スタンパのウォブルグルーブパターンは凸状
    パターンとされて成ることを特徴とする成形用スタン
    パ。
28. 【請求項２８】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターンの露光及び現像がなされて上記
    フォトレジストに記録情報に対応するパターンが形成さ
    れた光記録媒体作製用原盤を転写して作製した成形用ス
    タンパにあって、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともウォブルランド
    パターンは上記フォトレジストの未露光部として形成さ
    れ、 上記光記録媒体作製用原盤の少なくともウォブルグルー
    ブパターンは上記フォトレジストの露光部として形成さ
    れ成り、 上記成形用スタンパのウォブルランドパターンは凹状パ
    ターンとされ、 上記成形用スタンパのウォブルグルーブパターンは凸状
    パターンとされて成ることを特徴とする成形用スタン
    パ。
29. 【請求項２９】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターニングの露光及び現像がなされて
    上記フォトレジストに記録情報に対応するパターニング
    が形成された光記録媒体作製用原盤を転写して作製する
    成形用スタンパの製造方法にあって、 原盤用基板の上にフォトレジストを被着した後、 現像後に上記フォトレジストが残されるパターンとして
    少なくともウォブルランドパターンを形成し、 現像後に上記フォトレジストが除去されるパターンとし
    て少なくともウォブルグルーブパターンを形成して光記
    録媒体作製用原盤を作製し、 上記光記録媒体作製用原盤から転写して作製することを
    特徴とする成形用スタンパの製造方法。
30. 【請求項３０】 原盤用基板の上にフォトレジストが被
    着され、所要のパターニングの露光及び現像がなされて
    上記フォトレジストに記録情報に対応するパターニング
    が形成された光記録媒体作製用原盤を転写して作製する
    成形用スタンパの製造方法にあって、 原盤用基板の上にフォトレジストを被着した後、 上記フォトレジストの未露光部として少なくともウォブ
    ルランドパターンを形成し、 上記フォトレジストの露光部として少なくともウォブル
    グルーブパターンを形成して光記録媒体作製用原盤を作
    製し、 上記光記録媒体作製用原盤から転写して作製することを
    特徴とする成形用スタンパの製造方法。
31. 【請求項３１】 基板上に少なくともピットとウォブル
    ランドとを有する光記録媒体に対する光学記録再生方法
    にあって、 上記光記録媒体の少なくとも記録領域に、該記録領域に
    対する照射光の入射面に向かって突出する凸状パターン
    として上記ウォブルランドが形成され、 上記光記録媒体の上記ピットは凹状パターンとして形成
    され、 上記ウォブルランドのランド面を情報記録面として、該
    情報記録面に記録情報の記録再生を行うことを特徴とす
    る光学記録再生方法。
32. 【請求項３２】 基板上に少なくともウォブルグルーブ
    とウォブルランドとを有する光記録媒体に対する光学記
    録再生方法にあって、 上記光記録媒体の少なくとも記録領域に、該記録領域に
    対する照射光の入射面に向かって突出する凸状パターン
    として上記ウォブルランドが形成され、 上記光記録媒体の上記ウォブルグルーブは凹状パターン
    として形成され、 上記ウォブルランドのランド面を情報記録面として、該
    情報記録面に記録情報の記録再生を行うことを特徴とす
    る光学記録再生方法。
33. 【請求項３３】 少なくとも上記光記録媒体の上記ウォ
    ブルランド及び上記ウォブルグルーブのウォブル情報を
    再生することを特徴とする請求項３２に記載の光学記録
    再生方法。
34. 【請求項３４】 上記光記録媒体の記録領域に対する照
    射光に使用する対物レンズの開口数をＮＡとしたとき、
    上記ＮＡが０．８５±０．０５であることを特徴とする
    請求項３１に記載の光学記録再生方法。
35. 【請求項３５】 上記光記録媒体の記録領域に対する照
    射光に使用する対物レンズの開口数をＮＡとしたとき、
    上記ＮＡが０．８５±０．０５であることを特徴とする
    請求項３２に記載の光学記録再生方法。
36. 【請求項３６】 上記光記録媒体の記録領域に対する照
    射光に使用する対物レンズの開口数をＮＡとしたとき、
    上記ＮＡが０．８５±０．０５であることを特徴とする
    請求項３３に記載の光学記録再生方法。