JPH11273563A - Method for forming phosphor pattern - Google Patents
Method for forming phosphor patternInfo
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- JPH11273563A JPH11273563A JP9100598A JP9100598A JPH11273563A JP H11273563 A JPH11273563 A JP H11273563A JP 9100598 A JP9100598 A JP 9100598A JP 9100598 A JP9100598 A JP 9100598A JP H11273563 A JPH11273563 A JP H11273563A
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）等の蛍光体表示装置の製造時にお
ける隔壁（セル）内への蛍光体パターンの形成方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a phosphor pattern in a partition (cell) at the time of manufacturing a phosphor display device such as a plasma display panel (PDP).
【０００２】[0002]
【従来の技術】最近、各種平板ディスプレイパネルの開
発が盛んに行われており、中でもＰＤＰが注目を浴びて
おり、ラップトップ型パソコンの表示画面から、各種電
光掲示板、更には、いわゆる「壁掛けテレビ」へとその
用途は拡大しつつある。そして、このＰＤＰの表示パネ
ルのセル内には、表示のための蛍光体が封入（固定）さ
れており、加電圧によりセル内の封入ガスで発生した紫
外線で該蛍光体が発色するのである。2. Description of the Related Art Recently, various flat panel display panels have been actively developed. Among them, PDPs have attracted attention. From display screens of laptop personal computers, various electronic bulletin boards, and so-called "wall mounted televisions". Its use is expanding. A phosphor for display is sealed (fixed) in the cell of the display panel of the PDP, and the phosphor emits color by ultraviolet rays generated by the sealing gas in the cell due to an applied voltage.
【０００３】かかる蛍光体パターンの形成方法として
は、従来より各色蛍光体を分散させた液状のフォトレジ
ストが用いられているが、かかる形成方法を改善すべ
く、本出願人はかかる液状のフォトレジストに代えて、
蛍光体入りのドライフィルムレジスト（フォトレジスト
フィルム）を提案し（特開平６−２７３９２５号公
報）、更には蛍光体の固定効率を向上すべく、アクリル
系樹脂層と蛍光体含有感光性樹脂組成物層の積層体を用
いたパターン形成法（特開平９−６９３３９号公報）を
提案した。As a method of forming such a phosphor pattern, a liquid photoresist in which phosphors of respective colors are dispersed has been used, and in order to improve such a forming method, the present applicant has proposed such a liquid photoresist. Instead of
Proposal of a dry film resist (photoresist film) containing a phosphor (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-273925), and an acrylic resin layer and a phosphor-containing photosensitive resin composition in order to improve the fixing efficiency of the phosphor. A pattern formation method using a layer stack (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-69339) has been proposed.
【０００４】又、高精度で均一な形状の蛍光体パターン
を得る目的で、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
上部に感光性の熱可塑性樹脂層を加熱圧着を行い、露
光、現像、焼成する方法（特開平９−１９９０２７号公
報）や、支持体フィルム上に、感光性の熱可塑性樹脂層
を有し、その上に蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
を有する感光性エレメント並びに、該感光性エレメント
をＰＤＰ基板上に蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
が接するように加熱圧着を行い、露光、現像、焼成を行
う方法（特開平９−１９９０３０号公報）が提案されて
いる。Further, in order to obtain a phosphor pattern having a uniform shape with high accuracy, a photosensitive thermoplastic resin layer is heated and pressed on the photosensitive resin composition layer containing the phosphor, and exposed and developed. And a baking method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-199027), and a photosensitive resin having a photosensitive thermoplastic resin layer on a support film and a phosphor-containing photosensitive resin composition layer thereon. An element and a method in which the photosensitive element is heated and pressed so that a photosensitive resin composition layer containing a phosphor is in contact with a PDP substrate, and is exposed, developed, and fired (JP-A-9-199030). Proposed.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平６−２７３９２５号公報に記載のフォトレジスト
フィルムについては、隔壁（セル）内への蛍光体の充填
性に関しては十分な検討はなされておらず、かかる点を
考慮した特開平９−６９３３９号公報開示技術について
も、隔壁内への蛍光体の充填量は確保できるものの、蛍
光体を含有しないアクリル系樹脂層を設けてから蛍光体
含有の感光性樹脂組成物層をラミネートするため、隔壁
（セル）の側壁面や底面に均一に効率よく蛍光体を固定
させる（埋め込み性）という点ではまだまだ改善の余地
が残るものである。However, with respect to the photoresist film described in JP-A-6-273925, sufficient study has been made on the filling properties of the phosphor into the partition walls (cells). Regarding the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-69339 in consideration of this point, the filling amount of the phosphor in the partition can be ensured, but the phosphor-containing acrylic resin layer is provided after the phosphor-containing resin layer is provided. In order to laminate the photosensitive resin composition layer, there is still room for improvement in that the phosphor is uniformly and efficiently fixed to the side walls and bottom surfaces of the partition walls (cells) (embedding properties).
【０００６】又、特開平９−１９９０２７号公報や特開
平９−１９９０３０号公報に記載の技術では、蛍光体含
有層が隔壁面側に設けられているため、埋め込み性は比
較的良好であるが、該蛍光体含有層には光重合性が付与
されているため焼成時にパターンの欠損を生じる可能性
が高いものであり、更なる改善が望まれている。本発明
ではこのような背景下において、隔壁（セル）内に充填
された蛍光体を効率よく発光させるために、上記の如く
隔壁（セル）の側壁面や底面に、焼成時に欠損を生じさ
せることなく、均一に蛍光体パターンを形成させること
を目的とするものである。更にかかる蛍光体パターンの
形成が実現すれば、蛍光体の使用量も削減できるという
経済的な副次的効果も期待できるものである。In the techniques described in JP-A-9-199027 and JP-A-9-199030, the embedding property is relatively good because the phosphor-containing layer is provided on the partition wall side. Since the phosphor-containing layer is provided with photopolymerizability, there is a high possibility that the pattern will be lost during firing, and further improvement is desired. In the present invention, in such a background, in order to make the phosphor filled in the partition (cell) efficiently emit light, the sidewall or the bottom surface of the partition (cell) is deficient during firing as described above. The purpose of the present invention is to form a uniform phosphor pattern. Furthermore, if such a phosphor pattern is formed, an economical secondary effect that the amount of phosphor used can be reduced can be expected.
