JPH11250504A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

光記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number
JPH11250504A
JPH11250504A JP10048071A JP4807198A JPH11250504A JP H11250504 A JPH11250504 A JP H11250504A JP 10048071 A JP10048071 A JP 10048071A JP 4807198 A JP4807198 A JP 4807198A JP H11250504 A JPH11250504 A JP H11250504A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
light
laser
film
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10048071A
Other languages
English (en)
Inventor
Shin Masuhara
慎 増原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP10048071A priority Critical patent/JPH11250504A/ja
Priority to US09/252,921 priority patent/US20020075791A1/en
Priority to EP99103408A priority patent/EP0939399A3/en
Priority to EP01129109A priority patent/EP1184860A2/en
Priority to KR1019990006580A priority patent/KR19990072993A/ko
Priority to CN99102431A priority patent/CN1227382A/zh
Publication of JPH11250504A publication Critical patent/JPH11250504A/ja
Priority to US09/841,986 priority patent/US6440333B2/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
    • G11B7/24085—Pits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 微小な凹凸パターンが転写性良く成形された
光記録媒体を提供し、また、微小な凹凸パターンを確実
に成形することができる光記録媒体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 光記録媒体の製造方法は、基板上に形成
されたレジスト膜の所定の領域を露光することによっ
て、レジスト膜に凹部が一列に配列されてなる凹部列を
複数本形成するとともに、隣り合う凹部列間のレジスト
膜を除去して原盤を形成し、この原盤に金属メッキを行
い、これを剥離することによりマスタースタンパを形成
し、このマスタースタンパからの転写を奇数回行うこと
によりマザースタンパを形成し、このマザースタンパを
転写することにより樹脂基板を成形し、この樹脂基板の
上記マザースタンパが転写された面上に少なくとも光透
過層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、凹凸パターンが形
成された基板及び光透過層を有する光記録媒体及びその
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、光を記録再生に用いた光記録
媒体としては、ポリカーボネイト等の合成樹脂を円盤状
に成形してなる光ディスクが知られている。この光ディ
スクには、予め記録された信号が再生される再生専用型
のもの、単数回のみ記録を行うことができる追記型のも
の及び複数回の記録が可能である書換え型のものがあ
る。
【０００３】再生専用型の光ディスクでは、微小な凹部
（ピットと呼ぶ。）パターンがトラック方向に形成され
た基板と、このピットパターンが形成された面上に反射
層が形成されている。すなわち、この光ディスクは、ト
ラック方向に配列したピットパターンとして信号を記録
している。そして、この再生専用型の光ディスクでは、
