JPH10312748A - Fixing method for phosphor - Google Patents

Fixing method for phosphor

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JPH10312748A
JPH10312748A JP13583397A JP13583397A JPH10312748A JP H10312748 A JPH10312748 A JP H10312748A JP 13583397 A JP13583397 A JP 13583397A JP 13583397 A JP13583397 A JP 13583397A JP H10312748 A JPH10312748 A JP H10312748A
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JP
Japan
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layer
phosphor
resin composition
phosphors
cell
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Pending
Application number
JP13583397A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsukasa Izumi
司 出水
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Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently fix phosphors on the side face and bottom face of a cell, efficiently increase luminance, and reduce the quantity of the phosphors used by superposing resin composition layers containing two phosphors having average grain sizes of a specific relation on each other in the cell of a plasma display panel respectively, the exposing, developing, and baking them. SOLUTION: A resin composition layer A containing phosphors having the average grain size of (a) μm is provided in a cell, a resin composition layer B containing phosphors having the average grain size of (b) μm larger than (a) μm is provided on it, and the relation of 1<b/a<=10 is preferably satisfied. A barrier rib substrate fixed with these phosphors has the luminance much higher than the luminance of the laminated layer of two layers B or the layers A, B containing opposite phosphors. A photosensitive resin layer containing no phosphor is preferably provided on the layer B, and the layers A, B contain a base polymer and an ethylene compound containing an ethylene unsaturated compound of total 100 pts.wt. and phosphors of 1-800 pts.wt.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(PDP)等の蛍光体表示装置の製造時にお
ける隔壁(セル)内への蛍光体の固定方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for fixing a phosphor in a partition (cell) at the time of manufacturing a phosphor display device such as a plasma display panel (PDP).

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、各種平板ディスプレイパネルの開
発が盛んに行われており、中でもPDPが注目を浴びて
おり、今後ラップトップ型パソコンの表示画面から、各
種電光掲示板、更には、いわゆる「壁掛けテレビ」へと
その用途は拡大しつつある。そして、このPDPの表示
パネルのセル内には、表示のための蛍光体が封入(固
定)されており、加電圧によりセル内の封入ガスで発生
した紫外線で該蛍光体が発色するのである。かかる蛍光
体の固定方法としては、従来より各色蛍光体を分散させ
た液状のフォトレジストが用いられているが、かかる固
定方法を改善すべく、本出願人はかかる液状のフォトレ
ジストに代えて、蛍体入りのドライフィルムレジスト
(フォトレジストフィルム)を提案し(特開平6−27
3925号公報)、更には蛍光体の固定効率を向上すべ
く、アクリル系樹脂層と蛍光体含有感光性樹脂組成物層
の積層体を用いたパターン形成法(特開平9−6933
9号公報)を提案した。
2. Description of the Related Art Recently, various flat panel display panels have been actively developed. Among them, PDPs have attracted attention. From now on, display screens of laptop personal computers will be used to display various electronic bulletin boards and so-called "wall-mounted". Its use is expanding to TV. A phosphor for display is sealed (fixed) in the cell of the display panel of the PDP, and the phosphor emits color by ultraviolet rays generated by the sealing gas in the cell due to an applied voltage. As a method of fixing such a phosphor, a liquid photoresist in which phosphors of each color are dispersed has been used, but in order to improve the fixing method, the present applicant has replaced such a liquid photoresist with Proposed a dry film resist (photoresist film) containing a phosphor (Japanese Patent Laid-Open No. 6-27)
No. 3925) and a pattern forming method using a laminate of an acrylic resin layer and a phosphor-containing photosensitive resin composition layer in order to improve the fixing efficiency of the phosphor (Japanese Patent Laid-Open No. 9-6933).
No. 9).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平6−273925号公報に記載のフォトレジスト
フィルムについては、隔壁(セル)内への蛍光体の充填
性に関しては十分な検討はなされておらず、かかる点を
考慮した特開平9−69339号公報開示技術について
も、隔壁内への蛍光体の充填量は確保できるものの、隔
壁(セル)の側壁面や底面に均一に効率よく蛍光体を固
定させ、効率よく輝度を得るという点ではまだまだ改善
の余地が残るものである。即ち、隔壁(セル)内に充填
された蛍光体を効率よく発光させるために、上記の如く
隔壁(セル)の側壁面や底面に効率よく蛍光体を固定さ
せ、効率よく輝度を得ることが望まれており、かかる固
定が実現すれば、蛍光体の使用量も削減できるという経
済的な副次的効果も期待できるものである。
However, with respect to the photoresist film described in JP-A-6-273925, sufficient study has been made on the filling properties of the phosphor into the partition walls (cells). Regarding the technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-69339 in consideration of this point, the filling amount of the phosphor into the partition can be ensured, but the phosphor is uniformly and efficiently placed on the side wall and the bottom of the partition (cell). There is still room for improvement in terms of fixing and efficiently obtaining luminance. That is, in order to make the phosphor filled in the partition wall (cell) emit light efficiently, it is desired to efficiently fix the phosphor on the side wall surface or the bottom surface of the partition wall (cell) as described above, and to obtain luminance efficiently. Rarely, if such fixation is realized, an economical secondary effect that the amount of phosphor used can be reduced can also be expected.

