JPH11279180A - 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤 - Google Patents
新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤Info
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- JPH11279180A JPH11279180A JP11013670A JP1367099A JPH11279180A JP H11279180 A JPH11279180 A JP H11279180A JP 11013670 A JP11013670 A JP 11013670A JP 1367099 A JP1367099 A JP 1367099A JP H11279180 A JPH11279180 A JP H11279180A
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Abstract
ロスポリン誘導体を提供すること 【解決手段】つぎの一般式[1] 【化1】 R2は、置換されていてもよい次の式、 【化2】 または 【化3】 「各記号は、明細書記載のとおり」で表されるセファロ
スポリン誘導体またはその塩。
Description
新規なセファロスポリン誘導体またはその塩に関する。
を有するセファロスポリン系抗生物質が多く開発されて
きているが、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MRS
A)に対する抗菌活性についてはいまだ不十分である。
いて、MRSAに対して強い抗菌活性を有するセファロ
スポリン誘導体の開発が望まれていた。
を解決するため鋭意研究を行った結果、セファロスポリ
ン環の3位に、次式
原子または窒素原子を;D環は、該環中に窒素原子を含
んでいてもよい5員または6員炭素環を;破線は、環中
の炭素原子に結合する結合手を示す。)で表される基が
結合する新規なセファロスポリン誘導体またはその塩
が、MRSAに対して強い抗菌活性を有しており、人お
よび動物に対する医薬品として有用であることを見出
し、本発明を完成するに至った。
置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキル
カルボニルオキシ、アルキルチオ、アリール、アリール
チオ、アリールオキシ、複素環式チオまたは複素環式基
を;Aは、ハロゲン原子、保護されていてもよいアミノ
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいヒドロキシイミノ基もしくはアルコキシイミ
ノ基で置換されていてもよいメチレン基、シクロアルキ
リデン基、ビニリデン基およびエチニレン基を;R
2は、置換されていてもよい次の式、
同じ意味を有する。)で表される基を;R3は、保護され
ていてもよいカルボキシル基またはカルボキシラト基
を;nは、0または1を、それぞれ示す。]で表される
セファロスポリン誘導体またはその塩を提供するもので
ある。
るセファロスポリン誘導体またはその塩を含有する医
薬、特に抗菌剤を提供するものである。
本明細書において、特に断らない限り、ハロゲン原子と
は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子を;アルキル基とは、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、
イソブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシルおよびウンデシルなど
の直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-12アルキル基を;低級
アルキル基とは、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、イソブチル、te
rt-ブチルおよびペンチルなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のC1 -5アルキル基を;アルケニル基とは、例えば、
ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニ
ル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニ
ル、オクテニルなどのC2-12アルケニル基を;アルキニ
ル基とは、例えば、エチニル、プロパルギルなどのC
2-12アルキニル基を;シクロアルキル基とは、例えば、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシルなどのC3- 6シクロアルキル基を;シクロア
ルキリデン基とは、例えば、シクロプロピリデン、シク
ロブチリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデ
ンなどのC3-6シクロアルキリデン基を;アシル基と
は、例えば、ホルミル基、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリルなどのC2-5アルカノ
イル基並びにベンゾイルおよびナフトイルなどのアロイ
ル基を;アリール基とは、フェニルおよびナフチル基な
どを;
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、se
c-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチル
オキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオ
キシ、ノニルオキシ、デシルオキシおよびウンデシルオ
キシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-12アルキル−
O−基を;低級アルコキシ基とは、例えば、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、
sec-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシおよびペ
ンチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-5ア
ルキル−O−基を;
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、n-
ブチルチオ、sec-ブチルチオ、イソブチルチオ、tert-
ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチ
オ、オクチルチオ、ノニルチオ、デシルチオおよびウン
デシルチオなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-12アル
キル−S−基を;低級アルキルチオ基とは、例えば、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、n-ブチルチオ、sec-ブチルチオ、イソブチルチオ、
tert-ブチルチオおよびペンチルチオなどの直鎖状もし
くは分枝鎖状のC1-5アルキル−S−基を;アルキルア
ミノ基とは、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プ
ロピルアミノ、イソプロピルアミノ、n-ブチルアミノ、
sec-ブチルアミノ、イソブチルアミノ、tert-ブチルア
ミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ヘプチルアミ
ノ、オクチルアミノ、ノニルアミノ、デシルアミノ、ウ
ンデシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
プロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、メチルエチル
アミノ、メチルプロピルアミノおよびエチルブチルアミ
ノなどのモノ−またはジ−C1-12アルキル基で置換され
たアミノ基を;
ルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピ
ルアミノ、n-ブチルアミノ、sec-ブチルアミノ、イソブ
チルアミノ、tert-ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジ
イソプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、メチルプロ
ピルアミノおよびエチルブチルアミノなどのモノ−また
はジ−C1-5アルキル基で置換されたアミノ基を;アル
キルカルボニルオキシ基とは、例えば、アセチルオキ
シ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリ
ルオキシ、バレリルオキシ、ヘキサノイルオキシ、オク
タノイルオキシおよびデカノイルオキシなどの直鎖状も
しくは分枝鎖状のC1-12アルキル−CO−O−基を;低
級アルキルカルボニルオキシ基とは、例えば、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブ
チリルオキシおよびバレリルオキシなどの直鎖状もしく
は分枝鎖状のC1-5アルキル−CO−O−基を;
オおよびナフチルチオなどのアリール−S−基を;アリ
ールオキシ基とは、例えば、フェニルオキシおよびナフ
チルオキシなどのアリール−O−基を;アルコキシイミ
ノ基とは、例えば、メトキシイミノ、エトキシイミノ、
プロポキシイミノ、イソプロポキシイミノ、n-ブトキシ
イミノ、sec-ブトキシイミノ、イソブトキシイミノ、te
rt-ブトキシイミノ、ペンチルオキシイミノ、ヘキシル
オキシイミノ、ヘプチルオキシイミノ、オクチルオキシ
イミノ、ノニルオキシイミノ、デシルオキシイミノおよ
びウンデシルオキシイミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖
状のC1-12アルキル−O−イミノ基を;イミノアルキル
基とは、例えば、イミノメチル、1−イミノエチル、1
−イミノプロピル、2−イミノプロピル、1−イミノブ
チル、2−イミノブチルおよび1−イミノペンチルなど
のイミノ基が置換した直鎖状のC1-5アルキル基を;
チルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスル
フィニル、イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィ
ニル、ペンチルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル、
ヘプチルスルフィニル、オクチルスルフィニル、ノニル
スルフィニル、デカニルスルフィニルおよびウンデカニ
ルスルフィニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-12
アルキル−SO−基を;アルキルスルホニル基とは、例
えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピル
スルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニ
ル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル、ヘプチ
ルスルホニル、オクチルスルホニル、ノニルスルホニ
ル、デカニルスルホニルおよびウンデカニルスルホニル
などの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-12アルキル−SO
2−基を;
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、n-ブトキシカル
ボニル、sec-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカ
ルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカ
ルボニル、デシルオキシカルボニルおよびウンデシルオ
キシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-12