【０００７】[0007]
【問題を解決するための手段】そこで、本発明者は、上
記の事情に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、蛍光表示体用
基板の隔壁（セル）内に蛍光体のパターンを形成するに
あたり、該隔壁（セル）内に、ガラス転移温度（Ｔｇ）
が３０℃以上のアクリル系ポリマー（ａ）、多価アルコ
ール（ｂ）及び蛍光体（ｃ）からなる樹脂組成物（Ａ）
層及び、感光性樹脂組成物（Ｂ）層を設けた後、露光、
現像、焼成を行う蛍光体パターンの形成方法が、隔壁
（セル）側壁面及び底面に十分に追従して（埋め込み性
に優れ）、効率よく蛍光体パターンの形成が行えること
を見出し本発明を完成するに至った。本発明では、該隔
壁（セル）内に樹脂組成物（Ａ）層を設けた後、次いで
感光性樹脂組成物（Ｂ）層を設けることが好ましい。In view of the above circumstances, the present inventors have conducted intensive studies and as a result, have found that when forming a phosphor pattern in a partition (cell) of a fluorescent display substrate, The glass transition temperature (Tg) in the partition (cell)
Resin composition (A) comprising acrylic polymer (a), polyhydric alcohol (b) and phosphor (c) having a temperature of 30 ° C. or higher
After providing a layer and a photosensitive resin composition (B) layer, exposure,
The present inventors have found that a method of forming a phosphor pattern by performing development and baking sufficiently follows the side wall surface and the bottom surface of a partition (cell) (excellent embedding property) to efficiently form a phosphor pattern and completes the present invention. I came to. In the present invention, it is preferable that after the resin composition (A) layer is provided in the partition (cell), the photosensitive resin composition (B) layer is subsequently provided.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に述べる。
本発明に用いる樹脂組成物（Ａ）層としては、アクリル
系ポリマー（ａ）、多価アルコール（ｂ）及び蛍光体
（ｃ）からなる樹脂組成物（Ａ）よりなる層が用いられ
る。かかるアクリル系ポリマー（ａ）としては、ガラス
転移温度（Ｔｇ）が３０℃以上、好ましくは４０〜２０
０℃、更に好ましくは４５〜１７５℃であれば特に限定
されることなく、（メタ）アクリレートを主成分とし、
必要に応じてエチレン性不飽和カルボン酸や他の共重合
可能なモノマーを共重合したアクリル系共重合体が用い
られる。又、アセトアセチル基含有アクリル系共重合体
を用いることもできる。該ガラス転移温度（Ｔｇ）が３
０℃未満では流動性が増大し保存安定性が低下すること
となる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
As the resin composition (A) layer used in the present invention, a layer composed of a resin composition (A) composed of an acrylic polymer (a), a polyhydric alcohol (b) and a phosphor (c) is used. The acrylic polymer (a) has a glass transition temperature (Tg) of 30 ° C. or higher, preferably 40 to 20 ° C.
0 ° C., more preferably 45 to 175 ° C., without any particular limitation, containing (meth) acrylate as a main component,
If necessary, an acrylic copolymer obtained by copolymerizing an ethylenically unsaturated carboxylic acid or another copolymerizable monomer is used. Also, an acetoacetyl group-containing acrylic copolymer can be used. The glass transition temperature (Tg) is 3
If the temperature is lower than 0 ° C., the fluidity increases and the storage stability decreases.
【０００９】ここで（メタ）アクリレートとしては、メ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジ
メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等
が例示される。Here, (meth) acrylate includes methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, Examples thereof include cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and glycidyl (meth) acrylate.
【００１０】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン
酸が好適に用いられ、その他、マレイン酸、フマール
酸、イタコン酸等のジカルボン酸、あるいはそれらの無
水物やハーフエステルも用いることができる。これらの
中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好ましい。他
の共重合可能モノマーとしては、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アル
キルビニルエーテル等が例示できる。As the ethylenically unsaturated carboxylic acid, monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid and the like are preferably used. In addition, dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, and anhydrides thereof are also used. Products and half esters can also be used. Of these, acrylic acid and methacrylic acid are particularly preferred. Examples of other copolymerizable monomers include acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, and alkyl vinyl ether.
【００１１】上記アクリル系ポリマー（ａ）の中でも本
発明では、該アクリル系ポリマー（ａ）の重量平均分子
量が１００００〜３０００００で、かつ、酸価が８０〜
２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。該アクリ
ル系ポリマー（ａ）の特に好ましい重量平均分子量は３
００００〜２０００００であり、特に好ましい酸価は９
５〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇである。かかる重量平均分子
量が１００００未満ではフィルム保持性が不足すること
になり、３０００００を越えると現像性の低下による解
像力の不足を招き好ましくない。又、酸価が８０ｍｇＫ
ＯＨ／ｇ未満ではやはり現像性の低下による解像力の不
足を招き、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを越えると耐現像液性
の低下となり好ましくない。Among the above acrylic polymers (a), in the present invention, the acrylic polymer (a) has a weight average molecular weight of 10,000 to 300,000 and an acid value of 80 to 300.
Preferably it is 250 mg KOH / g. The particularly preferred weight average molecular weight of the acrylic polymer (a) is 3
000 to 200,000, and a particularly preferred acid value is 9
5 to 220 mgKOH / g. If the weight-average molecular weight is less than 10,000, the film retainability will be insufficient, and if it exceeds 300,000, the resolution will be insufficient due to a decrease in developability, which is not preferable. The acid value is 80mgK
If it is less than OH / g, the resolving power will be insufficient due to a decrease in developability, and if it exceeds 250 mgKOH / g, the developer resistance will decrease, which is not preferable.
【００１２】本発明で用いられる多価アルコール（ｂ）
は特に制限されることなく、例えばポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、下記一般式（I）に
示される化合物等が挙げられる。H-(O-CH2CHR1)n-O-(C6
H4)-R2-(C6H4)-O-(CHR1-CH2O)m-H・・・（I）（ここ
で、Ｒ1は水素又はメチル基、Ｒ2は−ＣＨ2−、−Ｃ(Ｃ
Ｈ3)2−、Ｓのいずれかであり、ｎ、ｍは正の整数でｎ
＋ｍは２〜６０である。）本発明では特に、上記多価ア
ルコール（ｂ）において、２０℃での粘度が５０ｍＰａ
・ｓｅｃ以上であることが好ましく、かかる粘度が５０
ｍＰａ・ｓｅｃ未満では保存中にマイグレーションを起
こして分離することがあり好ましくない。The polyhydric alcohol (b) used in the present invention
Is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and compounds represented by the following general formula (I). H- (O-CH 2 CHR 1 ) n -O- (C 6
H 4 ) -R 2- (C 6 H 4 ) -O- (CHR 1 -CH 2 O) m -H ... (I) (where R 1 is a hydrogen or methyl group, and R 2 is -CH 2- , -C (C
H 3 ) 2 — or S, where n and m are positive integers and n
+ M is 2 to 60. In the present invention, in particular, the polyhydric alcohol (b) has a viscosity at 20 ° C. of 50 mPa.
Sec or more, and the viscosity is 50
If it is less than mPa · sec, migration may occur during storage and separation may occur, which is not preferable.
【００１３】上記多価アルコール（ｂ）の配合量につい
ては、アクリル系ポリマー（ａ）１００重量部に対して
５０〜３００重量部、より好ましくは１００〜２５０重
量部であることが望まれる。かかる配合量が５０重量部
未満では可撓性の低下を招き、３００重量部を越えると
コールドフローや蛍光体の凝集等、保存性の低下を招き
好ましくない。The amount of the polyhydric alcohol (b) is preferably 50 to 300 parts by weight, more preferably 100 to 250 parts by weight, per 100 parts by weight of the acrylic polymer (a). If the amount is less than 50 parts by weight, the flexibility is lowered. If the amount is more than 300 parts by weight, the storage stability such as cold flow and aggregation of the phosphor is lowered, which is not preferable.