【0004】[0004]

【問題を解決するための手段】そこで、本発明者は、上
記の事情に鑑みて鋭意研究した結果、プラズマディスプ
レイパネルの隔壁(セル)内に蛍光体を固定するにあた
り、該隔壁(セル)内に下記(1)式を満足するように
平均粒子径がa(μm)の蛍光体を含有する樹脂組成物
層(A)および平均粒子径がb(μm)の蛍光体を含有
する樹脂組成物層(B)を順次設けた後、露光・現像を
行って、焼成することにより、蛍光体含有層(フィル
ム)が隔壁(セル)側壁面及び底面に効率よく蛍光体の
固定が行えて、効率よく輝度を得ることができることを
見出し本発明を完成するに至った。 a<b ・・・ (1)
The present inventor has conducted intensive studies in view of the above circumstances, and as a result, when fixing the phosphor in the partition wall (cell) of the plasma display panel, the present inventors have found that the partition wall (cell) does not have to be fixed. The resin composition layer (A) containing a phosphor having an average particle diameter of a (μm) and the resin composition containing a phosphor having an average particle diameter of b (μm) so as to satisfy the following expression (1). After the layer (B) is sequentially provided, exposure, development and baking are performed, so that the phosphor-containing layer (film) can efficiently fix the phosphor on the side walls and the bottom of the partition (cell). The inventors have found that good luminance can be obtained, and have completed the present invention. a <b (1)

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の方法を詳細に述
べる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the method of the present invention will be described in detail.

【0006】本発明に用いる蛍光体は特に限定されない
が、希土類オキシハライド等を母体とし、この母体を付
活剤で付活したものが好ましく、例えば紫外線励起型蛍
光体としては、Y23:Eu、YVO4:Eu、(Y,
Gd)BO3:Eu(以上赤色)、BaAl1219:M
n、Zn2SiO4:Mn、LaPO4:Tb(以上緑
色)、BaMgAl1423:Eu、BaMgAl
1627:Eu(以上青色)等が挙げられ、その他の蛍光
体としては、Y23S:Eu、γ−Zn3(PO42
Mn、(ZnCd)S:Ag+In23(以上赤色)、
ZnS:Cu,Al、ZnS:Au,Cu,Al、(Z
nCd)S:Cu,Al、Zn2SiO4:Mn,As,
3Al512:Ce、Gd22S:Tb、Y3Al
512:Tb、ZnO:Zn(以上緑色)、ZnS:A
g+赤色顔料、Y2SiO3:Ce(以上青色)等を使用
することもできる。
[0006] The present invention phosphor used in body is not particularly limited, the rare earth oxyhalide such as a host, preferably those activated by an activator of the mother, for example, as an ultraviolet excitation type phosphor, Y 2 O 3 : Eu, YVO 4 : Eu, (Y,
Gd) BO 3 : Eu (more than red), BaAl 12 O 19 : M
n, Zn 2 SiO 4 : Mn, LaPO 4 : Tb (green above), BaMgAl 14 O 23 : Eu, BaMgAl
16 O 27 : Eu (above blue) and the like, and other phosphors include Y 2 O 3 S: Eu, γ-Zn 3 (PO 4 ) 2 :
Mn, (ZnCd) S: Ag + In 2 O 3 (all red),
ZnS: Cu, Al, ZnS: Au, Cu, Al, (Z
nCd) S: Cu, Al, Zn 2 SiO 4 : Mn, As,
Y 3 Al 5 O 12 : Ce, Gd 2 O 2 S: Tb, Y 3 Al
5 O 12 : Tb, ZnO: Zn (green), ZnS: A
g + red pigment, Y 2 SiO 3 : Ce (above blue) and the like can also be used.

【0007】本発明では、上記の如き蛍光体を層(A)
および層(B)に含有させて、隔壁内に順次積層させる
訳であるが、本発明においては、特に層(A)と層
(B)に含有させるそれぞれの蛍光体の平均粒子径が特
定の関係になるようにしたことを最大の特徴とするもの
である。即ち、層(A)に含有させる蛍光体の平均粒子
径a(μm)と層(B)に含有させる蛍光体の平均粒子
径b(μm)が、a<bなる関係を満足する必要があ
る。かかる関係がa≧bの時は、効率よく蛍光体の輝度
を得ることが困難となり、本発明の目的を達成すること
はできない。
In the present invention, the phosphor as described above is added to the layer (A).
And the layer (B), and the layers are sequentially laminated in the partition. In the present invention, in particular, the average particle diameter of each phosphor contained in the layer (A) and the layer (B) is specified. The biggest feature is that the relationship is established. That is, the average particle diameter a (μm) of the phosphor contained in the layer (A) and the average particle diameter b (μm) of the phosphor contained in the layer (B) must satisfy the relationship of a <b. . When this relationship is a ≧ b, it is difficult to efficiently obtain the luminance of the phosphor, and the object of the present invention cannot be achieved.