アルキル−O−CO−基を;
チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリ
ル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、フラザニル、ピロリジニル、ピロリニ
ル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニ
ル、ピラゾリニル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,
2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、
1,3,4−チアジアゾリル、1,2,3−トリアゾリル、
1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、チアトリアゾ
リル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジ
ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピラニル、モルホ
リニル、1,2,4−トリアジニル、ベンゾチエニル、ナ
フトチエニル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、クロ
メニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリ
ル、インダゾリル、プルニル、キノリル、イソキノリ
ル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、
キナゾリニル、シノリニル、フタリジニル、イソクロマ
ニル、クロマニル、インドリニル、イソインドリニル、
ベンゾオキサゾリル、トリアゾロピリジル、テトラゾロ
ピリダジニル、テトラゾロピリミジニル、チアゾロピリ
ダジニル、チアジアゾロピリダジニル、トリアゾロピリ
ダジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、
1,2,3,4−テトラヒドロキノリル、イミダゾ[1,2
−b][1,2,4]トリアジニルおよびキヌクリジニルな
どのような酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選ば
れる少なくとも1つの異項原子を含有する4〜6員複素
環式基または縮合複素環式基を;複素環式チオ基とは、
例えば、チアジアゾリルチオ基など前述した複素環式−
S−基を;それぞれ意味する。
する。R2は、次の式、
原子または窒素原子を;D環は、該環中に窒素原子を含
んでいてもよい5員または6員炭素環を;破線は、環中
の炭素原子に結合する結合手を示す。)で表される基で
ある。さらに具体的には、以下の式で表される基が挙げ
られる。
a]および[iib]で表される双環複素環式基の具体例とし
ては、キノリニル基;イソキノリル基;ナフチジニル
基;ピロロピリミジニル基;ピラゾロピリミジニル基;
プリニル基;トリアゾロピリミジニル基;キナゾリニル
基;ピリドピリミジニル基;プテリジニル基;ピリミド
ピリミジニル基、ピリミドピリダジニル基、インドリル
基およびベンズイミダゾリル基などが挙げられる。
−2−イル基、イソキノリン−3−イル基、1,8−ナ
フチリジン−2−イル基、キナゾリン−2−イル基、ピ
ロロ[2,3−d]ピリミジン−2−イル基、ピロロ[3,
2−d]ピリミジン−2−イル基、ピロロ[3,4−d]ピ
リミジン−2−イル基、プリン−2−イル基、プリン−
6−イル基、ピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−6−イ
ル基、ピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−4−イル基、
ピラゾロ[4,3−d]ピリミジン−5−イル基、[1,2,
3]トリアゾロ[4,5−d]ピリミジン−5−イル基、
[1,2,3]トリアゾロ[4,5−d]ピリミジン−7−イ
ル基、ピリド[2,3−d]ピリミジン−2−イル基、ピ
リミド[4,5−d]ピリミジン−2−イル、ピリミド
[5,4−d]ピリミジン−2−イル基、ピリミド[4,5
−c]ピリダジン−7−イル基、ピリミド[4,5−d]ピ
リダジン−2−イル基、プテリジン−2−イル基、プテ
リジン−4−イル基、インドール−2−イル基およびベ
ンズイミダゾール−2−イル基などが挙げられる。
ルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、
アリールチオ基、アリールオキシ基、複素環式チオ基ま
たは複素環式基の置換基としては、ハロゲン原子、シア
ノ基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、保
護されていてもよいアミノ基および保護されていてもよ
いグアニジノ基が挙げられる。
ゲン原子;シアノ基;アミジノ基;グアニジノ基;アジ
ド基;ニトロ基;オキソ基;保護されていてもよいアミ
ノ基;保護されていてもよいヒドロキシル基;置換され
ていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチ
オ、アリールチオ、アルキルアミノ、アシル、カルバモ
イル、カルバモイルオキシ、アルコキシイミノ、ウレイ
ド、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニルおよび
スルファモイル基または保護されていてもよいアミノ、
イミノ、ヒドロキシル、ヒドロキシイミノもしくはカル
ボキシル基から選ばれる一つ以上の基で置換されていて
もよい。さらに、それらの基の内で、アルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルアミノ基、アシル基、カルバモイル基、カ
ルバモイルオキシ基、アルコキシイミノ基、ウレイド
基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニルおよ
びスルファモイル基は、ハロゲン原子、保護されていて
もよいヒドロキシル基、保護されていてもよいアミノ
基、保護されていてもよいイミノ基および低級アルコキ
シ基などで置換されていてもよい。
ミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシイミノ
基およびカルボキシル基を有する場合に用いられる保護
基としては、従来、セフェム系化合物の分野で通常知ら
れているアミノ保護基、ヒドロキシル保護基およびカル
ボキシル保護基が挙げられる。具体的には、プロテクテ
ィブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス
[Protective Groups in Organic Synthesis セオドラ
・ダブリュー・グリーン(Theodora.W.Green)著、(1991
年)ジョン・ウィリー・アンド・サンズ社(John Wiley &
Sons, Inc.)]および特公昭60-52755号などに記載され
ている以下の様なものが挙げられる。
護基として使用し得るすべての基を含み、例えば、トリ
クロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボ
ニル、ベンジルオキシカルボニル、p-ニトロベンジルオ
キシカルボニル、o-ブロモベンジルオキシカルボニル、
(モノ−、ジ−、トリ−)クロロアセチル、トリフルオロ
アセチル、フェニルアセチル、ホルミル、アセチル、ベ
ンゾイル、tert-アミルオキシカルボニル、tert-ブトキ
シカルボニル、p-メトキシベンジルオキシカルボニル、
3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、4−(フ
ェニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、2−フルフリ
ルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、
1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、フタロイル、スクシニル、アラニル、ロ
イシル、1−アダマンチルオキシカルボニルおよび8−
キノリルオキシカルボニルなどのアシル基;ベンジル、
ジフェニルメチルおよびトリフェニルメチルなどのアル
−低級アルキル基;2−ニトロフェニルチオおよび2,
4−ジニトロフェニルチオなどのアリールチオ基;メチ
ルスルホニルおよびp−トリルスルホニルなどのアルキ
ル−もしくはアリール−スルホニル基;N,N−ジメチ
ルアミノメチレンなどのジ低級アルキルアミノ−低級ア
ルキリデン基;ベンジリデン、2−ヒドロキシベンジリ
デン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンジリデンおよび
2−ヒドロキシ−1−ナフチルメチレンなどのアル−低
級アルキリデン基;3−ヒドロキシ−4−ピリジルメチ
レンなどの含窒素複素環式アルキリデン基;シクロヘキ
シリデン、2−エトキシカルボニルシクロヘキシリデ
ン、2−エトキシカルボニルシクロペンチリデン、2−
アセチルシクロヘキシリデンおよび3,3−ジメチル−
5−オキソシクロヘキシリデンなどのシクロアルキリデ
ン基;ジフェニルホスホリルおよびジベンジルホスホリ
ルなどのジアリール−もしくはジアル−低級アルキル−
ホスホリル基;5−メチル−2−オキソ−2H−1,3
−ジオキソール−4−イル−メチルなどの含酸素複素環
式アルキル基並びにトリメチルシリルなどのアルキル置
換シリル基などが挙げられる。
キシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、
例えば、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、4−ブロモベンジルオキシカルボ
ニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4
−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニ
ル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロ
ポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ジフ
ェニルメトキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエト
キシカルボニル、2,2,2−トリブロモエトキシカルボ
ニル、2−(トリメチルシリル)エトキシカルボニル、2
−(フェニルスルホニル)エトキシカルボニル、2−(ト
リフェニルホスホニオ)エトキシカルボニル、2−フル
フリルオキシカルボニル、1−アダマンチルオキシカル
ボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル、S−ベンジルチオカルボニル、4−エトキシ−1
−ナフチルオキシカルボニル、8−キノリルオキシカル
ボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジクロ
ロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチ
ル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバロイ
ルおよびベンゾイルなどのアシル基;メチル、tert-ブ
チル、2,2,2−トリクロロエチルおよび2−トリメチ
ルシリルエチルなどの低級アルキル基;アリルなどの低
級アルケニル基;ベンジル、p-メトキシベンジル、3,
4−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよびトリ
チルなどのアルアルキル基;テトラヒドロフリル、テト
ラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルなど
の含酸素および含硫黄複素環式基;メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、2−メトキシ
エトキシメチル、2,2,2−トリクロロエトキシメチ
ル、2−(トリメチルシリル)エトキシメチルおよび1−