【００１４】更に本発明で用いられる蛍光体（ｃ）とし
ては、特に限定されないが、希土類オキシハライド等を
母体とし、この母体を付活剤で付活したものが好まし
く、例えば紫外線励起型蛍光体としては、Ｙ2Ｏ3：Ｅ
ｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ（以上赤
色）、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、Ｌ
ａＰＯ4：Ｔｂ（以上緑色）、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅ
ｕ、ＢａＭｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ（以上青色）等が挙げら
れ、その他の蛍光体としては、Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚ
ｎ3（ＰＯ4）2：Ｍｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ2Ｏ
3（以上赤色）、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｕ，
Ｃｕ，Ａｌ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｚｎ2Ｓｉ
Ｏ4：Ｍｎ，Ａｓ，Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｃｅ、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：
Ｔｂ、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ（以上緑
色）、ＺｎＳ：Ａｇ＋赤色顔料、Ｙ2ＳｉＯ3：Ｃｅ（以
上青色）等を使用することもできる。Further, the phosphor (c) used in the present invention is not particularly limited, but is preferably a phosphor obtained by using a rare earth oxyhalide or the like as a host and activating the host with an activator. As Y 2 O 3 : E
u, YVO 4 : Eu, (Y, Gd) BO 3 : Eu (more than red), BaAl 12 O 19 : Mn, Zn 2 SiO 4 : Mn, L
aPO 4 : Tb (green), BaMgAl 14 O 23 : E
u, BaMgAl 16 O 27 : Eu (above blue) and the like, and other phosphors include Y 2 O 3 S: Eu, γ-Z
n 3 (PO 4 ) 2 : Mn, (ZnCd) S: Ag + In 2 O
3 (red above), ZnS: Cu, Al, ZnS: Au,
Cu, Al, (ZnCd) S: Cu, Al, Zn 2 Si
O 4 : Mn, As, Y 3 Al 5 O 12 : Ce, Gd 2 O 2 S:
Tb, Y 3 Al 5 O 12 : Tb, ZnO: Zn (green or more), ZnS: Ag + red pigment, Y 2 SiO 3 : Ce (blue or more) and the like can also be used.
【００１５】上記蛍光体（ｃ）の配合量は、アクリル系
ポリマー（ａ）と多価アルコール（ｂ）の合計量１００
重量部に対して１〜１５００重量部、より好ましくは１
０〜８００重量部であることが望まれる。かかる配合量
が１重量部未満ではパターン形成後蛍光体量の不足によ
り輝度が不足し、１５００重量部を越えると可撓性が不
足することになり好ましくない。又、蛍光体（ｃ）を配
合する方法としては、特に制限されず公知の方法、例え
ば上記のアクリル系ポリマー（ａ）と多価アルコール
（ｂ）の混合物、あるいはアクリル系ポリマー（ａ）又
は多価アルコール（ｂ）のいずれか又は両方に所定量の
蛍光体（ｃ）を添加して、十分撹拌して蛍光体（ｃ）を
均一に分散させる方法等がある。The blending amount of the phosphor (c) is 100% of the total amount of the acrylic polymer (a) and the polyhydric alcohol (b).
1 to 1500 parts by weight, more preferably 1 to 1 part by weight
Desirably, the amount is 0 to 800 parts by weight. If the amount is less than 1 part by weight, the luminance is insufficient due to the insufficient amount of the phosphor after pattern formation, and if it exceeds 1500 parts by weight, the flexibility is insufficient, which is not preferable. The method for blending the phosphor (c) is not particularly limited, and is a known method, for example, a mixture of the above-mentioned acrylic polymer (a) and polyhydric alcohol (b), or an acrylic polymer (a) or There is a method in which a predetermined amount of the phosphor (c) is added to one or both of the polyhydric alcohols (b) and the mixture is sufficiently stirred to uniformly disperse the phosphor (c).
【００１６】感光性樹脂組成物（Ｂ）層は、感光性を有
する樹脂組成物であれば特に限定されないが、ベースポ
リマー（ｄ）、エチレン性不飽和化合物（ｅ）、光重合
開始剤（ｆ）からなるものであることが好ましい。ベー
スポリマー（ｄ）としては、ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂等の他、上記のアクリル系ポリマー
（ａ）と同様の（メタ）アクリレート成分や必要に応じ
てエチレン性不飽和カルボン酸や他の共重合可能なモノ
マーを共重合したアクリル系共重合体が適宜用いられ
る。尚、ベースポリマー（ｄ）とアクリル系ポリマー
（ａ）とは同じものであっても、異なるものであっても
よい。中でもガラス転移温度（Ｔｇ）が３０℃以上、よ
り好ましくは４５〜１７５℃、重量平均分子量が１００
００〜３０００００、好ましくは３００００〜２０００
００であることが好ましく、又、感光性樹脂組成物
（Ｂ）は、稀アルカリ現像型とすることも好ましく、稀
アルカリ現像型とするときは、エチレン性不飽和カルボ
ン酸を１０〜４０重量％程度共重合することが必要であ
り、酸価として６５〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましく
は９５〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇであるベースポリマーが
好適に用いられる。The photosensitive resin composition (B) layer is not particularly limited as long as it is a resin composition having photosensitivity. However, the base polymer (d), the ethylenically unsaturated compound (e), the photopolymerization initiator (f) ) Is preferable. As the base polymer (d), besides polyester-based resin, polyurethane-based resin, etc., the same (meth) acrylate component as the above-mentioned acrylic polymer (a), and if necessary, ethylenically unsaturated carboxylic acid and other copolymers. An acrylic copolymer obtained by copolymerizing a polymerizable monomer is appropriately used. The base polymer (d) and the acrylic polymer (a) may be the same or different. Among them, the glass transition temperature (Tg) is 30 ° C. or higher, more preferably 45 to 175 ° C., and the weight average molecular weight is 100.
00 to 300,000, preferably 30,000 to 2,000
It is also preferable that the photosensitive resin composition (B) is of a dilute alkali development type. When the photosensitive resin composition (B) is of a dilute alkali development type, the ethylenically unsaturated carboxylic acid is 10 to 40% by weight. It is necessary to copolymerize to a certain degree, and a base polymer having an acid value of 65 to 260 mgKOH / g, preferably 95 to 220 mgKOH / g is suitably used.
【００１７】エチレン性不飽和化合物（ｅ）としては、
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２−ビス
（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス−（４−（メタ）アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−
（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリア
クリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ
（メタ）アクリレート等の多官能モノマーが挙げられ
る。As the ethylenically unsaturated compound (e),
Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl Glycol di (meta)
Acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, 2,2-bis (4 -(Meth) acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis- (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3-
(Meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl Examples include polyfunctional monomers such as ether poly (meth) acrylate.
【００１８】これらの多官能モノマーとともに、単官能
モノマーを適当量併用することもでき、かかる単官能モ
ノマーの例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２
−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メ
タ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエ
チルアシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ
（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリ
ルアミド等が挙げられる。An appropriate amount of a monofunctional monomer may be used in combination with these polyfunctional monomers. Examples of such a monofunctional monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, -Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2
-Phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, 2- (meth) ) Acryloyloxyethyl acid phosphate, half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative, N-methylol (meth) acrylamide, and the like.