【0008】かかる層(A)としては、蛍光体を含有し
た樹脂組成物層であれば、特に限定されないが、通常は
ベースポリマー及びエチレン性不飽和化合物からなる樹
脂組成物に蛍光体が分散された樹脂組成物の層が用いら
れ、また、層(B)としても層(A)と同様、蛍光体を
含有した樹脂組成物層であれば、特に限定されないが、
層(B)が最上層に位置する場合には、通常はベースポ
リマー、エチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤から
なる感光性樹脂組成物に蛍光体が分散された感光性樹脂
組成物の層が用いられる。尚、層(A)も層(B)と同
様に樹脂組成物としてベースポリマー、エチレン性不飽
和化合物及び光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物を
用いることも可能である。かかるベースポリマーとして
は、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂などが用いられ、これらの中では、(メタ)ア
クリレートを主成分とし、必要に応じてエチレン性不飽
和カルボン酸や他の共重合可能なモノマーを共重合した
アクリル系共重合体が重要である。アセトアセチル基含
有アクリル系共重合体を用いることもできる。
The layer (A) is not particularly limited as long as it is a resin composition layer containing a phosphor. Usually, the phosphor is dispersed in a resin composition comprising a base polymer and an ethylenically unsaturated compound. The layer of the resin composition is used, and the layer (B) is not particularly limited as long as it is a resin composition layer containing a phosphor, like the layer (A).
When the layer (B) is located on the uppermost layer, usually, a layer of a photosensitive resin composition in which a phosphor is dispersed in a photosensitive resin composition comprising a base polymer, an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator. Is used. In the layer (A), a photosensitive resin composition comprising a base polymer, an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator can be used as the resin composition, similarly to the layer (B). As such a base polymer, an acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, or the like is used. Among these, (meth) acrylate is a main component, and an ethylenically unsaturated carboxylic acid or another copolymer is used as necessary. Acrylic copolymers obtained by copolymerizing polymerizable monomers are important. An acetoacetyl group-containing acrylic copolymer can also be used.

【0009】ここで(メタ)アクリル酸エステルとして
は、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アク
リレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メ
タ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2
−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシ
ル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレ
ートなどが例示される。
Here, the (meth) acrylic acid ester includes methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate,
-Ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and the like. You.

【0010】エチレン性不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボ
ン酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などのジカルボン酸、あるいはそれら
の無水物やハーフエステルも用いることができる。これ
らの中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好まし
い。また、かかる感光性樹脂組成物を稀アルカリ現像型
とすることも好ましく、稀アルカリ現像型とするとき
は、エチレン性不飽和カルボン酸を15〜30重量%程
度(酸価で100〜200mgKOH/g程度)共重合す
ることが必要である。他の共重合可能モノマーとして
は、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチ
レン、酢酸ビニル、アルキルビニルエーテルなどが例示
できる。
As the ethylenically unsaturated carboxylic acid, monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid are preferably used. In addition, dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, and their anhydrides Products and half esters can also be used. Of these, acrylic acid and methacrylic acid are particularly preferred. It is also preferable that the photosensitive resin composition is of a dilute alkali developing type. When the photosensitive resin composition is of a dilute alkali developing type, the ethylenically unsaturated carboxylic acid is contained in an amount of about 15 to 30% by weight (acid value of 100 to 200 mg KOH / g). Degree) It is necessary to copolymerize. Examples of other copolymerizable monomers include acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, and alkyl vinyl ether.

【0011】更に、エチレン性不飽和化合物としては、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、2,2−ビス
(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス−(4−(メタ)アクリロキシポリ
エトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−
(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジル
エーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジ
ルエステルジ(メタ)アクリレート、グルセリントリア
クリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ
(メタ)アクリレートなどの多官能モノマーが挙げら
れ、かかるエチレン性不飽和化合物の配合割合は、ベー
スポリマー100重量部に対して10〜200重量部、
特に60〜150重量部の範囲から選ぶことが望まし
い。エチレン性不飽和化合物の過少は、層(A)および
層(B)の可撓性の低下を招き、また該層の硬化不良や
現像速度の遅延を招き、逆にエチレン性不飽和化合物の
過多は、コールドフローを招き、また該層の硬化レジス
トの剥離速度低下を招いて好ましくない。
Further, as the ethylenically unsaturated compound,
Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl Glycol di (meta)
Acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, 2,2-bis (4 -(Meth) acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis- (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3-
(Meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin poly Examples include polyfunctional monomers such as glycidyl ether poly (meth) acrylate, and the mixing ratio of the ethylenically unsaturated compound is 10 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base polymer.
In particular, it is desirable to select from the range of 60 to 150 parts by weight. An insufficient amount of the ethylenically unsaturated compound causes a decrease in the flexibility of the layer (A) and the layer (B), causes poor curing of the layer and delays the development speed, and conversely, an excessive amount of the ethylenically unsaturated compound. Is not preferred because it causes a cold flow and a decrease in the peeling rate of the cured resist in the layer.

【0012】これらの多官能モノマーと共に、単官能モ
ノマーを適当量併用することもでき、かかる単官能モノ
マーの例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−
フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキ
シプロピルフタレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)
アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル
アシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ(メ
タ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルア
ミドなどが挙げられる。
An appropriate amount of a monofunctional monomer can be used together with these polyfunctional monomers. Examples of such a monofunctional monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, -Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-
Phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth)
Acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative, N-methylol (meth) acrylamide and the like can be mentioned.

【0013】また、光重合開始剤としては、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn
−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベン
ジルジフェニルジスルフィド、ベンジルジメチルケター
ル、ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナフト
キノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェ
ノン、ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾ
フェノン、ピバロインエチルエーテル、1,1−ジクロ
ロアセトフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェ
ノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、2,2’−
ビス(o−クロロフェニル)4,5,4’,5’−テト
ラフェニル)等が挙げられ、かかる光重合開始剤は、ベ
ースポリマーとエチレン性不飽和化合物との合計量10
0重量部に対し0〜20重量部配合することが好まし
い。
The photopolymerization initiator includes benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n
-Butyl ether, benzoin phenyl ether, benzyl diphenyl disulfide, benzyl dimethyl ketal, dibenzyl, diacetyl, anthraquinone, naphthoquinone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, pivaloin ethyl ether, 1,1-dichloroacetophenone, pt-butyldichloroacetophenone, hexaarylimidazole dimer, 2,2 ' −
Bis (o-chlorophenyl) 4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl), and the like, and such a photopolymerization initiator may have a total amount of 10
It is preferable to mix 0 to 20 parts by weight with respect to 0 parts by weight.