エトキシエチルなどの低級アルコキシ−および低級アル
キルチオ−低級アルキル基;メチルスルホニルおよびp
−トリルスルホニルなどのアルキル−もしくはアリール
−スルホニル基;トリメチルシリル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシ
リル、tert-ブチルジメチルシリル、tert-ブチルジフェ
ニルシリルおよびジフェニルメチルシリルなどの置換シ
リル基などが挙げられる。
ボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含
み、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピ
ル、1,1−ジメチルプロピル、n-ブチルおよびtert-ブ
チルなどの低級アルキル基;フェニルおよびナフチルな
どのアリール基;ベンジル、ジフェニルメチル、トリチ
ル、p-ニトロベンジル、p-メトキシベンジルおよびビス
(p-メトキシフェニル)メチルなどのアルアルキル基;ア
セチルメチル,ベンゾイルメチル、p-ニトロベンゾイル
メチル、p-ブロモベンゾイルメチルおよびp-メタンスル
ホニルベンゾイルメチルなどのアシル低級アルキル基;
2−テトラヒドロピラニルおよび2−テトラヒドロフラ
ニルなどの含酸素複素環式基;2,2,2−トリクロロエ
チルなどのハロゲノ低級アルキル基;2−(トリメチル
シリル)エチルなどの低級アルキルシリルアルキル基;
アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチルおよびピ
バロイルオキシメチルなどのアルキルカルボニルオキシ
アルキル基;フタルイミドメチルおよびスクシンイミド
メチルなどの含窒素複素環式−低級アルキル基;シクロ
ヘキシルなどのシクロアルキル基;メトキシメチル、メ
トキシエトキシメチルおよび2−(トリメチルシリル)エ
トキシメチルなどの低級アルコキシ低級アルキル基;ベ
ンジルオキシメチルなどのアル−低級アルコキシ低級ア
ルキル基;メチルチオメチルおよび2−メチルチオエチ
ルなどの低級アルキルチオ低級アルキル基;フェニルチ
オメチルなどのアリールチオ低級アルキル基;1,1−
ジメチル−2−プロペニル、3−メチル−3−ブチニル
およびアリルなどの低級アルケニル基並びにトリメチル
シリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、
ジエチルイソプロピルシリル、tert-ブチルジメチルシ
リル、tert-ブチルジフェニルシリルおよびジフェニル
メチルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
知られているアミノ基のような塩基性基またはカルボキ
シル、スルホもしくはヒドロキシル基などの酸性基にお
ける塩または分子内塩が挙げられる。塩基性基における
塩としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸
もしくは硫酸などの鉱酸との塩;ギ酸、トリクロロ酢酸
もしくはトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との
塩;メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエ
ンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ナフタレン−2
−スルホン酸もしくはナフタレン−1,5−ジスルホン
酸などのスルホン酸類との塩;またはグルタミン酸もし
くはアスパラギン酸などの酸性アミノ酸との塩などが、
また、酸性基における塩としては、例えば、ナトリウム
もしくはカリウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウ
ムもしくはマグネシウムなどのアルカリ土類金属との
塩;アンモニウム塩;トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチル
アニリン、N−メチルピペリジンもしくはN−メチルモ
ルホリンなどの含窒素有機塩基との塩;またはリジンも
しくはアルギニンなどの塩基性アミノ酸との塩などが挙
げられる。上記塩の中で、生理学的に許容される塩が好
ましい。
において、異性体(例えば、光学異性体、幾何異性体、
互変異性体など)が存在する場合、本発明は、それらす
べての異性体を包含し、また、すべての水和物、溶媒和
物および種々の結晶形をも包含するものである。
子、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルキル基、
アルコキシ基もしくはアミノ基で置換されていてもよい
アリール基;ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、グア
ニジノ基、アルケニル基もしくはアルキニル基で置換さ
れていてもよいアルキルチオ基;ハロゲン原子もしくは
アミノ基で置換されていてもよいチエニル、フリル、チ
アゾリルまたはチアジアゾリル基;チアジアゾリルチオ
基;R2が、アミノ基もしくはヒドロキシル基で置換さ
れていてもよいキナゾリニル、プリニル、ピラゾロ[3,
4−d]ピリミジニル、ピラゾロ[4,3−d]ピリミジニ
ル、[1,2,3]トリアゾロ[4,5−d]ピリミジニル、
キノリニル、ピロロ[2,3−d]ピリミジニル、ナフチ
リジニル、ピリド[2,3−d]ピリミジニルまたはプテ
リジニル基である化合物が好ましい。以下、表1〜表8
に本発明の代表的化合物を例示する。
明する。本発明化合物は、例えば、次に示す製造法に従
って合成することができる。
それぞれ、前記したと同様の意味を有し、R3aは、保護
されたカルボキシル基を;R4は、水素原子またはアミ
ノ保護基を;並びにXは、脱離基を、それぞれ示す。] R4のアミノ保護基としては、AおよびR2で説明したと
同様のアミノ保護基が挙げられる。
ルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシなどの低
級アルキルスルホニルオキシ基;トリフルオロメチルス
ルホニルオキシなどのハロゲノ低級アルキルスルホニル
オキシ基およびベンゼンスルホニルオキシ、トルエンス
ルホニルオキシなどのアリールスルホニルオキシ基など
が挙げられる。
[3]、[4]、[5]および[6]の化合物は、塩と
して使用することもでき、それれの塩としては一般式
[1]の化合物の塩で説明したものと同様の塩が挙げら
れる。
れらの反応性誘導体を使用することもでき、例えば、ト
リメチルシラニル、ジメチルシランジイル、イソプロピ
ルジメチルシラニル、トリメトキシシラニル、ジメトキ
シメチルシラニル、ジメチルメトキシシラニルもしくは
ジメトキシシランジイルなどの有機シリル基またはジメ
トキシホスフィニル、1,3,2−ジオキソホスホラン−
2−イル、4−メチル−1,3,2−ジオキソホスホラン
−2−イルもしくは1,3,2−ジオキソホスホリナン−
2−イルなどの有機リン基が反応部位であるアミノ基に
結合した化合物などが挙げられる。
れらの反応性誘導体を使用することもでき、例えば、特
開昭59-93085号などに記載の酸ハロゲン化物、酸無水
物、混合酸無水物、活性酸アミド、活性エステル、活性
チオロエステルもしくは酸アジドまたは一般式[5]の
化合物とビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが挙
げられる。次に一般式[1]の化合物またはその塩の製
造法について詳細に説明する。
酸剤の存在下または不存在下、一般式[3]の化合物ま
たはその塩と反応させることによって、一般式[1]の
化合物またはその塩を得ることができる。
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されない
が、例えば、水;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ルおよびジオキサンなどのエーテル類;塩化メチレンお
よびクロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類;メタノ
ールおよびエタノールなどのアルコール類;N,N−ジ
メチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類;ベンゼンおよびトルエンなどの芳香
族炭化水素類;酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどのエス
テル類;アセトンおよびメチルエチルケトンなどのケト
ン類;ジメチルスルホキシド;1,3−ジメチルイミダ
ゾリジノン;ヘキサメチルリン酸トリアミド;並びにア
セトニトリルおよびプロピオニトリルなどのニトリル類
などが挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよ
い。
しては、例えば、水酸化アルカリ、炭酸アルカリ、炭酸
水素アルカリ、ナトリウムメトキシド、カリウム tert
−ブトキシド、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、2,6
−ルチジン、テトラメチルグアニジン、リチウムビスト
リメチルシリルアミド、水素化ナトリウム、1,8−ジ
アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンまたは1,5
−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネンなどが挙げら
れる。また、必要に応じて用いられる脱酸剤としては、
例えば、プロピレンオキシドなどが挙げられる。
量は、一般式[2]の化合物またはその塩に対して、等
モル以上である。また、必要に応じて用いられる塩基お
よび脱酸剤の使用量は、一般式[2]の化合物またはそ
の塩に対して、それぞれ、0.5〜2倍モルおよび等モル以
上である。また、反応温度および反応時間は、特に限定
されないが、通常、−20℃〜100℃で、5分〜50時間実施
すればよい。
応性誘導体を、塩基の存在下または不存在下、一般式
[5]の化合物もしくはその塩またはそれらの反応性誘
導体と反応させることにより、一般式[1]の化合物ま
たはその塩を得ることができる。この反応で用いられる
溶媒としては、製造法1で説明したと同様の溶媒が挙げ
られる。この反応で必要に応じて用いられる塩基として
は、例えば、酢酸ナトリウム、ナトリウムメトキシド、
カリウム tert-ブトキシド、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリ
ジン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン、ジシクロヘキシルアミ
ン、2,6−ルチジン、テトラメチルグアニジン、リチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチルシ
リルアミド、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−
ウンデセンおよび1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−
5−ノネンなどの有機塩基;もしくは水素化ナトリウ
ム、水酸化アルカリ、炭酸アルカリ、炭酸水素ナトリウ
ムおよび炭酸水素カリウムなどの無機塩基などが挙げら
れる。
塩の状態で使用するには、適切な縮合剤を用いる。この
ような縮合剤としては、例えば、N,N'−ジシクロヘキ
シルカルボジイミドのようなN,N'−ジ置換カルボジイ
ミドが挙げられる。一般式[5]の化合物もしくはその
塩またはそれらの反応性誘導体の使用量は、一般式
[4]の化合物もしくはその塩またはそれらの反応性誘
導体に対して、0.9倍モル以上、好ましくは、0.9〜1.5
倍モルである。必要に応じて用いられる塩基および縮合
剤の使用量は、一般式[4]の化合物もしくはその塩ま
たはそれらの反応性誘導体に対して、それぞれ、0.5〜2
倍モルおよび等モル以上である。反応温度および反応時
間は、特に限定されないが、通常、−50〜80℃で、5分
〜30時間実施すればよい。
ることにより、一般式[1b]の化合物またはその塩を
得ることができる。この反応は、例えば、ジャーナル・
オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー(J.Am.