【００１９】上記エチレン性不飽和化合物（ｅ）の配合
量は、ベースポリマー（ｄ）１００重量部に対して、２
０〜１００重量部、好ましくは３０〜１００重量部の範
囲から選ぶことが好ましい。エチレン性不飽和化合物
（ｅ）の過少は感光性樹脂組成物（Ｂ）とした場合の硬
化不良や現像速度の遅延を招き、又、層とした場合の可
撓性の低下を招くことになり、エチレン性不飽和化合物
（ｅ）の過多はコールドフローを招き、又感光性樹脂組
成物（Ｂ）とした場合の硬化レジストの剥離速度の低下
を招き好ましくない。The amount of the ethylenically unsaturated compound (e) to be added is 2 to 100 parts by weight of the base polymer (d).
It is preferable to select from the range of 0 to 100 parts by weight, preferably 30 to 100 parts by weight. When the amount of the ethylenically unsaturated compound (e) is too small, it causes poor curing and a delay in development speed when the photosensitive resin composition (B) is used, and also causes a decrease in flexibility when the layer is used as a layer. On the other hand, an excessive amount of the ethylenically unsaturated compound (e) is not preferable because it causes a cold flow and, when the photosensitive resin composition (B) is used, lowers the peeling rate of the cured resist.
【００２０】光重合開始剤（ｆ）としては、例えばベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケ
タール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナ
フトキノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、１，１−ジク
ロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）４，
５，４′，５′−テトラフェニル−１，２′−ビイミダ
ゾール、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキ
サントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，２′
−ジエトキシアセトフェノン、２，２′−ジクロロ−４
−フェノキシアセトフェノン、フェニルグリオキシレー
ト、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、ジベンゾスパ
ロン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−プロパノン、２−メチル−［４
−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−
プロパノン、トリブロモフェニルスルホン、トリブロモ
メチルフェニルスルホン等が挙げられる。Examples of the photopolymerization initiator (f) include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin phenyl ether,
Benzyl diphenyl disulfide, benzyl dimethyl ketal, dibenzyl, diacetyl, anthraquinone, naphthoquinone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino ) Benzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, pivaloin ethyl ether, 1,1-dichloroacetophenone, pt-butyldichloroacetophenone, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) 4
5,4 ', 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,2'
-Diethoxyacetophenone, 2,2'-dichloro-4
Phenoxyacetophenone, phenylglyoxylate, α-hydroxyisobutylphenone, dibenzosparone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl-1-propanone, 2-methyl- [4
-(Methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-
Examples include propanone, tribromophenylsulfone, tribromomethylphenylsulfone, and the like.
【００２１】かかる光重合開始剤（ｆ）の配合量は上記
ベースポリマー（ｄ）とエチレン性不飽和化合物（ｅ）
の合計量１００重量部に対して０．１〜２０重量部、好
ましくは０．２〜１０重量部であることが望まれる。該
配合量が０．１重量部未満では感度が著しく低くなり、
２０重量部を越えると可塑性の増大や保存安定性の低下
となり好ましくない。The compounding amount of the photopolymerization initiator (f) is the same as that of the base polymer (d) and the ethylenically unsaturated compound (e).
0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight in total. If the amount is less than 0.1 part by weight, the sensitivity is significantly reduced,
If the amount exceeds 20 parts by weight, plasticity increases and storage stability decreases, which is not preferable.
【００２２】更に、上記蛍光体を含有した樹脂組成物
（Ａ）及び感光性樹脂組成物（Ｂ）には、その他、染料
（着色、発色）、密着性付与剤、可塑剤、酸化防止剤、
熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定剤、連鎖移
動剤、消泡剤、難燃剤等の添加剤も適宜添加することが
できる。Further, the resin composition (A) and the photosensitive resin composition (B) containing the above-mentioned phosphor may further include a dye (colored or colored), an adhesion-imparting agent, a plasticizer, an antioxidant,
Additives such as a thermal polymerization inhibitor, a solvent, a surface tension modifier, a stabilizer, a chain transfer agent, an antifoaming agent, and a flame retardant can be appropriately added.
【００２３】又、樹脂組成物（Ａ）層の厚み（ｈa）
は、蛍光体（ｃ）の含有量やＰＤＰの構造によっても異
なり一概に言えないが、通常は隔壁側面高さ（ｈ0）よ
りも薄いことが好ましく、更にはかかるｈa（μｍ）と
ｈ0（μｍ）がｈa／ｈ0＝１／２０〜１５／２０である
ことが好ましく、特にｈa／ｈ0＝１／２０〜１０／２０
であることが好ましく、かかるｈa／ｈ0が１／２０未満
では焼成後の蛍光体の厚み不足となり、逆に１５／２０
を越えるとセルの放電時の空間が少なくなり好ましくな
い。[0023] The resin composition (A) layer having a thickness (h a)
Although it depends on the content of the phosphor (c) and the structure of the PDP and cannot be stated unconditionally, it is usually preferable to be thinner than the partition wall side height (h 0 ), and furthermore, such h a (μm) and h 0 is preferably ([mu] m) is a h a / h 0 = 1 / 20~15 / 20, in particular h a / h 0 = 1 / 20~10 / 20
Is preferably, according h a / h 0 is the phosphor insufficient thickness after firing is less than 1/20, 15/20 conversely
Exceeding the limit undesirably reduces the space at the time of cell discharge.
【００２４】感光性樹脂組成物（Ｂ）層の厚み（ｈb）
も、ＰＤＰの構造によっても異なり一概に言えないが、
通常は上記のｈaと同様、隔壁側面高さ（ｈ0）よりも薄
いことが好ましく、更にはかかるｈb（μｍ）とｈ0（μ
ｍ）がｈb／ｈ0＝１／２０〜１５／２０であることが好
ましく、特にｈb／ｈ0＝１／２０〜１０／２０であるこ
とが好ましく、かかるｈb／ｈ0が１／２０未満では上記
の樹脂組成物（Ａ）層を隔壁（セル）内に十分に押し込
むことが困難となり、逆に１５／２０を越えるとパター
ニング性が低下して好ましくない。Thickness (h b ) of photosensitive resin composition (B) layer
Also depends on the structure of the PDP,
Similarly usually the above h a, thinner is more preferable than the partition wall side height (h 0), even according h b a (μm) h 0 (μ
Preferably m) is h b / h 0 = 1 / 20~15 / 20, preferably in particular h b / h 0 = 1 / 20~10 / 20, according h b / h 0 is 1 When the ratio is less than / 20, it is difficult to sufficiently push the resin composition (A) layer into the partition walls (cells).
【００２５】又、蛍光体を含有する樹脂組成物（Ａ）及
び感光性樹脂組成物（Ｂ）を用いて層を形成するに当た
っては、液状として用いることも可能であるが、添加剤
の分散安定性、塗布厚の均一性、貯蔵安定性、隔壁への
追従性、作業性等を考慮すれば、予めフィルム化してお
くことが好ましく、具体的には、上記の樹脂組成物
（Ａ）、感光性樹脂組成物（Ｂ）をポリエステルフイル
ム、ポリプロピレンフイルム、ポリスチレンフイルム等
のベースフイルム面に塗工した後、その塗工面の上から
ポリエチレンフイルム、ポリビニルアルコール系フイル
ム等の保護フイルムを被覆して積層体として用いること
が好ましい。次いで、蛍光体パターンの形成方法につい
て具体的に説明する。When a layer is formed using the resin composition (A) containing the phosphor and the photosensitive resin composition (B), the layer can be used as a liquid. In consideration of properties, uniformity of coating thickness, storage stability, followability to partition walls, workability, and the like, it is preferable to form a film in advance, and specifically, the above resin composition (A), The resin composition (B) is coated on a base film surface such as a polyester film, a polypropylene film or a polystyrene film, and then coated with a protective film such as a polyethylene film or a polyvinyl alcohol-based film on the coated surface. It is preferable to use them. Next, a method for forming a phosphor pattern will be specifically described.