【0014】層(A)および層(B)中の蛍光体の含有
量は、ベースポリマーとエチレン性不飽和化合物の総量
100重量部に対して1〜800重量部が好ましく、よ
り好ましくは10〜500重量部であり、かかる蛍光体
の過少は発光輝度の低下を招き、逆に過多は後述するフ
ィルムとした時の表面タック性が低下して好ましくな
い。本発明においては、層(A)および層(B)の含有
される蛍光体の平均粒子径aおよびbが上記の如くa<
bなる関係を満足していればよいが、更には、1<b/
a≦10の関係を満足することが好ましく、かかるb/
aが10を越えると蛍光体の固定が困難となって好まし
くない。更には1.5<b/a≦3が好ましい。
The content of the phosphor in the layers (A) and (B) is preferably 1 to 800 parts by weight, more preferably 10 to 800 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the base polymer and the ethylenically unsaturated compound. The amount is 500 parts by weight, and if the amount of the phosphor is too small, the emission luminance is lowered. On the other hand, if the amount is too large, the surface tackiness of a film to be described later is undesirably reduced. In the present invention, the average particle diameters a and b of the phosphor contained in the layer (A) and the layer (B) are such that a <a
It suffices that the relationship of b is satisfied, but 1 <b /
It is preferable that the relationship a ≦ 10 is satisfied.
If a exceeds 10, it becomes difficult to fix the phosphor, which is not preferable. More preferably, 1.5 <b / a ≦ 3.

【0015】また、層(A)の厚み(ha)は、蛍光体
の含有量やPDPの構造によっても異なり一概に言えな
いが、通常は隔壁側面高さ(h0)よりも薄いことが好
ましく、更にはかかるha(μm)とh0(μm)がha
/h0=1/20〜15/20であることが好ましく、
特にha/h0=1/20〜10/20であることが好ま
しく、かかるha/h0が1/20未満では焼成後の蛍光
体の厚み不足となり、逆に15/20を越えるとセルの
放電時の空間が少なくなり好ましくなく、また、層
(B)の厚み(hb)も、蛍光体の含有量やPDPの構
造によっても異なり一概に言えないが、通常は上記のh
aと同様、隔壁側面高さ(h0)よりも薄いことが好まし
く、更にはかかるhb(μm)とh0(μm)がhb/h0
=1/20〜15/20であることが好ましく、特にh
b/h0=1/20〜10/20であることが好ましく、
かかるhb/h0が1/20未満では上記の蛍光体含有層
(A)を隔壁(セル)内に十分に押し込むことが困難と
なり、逆に15/20を越えるとパターニング性が低下
して好ましくない。また、層(A)および層(B)は、
蛍光体の均一分散性、追従性、作業性等の点でかかる層
は予めフィルム状あるいはシート状に成形されているこ
とが非常に好ましい。
[0015] The thickness of the layer (A) (h a) is not be indiscriminately also varies depending on the structure of the content and PDP phosphor, it usually is thinner than the partition wall side height (h 0) preferably, even such h a ([mu] m) and h 0 (μm) is h a
/ H 0 = 1/20 to 15/20,
Particularly preferably h a / h 0 = 1 / 20~10 / 20, according h a / h 0 is the phosphor insufficient thickness after firing is less than 1/20, it exceeds 15/20 reversed The space at the time of discharge of the cell is reduced, which is not preferable, and the thickness (h b ) of the layer (B) also differs depending on the content of the phosphor and the structure of the PDP, and cannot be said unconditionally.
Similar to a, thinner is more preferable than the partition wall side height (h 0), even according h b (μm) and h 0 (μm) is h b / h 0
= 1/20 to 15/20, especially h
It is preferable that b / h 0 = 1/20 to 10/20,
When the ratio h b / h 0 is less than 1/20, it is difficult to sufficiently push the above-mentioned phosphor-containing layer (A) into the partition walls (cells). Not preferred. Further, the layer (A) and the layer (B)
It is highly preferable that such a layer is previously formed into a film or a sheet in view of uniform dispersibility, followability, workability, and the like of the phosphor.

【0016】更に上記の層(A)および層(B)には、
そのほか、染料(着色、発色)、密着性付与剤、可塑
剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤、溶剤、表面張力改質
材、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、難燃剤などの添加剤
も適宜添加することができる。また、層(A)および層
(B)は、上記の如く予めフィルム化しておくことが好
ましく、具体的には、上記の蛍光体を含有した感光性樹
脂組成物をポリエステルフイルム、ポリプロピレンフイ
ルム、ポリスチレンフイルムなどのベースフイルム面に
塗工した後、その塗工面の上からポリエチレンフイル
ム、ポリビニルアルコールフイルムなどの保護フイルム
を被覆して積層体として、その後蛍光体の固定に供する
ことが好ましい。本発明の蛍光体の固定方法について具
体的に説明する。
Further, in the above-mentioned layers (A) and (B),
In addition, addition of dyes (coloring and coloring), adhesion promoters, plasticizers, antioxidants, thermal polymerization inhibitors, solvents, surface tension modifiers, stabilizers, chain transfer agents, defoamers, flame retardants, etc. Agents can also be added as appropriate. Further, it is preferable that the layer (A) and the layer (B) are previously formed into a film as described above. Specifically, the photosensitive resin composition containing the above-mentioned phosphor is prepared by mixing a polyester film, a polypropylene film, and a polystyrene film. It is preferable that after coating on a base film surface such as a film, a protective film such as a polyethylene film or a polyvinyl alcohol film is coated on the coated surface to form a laminate, which is then used for fixing the phosphor. The method for fixing the phosphor of the present invention will be specifically described.