Chem.Soc.)第88巻、第852〜853頁(1966年)に記載の方法
またはそれに準じた方法によって実施することができ
る。
を、従来セフェム系化合物の分野で通常用いられている
酸化反応に付すことによって、一般式[1a]の化合物
またはその塩に誘導し、ついで一般式[1a]の化合物
またはその塩を、従来セフェム系化合物の分野で通常用
いられている還元反応に付すことにより、一般式[1
b]の化合物またはその塩を得ることもできる。これら
の酸化・還元反応は、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・
オーガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)第35巻、
第2430〜2433頁(1970年)、ジャーナル・オブ・ザ・ケ
ミカル・ソサエティー[J.Chem.Soc.(C)]第1142〜1151
頁(1966年)および特開昭52-48683号などに記載の方法ま
たはそれらに準じた方法によって実施することができ
る。
たは[5]の化合物もしくはそれらの塩あるいはそれら
の反応性誘導体;および一般式[2]、[3]または
[6]の化合物もしくはそれらの塩において、異性体
(例えば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体など)
が存在する場合、これらすべての異性体を使用すること
ができ、また、すべての水和物、溶媒和物および種々の
結晶形を使用することができる。このようにして得られ
た本発明の一般式[1]の化合物もしくはその塩は、抽
出、晶出、再結晶、およびカラムクロマトグラフィーな
どの常法にしたがって単離精製することができる。
原料である一般式[2]の化合物またはその塩;一般式
[3]の化合物またはその塩;一般式[4]の化合物も
しくはその塩またはそれらの反応性誘導体;および一般
式[6]の化合物またはその塩の製造法について説明す
る。
一般式[2]の化合物またはその塩は、公知方法または
それらに準じた方法にしたがって製造することができる
が、具体的には、例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オー
ガニック・ケミストリー(J.Org.Chem.)第54巻、第4962
〜4966頁(1989年)、同第59巻、第1606〜1607頁(1994
年)、ピュアー・アンド・アプライド・ケミストリー(P
ure Appl.Chem.)第59巻、第1041〜1046頁(1987年)など
に記載の方法またはそれらに準じた方法にしたがって得
ることができる。
一般式[3]の化合物またはその塩は、公知方法または
それらに準じた方法にしたがって製造することができる
が、具体的には、例えば、ケミカル・ファルマシューテ
ィカル・ブレティン(Chem.Pharm.Bull.)第25巻、第1811
〜1821頁(1977年)などに記載の方法またはそれらに準じ
た方法にしたがって得ることができる。また、これらの
文献に記載の反応の他に、さらに、通常のアルキル化反
応、置換反応、アシル化反応、酸化反応および還元反応
などを応用し、さらに他の目的の原料化合物へ誘導する
ことができる。
一般式[4]の化合物もしくはその塩またはそれらの反
応性誘導体;製造法3における原料化合物である一般式
[6]の化合物またはその塩は、製造法1および自体公
知の方法を組み合わせて製造することができる。
び原料化合物の製造法において、反応部位以外に、アミ
ノ基、カルボキシル基あるいはヒドロキシル基などの活
性基を有する場合、予めこれらの基を常法にしたがって
保護しておき、反応後に常法にしたがって脱離してもよ
い。また、反応終了後、反応目的物は単離することな
く、そのままつぎの反応に用いることもでき、また、抽
出、晶出、再結晶およびカラムクロマトグラフィーなど
の常法にしたがって単離精製してもよい。
常製剤化に使用される賦形剤、通常の医薬担体および希
釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよく、これら
は、常法にしたがって、錠剤、軟もしくは硬カプセル
剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、
液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤または皮下、筋肉、静脈
内もしくは点滴注射剤などの形態で経口または非経口投
与することができる。本発明化合物を医薬、特に抗菌剤
として用いる場合、注射剤の形態とすることが好まし
い。注射剤の製造には、当該分野の常法で行えばよく、
例えば、本発明化合物を水に溶解させた後、無菌ろ過
し、バイアルに分注し、凍結乾燥して、注射用凍結乾燥
製剤とすればよい。また、投与方法、投与量および投与
回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択
することができ、通常成人に対しては、経口または非経
口(例えば、注射、点滴または直腸部位への投与など)
投与により、1日当たり0.1〜100mg/kgを1回から数回
に分割して投与すればよい。
ついて説明する. 試験方法 日本化学療法学会標準法[ケモテラピー(CHEMOTHERAPY)
第29巻、第1号、第76〜79頁(1981年)]に準じ、増殖用
培地で一夜培養した試験菌を106cells/mLに調整し、そ
の1白金耳を、薬剤を含むミュラー・ヒントン・アガー
(Mueller Hintonagar)培地(Difco社製)に接種し、37℃
で18〜20時間培養した後、菌の発育の有無を観察し、菌
の発育が阻止された最小限度の薬剤濃度をもってMIC
(μg/mL)とした。その結果を表9に示す。
を、具体的に参考例、実施例および製剤例を挙げて説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、シリカ
ゲル(BW-127ZH;富士シリシア化学社製)を、さらに逆
相カラムクロマトグラフィーにおける担体は、LC-SORB
SP-B-ODS(ケムコ社製)を、それぞれ用いた。また、溶
離液における混合比は、すべて容量比である。なお、表
中の略号は以下の意味を有する。 Ph:フェニル、Me:メチル、Boc:t−ブトキシ
カルボニル
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル6.00gを塩化メチレン180mLおよびア
セトニトリル180mLの混合溶媒に懸濁させ、氷冷下、m-
クロロ過安息香酸(純度70%)2.30gを加えた後、20℃で90
分間撹拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
200mLを加え、有機層を分取する。分取した有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
にジエチルエーテルを加え、析出結晶を濾取すれば、7
−フェニルアセトアミド−3−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−1β−オキシド5.70gを得る。 IR(KBr)cm-1;1795,1735,1685
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル1.00gを塩化メチレン20mLに懸
濁させ、-30℃でピリジン370mgおよび五塩化リン660mg
を加え、氷冷下、1時間撹拌した後、-30℃でメタノール
6mLを加え、氷冷下、1時間撹拌する。反応液に水20mLを
加え、有機層を分取する。分取した有機層に水20mLを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。(A溶液) (2)2−フラン酢酸200mgをテトラヒドロフラン10mLに溶
解させ、氷冷下、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール240
mgおよびジシクロヘキシルカルボジイミド320mgを順次
加え、20℃で1時間撹拌する。(B溶液) (3)A溶液に氷冷下、B溶液を加え、20℃で12時間撹拌
する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸
エチル=20:1)で精製すれば、7−(フラン-2-イル)アセ
トアミド−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−
3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル400mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1775,1765,1735,1700
フルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1730,1695 ・7−[(R)−2−ホルミルオキシ−2−フェニルアセ
トアミド]−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1695 ・7−(4−メトキシフェニルアセトアミド)−3−トリ
フルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1773,1734,1697 ・7−(3−メトキシフェニルアセトアミド)−3−トリ
フルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1773,1733,1695 ・7−[(Z)−2−ヒドロキシイミノ−2−フェニルアセ
トアミド]−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル IR(KBr)cm-1;1782,1733,1678
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル2.00gを塩化メチレン40mLに懸
濁させ、-30℃でピリジン740mgおよび五塩化リン1.32g
を加え、氷冷下、1時間撹拌した後、-30℃でメタノール
12mLを加え、氷冷下、1時間撹拌する。反応液に水40mL
を加え、有機層を分取する。分取した有機層に水40mLを
加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。(A2溶液) (2)1−フェニル−1−シクロプロパンカルボン酸513mg
を塩化メチレン10mLに溶解させ、氷冷下、オキザリルク
ロライド401mgおよびN,N−ジメチルホルムアミド0.2m
Lを順次加え、20℃で1時間撹拌する。(B2溶液) (3)A2溶液に氷冷下、B2溶液を加え、20℃で12時間
撹拌する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエ
ン:酢酸エチル=30:1)で精製すれば、7−(1-フェニ
ル-1-シクロプロパンカルボキサミド)-3−トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル830mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1810,1735,1685,1655
−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルIR(KB
r)cm-1;1785,1736,1708 ・7−(4−t-ブトキシカルボニルアミノフェニルアセ
トアミド)−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル IR(KBr)cm-1;1780,1730,1696 ・7−(3−メトキシフェニルアセトアミド)−3−ト
リフルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1773,1733,1695
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル1.00gを塩化メチレン20mLに懸
濁させ、-30℃でピリジン370mgおよび五塩化リン660mg
を加え、氷冷下、1時間撹拌した後、-30℃でメタノール
6mLを加え、氷冷下、1時間撹拌する。反応液に水20mLを
加え、有機層を分取する。分取した有機層に水20mLを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。(A3溶液) (2)チオフェン−2−カルボン酸220mgを塩化メチレン4m
Lに溶解させ、氷冷下、N−メチルモルホリン156mgおよ
び2−クロロ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリア
ジン280mgを順次加え、20℃で2時間撹拌する。(B3溶
液) (3)A3溶液に氷冷下、B3溶液を加え、20℃で12時間
撹拌する。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエ
ン:酢酸エチル=30:1)で精製すれば、7−(チオフェン
−2−イル)アセトアミド-3−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル830mgを得る。
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル5.00gを塩化メチレン100mLに懸濁さ
せ、-30℃でピリジン1.9gおよび五塩化リン3.3gを加
え、氷冷下、30分間撹拌した後、-30℃でメタノール30m
Lを加え、氷冷下1時間撹拌する。反応液に水100mLを加
え、有機層を分取する。分取した有機層に水20mLを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。この溶液に-20℃でシアノ酢酸670mg、ピリジン1.1g
およびオキシ塩化リン1.6gを加え、同温度で30分間撹拌
する。反応液に水100mLを加え、有機層を分取する。分
取した有機層に水20mLを加え、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液でpH5に調整した後、有機層を分取する。分取し
た有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物にジエチルエーテルを加え析出晶を濾取す
れば、7−シアノアセトアミド−3−トリフルオロメチ
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル3.8gを得る。 IR(KBr)cm-1;1800,1745,1685,1655
ロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1775,1736,1685 ・7−プロパルギルチオアセトアミド−3−トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1794,1774,1736,1686 ・7−(1,3,4−チアジアゾ-ル-2−イルチオ)アセト
アミド−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1794,1735,1686
ホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル1.00gを塩化メチレン10mLおよびアセ
トニトリル10mLに溶解させ、氷冷下、m-クロロ過安息香
酸(純度70%)400mgを加えた後、同温度で10分間撹拌す
る。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mLを加
え、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチル
エーテルを加え、析出晶を濾取すれば、7−シアノアセ
トアミド−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−
3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル−1β−オキシド1.2gを得る。 IR(KBr)cm-1;1802,1734,1664
オロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1802,1735,1686,1655 ・7−(ジフルオロメチルチオ)アセトアミド−3−トリ
フルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1800,1735,1662 ・7−[(R)−2−ホルミルオキシ−2−フェニルアセ
トアミド]−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1802,1727,1673 ・7−(4−メトキシフェニルアセトアミド)−3−トリ
フルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1792,1734,1654 ・7−[(Z)−2−ヒドロキシイミノ−2−フェニルア
セトアミド]−3−トリフルオロメチルスルホニルオキ
シ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1802,1734,1670 ・7−(1−フェニル−1−シクロプロパンカルボキサ
ミド)−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1810,1735,1684
アセトアミド)−3−トリフルオロメチルスルホニルオ
キシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1801,1735,1696 ・7−(4−t-ブトキシカルボニルアミノフェニルアセ
トアミド)−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1796,1734,1700,1664,1654 ・7−(3−メトキシフェニルアセトアミド)−3−ト
リフルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシ
ド IR(KBr)cm-1;1792,1735,1684,1653,1600 ・7−(チオフェン−2−イル)アセトアミド-3−トリ
フルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1801,1735,1655 7−シアノメチルチオアセトアミド−3−トリフルオロ
メチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシドIR(KBr)c
m-1;1802,1735,1654 ・7−プロパルギルチオアセトアミド−3−トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド・7−
(1,3,4−チアジアゾ-ル-2−イルチオ)アセトアミド
−3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β
−オキシド IR(KBr)cm-1;1803,1735,1685
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル15.00gを塩化メチレン300mLに懸濁
させ、-30℃でピリジン5.8gおよび五塩化リン9.9gを加
え、氷冷下、1時間撹拌した後、-30℃でメタノール90mL
を加え、氷冷下1時間撹拌する。反応液に水225mLを加
え、有機層を分取する。分取した有機層に水200mLを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。この溶液に-20℃でヘプタン酸6.2g、ピリジン6.4gお
よびオキシ塩化リン9.5gを加え、同温度で1時間撹拌す
る。反応液に水200mLを加え、有機層を分取する。分取
した有機層に水100mLを加え、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液でpH5に調整した後、有機層を分取する。分取し
た有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得
られた残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(溶離
液;トルエン:酢酸エチル=15:1)で精製すれば、7−ヘ
キシルカルボキサミド−3−トリフルオロメチルスルホ
ニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル5.2gを得る。 IR(KBr)cm-1;1780,1736,1686
オロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1798,1736,1703 ・7−エチニルカルボキサミド−3−トリフルオロメチ
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1794,1735,1654 ・7−メトキシアセトアミド−3−トリフルオロメチル
スルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1794,1736,1686,1677 ・7−アセトアミド−3−トリフルオロメチルスルホニ
ルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1;1788,1728,1670 ・7−シクロプロパンカルボキサミド−3−トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1779,1735,1679
フルオロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1772,1752,1738,1709 ・3−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−7−ビニ
ルカルボキサミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1793,1734,1685,1676 ・7−ネオペンチルカルボキサミド−3−トリフルオロ
メチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1775,1734,1679 ・7−クロロアセトアミド−3−トリフルオロメチルス
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1793,1734,1684 ・7−プロピオンアミド−3−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1795,1734,1655,1522
オキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル480mgを塩化メチレン5mLに溶解させ、氷冷
下、m-クロロ過安息香酸(純度70%)234mgを加えた後、同
温度で10分間撹拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液20mLを加え、有機層を分取する。分取した有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物にジイソプロピルエーテルを加え、析出晶を濾取
すれば、7−アセトアミド−3−トリフルオロメチルス
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル−1β−オキシド420mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1790,1735,1655
オロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1734,1670 ・7−ヘキシルカルボキサミド−3−トリフルオロメチ
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1792,1736,1654 ・7−シクロプロパンカルボキサミド−3−トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1735,1654 ・7−エチニルカルボキサミド−3−トリフルオロメチ
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1799,1726,1640 ・7−アセトキシアセトアミド−3−トリフルオロメチ
ルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1802,1735,1685,1676
シ−7−ビニルカルボキサミド−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1793,1736,1664 ・7−ネオペンチルカルボキサミド−3−トリフルオロ
メチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655 ・7−クロロアセトアミド−3−トリフルオロメチルス
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1798,1734,1667 ・7−メトキシアセトアミド−3−トリフルオロメチル
スルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1802,1735,1686,1676,1655 ・7−プロピオンアミド−3−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1735,1655
ール140mgをメタノール5mLに懸濁させ、氷冷下、28%(W/
W)ナトリウムメトキシドのメタノール溶液160mgを加え
た後、同温度で10分間撹拌する。次いで、N,N−ジメ
チルホルムアミド20mLおよびアセトニトリル10mLを加
え、-30℃で7−シアノアセトアミド−3−トリフルオ
ロメチルスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド500mg
を加えた後、-10℃で10分間撹拌する。反応液を酢酸エ
チル50mLおよび水50mLの混合液に加え、2mol/L塩酸でpH
5に調整した後、有機層を分取する。分取した有機層を
水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物に酢酸エチルを加え、析出晶を濾取すれば、3−(4
−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−6−イルチ
オ)−7−シアノアセトアミド−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド23
0mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1785,1730,1665
名称と物性を示す。 No.2;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−フェニルアセトアミド−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1
β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655 No.3;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−[(Z)−2−ヒドロキシイミノ−
2−フェニルアセトアミド]−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1800,1735,1685 No.4;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−(ジフルオロメチルチオ)アセト
アミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1785,1730,1655 No.5;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−[(R)−2−ホルミルオキシ−2
−フェニルアセトアミド]−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1800,1730,1635 No.6;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−(4−メトキシフェニルアセトア
ミド)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1785,1720,1655 No.7;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−(1−フェニル−1−シクロプロ
パンカルボキサミド)−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1720,1670
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−(2,2−ジフルオ
ロ−2−フェニルアセトアミド)-3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1785,1720,1655 No.9;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−(4−t-ブトキシカルボニルアミ
ノフェニルアセトアミド)−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1720,1650 No.10;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(3−メトキシフェニルアセト
アミド)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655 No.11;3−(4−アミノピロロ[2,3−d]ピリミジン
−2−イルチオ)−7−フェニルアセトアミド−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1
β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1734,1654 No.12;3−(キノリン−2−イルチオ)−7−フェニル
アセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1732,1684,1653 No.13;3−(ナフチリジン-2−イルチオ)−7−フェニ
ルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−(チオフェン−2
−イル)アセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1735,1654 No.15;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(フラン−2−イル)アセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1793,1734,1670,1654,1636 No.16;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−シアノメチルチオアセトアミ
ド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1790,1735,1655 No.17;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(プロパルギルチオ)アセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655 No.18;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(1,3,4-チアジアゾール−
2−イルチオ)アセトアミド−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド
(プリン−6−イルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1800,1735,1685 No.20;3−(6−アミノプリン−2−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655 No.21;3−(2−アミノプリン−6−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1675,1635 No.22;3−(6−ヒドロキシプリン−2−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1790,1735,1685 No.23;3−(2−ヒドロキシプリン−6−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1800,1735,1655 No.24;3−(9−アミノプリン−6−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1800,1735,1685
(ピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−4−イルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655 No.26;3−(4−ヒドロキシキナゾリン−2−イルチ
オ)−7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1790,1735,1685 No.27;3−(4−アミノキナゾリン−2−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1730,1670 No.28;3−(2−アミノプテリジン−4−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1795,1735,1670 No.29;3−(5−アミノ−[1,2,3]トリアゾロ[4,5
−d]ピリミジン−7−イルチオ)−7−フェニルアセト
アミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1800,1735,1655 No.30;7−フェニルアセトアミド−3−(7−ヒドロキ
シピリド[2,3−d]ピリミジン−2−イルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−1β−オキシド
ルチオ)−7−シアノアセトアミド−3−セフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシ
ド200mgをN,N−ジメチルホルムアミド2mLに溶解さ
せ、-30℃で三塩化リン120mgを加えた後、同温度で1分
間撹拌する。反応液を酢酸エチル20mLおよび水20mLの混
合液に加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に塩
化メチレンを加え、析出晶を濾取すれば、3−(4−ア
ミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−6−イルチオ)−
7−シアノアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル100mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1786,1654,1578
る。
名称と物性を示す。 No.32;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−フェニルアセトアミド−3−
セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1735,1660 No.33;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−[(Z)−2−ヒドロキシイミノ
−2−フェニルアセトアミド]−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1655 No.34;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(ジフルオロメチルチオ)アセ
トアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1735,1655 No.35;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−[(R)−2−ホルミルオキシ−