【００２６】（樹脂組成物（Ａ）層の形成）上記の蛍光
体含有の樹脂組成物（Ａ）層を中間層とした積層体のベ
ースフイルム（ポリエステルフィルム、ポリビニルアル
コールフィルム、ナイロンフィルム、セルロースフィル
ム等）と樹脂組成物（Ａ）層との接着力及び保護フィル
ムと樹脂組成物（Ａ）層との接着力を比較し、接着力の
低い方のフィルムを剥離してから樹脂組成物（Ａ）層の
側を、隔壁（セル）が予め形成されたＰＤＰ用基板にホ
ットラミネーター等を用いて樹脂組成物（Ａ）層を隔壁
（セル）中へ押し込むようにして、樹脂組成物（Ａ）層
を形成する。(Formation of Resin Composition (A) Layer) Base film (polyester film, polyvinyl alcohol film, nylon film, cellulose film) of a laminate having the above-mentioned phosphor-containing resin composition (A) layer as an intermediate layer Etc.) and the resin composition (A) layer and the protective film and the resin composition (A) layer are compared with each other. The resin composition (A) is pressed into the partition (cell) by using a hot laminator or the like to push the resin composition (A) layer into the PDP substrate on which the partition (cell) is formed in advance. Form a layer.
【００２７】（感光性樹脂組成物（Ｂ）層の形成）樹脂
組成物（Ａ）層表面に残されたフィルムを剥がし、その
上から感光性樹脂組成物（Ｂ）層を中間層とした積層体
を上記の（Ａ）層と同様にホットラミネーター等を用い
てセル中へ押し込むようにして、感光性樹脂組成物
（Ｂ）層を形成する。ここで、ＰＤＰ用基板の隔壁（セ
ル）内に樹脂組成物（Ａ）層／感光性樹脂組成物（Ｂ）
層の２層が積層・充填される訳であるが、このときに用
いる（Ａ）層の厚み（ｈa）と（Ｂ）層の厚み（ｈb）と
の比ｈa／ｈbは、１０／９０〜７５／２５にすることが
好ましい。又、上記の方法以外に、樹脂組成物（Ａ）層
及び感光性樹脂組成物（Ｂ）層を予め積層して積層体と
しておき、該積層体（（Ａ）層／（Ｂ）層／ベースフィ
ルム）の（Ａ）層側を隔壁（セル）が予め形成されたＰ
ＤＰ用基板につけ、ホットラミネーター等を用いて、該
積層体を隔壁（セル）中へ押し込むようにすることもで
きる。(Formation of Photosensitive Resin Composition (B) Layer) The film remaining on the surface of the resin composition (A) layer was peeled off, and the photosensitive resin composition (B) layer was laminated thereon as an intermediate layer. The photosensitive resin composition (B) layer is formed by pushing the body into the cell using a hot laminator or the like in the same manner as the above-mentioned layer (A). Here, the resin composition (A) layer / photosensitive resin composition (B) is provided inside the partition walls (cells) of the PDP substrate.
Although mean that two layers of the layers are laminated and filled, the ratio h a / h b between the thickness (h b) of use in this case (A) layer thickness and (h a) (B) layer, It is preferably 10/90 to 75/25. In addition to the above method, the resin composition (A) layer and the photosensitive resin composition (B) layer are laminated in advance to form a laminate, and the laminate ((A) layer / (B) layer / base) The (A) layer side of the film) is a P on which partition walls (cells) are formed in advance.
The laminate may be pressed into a partition (cell) using a hot laminator or the like attached to a DP substrate.
【００２８】（露光）感光性樹脂組成物（Ｂ）層の上に
パターンマスクを密着させて露光する。この時必要に応
じて、また、感光性樹脂組成物（Ｂ）層が粘着性を有し
ないときは、感光性樹脂組成物（Ｂ）層表面のフイルム
を剥離してからパターンマスクを感光性樹脂組成物
（Ｂ）層に直接接触させて露光することもできる。露光
は、通常紫外線照射により行い、その際の光源として
は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キ
セノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプ等が
用いられる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行っ
て、硬化の完全を図ることもできる。(Exposure) The photosensitive resin composition (B) is exposed by bringing a pattern mask into close contact therewith. At this time, if necessary, and if the photosensitive resin composition (B) layer has no tackiness, the film on the surface of the photosensitive resin composition (B) layer is peeled off, and then the pattern mask is replaced with the photosensitive resin. Exposure can also be performed by directly contacting the composition (B) layer. Exposure is usually performed by ultraviolet irradiation, and as a light source at that time, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a chemical lamp, or the like is used. After irradiation with ultraviolet rays, heating can be performed as necessary to complete the curing.
【００２９】（現像）露光後は、感光性樹脂組成物
（Ｂ）層上のフィルムを剥離除去してから現像を行う。
かかる感光性樹脂組成物（Ｂ）層は稀アルカリ現像型の
感光性樹脂組成物であるので、露光後の現像は、炭酸ソ
ーダ、炭酸カリウム等のアルカリ１〜２重量％程度の稀
薄水溶液を用いて行う。この際有機アルカリ等の現像液
を使用することも可能である。(Development) After exposure, the film on the layer of the photosensitive resin composition (B) is peeled off and developed.
Since the photosensitive resin composition (B) layer is a diluted alkali developing type photosensitive resin composition, development after exposure uses a dilute aqueous solution of about 1 to 2% by weight of an alkali such as sodium carbonate or potassium carbonate. Do it. At this time, it is also possible to use a developer such as an organic alkali.
【００３０】（焼成）上記処理後の隔壁（セル）形成基
板を４５０〜５５０℃で焼成を行い、隔壁（セル）内部
に蛍光体を固定し、蛍光体パターンを形成する。かくし
て本発明の方法により、隔壁（セル）内に、焼成時のパ
ターン欠損を生じさせることなく、均一に蛍光体パター
ンを形成することができるのであるが、フルカラーのＰ
ＤＰを形成するために、赤色、緑色、青色のそれぞれの
蛍光体を含有する樹脂組成物（Ａ）層及び感光性樹脂組
成物（Ｂ）層を用いて上記の（蛍光体含有の樹脂組成物
（Ａ）層の形成）〜（現像）を繰り返して、上記の３色
（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））の蛍光体をセル内に
充填した後、（焼成）を行うことで作製することができ
るのである。(Firing) The partition (cell) forming substrate after the above treatment is baked at 450 to 550 ° C. to fix the phosphor inside the partition (cell) and form a phosphor pattern. Thus, according to the method of the present invention, a phosphor pattern can be uniformly formed in a partition (cell) without causing a pattern defect at the time of firing.
In order to form DP, the resin composition (A) containing the respective phosphors of red, green and blue and the photosensitive resin composition (B) are used to form the above-mentioned resin composition containing the phosphor. After (A) layer formation) to (development) are repeated, the above three color (R (red), G (green), and B (blue)) phosphors are filled in the cell, and then (firing) is performed. By doing so, it can be manufactured.