信号を再生する際、ピットパターンが形成された面とは
反対側の面から再生光が照射される。そして、この再生
光が反射層で反射した反射光を検出することによって、
ピットパターンとして記録された信号を再生することが
できる。
【０００４】また、この光ディスクでは、ピットが形成
された面の回折光を検出することによって、トラッキン
グを行っている。
【０００５】一方、追記型及び書換え型の光ディスク
は、同心円状又はスパイラル状に形成された凹溝（グル
ーブと呼ぶ。）及び隣接するグルーブ間に形成される凸
条部（ランドと呼ぶ。）を有する基板と、この基板上に
形成された記録層と、この記録層上に形成された反射膜
とから構成されている。そして、この光ディスクでは、
これらグルーブ及び／又はランド上に形成された記録層
に信号が記録される。また、これら追記型及び書換え型
の光ディスクにおいても、ディスク固有情報やアドレス
等の付帯信号としてのピットパターンがトラック方向に
隣接するグルーブ間に形成されている。
【０００６】このような光ディスクでは、ランド及び／
又はグルーブ上に形成された記録層に対して、ピット及
びグルーブが形成された面とは反対側の面から記録光が
照射される。これにより、記録層には、記録マークが形
成されることとなる。そして、この光ディスクでは、再
生する際、上述した再生専用型の光ディスクと同様にし
て再生光が照射され、その反射光が検出される。
【０００７】また、この光ディスクでも、例えば、グル
ーブからの反射光を検出することによって、トラッキン
グを行っている。
【０００８】ところで、再生専用型、追記型及び書換え
型の光ディスク（以下、まとめて、単に「光ディスク」
と呼ぶ。）は、ピットやグルーブとなる凹凸が形成され
たスタンパを用いた射出成形により形成される。詳しく
は、ポリカーボネイト等の樹脂を用いて射出成形するこ
とにより、ピットやグルーブを有する透明基板が形成さ
れ、この透明基板上に反射層等を形成することにより、
光ディスクが形成される。なお、追記型及び書換え型の
光ディスクにおいて、記録層は、透明基板と反射層との
間に形成される。
【０００９】また、近年、高密度記録を達成するため、
光ディスクに照射される光のスポット径を小さくする方
向にある。一般に、照射される光を短波長化するととも
に対物レンズを高開口数化することによって、照射され
る光のスポット径を小さくすることができる。
【００１０】このように、高密度記録化に伴って照射さ
れるスポット径を小さくすると、透明基板の厚みを薄く
する必要がある。これは、高開口数化に伴い、光学ピッ
クアップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角
度（チルト角）により発生する収差の許容量が小さくな
るためであり、このチルト角により発生する収差は再生
光が透過する部分の厚さが厚いほど大きくなるためであ
る。また、開口数を向上させることに伴い、デフォーカ
ス、スキュー（反り）或いは基板の厚みムラ等の理想的
な記録再生状態からズレが生じたときに、それらに対し
て極端に弱くなってしまうためでもある。
【００１１】このため、光ディスクにおいて、光が入射
する面と信号面との距離を小さくすることによって、ス
ポット径の小さな光に対応したものとなる。
【００１２】しかしながら、上述したような光ディスク
において、例えば、厚みが０．３ｍｍ以下であるような
基板に凹凸パターンを成形するようなことは困難であ
り、また、成形したとしても反りが発生しやすくなり、
その後の成膜プロセスの作業性を損なうことになる。さ
らには、基板の厚みが０．３ｍｍ以下であると、使用者
も扱いにくいものとなってしまう。
【００１３】このため、従来より、いわゆる、裏読み型
の光ディスク（以下、裏読みディスクと呼ぶ。）が提案
されている。この裏読みディスクは、凹凸パターンが形
成された透明基板上に少なくとも反射膜等が形成される
とともに、この反射層の上方に光透過性を有する光透過
層が形成されてなる。そして、この裏読みディスクで
は、光透過層側から所定の波長の光を照射して記録再生
が行われている。
【００１４】なお、この裏読みディスクにおいて、記録
層は、反射層と光透過層との間に形成されることとな
る。
【００１５】この裏読みディスクでは、凹凸パターンが
形成された基板に対して光透過層を非常に薄くすること
ができる。このため、この裏読みディスクでは、短波長
化及び高開口数化された光を用いた場合でも、上述した
ような問題が発生することなく、正確に記録再生を行う