2−フェニルアセトアミド]−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1730,1635 No.36;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(4−メトキシフェニルアセト
アミド)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1655 No.37;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(1−フェニル−1−シクロプ
ロパンカルボキサミド)−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−(2,2−ジフルオ
ロ−2−フェニルアセトアミド)−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1795,1735,1655 No.39;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(4−t-ブトキシカルボニルア
ミノフェニルアセトアミド)−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1793,1734,1718,1686,1654,1648,1638 No.40;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(3−メトキシフェニルアセト
アミド)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1735,1655 No.41;3−(4−アミノピロロ[2,3−d]ピリミジン
−2−イルチオ)−7−フェニルアセトアミド−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル No.42;3−(キノリン−2−イルチオ)−7−フェニル
アセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1734,1663 No.43;3−(ナフチリジン−2−イルチオ)−7−フェ
ニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−(チオフェン−2
−イル)アセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1784,1734,1636,1590 No.45;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(フラン−2−イル)アセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル IR(KBr)cm-1;1785,1735,1655 No.46;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−シアノメチルチオアセトアミ
ド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル IR(KBr)cm-1;1785,1720,1655 No.47;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(プロパルギルチオ)アセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル IR(KBr)cm-1;1785,1720,1655 No.48;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(1,3,4-チアジアゾール−
2−イルチオ)アセトアミド−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1780,1735,1655
(プリン−6−イルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1735,1675 No.50;3−(6−アミノプリン−2−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1675 No.51;3−(2−アミノプリン−6−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1675 No.52;3−(6−ヒドロキシプリン−2−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1685 No.53;3−(2−ヒドロキシプリン−6−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1650 No.54;3−(9−アミノプリン−6−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1670
(ピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−4−イルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1670 No.56;3−(4−ヒドロキシキナゾリン−2−イルチ
オ)−7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1795,1735,1685 No.57;3−(4−アミノキナゾリン−2−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1730,1655 No.58;3−(2−アミノプテリジン−4−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1670 No.59;3−(5−アミノ−[1,2,3]トリアゾロ[4,5
−d]ピリミジン−7−イルチオ)−7−フェニルアセ
トアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1;1790,1735,1685 No.60;7−フェニルアセトアミド−3−(7−ヒドロキ
シピリド[2,3−d]ピリミジン−2−イルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1735,1670
イルチオ)−7−シアノアセトアミド−3−セフェム−
4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル100mgを塩化
メチレン4.0mLおよびアニソール1.0mLに溶解させ、氷冷
下、トリフルオロ酢酸2.0mLを加えた後、同温で10分間
撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に
ジイソプロピルエーテル10mLを加えた後、析出晶を濾取
する。この析出晶を10%アセトニトリル水溶液20mLに溶
解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7に調整
し、減圧下に溶媒を約半量に濃縮する。濃縮液を逆相カ
ラムクロマトグラフィー(溶離液;5%アセトニトリル水
溶液)で精製すれば、3−(4−アミノピラゾロ[3,4−
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−シアノアセトアミ
ド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム42mgを得
る。 IR(KBr)cm-1;1770,1760
る。
名称と物性を示す。 No.62;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−フェニルアセトアミド−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1655 NMR(D2O)δ値;3.49(1H,d,J=18Hz),3.71(2H,s),3.89(1
H,d,J=18Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.34(1H,s),8.64(1H,s) No.63:3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−[(Z)−2−ヒドロキシイミノ
−2−フェニルアセトアミド]−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1755,1655 NMR(D2O)δ値;3.68(1H,d,J=17Hz),3.98(1H,d,J=17Hz),
5.28(1H,d,J=5Hz),5.81(1H,d,J=5Hz),7.50(5H,s),8.05
(1H,s) No.64;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(ジフルオロメチルチオ)アセ
トアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1785,1735,1655 NMR(D2O)δ値;3.64(1H,d,J=17Hz),3.71(2H,s),3.96(1
H,d,J=17Hz),5.32(1H,d,J=5Hz),5.73(1H,d,J=5Hz),6.19
(1H,t,JHF=56Hz),7.12(1H,s) No.65;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−[(R)−2−ヒドロキシ−2−
フェニルアセトアミド]−3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1655 NMR(D2O-CD3CN)δ値;3.61(1H,d,J=17Hz),3.89(1H,d,J=
17Hz),5.27(1H,d,J=5Hz),5.28(1H,s),5.69(1H,d,J=5H
z),7.47(5H,s),8.10(1H,s) No.66;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(4−メトキシフェニルアセト
アミド)−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1655 No.67;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(1−フェニル−1−シクロプ
ロパンカルボキサミド)−3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1775,1760,1655
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−(2,2−ジフル
オロ-2-フェニルアセトアミド)-3−セフェム−4−カ
ルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1775,1720,1655 No.69;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(4−アミノフェニルアセトア
ミド)−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1765,1595 No.70;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(3−メトキシフェニルアセト
アミド)−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1595 No.71;3−(4−アミノピロロ[2,3−d]ピリミジン
−2−イルチオ)−7−フェニルアセトアミド−3−セ
フェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1763,1589 No.72;3−(キノリン−2−イルチオ)−7−フェニル
アセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウ
ム IR(KBr)cm-1;1774,1763,1655,1648,1610 No.73;3−(ナフチリジン-2−イルチオ)−7−フェニ
ルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリ
ウム IR(KBr)cm-1;1775,1655,1600
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−(チオフェン−2
−イル)アセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム IR(KBr)cm-1;1765,1654,1594 No.75;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(フラン−2−イル)アセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1775,1750,1635 No.76;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(シアノメチルチオ)アセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1655,1595 No.77;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(プロパルギルチオ)アセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1760,1655,1595 No.78;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−(1,3,4-チアジアゾール−
2−イルチオ)アセトアミド−3−セフェム−4−カル
ボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1775,1685,1595
(プリン−6−イルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1655 NMR(D2O)δ値;3.46(1H,d,J=18Hz),3.69(2H,s),3.86(1
H,d,J=18Hz),5.29(1H,d,J=5Hz),5.68(1H,d,J=5Hz),7.35
(5H,s),8.41(1H,s),8.67(1H,s) No.80;3−(6−アミノプリン−2−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1635 NMR(D2O)δ値;3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.90(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.05(1H,s) No.81;3−(2−アミノプリン−6−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム IR(KBr)cm-1;1775,1610 NMR(D2O)δ値;3.45(1H,d,J=17Hz),3.68(2H,s),3.85(1
H,d,J=17Hz),5.24(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),7.34
(5H,s),8.03(1H,s) No.82;3−(6−ヒドロキシプリン−2−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1685,1615 NMR(D2O)δ値;3.54(1H,d,J=17Hz),3.69(2H,s),3.86(1
H,d,J=17Hz),5.25(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.35
(5H,s),8.09(1H,s) No.83;3−(2−ヒドロキシプリン−6−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1615 NMR(D2O)δ値;3.54(1H,d,J=17Hz),3.72(2H,s),3.91(1
H,d,J=17Hz),5.30(1H,d,J=5Hz),5.69(1H,d,J=5Hz),7.38
(5H,s),8.01(1H,s) No.84;3−(9−アミノプリン−6−イルチオ)−7−
フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1635 NMR(D2O)δ値;3.53(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.91(1
H,d,J=17Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.69(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8.30(1H,s),8.63(1H,s)
(ピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−4−イルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1655 NMR(D2O)δ値;3.49(1H,d,J=18Hz),3.71(2H,s),3.89(1
H,d,J=18Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.37
(5H,s),8,34(1H,s),8.64(1H,s) No.86;3−(4−ヒドロキシキナゾリン−2−イルチ
オ)−7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−
カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1665 NMR(D2O)δ値;3.45(1H,d,J=17Hz),3.66(2H,s),3.82(1
H,d,J=17Hz),5.21(1H,d,J=5Hz),5.66(1H,d,J=5Hz),7.20
〜8.10(4H,m),7.32(5H,s) No.87;3−(4−アミノキナゾリン−2−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1665 NMR(D2O)δ値;3.57(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.84(1