【００３１】[0031]
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。尚、例中「部」とあるのは、断りのない限り重量
基準を意味する。The present invention will be specifically described below with reference to examples. In the examples, “parts” means on a weight basis unless otherwise specified.
【００３２】実施例１ 下記のアクリル系ポリマー（ａ）５０部、多価アルコー
ル（ｂ）７５部、蛍光体（ｃ）（赤、緑、青を別々に使
用）６５部を用いて樹脂組成物（Ａ）を調整した。 ［樹脂組成物（Ａ）］・アクリル系ポリマー（ａ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／メ
タクリル酸の共重合割合が重量基準で３０／４９／２１
である共重合体（ガラス転移温度６９℃、重量平均分子
量６００００、酸価１３７ｍｇＫＯＨ／ｇ）・多価アルコール（ｂ） ポリエチレングリコール（２０℃での粘度１７０ｍＰａ
・ｓｅｃ、重量平均分子量６００）・蛍光体（ｃ） （Ｙ，Ｇｄ，Ｅｕ）ＢＯ3（赤色） （発光波長５９３ｎｍ，６１０ｎｍ，６２６ｎｍ，粒
径；２〜４μｍ，比重；５．１） （Ｚｎ，Ｍｎ）2ＳｉＯ4（緑色） （発光波長５２９ｎｍ，粒径；２〜６μｍ，比重；４．
２） （Ｂａ，Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17（青色） （発光波長４５１ｎｍ，粒径；２〜６μｍ，比重；３．
８）Example 1 A resin composition was prepared using 50 parts of the following acrylic polymer (a), 75 parts of polyhydric alcohol (b), and 65 parts of phosphor (c) (using red, green and blue separately). (A) was adjusted. [Resin composition (A)] Acrylic polymer (a) The copolymerization ratio of methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / methacrylic acid is 30/49/21 on a weight basis.
(Glass transition temperature 69 ° C., weight average molecular weight 60000, acid value 137 mg KOH / g) polyhydric alcohol (b) polyethylene glycol (viscosity 170 mPa at 20 ° C. )
· Sec, a weight average molecular weight 600), phosphor (c) (Y, Gd, Eu) BO 3 ( red) (emission wavelength 593nm, 610nm, 626nm, particle size; 2-4 [mu] m, specific gravity; 5.1) (Zn , Mn) 2 SiO 4 (green) (emission wavelength 529 nm, particle size: 2 to 6 μm, specific gravity;
2) (Ba, Eu) MgAl 10 O 17 (blue) (Emission wavelength: 451 nm, particle size: 2 to 6 μm, specific gravity;
8)
【００３３】又、下記のベースポリマー（ｄ）６０部、
エチレン性不飽和化合物（ｅ）４０部、光重合開始剤
（ｆ）１０部を用いて感光性樹脂組成物（Ｂ）を調整し
た。 ［感光性樹脂組成物（Ｂ）］・ベースポリマー（ｄ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／２
−エチルヘキシルアクリレート／メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で５０／１５／１０／２５である共重合
体（ガラス転移温度７５℃、重量平均分子量６０００
０、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）・エチレン性不飽和化合物（ｅ） テトラエチレングリコールジメタクリレート ２５部 トリメチロールプロパントリアクリレート １５部・光重合開始剤（ｆ） ベンジルジメチルケタールFurther, 60 parts of the following base polymer (d),
The photosensitive resin composition (B) was prepared using 40 parts of the ethylenically unsaturated compound (e) and 10 parts of the photopolymerization initiator (f). [Photosensitive resin composition (B)] base polymer (d) methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / 2
A copolymer having a copolymerization ratio of ethylhexyl acrylate / methacrylic acid of 50/15/10/25 by weight (glass transition temperature: 75 ° C., weight average molecular weight: 6,000)
0, acid value 163 mgKOH / g). Ethylenically unsaturated compound (e) tetraethylene glycol dimethacrylate 25 parts trimethylolpropane triacrylate 15 parts photopolymerization initiator (f) benzyl dimethyl ketal
【００３４】次いで、得られた樹脂組成物（Ａ）をギャ
ップ１０ミリのアプリケーターを用いて厚さ２０μｍの
ポリエステルフィルム上に塗工し、室温で１分３０秒放
置した後、６０℃、９０℃、１１０℃のオーブンでそれ
ぞれ３分間ずつ乾燥して、厚さ（ｈa）５０μｍの樹脂
組成物（Ａ）層を作製した。（但し保護フィルムは設け
ていない。） 尚、樹脂組成物（Ａ）層においては赤色、緑色、青色の
各々を１種含有したものを作製した。又、上記感光性樹
脂組成物（Ｂ）を用いて、上記と同様に厚さ（ｈb）７
０μｍの感光性樹脂組成物（Ｂ）層を作製した。（但し
保護フィルムは設けていない。） 得られた（Ａ）層及び（Ｂ）層の積層体を用いて、以下
の要領で蛍光体のパターン形成を行った。Then, the obtained resin composition (A) was applied on a polyester film having a thickness of 20 μm using an applicator having a gap of 10 mm, left at room temperature for 1 minute and 30 seconds, and then left at 60 ° C. and 90 ° C. And an oven at 110 ° C. for 3 minutes each to prepare a resin composition (A) layer having a thickness (ha) of 50 μm. (However, no protective film was provided.) In the resin composition (A) layer, one containing one of each of red, green, and blue was prepared. Further, using the photosensitive resin composition (B), a thickness (h b ) of 7
A 0 μm layer of the photosensitive resin composition (B) was prepared. (However, no protective film was provided.) Using the obtained laminate of the layer (A) and the layer (B), a phosphor pattern was formed in the following manner.
【００３５】（樹脂組成物（Ａ）層及び感光性樹脂組成
物（Ｂ）層の形成）オーブン６０℃に予熱した隔壁（高
さ（ｈ0）１２０μｍ、幅４５μｍ、スリット１８０μ
ｍのストライプパターン）が形成されたＰＤＰ基板（２
００ｍｍ×２００ｍｍ×２ｍｍ）に、上記樹脂組成物
（Ａ）層（積層フィルム）をラミネートロール温度１２
０℃、ロール圧３ｋｇ／ｃｍ2、ラミネート速度０．５
ｍ／ｍｉｎの条件でラミネートした後、ポリエステルフ
ィルムを剥がし、その上に感光性樹脂組成物（Ｂ）層
（積層フィルム）を同様にラミネートして、樹脂組成物
（Ａ）層及び感光性樹脂組成物（Ｂ）層を形成した。(Formation of Resin Composition (A) Layer and Photosensitive Resin Composition (B) Layer) Partition walls (height (h 0 ) 120 μm, width 45 μm, slit 180 μm) preheated to an oven at 60 ° C.
m PDP substrate (2 stripe pattern)
00 mm × 200 mm × 2 mm) and the resin composition (A) layer (laminated film) on a laminating roll at a temperature of 12 mm.
0 ° C., roll pressure 3 kg / cm 2 , lamination speed 0.5
After laminating under the conditions of m / min, the polyester film was peeled off, and the photosensitive resin composition (B) layer (laminated film) was similarly laminated on the polyester film to form the resin composition (A) layer and the photosensitive resin composition. A product (B) layer was formed.