【0017】(層(A)の形成) 上記の層(A)を中
間層とした積層体のベースフイルム(ポリエステルフィ
ルム、ポリビニルアルコールフィルム、ナイロンフィル
ム、セルロースフィルム等)と樹脂組成物層との接着力
及び保護フイルムと樹脂組成物層との接着力を比較し
て、接着力の低い方のフィルムを剥離してから樹脂組成
物層の側を、隔壁(セル)が予め形成されたPDP用基
板にホットラミネーター等を用いて層(A)を隔壁(セ
ル)中へ押し込むようにして、層(A)を形成する。
(層(B)の形成) 層(A)表面に残されたフィルム
を剥がし、その上から層(B)を中間層とした積層体を
上記の層(A)と同様にホットラミネーター等を用いて
セル中へ押し込むようにして、層(B)を形成する。
(Formation of Layer (A)) Adhesion between a base film (polyester film, polyvinyl alcohol film, nylon film, cellulose film, etc.) of a laminate having the above layer (A) as an intermediate layer and a resin composition layer. By comparing the force and the adhesive strength between the protective film and the resin composition layer, the film having the lower adhesive strength is peeled off, and then the resin composition layer is placed on the PDP substrate on which the partition walls (cells) are formed in advance. The layer (A) is formed by pressing the layer (A) into the partition (cell) using a hot laminator or the like.
(Formation of Layer (B)) The film remaining on the surface of the layer (A) was peeled off, and a laminate having the layer (B) as an intermediate layer was formed thereon using a hot laminator or the like in the same manner as the layer (A). To form a layer (B).

【0018】(露光) 層(B)の上にパターンマスク
を密着させて露光する。この時必要に応じて、また、層
(B)が粘着性を有しないときは、層(B)表面のフイ
ルムを剥離してから、パターンマスクを層(B)に直接
接触させて露光することもできる。露光は、通常紫外線
照射により行い、その際の光源としては、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタル
ハライドランプ、ケミカルランプなどが用いられる。紫
外線照射後は、必要に応じ加熱を行って、硬化の完全を
図ることもできる。
(Exposure) Exposure is performed by bringing a pattern mask into close contact with the layer (B). If necessary, and if the layer (B) has no tackiness, the film on the surface of the layer (B) is peeled off, and then the pattern mask is directly contacted with the layer (B) for exposure. Can also. Exposure is usually performed by ultraviolet irradiation, and the light source at this time is a high-pressure mercury lamp,
Ultra-high pressure mercury lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, chemical lamps and the like are used. After irradiation with ultraviolet rays, heating can be performed as necessary to complete the curing.

【0019】(現像) 露光後は、層(B)上のフイル
ムを剥離除去してから現像を行う。かかる層(B)は稀
アルカリ現像型の感光性樹脂組成物であるので、露光後
の現像は、炭酸ソーダ、炭酸カリウムなどのアルカリ1
〜2重量%程度の稀薄水溶液を用いて行う。この際有機
アルカリ等の現像液を使用することも可能である。
(Development) After exposure, the film on the layer (B) is peeled off and developed. Since the layer (B) is a photosensitive resin composition of a rare alkali development type, development after exposure is performed with an alkali 1 such as sodium carbonate or potassium carbonate.
This is performed using a dilute aqueous solution of about 2% by weight. At this time, it is also possible to use a developer such as an organic alkali.

【0020】(焼成) 上記処理後の隔壁(セル)形成
基板を450〜550℃で焼成を行い、隔壁(セル)内
部に蛍光体を固定する。かくして本発明の方法により、
隔壁(セル)内に蛍光体を固定することができるのであ
るが、フルカラーのPDPを形成するために、赤色、青
色、緑色のそれぞれの層(A)および層(B)を用いて
上記の(層(A)の形成)〜(現像)を繰り返して、上
記の3色(R(赤),G(緑),B(青))の蛍光体を
セル内に充填した後、(焼成)を行うことで作製するこ
とができる。
(Firing) The partition (cell) forming substrate after the above treatment is baked at 450 to 550 ° C. to fix the phosphor inside the partition (cell). Thus, according to the method of the present invention,
The phosphor can be fixed in the partition (cell). To form a full-color PDP, the above-mentioned ((A) and (B)) are used using the respective layers (A) and (B) of red, blue, and green. After the formation of the layer (A)) to (development) are repeated, the phosphor of the above three colors (R (red), G (green), and B (blue)) is filled in the cell, and then (firing) is performed. By doing so, it can be manufactured.