ことができる。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな裏読みディスクにおいても、透明基板は、ピットや
グルーブとなる凹凸パターンが形成されたスタンパを用
いて射出成形により形成されている。このスタンパを作
製する際には、先ず、ガラス基板上の全面にレジスト膜
を形成し、このレジスト膜の所定の領域を露光して、ガ
ラス基板上に残存したレジスト膜により所定の凹凸パタ
ーンが形成されてなるガラス原盤を作製する。次に、こ
のガラス原盤を基にしてＮｉメッキ等を行うことにより
スタンパを作製する。
【００１７】したがって、このような裏読みディスクに
おいて、透明基板におけるピットやグルーブを精密に形
成するためには、スタンパ上の凹凸パターンを精密に形
成するとともに、この凹凸ターンを正確に転写すること
が必要である。
【００１８】しかしながら、高密度記録化に伴い、ピッ
トやグルーブがより微小構造になるに従って、スタンパ
に形成された凹凸パターンを正確に転写することが困難
になってくる。例えば、透明基板の一主面上に微小な凸
部を形成するような場合、スタンパ上には、この凸部に
対応して微小な凹部が形成されることとなる。したがっ
て、この場合、スタンパ上の微小な凹部に樹脂を充填し
なければならない。
【００１９】このため、光ディスクを形成する際には、
樹脂の粘度を低くして樹脂の充填効率を向上させること
により、転写性を向上させることが考えられる。しか
し、樹脂の粘度を向上させたとしても、微小な凹部に樹
脂を完全に充填させることは困難であり、ピットを正確
に成形することができないといった問題点があった。
【００２０】このことを実証するため、以下のような実
験を行った。この実験では、充填する樹脂としてポリカ
ーボネイトを用い、この樹脂の温度を変化させるために
金型の温度を変化させて射出成形を行った。なお、この
実験において、金型の温度としては、１２０℃、１２５
℃、１３０℃の３種とした。
【００２１】この実験では、トラックピッチが０．８５
μｍ、深さが１２０ｎｍであるようなグルーブを形成す
るスタンパを用いて射出成形を行い、成形されたグルー
ブの転写性を測定した。その結果を、図２０に示す。こ
の図２０では、縦軸に成形されたグルーブの深さを表
し、横軸にスタンパにおける凹溝の幅とトラックピッチ
の幅との比率を表している。すなわち、この図２０にお
ける横軸には、スタンパ全面における凹溝の面積の割合
を示している。
【００２２】この図２０から分かるように、金型温度が
高いほど転写性は向上しているが、金型温度が高い場合
であっても、スタンパ全面における凹溝の面積が減少す
るほど転写性は劣化している。このことから、例えば、
ピットに相当する部分がトラック方向に断続的に形成さ
れた凹部であるような場合には、微小なピットを成形す
ることは困難となる。また、金型温度を高くしすぎる
と、成形された基板に大きな反りが発生してしまうこと
となり、転写性が向上したとしても再生光等のスポット
の集光性が劣化してしまうことになる。さらに、金型温
度が高いと金型自体が膨張してしまい、射出成形機の動
作に支障を来してしまい、膨張の程度によっては可動部
分に、いわゆるカジリが生じてしまい射出成形機が損傷
してしまうといった不都合が生じる。このため、金型温
度の上限値は、約１３０℃程度といえる。
【００２３】ところで、裏読みディスクにおいては、透
明基板の光透過層側からみて凸となる部分に記録マーク
を形成する方がよい。また、この裏読みディスクでは、
光透過層側からみて凸となる部分がガラス原盤面に相当
することが好ましい。裏読みディスクでは、上述した部
分を記録領域とすることよって、記録再生の信号量を向
上させるとともに記録再生特性が向上したものとなる。
【００２４】この場合、裏読みディスクには、光透過層
側からみて凸となる部分の延長上、すなわち、記録トラ
ックのトラック方向に、上述した光ディスクにおけるピ
ット列に相当する、微小な凸部が形成されている。すな
わち、この裏読みディスクでは、この微小な凸部により
ディスク固有情報やアドレス等の付帯信号が書き込まれ
ている。
【００２５】このような裏読みディスクにおいて、グル
ーブや凸部を微小構造とすることにより高密度記録化が
なされると、微小な凸部も正確に形成しなければならな
い。しかしながら、特に、微小な凸部を成形するために
は、それに対応した微小な凹部を有するスタンパを使用
することとなり、上述したような理由から転写性が顕著
に低下してしまう。