【００３６】（露光、現像）次いで、感光性樹脂組成物
（Ｂ）層表面のポリエステルフィルムの上に、隔壁（セ
ル）の内側（隔壁上部以外）が露光されるように、全面
にパターンを乗せて、オーク製作所製の露光機ＨＭＷ−
５３２Ｄにて３ｋｗ超高圧水銀灯で露光した。 尚、露
光量についてはストーファー２１段ステップタブレット
を用いて、ステップ７を与える露光量で行った。露光後
１５分間のホールドタイムを取った後、１％炭酸ナトリ
ウム水溶液、３０℃で、最小現像時間の２倍の時間で現
像を行い、赤色のラインを形成した。更に、同様の操作
を行い、緑色のライン、青色のラインを形成した。(Exposure and Development) Next, a pattern is placed on the entire surface of the polyester film on the photosensitive resin composition (B) layer so that the inside of the partition (cell) (other than the upper part of the partition) is exposed. And an exposure machine HMW-
Exposure was performed at 532D with a 3 kw ultrahigh pressure mercury lamp. The exposure was performed using a 21-step stofer step tablet at an exposure giving step 7. After a hold time of 15 minutes after the exposure, development was carried out in a 1% aqueous sodium carbonate solution at 30 ° C. for twice the minimum development time to form a red line. Further, the same operation was performed to form a green line and a blue line.
【００３７】（焼成）現像後に焼成炉に入れて、約５５
０℃に昇温させて、樹脂組成物（Ａ）層及び感光性樹脂
組成物（Ｂ）層中の樹脂分を焼失させ、赤、緑、青の蛍
光体パターンを形成させた。(Firing) After development, put in a firing furnace,
The temperature was raised to 0 ° C. to burn off the resin components in the resin composition (A) layer and the photosensitive resin composition (B) layer, thereby forming red, green, and blue phosphor patterns.
【００３８】得られた蛍光体パターンが形成された隔壁
基板は、焼成によるパターンの欠損もなく、又、蛍光体
パターンの断面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察す
るとセルの壁面上部より底に至るまで蛍光体が効率よ
く、均一に形成されていた。The obtained partition substrate on which the phosphor pattern was formed had no pattern loss due to firing, and when the cross section of the phosphor pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), the cross section was lower than the upper wall of the cell. The phosphor was efficiently and uniformly formed up to that point.
【００３９】実施例２ 実施例１において、樹脂組成物（Ａ）中のアクリル系ポ
リマーの組成を下記の如く変更した以外は同様に行い、
蛍光体パターンを形成した。得られた蛍光体パターンが
形成された隔壁基板は、実施例１と同様、焼成によるパ
ターンの欠損もなく、又、セルの壁面上部より底に至る
まで蛍光体が効率よく、均一に形成されていた。アクリル系ポリマー（ａ） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／メ
タクリル酸の共重合割合が重量基準で５０／２０／３０
である共重合体（ガラス転移温度７９．６℃、重量平均
分子量１２００００、酸価１９５．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that the composition of the acrylic polymer in the resin composition (A) was changed as follows.
A phosphor pattern was formed. As in Example 1, the partition substrate on which the obtained phosphor pattern was formed had no pattern loss due to firing, and the phosphor was efficiently and uniformly formed from the top to the bottom of the cell wall. Was. Acrylic polymer (a) The copolymerization ratio of methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / methacrylic acid is 50/20/30 by weight.
(Glass transition temperature: 79.6 ° C., weight average molecular weight: 120,000, acid value: 195.3 mg KOH / g)
【００４０】実施例３ 実施例１において、樹脂組成物（Ａ）中の多価アルコー
ル（ｂ）を下記の如き化合物に変更した以外は同様に行
い、蛍光体パターンを形成した。得られた蛍光体パター
ンが形成された隔壁基板は、実施例１と同様、焼成によ
るパターンの欠損もなく、又、セルの壁面上部より底に
至るまで蛍光体が効率よく、均一に形成されていた。多価アルコール（ｂ） 下記式で示される化合物（日本乳化剤（株）製、ＢＡ−
１０グリコール） HO-(CH2-CH2-O)n-C6H4-C(CH3)2-C6H4-(O-CH2-CH2)m-OH （ここで、ｎ、ｍは正の正数で、ｎ＋ｍは１０であ
る。） （２０℃での粘度２６００ｍＰａ・ｓｅｃ、重量平均分
子量６６８）Example 3 A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1, except that the polyhydric alcohol (b) in the resin composition (A) was changed to the following compound. As in Example 1, the partition substrate on which the obtained phosphor pattern was formed had no pattern loss due to firing, and the phosphor was efficiently and uniformly formed from the top to the bottom of the cell wall. Was. Polyhydric alcohol (b) a compound represented by the following formula (BA-
10 glycol) HO- (CH 2 -CH 2 -O ) n -C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -C 6 H 4 - (O-CH 2 -CH 2) m -OH ( wherein, n , M is a positive number and n + m is 10. (Viscosity at 20 ° C. is 2,600 mPa · sec, weight average molecular weight is 668)
【００４１】比較例１ 実施例１において、樹脂組成物（Ａ）中の多価アルコー
ル（ｂ）を配合しなかった以外は同様に行い、蛍光体パ
ターンを形成した。得られた蛍光体パターンが形成され
た隔壁基板は、可撓性の不足により、充分な流動性が得
られず、良好な結果が得られなかった。Comparative Example 1 A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1, except that the polyhydric alcohol (b) in the resin composition (A) was not blended. The partition substrate on which the obtained phosphor pattern was formed could not obtain sufficient fluidity due to lack of flexibility, and could not obtain good results.
【００４２】比較例２ 実施例１において、ポリエチレングリコールの代わりに
エチレン性不飽和化合物としてポリエチレングリコール
ジメタクリレートを配合した以外は同様に行い、蛍光体
パターンを形成した。得られた蛍光体パターンが形成さ
れた隔壁基板は、焼成時にムラが生じ、均一な輝度が得
られなかった。Comparative Example 2 A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1, except that polyethylene glycol dimethacrylate was added as an ethylenically unsaturated compound instead of polyethylene glycol. The partition substrate on which the obtained phosphor pattern was formed had unevenness during firing, and uniform luminance was not obtained.
【００４３】[0043]
【発明の効果】本発明の蛍光体パターンの形成方法は、
蛍光体を含有する樹脂組成物（Ａ）層（感光性を有しな
い）と蛍光体を含有しない感光性樹脂組成物（Ｂ）層を
隔壁（セル）内に充填されるように形成しているため、
隔壁（セル）内への埋め込み性に優れ、又、焼成時のパ
ターン欠損がなく、隔壁（セル）の側壁や底部に蛍光体
を効率よく、均一に形成することができ、ＰＤＰ等の蛍
光体形成用途に大変有用である。The method for forming a phosphor pattern according to the present invention comprises:
A resin composition (A) layer containing a phosphor (having no photosensitivity) and a photosensitive resin composition (B) layer not containing a phosphor are formed so as to be filled in a partition (cell). For,
It is excellent in embedding into partition walls (cells), has no pattern loss during firing, and can efficiently and uniformly form a phosphor on the side walls and bottom of the partition walls (cells). Very useful for forming applications.