【0021】尚、上記の如く層(A)及び層(B)の2
層を用いて説明したが、本発明においては、更に層
(C)、層(D)、層(E)、・・・・・と3層以上積
層を繰り返すことも可能で、この場合も積層される下の
層と上の層が上記の層(A)と層(B)の諸条件の関係
を満足するようにすればよい。即ち、層(B)の上に更
に層(C)を積層するときは、層(B)と層(C)の関
係が、本発明の層(A)と層(B)の諸条件の関係を満
足するようにすればよく、更に層(C)の上に層(D)
を積層するときは、更に層(C)と層(D)の関係が、
本発明の層(A)と層(B)の諸条件の関係を満足する
ようにすればよく、また、層(B)の上に層(C)、層
(D)、層(E)、・・・・・と3層以上積層される時
は、最上層のみが感光性樹脂組成物層であればよく、そ
の下の層はいずれも感光性樹脂組成物層である必要はな
い。また、本発明においては、上記の層(C)を蛍光体
を含有しない感光性樹脂組成物層として、隔壁(セル)
内に層(A)、層(B)及び層(C)を順次設けて行う
ことも好ましく、このときは上記の如く層(B)は樹脂
組成物層でよい。
As described above, the two layers (A) and (B)
In the present invention, three or more layers (layer (C), layer (D), layer (E),...) Can be further repeated. It is sufficient that the lower layer and the upper layer to be formed satisfy the above-mentioned relationship between the conditions of the layer (A) and the layer (B). That is, when the layer (C) is further laminated on the layer (B), the relationship between the layer (B) and the layer (C) is the relationship between the conditions of the layer (A) and the layer (B) of the present invention. Is satisfied, and the layer (D) is further formed on the layer (C).
Are laminated, the relationship between the layer (C) and the layer (D) is
The relationship between the conditions of the layer (A) and the layer (B) of the present invention may be satisfied, and the layer (C), the layer (D), the layer (E), When three or more layers are laminated with..., Only the uppermost layer may be a photosensitive resin composition layer, and none of the layers below it need be a photosensitive resin composition layer. Further, in the present invention, the layer (C) is a photosensitive resin composition layer containing no phosphor, and is used as a partition (cell).
It is also preferable to sequentially provide the layer (A), the layer (B) and the layer (C) therein. In this case, the layer (B) may be a resin composition layer as described above.

【0022】[0022]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。なお、例中「部」とあるのは、断りのない限り重
量基準を意味する。 実施例1 下記の蛍光体50部、下記のベースポリマー50部及び
下記のエチレン性不飽和化合物80部を混合して、層
(A)に用いる樹脂組成物を調製した。蛍光体22S:Eu (発光波長;642nm,平均粒子径;2.2±0.5
μm)ベースポリマー メチルメタクリレート/n−ブチルメタクリレート/2
−エチルヘキシルアクリレート/メタクリル酸の共重合
割合が重量基準で55/8/15/22である共重合体
(酸価143.3、ガラス転移点66.3℃、重量平均
分子量8万)エチレン性不飽和化合物 グルセリントリアクリレート(ダイセルユービーシー社
製、「OTA−480」)/エチレンオキサイド変性フ
タル酸アクリレート/トレメチロールプロパントリアク
リレートの重量比1/1/1の混合物
The present invention will be specifically described below with reference to examples. In the examples, "parts" means on a weight basis unless otherwise specified. Example 1 A resin composition used for the layer (A) was prepared by mixing 50 parts of the following phosphor, 50 parts of the following base polymer, and 80 parts of the following ethylenically unsaturated compound. Phosphor Y 2 O 2 S: Eu (emission wavelength: 642 nm, average particle size: 2.2 ± 0.5
μm) Base polymer methyl methacrylate / n-butyl methacrylate / 2
- copolymer copolymerization proportion is 55/8/15/22 by weight of ethyl hexyl acrylate / methacrylic acid (acid value 143.3, glass transition point 66.3 ° C., a weight average molecular weight 80,000) ethylenically unsaturated Mixture of saturated compound glycerin triacrylate (“OTA-480” manufactured by Daicel UBC) / ethylene oxide-modified phthalic acid acrylate / tremethylolpropane triacrylate in a weight ratio of 1/1/1.

【0023】次いで、得られた樹脂組成物をギャップ1
0ミルのアプリケーターを用いて厚さ20μmのポリエ
ステルフィルム上に塗工し、室温で1分30秒放置した
後、60℃、90℃、110℃のオーブンでそれぞれ3
分間ずつ乾燥して、厚さ(ha)40μmの層(A)の
積層体を作製した。(ただし保護フイルムは設けていな
い) また、上記の蛍光体をY22S:Eu(発光波長;64
2nm,平均粒子径;5.5±0.5μm)に変更し、
更に下記の光重合開始剤を配合した以外は層(A)と同
様に行って、厚さ(hb)30μmの層(B)の積層体
を作製した。(ただし保護フイルムは設けていない)光重合開始剤 ベンゾフェノン/4,4’−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン/2,2−ビス(o−クロロフェニル)4,5,
4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾー
ルの重量比8/0.15/1の混合物
Next, the obtained resin composition was filled in gap 1
Using a 0 mil applicator, coat on a polyester film having a thickness of 20 μm, leave at room temperature for 1 minute and 30 seconds, and in an oven at 60 ° C., 90 ° C. and 110 ° C. for 3 minutes each.
And dried by minutes, to prepare a laminate having the thickness (h a) 40 [mu] m layer of (A). (However, no protective film is provided.) Further, the above-mentioned phosphor is made of Y 2 O 2 S: Eu (emission wavelength;
2 nm, average particle diameter: 5.5 ± 0.5 μm)
Further, a layered product of a layer (B) having a thickness (h b ) of 30 μm was prepared in the same manner as in the layer (A) except that the following photopolymerization initiator was blended. (However, no protective film is provided) Photopolymerization initiator benzophenone / 4,4′-diethylaminobenzophenone / 2,2-bis (o-chlorophenyl) 4,5
Mixture of 4 ', 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole in a weight ratio of 8 / 0.15 / 1