【００２６】このように、裏読みディスクを製造する際
には、付帯信号等として形成される凸部を精密に転写す
ることができず、歩留まりが悪いといった問題があっ
た。また、裏読みディスクには、付帯信号等として形成
される凸部を精密に転写することができなかった場合、
付帯信号を確実に再生することができないといった問題
点があった。
【００２７】そこで、本発明は、上述したような問題点
を解決し、微小な凹凸パターンが転写性良く成形された
光記録媒体を提供することを目的とし、また、微小な凹
凸パターンを確実に成形することができる光記録媒体の
製造方法を提供することを目的としている。
【００２８】
【課題を解決するための手段】上述した問題点を解決し
た本発明にかかる光記録媒体は、基板とこの基板上に少
なくとも光透過層を有し、この光透過層側から所定の波
長の光を照射することにより信号の記録及び／又は再生
を行う光記録媒体において、上記基板は、上記光透過層
側からみて凸となるような凸条部と、この凸条部の長手
方向の位置に、凸条部の主面と同じ高さ位置から形成さ
れた凹部とを有することを特徴とするものである。
【００２９】以上のように構成された本発明にかかる光
記録媒体は、凸条部の長手方向の位置に凹部が形成され
ている。そして、この光記録媒体では、これら凹部が付
帯信号等となっている。そして、この凹部は、転写性良
く成形されたものであるため、所望の形状を有すること
となる。このため、この光記録媒体では、この凹部を確
実に再生することができる。
【００３０】一方、本発明にかかる光記録媒体の製造方
法は、基板上に形成されたレジスト膜の所定の領域を露
光することによって、レジスト膜に凹部が一列に配列さ
れてなる凹部列を複数本形成するとともに、隣り合う凹
部列間のレジスト膜を除去して原盤を形成し、この原盤
に金属メッキを行い、これを剥離することによりマスタ
ースタンパを形成し、このマスタースタンパからの転写
を奇数回行うことによりマザースタンパを形成し、この
マザースタンパを転写することにより樹脂基板を成形
し、この樹脂基板の上記マザースタンパが転写された面
上に少なくとも光透過層を形成することを特徴としてい
る。
【００３１】以上のように構成された本発明にかかる光
記録媒体の製造方法では、凹部が一列に配列されてなる
凹部列を複数本形成するとともに、隣り合う凹部列間の
レジスト膜を除去して原盤を作製しているため、基板上
に残存するレジスト膜が微小な凸部として形成される。
すなわち、この手法では、原盤上に微小な凸部が形成さ
れることとなる。また、この手法において、マスタース
タンパは、原盤を転写することにより形成されているた
め、原盤の凹凸と正反対の凹凸パターンを有することと
なる。さらに、この手法では、マザースタンパは、マス
タースタンパの転写を奇数回行うことにより形成されて
いるため、マスタースタンパの凹凸とは逆の凹凸パター
ンを有することとなる。したがって、マザースタンパ
は、原盤の凹凸と同じ凹凸パターンを有することとな
る。
【００３２】そして、この手法では、マザースタンパを
用いて樹脂基板を成形しているため、マザースタンパ上
に形成された凹凸パターンが転写されることとなる。す
なわち、この手法では、原盤上に形成された微小な凸部
に対応する凸部を有するマザースタンパに樹脂が充填さ
れることとなり、この凸部が転写されて透明基板上に凹
部を形成する。
【００３３】なお、この手法において、マスタースタン
パの転写を奇数回行うことによりマザースタンパを形成
するとは、マスタースタンパを一回転写することにより
形成されたものをマザースタンパとすること、又は、マ
スタースタンパを一回転写して形成されたものを基にし
て二回目の転写を行い、この二回目の転写で形成された
ものを基にして三回目の転写を行って得られたものをマ
ザースタンパとすること等のことである。すなわち、こ
の手法では、マスタースタンパを基にして行う転写を一
回と数えて、転写により形成されたものを基にして更に
転写を行い、奇数回目に形成されたものをマザースタン
パとして用いている。
【００３４】また、本発明にかかる光記録媒体の製造方
法は、上記凹部列と同列上に凹溝を形成するものであっ
てもよい。
【００３５】この場合、原盤上において凹部列と同列上
に形成された凹溝が、マザースタンパ上においても凹溝
となる。したがって、この場合、製造される光記録媒体
は、この凹溝に対応して凸条部を有することとなる。
【００３６】また、この手法は、上記凹溝及び上記凹部
がそれぞれの底面が上記基板からなるようにすることが
好ましい。