H,d,J=17Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),5.67(1H,d,J=5Hz),7.20
〜8.10(4H,m),7.37(5H,s) No.88;3−(2−アミノプテリジン−4−イルチオ)−
7−フェニルアセトアミド−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1615 NMR(D2O)δ値;3.59(1H,d,J=17Hz),3.70(2H,s),3.93(1
H,d,J=17Hz),5.30(1H,d,J=5Hz),5.70(1H,d,J=5Hz),7.36
(5H,s),8.45(1H,d,J=2Hz),8.83(1H,d,J=2Hz) No.89;3−(5−アミノ−[1,2,3]トリアゾロ[4,5
−d]ピリミジン−7−イルチオ)−7−フェニルアセト
アミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1770,1670,1655 NMR(D2O)δ値;3.63(1H,d,J=17Hz),3.71(2H,s),3.93(1
H,d,J=17Hz),5.31(1H,d,J=5Hz),5.71(1H,d,J=5Hz),7.38
(5H,s) No.90;7−フェニルアセトアミド−3−(7−ヒドロキ
シピリド[2,3−d]ピリミジン−2−イルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1775,1665
ール117mgをメタノール3mLに懸濁させ、氷冷下、28%(W/
W)ナトリウムメトキシドのメタノール溶液135mgを加え
た後、同温度で10分間撹拌する。次いで、N,N−ジメチ
ルホルムアミド7mLおよびアセトニトリル2mLを加え、-3
0℃で7−アセトアミド−3−トリフルオロメチルスル
ホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル−1β−オキシド400mgを加えた後、-
10℃で10分間撹拌する。反応液を酢酸エチル50mLおよび
水50mLの混合液に加え、2mol/L塩酸でpH2に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチル
エーテルを加え、析出晶を濾取すれば、7−アセトアミ
ド−3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン−
6−イルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル−1β−オキシド260mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1793,1734,1684,1670,1654
の名称と物性を示す。 No.92;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−トリフルオロメチルアセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1786,1726,1664 No.93;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ヘキシルカルボキサミド−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1734,1654 No.94;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−シクロプロパンカルボキサミ
ド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1782,1734,1654 No.95;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ネオペンチルカルボキサミド
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1735,1685,1654,1639 No.96;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−クロロアセトアミド-3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β
−オキシド IR(KBr)cm-1;1783,1685,1670,1654,1648,1638 No.97;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−プロピオンアミド-3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−
オキシド IR(KBr)cm-1;1781,1734,1654,1648
d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−エチニルカルボキ
サミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1654,1648,1637,1578 No.99;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−アセトキシアセトアミド-3−
セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−
1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1793,1734,1685,1654,1636,1587 No.100;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ビニルカルボキサミド−3−
セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−
1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1654,1643,1637,1629,1578 No.101;7−アセトアミド−3−(4−アミノピロロ
[2,3−d]ピリミジン−2−イルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オ
キシド IR(KBr)cm-1;1793,1654,1648,1637,1571 No.102;7−アセトアミド−3−(4−アミノ−2−キ
ナゾリルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル−1β−オキシド IR(KBr)cm-1;1793,1654,1648,1637,1617,1534 No.103;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−メトキシアセトアミド-3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−1
β−オキシド IR(KBr)cm-1;1794,1685,1676,1654,1648,1637,1578
イルチオ)−7−アセトアミド−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル−1β−オキシド27
0mgをN,N−ジメチルホルムアミド3mLに溶解させ、-30
℃で三塩化リン94mgを加えた後、同温度で1分間撹拌す
る。反応液を酢酸エチル20mLおよび水20mLの混合液に加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH5に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物に塩化メチ
レンを加え、析出晶を濾取すれば、3−(4−アミノピ
ラゾロ[3,4−d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−ア
セトアミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル210mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1785,1734,1685,1654,1648
る。
の名称と物性を示す。 No.105;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−トリフルオロメチルアセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル IR(KBr)cm-1;1786,1701,1685,1654,1638 No.106;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ヘキシルカルボキサミド−3
−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1786,1735,1654 No.107;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−シクロプロパンカルボキサミ
ド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル IR(KBr)cm-1;1786,1734,1654,1637 No.108;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ネオペンチルカルボキサミド
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル IR(KBr)cm-1;1786,1735,1719,1686,1654,1638 No.109;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−クロロアセトアミド-3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1786,1734,1685,1676,1654,1637 No.110;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−プロピオンアミド-3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1786,1735,1654
−d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−エチニルカルボ
キサミド−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル IR(KBr)cm-1;1785,1654,1578 No.112;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−アセトキシアセトアミド-3−
セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1786,1735,1686,1654,1637,1578 No.113;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ビニルカルボキサミド−3−
セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1786,1735,1654,1629,1578 No.114;7−アセトアミド−3−(4−アミノピロロ
[2,3−d]ピリミジン−2−イルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1782,1654,1648,1637,1570,1560 No.115;7−アセトアミド−3−(4−アミノ−2−キ
ナゾリルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1782,1654,1648,1637,1618,1541,1534 No.116;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−メトキシアセトアミド-3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル IR(KBr)cm-1;1786,1654,1648,1637,1589
イルチオ)−7−アセトアミド−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル200mgを塩化メチレ
ン4.0mLおよびアニソール1.0mLに溶解させ、氷冷下、ト
リフルオロ酢酸2.0mLを加えた後、同温で10分間撹拌す
る。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチ
ルエーテル10mLを加えた後、析出晶を濾取する。この析
出晶を10%アセトニトリル水溶液20mLに溶解させ、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7に調整し、減圧下に溶
媒を約半量に濃縮する。濃縮液を逆相カラムクロマトグ
ラフィー(溶離液;2.5%アセトニトリル水溶液)で精製す
れば、3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−アセトアミド−3−セフェム−
4−カルボン酸ナトリウム塩45mgを得る。 IR(KBr)cm-1;1774,1594 NMR(D2O)δ値;2.11(3H,s),3.61(1H,d,J=16Hz),3.97(1H,
d,J=16Hz),5.29(1H,d,J=5Hz),5.71(1H,d,J=5Hz),8.00(1
H,s)
る。
の名称と物性を示す。 No.118;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−トリフルオロメチルアセトア
ミド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1773,1685,1654,1636,1595 NMR(D2O)δ値;3.2-4.2(4H,m),5.32(1H,d,J=5Hz),5.75(1
H,d,J=5Hz),7.92(1H,s) No.119;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ヘキシルカルボキサミド−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1763,1654,1590 NMR(D2O)δ値;1.4-2.6(13H,m),3.2-4.2(2H,m),5.0-6.0
(2H,m),7.97(1H,s) No.120;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−シクロプロパンカルボキサミ
ド−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1764,1594 NMR(D2O)δ値;0.6-1.2(4H,m),1.5-2.0(1H,m),3.59(1H,
d,J=17Hz),3.96(1H,d,J=17Hz),5.29(1H,d,J=5Hz),5.74
(1H,d,J=5Hz),7.93(1H,s) No.121;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ネオペンチルカルボキサミド
−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1773,1762,1752,1670,1654,1595 NMR(D2O)δ値;1.05(9H,s),2.25(2H,brs),3.5-4.2(2H,
m),5.2-5.5(1H,m),5.7-5.9(1H,m),7.99(1H,s) No.122;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−クロロアセトアミド-3−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1764,1648,1638,1594 NMR(D2O)δ値;3.61(1H,d,J=17Hz),3.98(1H,d,J=17Hz),
4.27(2H,s),5.34(1H,d,J=5Hz),5.77(1H,d,J=5Hz),7.95
(1H,s) No.123;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−プロピオンアミド-3−セフェ
ム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1772,1654,1595 NMR(D2O)δ値;1.16(3H,t,J=7Hz),2.38(2H,q,J=7Hz),3.5
9(1H,d,J=17Hz),3.96(1H,d,J=17Hz),5.28(1H,d,J=5Hz),
5.70(1H,d,J=5Hz),7.94(1H,s) No.124;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−エチニルカルボキサミド−3
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1764,1654,1648,1593 NMR(D2O)δ値;3.4-4.2(3H,m),5.32(1H,d,J=5Hz),5.79(1
H,d,J=5Hz),7.91(1H,s)
−d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−アセトキシアセ
トアミド-3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1772,1648,1637,1596 NMR(D2O)δ値;2.22(3H,s),3.60(1H,d,J=17Hz),3.8-4.2
(1H,m),4.7-5.2(2H,m),5.32(1H,d,J=5Hz),5.77(1H,d,J=
5Hz),7.95(1H,s) No.126;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−ビニルカルボキサミド−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1763,1654,1647,1595 NMR(D2O)δ値;3.2-4.2(2H,m),5.33(1H,d,J=5Hz),5.7-6.