【0024】得られた層(A)および層(B)の積層体
を用いて、以下の要領で蛍光体の固定を行った。(層
(A)および層(B)の形成) オーブンで60℃に予
熱した隔壁(高さ(h0)100μm、幅80μm、ス
リット150μmのストライプパターン)が形成された
PDP基板(200mm×200mm×2mm)に、上
記の層(A)の積層体をラミネートロール温度100
℃、ロール圧3kg/cm2、ラミネート速度1.0m
/secの条件でラミネートした後、ポリエステルフィ
ルムを剥がし、その上より同様に層(B)の積層体をラ
ミネートして、層(A)および層(B)を形成した。
(ha/hb=40/30)
Using the obtained laminate of the layer (A) and the layer (B), a phosphor was fixed in the following manner. (Formation of Layer (A) and Layer (B)) PDP substrate (200 mm × 200 mm ×) on which a partition (a stripe pattern having a height (h 0 ) of 100 μm, a width of 80 μm, and a slit of 150 μm) preheated to 60 ° C. in an oven was formed. 2 mm), and a laminate of the above layer (A) is laminated at a laminating roll temperature of 100.
° C, roll pressure 3 kg / cm 2 , lamination speed 1.0 m
After laminating under the conditions of / sec, the polyester film was peeled off, and the layered product of the layer (B) was similarly laminated thereon to form the layer (A) and the layer (B).
(H a / h b = 40 /30)

【0025】(露光,現像) 次いで、層(B)表面の
ポリエステルフイルムの上に、隔壁(セル)の内側(隔
壁上部以外)が露光されるように、全面にパターンを乗
せて、オーク製作所製の露光機HMW−532Dにて3
kw超高圧水銀灯で80mjにて露光した。露光後15
分間のホールドタイムを取った後、1%Na2CO3水溶
液を用いて、30℃で、最少現像時間の1.5倍の時間
で現像した。
(Exposure and Development) Next, a pattern is placed on the entire surface of the polyester film on the surface of the layer (B) such that the inside of the partition (cell) (other than the upper part of the partition) is exposed, Exposure machine HMW-532D 3
Exposure was performed at 80 mj with a kw ultrahigh pressure mercury lamp. 15 after exposure
After a hold time of 1 minute, development was carried out using a 1% aqueous solution of Na 2 CO 3 at 30 ° C. for 1.5 times the minimum development time.

【0026】(焼成) 現像後に焼成炉に入れて、約5
50℃に昇温させて、層(A)および層(B)中の樹脂
分を焼失させると同時に蛍光体を隔壁(セル)内に固定
させた。
(Firing) After development, put in a firing furnace for about 5 minutes.
The temperature was raised to 50 ° C. to burn off the resin components in the layers (A) and (B) and at the same time fix the phosphor in the partition (cell).

【0027】実施例2 実施例1において、層(A)中の蛍光体の平均粒子径を
2.2μmとし、層(B)中の蛍光体の平均粒子径を8
μmとした以外は同様に行って、蛍光体が固定された隔
壁基板を得た。
Example 2 In Example 1, the average particle diameter of the phosphor in the layer (A) was 2.2 μm, and the average particle diameter of the phosphor in the layer (B) was 8 μm.
The same procedure was performed except that the thickness was changed to μm to obtain a partition substrate on which the phosphor was fixed.

【0028】実施例3 実施例1において、層(A)の厚み(ha)を30μm
とし、層(B)の厚み(hb)を40μmとした(ha
b=30/40)以外は同様に行って、蛍光体が固定
された隔壁基板を得た。
[0028] Example 3 In Example 1, the layer thickness of (A) (h a) 30μm
And then, the layer (B) is a thickness (h b) of the 40 [mu] m (h a /
h b = 30/40) than is carried out in the same manner to obtain a partition substrate on which phosphors are fixed.

【0029】実施例4 実施例1において、層(A)の厚み(ha)を20μm
とし、層(B)の厚み(hb)を20μmとし(ha/h
b=20/20)、更に層(B)の組成より蛍光体を除
いた厚み(hc)30μmの層(C)更に積層して同様
に行って、蛍光体が固定された隔壁基板を得た。
[0029] Example 4 In Example 1, the layer thickness of (A) (h a) 20μm
And then, the thickness of the layer (B) and (h b) and 20μm (h a / h
b = 20/20 ), and a layer (C) having a thickness (h c ) of 30 μm excluding the phosphor from the composition of the layer (B) is further laminated, and the same procedure is performed to obtain a partition substrate on which the phosphor is fixed. Was.

【0030】参考例 上記の実施例1において、層(A)に代えて層(B)を
用いた(層(B)を2層積層)以外は同様に行って、蛍
光体が固定された隔壁基板を得た。
Reference Example The same procedure as in Example 1 was carried out except that the layer (B) was used instead of the layer (A) (two layers of the layer (B) were laminated) to form a partition wall on which the phosphor was fixed. A substrate was obtained.