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成１１年２月１９日[Submission date] February 19, 1999
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００２０[Correction target item name] 0020
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【００２０】光重合開始剤（ｆ）としては、例えばベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、
ベンジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケ
タール、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナ
フトキノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、
１，１−ジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジク
ロロアセトフェノン、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）４，５，４′，５′−テトラフェニル−１，２′
−ビイミダゾール、２−クロロチオキサントン、２−メ
チルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２，２′−ジエトキシアセトフェノン、２，２′−
ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、フェニルグ
リオキシレート、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、
ジベンゾスパロン、１−（４−イソプロピルフェニル）
−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、２−
メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフ
ォリノ−１−プロパノン、トリブロモフェニルスルホ
ン、トリブロモメチルフェニルスルホン等が挙げられ
る。Examples of the photopolymerization initiator (f) include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin phenyl ether,
Benzyl diphenyl disulfide, benzyl dimethyl ketal, dibenzyl, diacetyl, anthraquinone, naphthoquinone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino ) benzophenone down, pivaloyl in ethyl ether,
1,1-dichloroacetophenone, pt-butyldichloroacetophenone, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) 4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-1,2'
-Biimidazole, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-
Dichloro-4-phenoxyacetophenone, phenylglyoxylate, α-hydroxyisobutylphenone,
Dibenzosparone, 1- (4-isopropylphenyl)
-2-hydroxy-2-methyl-1-propanone, 2-
Methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, tribromophenylsulfone, tribromomethylphenylsulfone, and the like.
【手続補正２】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００３４[Correction target item name] 0034
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【００３４】次いで、得られた樹脂組成物（Ａ）をギャ
ップ１０ミルのアプリケーターを用いて厚さ２０μｍの
ポリエステルフィルム上に塗工し、室温で１分３０秒放
置した後、６０℃、９０℃、１１０℃のオーブンでそれ
ぞれ３分間ずつ乾燥して、厚さ（ｈa）５０μｍの樹脂
組成物（Ａ）層を作製した。（但し保護フィルムは設け
ていない。） 尚、樹脂組成物（Ａ）層においては赤色、緑色、青色の
各々を１種含有したものを作製した。又、上記感光性樹
脂組成物（Ｂ）を用いて、上記と同様に厚さ（ｈb）７
０μｍの感光性樹脂組成物（Ｂ）層を作製した。（但し
保護フィルムは設けていない。） 得られた（Ａ）層及び（Ｂ）層の積層体を用いて、以下
の要領で蛍光体のパターン形成を行った。Next, the obtained resin composition (A) was coated on a polyester film having a thickness of 20 μm using an applicator having a gap of 10 mil , left at room temperature for 1 minute and 30 seconds, and then heated at 60 ° C. and 90 ° C. And an oven at 110 ° C. for 3 minutes each to prepare a resin composition (A) layer having a thickness (ha) of 50 μm. (However, no protective film was provided.) In the resin composition (A) layer, one containing one of each of red, green, and blue was prepared. Further, using the photosensitive resin composition (B), a thickness (h b ) of 7
A 0 μm layer of the photosensitive resin composition (B) was prepared. (However, no protective film was provided.) Using the obtained laminate of the layer (A) and the layer (B), a phosphor pattern was formed in the following manner.
Claims (7)
光体のパターンを形成するにあたり、該隔壁（セル）内
に、ガラス転移温度（Ｔｇ）が３０℃以上のアクリル系
ポリマー（ａ）、多価アルコール（ｂ）及び蛍光体
（ｃ）からなる樹脂組成物（Ａ）層及び、感光性樹脂組
成物（Ｂ）層を設けた後、露光、現像、焼成を行うこと
を特徴とする蛍光体パターンの形成方法。1. An acrylic polymer (a) having a glass transition temperature (Tg) of 30 ° C. or more in a partition (cell) for forming a phosphor pattern in a partition (cell) of a fluorescent display substrate. ), A resin composition (A) layer comprising a polyhydric alcohol (b) and a phosphor (c), and a photosensitive resin composition (B) layer, and then exposure, development, and baking are performed. Phosphor pattern forming method.
アクリル系ポリマー（ａ）の重量平均分子量が１０００
０〜３０００００で、かつ、酸価が８０〜２５０ｍｇＫ
ＯＨ／ｇであることを特徴とする請求項１記載の蛍光体
パターンの形成方法。2. The acrylic polymer (a) having a glass transition temperature (Tg) of 30 ° C. or higher has a weight average molecular weight of 1,000.
0 to 300,000 and an acid value of 80 to 250 mgK
2. The method for forming a phosphor pattern according to claim 1, wherein the ratio is OH / g.
が５０ｍＰａ・ｓｅｃ以上であることを特徴とする請求
項１又は２記載の蛍光体パターンの形成方法。3. The method according to claim 1, wherein the viscosity of the polyhydric alcohol (b) at 20 ° C. is 50 mPa · sec or more.
の含有量がガラス転移温度（Ｔｇ）が３０℃以上のアク
リル系ポリマー（ａ）と多価アルコール（ｂ）の合計量
１００重量部に対して１〜１５００重量部であることを
特徴とする請求項１〜３いずれか記載の蛍光体パターン
の形成方法。4. The phosphor (c) in the resin composition (A)
Is 1 to 1500 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the acrylic polymer (a) and the polyhydric alcohol (b) having a glass transition temperature (Tg) of 30 ° C. or higher. Item 4. The method for forming a phosphor pattern according to any one of Items 1 to 3.
マー（ｄ）、エチレン性不飽和化合物（ｅ）、光重合開
始剤（ｆ）からなる感光性樹脂組成物層であることを特
徴とする請求項１〜４いずれか記載の蛍光体パターンの
形成方法。5. The photosensitive resin composition (B) layer is a photosensitive resin composition layer comprising a base polymer (d), an ethylenically unsaturated compound (e), and a photopolymerization initiator (f). The method for forming a phosphor pattern according to claim 1.
を設けた後、次いで感光性樹脂組成物（Ｂ）層を設ける
ことを特徴とする請求項１〜５いずれか記載の蛍光体パ
ターンの形成方法。6. The method according to claim 1, wherein a resin composition (A) layer is provided in the partition (cell), and then a photosensitive resin composition (B) layer is provided. A method for forming a phosphor pattern.
３回繰り返し、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）３色の蛍
光体パターンを形成することを特徴とする蛍光体パター
ンの形成方法。7. A method according to claim 1, wherein the phosphor pattern of three colors of R (red), G (green) and B (blue) is formed three times. A method for forming a phosphor pattern.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9100598A JPH11273563A (en) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | Method for forming phosphor pattern |
| TW088103452A TW416086B (en) | 1998-03-18 | 1999-03-06 | Forming method of fluorescent pattern and plasma display panel |
| KR1019990008954A KR100544005B1 (en) | 1998-03-18 | 1999-03-17 | Process for forming a pattern of fluorescent substance and plasma display panel |
| US09/271,447 US6929821B2 (en) | 1998-03-18 | 1999-03-18 | Process for forming a pattern of fluorescent substrate and plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9100598A JPH11273563A (en) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | Method for forming phosphor pattern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11273563A true JPH11273563A (en) | 1999-10-08 |
Family
ID=14014402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9100598A Pending JPH11273563A (en) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | Method for forming phosphor pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11273563A (en) |
-
1998
- 1998-03-18 JP JP9100598A patent/JPH11273563A/en active Pending
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