1(2H,m),6.33(2H,d,J=6Hz),7.95(1H,s) No.127;7−アセトアミド−3−(4−アミノピロロ
[2,3−d]ピリミジン−2−イルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1764,1589 NMR(D2O)δ値;2.12(3H,s),3.48(1H,d,J=17Hz),3.87(1H,
d,J=17Hz),5.24(1H,d,J=5Hz),5.69(1H,d,J=5Hz),6.35(1
H,d,J=3Hz),7.01(1H,d,J=3Hz) No.128;7−アセトアミド−3−(4−アミノ−2−キ
ナゾリルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリ
ウム IR(KBr)cm-1;1764,1655,1618,1572,1535 NMR(D2O)δ値;2.13(3H,s),3.51(1H,d,J=17Hz),3.94(1H,
d,J=17Hz),5.28(1H,d,J=5Hz),5.72(1H,d,J=5Hz),7.1-7.
8(4H,m) No.129;3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジ
ン−6−イルチオ)−7−メトキシアセトアミド-3−セ
フェム−4−カルボン酸ナトリウム IR(KBr)cm-1;1774,1763,1654,1596 NMR(D2O)δ値;3.3-4.3(7H,m),5.33(1H,d,J=5Hz),5.79(1
H,d,J=5Hz),7.96(1H,s)
イルチオ)−7−[(R)−2−ヒドロキシ−2−フェニル
アセトアミド]−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリ
ウム15.7gを日局注射用水に溶解させ、全量を100mLとす
る[遊離カルボン酸換算15%(W/V)]。得られた溶液を無菌
濾過する。濾液を10mLバイアルに2mLづつ分注し、直ち
に凍結乾燥する。凍結乾燥後、密栓すれば、1バイアル
中、遊離カルボン酸換算300mgの3−(4−アミノピラゾ
ロ[3,4−d]ピリミジン−6−イルチオ)−7−[(R)
−2−ヒドロキシ−2−フェニルアセトアミド]−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウムを含む注射用凍結
乾燥製剤を得る。
イルチオ)−7−シアノアセトアミド−3−セフェム−
4−カルボン酸ナトリウム15.8gを日局注射用水に溶解
させ、全量を100mLとする[遊離カルボン酸換算15%(W/
V)]。得られた溶液を無菌濾過する。濾液を10mLバイア
ルに2mLづつ分注し、直ちに凍結乾燥する。凍結乾燥
後、密栓すれば、1バイアル中、遊離カルボン酸換算30
0mgの3−(4−アミノピラゾロ[3,4−d]ピリミジン
−6−イルチオ)−7−シアノアセトアミド−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウムを含む注射用凍結乾燥
製剤を得る。
ニルチオ基、プリニルチオ基、ピラゾロピリミジニルチ
オ基、トリアゾロピリミジニルチオ基、キノリニルチオ
基、ピロロピリミジニルチオ基、ナフチリジニルチオ
基、ピリドピリミジニルチオ基またはプテリジニルチオ
基などの含窒素双環チオ基を有することを特徴とする一
般式[1]で表されるセファロスポリン誘導体またはそ
の塩は、MRSAに対して強い抗菌活性を有し、また、
生体内での安定性が高いことより、人および動物に対す
る医薬品として有用である。
Claims (6)
- 【請求項1】 【化1】 「式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキル
カルボニルオキシ、アルキルチオ、アリール、アリール
チオ、アリールオキシ、複素環式チオまたは複素環式基
を;Aは、ハロゲン原子、保護されていてもよいアミノ
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいヒドロキシイミノ基もしくはアルコキシイミ
ノ基で置換されていてもよいメチレン基、シクロアルキ
リデン基、ビニリデン基およびエチニレン基を;R
2は、置換されていてもよい次の式、 【化2】 または 【化3】 (式中、G1、G2、G3およびG4は、炭素原子または窒
素原子を;D環は、該環中に窒素原子を含んでいてもよ
い5員または6員炭素環を;破線は、環中の炭素原子に
結合する結合手を示す。)で表される基を;R3は、保護
されていてもよいカルボキシル基またはカルボキシラト
基を;nは、0または1を、それぞれ示す。」で表され
るセファロスポリン誘導体またはその塩。 - 【請求項2】R1が、シアノ基、置換されていてもよい
アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキ
シ、複素環式チオまたは複素環式基を;Aが、ハロゲン
原子、保護されていてもよいアミノ基、保護されていて
もよいヒドロキシル基、保護されていてもよいヒドロキ
シイミノ基もしくはアルコキシイミノ基で置換されてい
てもよいメチレン基または1,1−シクロアルキリデン
基を;R2が、置換されていてもよい次の式、 【化4】 または 【化5】 (式中、Bは、炭素原子または窒素原子を;D環は、該
環中に窒素原子を含んでいてもよい5員または6員炭素
環を示す。)で表される基である請求項1記載のセファ
ロスポリン誘導体またはその塩。 - 【請求項3】R1が、フッ素原子で置換されたメチルチ
オ基およびフェニル基であり、Aが、保護されていても
よいヒドロキシル基または保護されていてもよいヒドロ
キシイミノ基で置換されていてもよいメチレン基であ
り、R2が、アミノ基もしくはヒドロキシル基で置換さ
れていてもよいキナゾリニル、プリニル、ピラゾロ[3,
4−d]ピリミジニル、ピラゾロ[4,3−d]ピリミジニ
ル、[1,2,3]トリアゾロ[4,5−d]ピリミジニルま
たはプテリジニル基である化合物が除かれた請求項1ま
たは2記載のセファロスポリン誘導体またはその塩。 - 【請求項4】 【化6】 「式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルキル
カルボニルオキシ、アルキルチオ、アリール、アリール
チオ、アリールオキシ、複素環式チオまたは複素環式基
を;Aは、ハロゲン原子、保護されていてもよいアミノ
基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されて
いてもよいヒドロキシイミノ基もしくはアルコキシイミ
ノ基で置換されていてもよいメチレン基、シクロアルキ
リデン基、ビニリデン基およびエチニレン基を;R
2は、置換されていてもよい次の式、 【化7】 または 【化8】 (式中、G1、G2、G3およびG4は、炭素原子または窒
素原子を;D環は、該環中に窒素原子を含んでいてもよ
い5員または6員炭素環を;破線は、環中の炭素原子に
結合する結合手を示す。)で表される基を;R3は、保護
されていてもよいカルボキシル基またはカルボキシラト
基を;nは、0または1を、それぞれ示す。」で表され
るセファロスポリン誘導体またはその塩を含有する抗菌
剤。 - 【請求項5】R1が、シアノ基、置換されていてもよい
アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキ
シ、複素環式チオまたは複素環式基を;Aが、ハロゲン
原子、保護されていてもよいアミノ基、保護されていて
もよいヒドロキシル基、保護されていてもよいヒドロキ
シイミノ基もしくはアルコキシイミノ基で置換されてい
てもよいメチレン基または1,1−シクロアルキリデン
基を;R2は、置換されていてもよい次の式、 【化9】 または 【化10】 (式中、Bは、炭素原子または窒素原子を;D環は、該
環中に窒素原子を含んでいてもよい5員または6員炭素
環を示す。)で表される基である請求項4記載のセファ
ロスポリン誘導体またはその塩を含有する抗菌剤。 - 【請求項6】R1が、フッ素原子で置換されたメチルチ
オ基およびフェニル基であり、Aが、保護されていても
よいヒドロキシル基または保護されていてもよいヒドロ
キシイミノ基で置換されていてもよいメチレン基であ
り、R2が、アミノ基もしくはヒドロキシル基で置換さ
れていてもよいキナゾリニル、プリニル、ピラゾロ[3,
4−d]ピリミジニル、ピラゾロ[4,3−d]ピリミジ
ニル、[1,2,3]トリアゾロ[4,5−d]ピリミジニル
またはプテリジニル基である化合物が除かれた請求項4
または5記載のセファロスポリン誘導体またはその塩を
含有する抗菌剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11013670A JPH11279180A (ja) | 1998-01-23 | 1999-01-22 | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2658298 | 1998-01-23 | ||
JP3359798 | 1998-01-30 | ||
JP10-33597 | 1998-01-30 | ||
JP10-26582 | 1998-01-30 | ||
JP11013670A JPH11279180A (ja) | 1998-01-23 | 1999-01-22 | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11279180A true JPH11279180A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=27280355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11013670A Pending JPH11279180A (ja) | 1998-01-23 | 1999-01-22 | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11279180A (ja) |
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-
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- 1999-01-22 JP JP11013670A patent/JPH11279180A/ja active Pending
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