【0031】比較例1 実施例1において、層(A)と層(B)の蛍光体を逆に
した以外は、同様に行って、蛍光体が固定された隔壁基
板を得た。上記の実施例、参考例及び比較例で得られた
蛍光体が固定された隔壁基板を20℃で、紫外線殺菌ラ
ンプ(東芝社製、GL10)を照射して、目視で輝度の
相対評価を行ったところ、比較例の隔壁基板は参考例の
それと同等であるのに対して、実施例の隔壁基板はいず
れも参考例のそれよりもはるかに輝度に優れることが確
認できた。
Comparative Example 1 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the phosphors of the layer (A) and the layer (B) were reversed, to obtain a partition substrate on which the phosphor was fixed. The partition board substrate on which the phosphors obtained in the above Examples, Reference Examples and Comparative Examples were fixed was irradiated with an ultraviolet sterilizing lamp (GL10, manufactured by Toshiba Corporation) at 20 ° C., and the relative luminance was visually evaluated. As a result, it was confirmed that the partition board of the comparative example was equivalent to that of the reference example, whereas the partition boards of the examples were much more excellent in luminance than that of the reference example.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明の蛍光体の固定方法は、特定の粒
子径の関係を有する2種類の蛍光体含有(樹脂組成物)
層を隔壁(セル)内に充填されるように形成しているた
め、隔壁(セル)の側壁や底部に蛍光体を効率よく固定
することができ、効率よく輝度を得ることができ、PD
P等の蛍光体形成用途に大変有用である。
According to the method for fixing a phosphor of the present invention, two kinds of phosphors having a specific particle diameter relationship are contained (resin composition).
Since the layer is formed so as to be filled in the partition (cell), the phosphor can be efficiently fixed to the side wall and the bottom of the partition (cell), and the luminance can be efficiently obtained.
It is very useful for forming phosphors such as P.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラズマディスプレイパネルの隔壁(セ
ル)内に蛍光体を固定するにあたり、該隔壁(セル)内
に下記(1)式を満足するように平均粒子径がa(μ
m)の蛍光体を含有する樹脂組成物層(A)および平均
粒子径がb(μm)の蛍光体を含有する樹脂組成物層
(B)を順次設けた後、露光・現像を行って、焼成する
ことを特徴とする蛍光体の固定方法。 a<b ・・・ (1)
When a phosphor is fixed in a partition wall (cell) of a plasma display panel, the partition wall (cell) has an average particle diameter of a (μ) so as to satisfy the following expression (1).
m) a resin composition layer containing a phosphor (A) and a resin composition layer containing a phosphor having an average particle diameter of b (μm) (B) are sequentially provided, and then exposed and developed. A method for fixing a phosphor, characterized by firing. a <b (1)
【請求項2】 平均粒子径a(μm)と平均粒子径b
(μm)が下記(2)式を満足することを特徴とする請
求項1記載の蛍光体の固定方法。 1<b/a≦10 ・・・ (2)
2. Average particle diameter a (μm) and average particle diameter b
2. The method according to claim 1, wherein (μm) satisfies the following expression (2). 1 <b / a ≦ 10 (2)
【請求項3】 層(B)の上に更に蛍光体を含有しない
感光性樹脂組成物層(C)を設けたことを特徴とする請
求項1または2記載の蛍光体の固定方法。
3. The method for fixing a phosphor according to claim 1, wherein a photosensitive resin composition layer (C) containing no phosphor is further provided on the layer (B).
【請求項4】 層(A)がベースポリマー、エチレン性
不飽和化合物、蛍光体を含有し、かつ蛍光体の含有量が
ベースポリマーとエチレン性化合物の合計量100重量
部に対して1〜800重量部である樹脂組成物層である
ことを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の蛍光体の
固定方法。
4. The layer (A) contains a base polymer, an ethylenically unsaturated compound and a phosphor, and the content of the phosphor is 1 to 800 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the base polymer and the ethylenic compound. The method for fixing a phosphor according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin composition layer is a part by weight.
【請求項5】 層(B)がベースポリマー、エチレン性
不飽和化合物、蛍光体を含有し、かつ蛍光体の含有量が
ベースポリマーとエチレン性化合物の合計量100重量
部に対して1〜800重量部である樹脂組成物層、また
はベースポリマー、エチレン性不飽和化合物、光重合開
始剤、蛍光体を含有し、かつ蛍光体の含有量がベースポ
リマーとエチレン性化合物の合計量100重量部に対し
て1〜800重量部である感光性樹脂組成物層のいずれ
かであることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の
蛍光体の固定方法。
5. The layer (B) contains a base polymer, an ethylenically unsaturated compound and a phosphor, and the content of the phosphor is 1 to 800 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the base polymer and the ethylenic compound. The resin composition layer, which is part by weight, or contains a base polymer, an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiator, and a phosphor, and the content of the phosphor is 100 parts by weight in total of the base polymer and the ethylenic compound. The method for fixing a phosphor according to any one of claims 1 to 4, wherein the photosensitive resin composition layer is any one of the photosensitive resin composition layers in an amount of 1 to 800 parts by weight.
【請求項6】 請求項1〜5いずれかに記載の方法を3
回繰り返し、R(赤),G(緑),B(青)3色の蛍光
体を固定することを特徴とする蛍光体の固定方法。
6. The method according to claim 1, wherein
A method of fixing a phosphor, comprising repeating the process three times to fix phosphors of R (red), G (green), and B (blue).
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