【００３７】この場合、この手法では、凹溝及び凹部の
底面が基板からなるため、樹脂基板において、これら凹
溝及び凹部の底面に対応して成形された部分が基板面を
転写したものとなる。すなわち、この手法では、基板面
を転写してなる部分を有する光記録媒体を製造すること
となる。
【００３８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光記録媒体の
実施の形態を図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３９】本実施の形態に示す光記録媒体は、図１に
示すように、略円盤状に形成されてなる、いわゆる、光
ディスク１である。しかしながら、本発明は、このよう
な光ディスク１に限定されるものではなく、カード状や
シート状の光記録媒体であってもよい。
【００４０】この光ディスク１は、図２に示すように、
一主面２ａに凹凸パターンが形成されてなる基板２と、
この一主面２ａ上に積層された反射層３と、この反射層
３上に積層された記録層４と、この記録層４上に積層さ
れた光透過層５とを備える。この光記録媒体において、
反射層３及び記録層４は、基板２上に形成されるため、
基板２上に形成された凹凸パターンに従った形状を呈す
る。また、この光記録媒体において、光透過層５は、基
板２に形成された凹凸パターンを覆うように形成され、
その一主面５ａが平坦面とされる。すなわち、この光記
録媒体では、基板２の他主面２ｂと光透過層５の一主面
５ａとが平坦面とされて両表面を構成している。
【００４１】また、この光記録媒体は、いわゆる相変化
型の光ディスクであって、一対の誘電体膜６ａ，６ｂに
より挟み込まれた記録膜７を有する記録層４を備える。
ここで、一対の誘電体膜６ａ，６ｂとしては、例えば、
Ａｌ、Ｓｉ等の金属や半金属元素の窒化物、酸化物、硫
化物等が用いられる。また、記録膜７としては、一般に
相変化型の光ディスクに用いられている相変化材料が用
いられ、例えば、カルコゲナイト、すなわち、カルコゲ
ン化合物或いは単体のカルコゲンが挙げられる。例示す
れば、Ｔｅ、Ｓｅの単体又はこれらのカルコゲナイトで
あるＧｅＳｂＴｅ、ＧｅＴｅ、ＩｎＳｂＴｅＡｇ、Ｂｉ
2Ｔｅ3、ＢｉＳｅ、Ｓｂ2Ｓｅ3、Ｓｂ2Ｔｅ3等のカルコ
ゲナイト系材料を挙げることができる。なお、詳細は後
述するが、この光ディスク１では、光透過層５の一主面
５ａ側から所定の波長の光Ｌが記録膜７に照射されるこ
とにより、記録再生が行われる。すなわち、この光ディ
スク１は、光透過層５が記録再生装置の対物レンズ８と
対向するように配され、この対物レンズ８を介して所定
の波長の光が照射される。
【００４２】さらに、この光ディスク１において、基板
２には、図３及び図４に示すように、所定のトラックピ
ッチで略円周方向にグルーブ９が形成さるとともに、所
定の領域にピット１０が形成されている。すなわち、こ
の光ディスク１において、基板２は、これらグルーブ９
及びピット１０から上述した凹凸パターンが構成される
こととなる。なお、トラック幅方向に隣接するグルーブ
９間には、凸条部であるランド１１が形成されている。
【００４３】また、この基板１では、ピット１０は、光
ディスク１の所定の領域に形成されるとともに、ランド
１１の長手方向の延長線上に一列に並んでピット列を形
成している。そして、この光ディスク１において、ピッ
ト１０は、ランド１１の主面と同じ高さ位置からグルー
ブ９と同じ深さで凹部として形成される。
【００４４】なお、本発明にかかる光記録媒体は、上述
したような光ディスク１のように、相変化型の記録層４
を有するものに限定されず、例えば、光磁気記録型や有
機色素型の記録層を有するものであってもよい。また、
本発明にかかる光記録媒体は、上述したような記録層４
を有するような構成に限定されず、例えば、記録層を有
しないような構成であってもよい。この場合、光記録媒
体は、再生専用となり、基板上に形成されたピットによ
り信号を記録したものとなる。すなわち、この光記録媒
体では、ピットがトラック方向に一列に並んで形成され
ることとなり、これらピット列によって信号が記録され
ている。
【００４５】以上のように構成された本実施の形態に示
す光ディスク１は、所定の波長の光が照射されることに
より信号を記録したり、また、異なる波長の光を照射す
ることにより記録された信号を再生する。
【００４６】この光ディスク１では、光透過層５側から
照射される記録光によりランド１１の主面に信号が記録
される。したがって、この光ディスクにおいては、ラン
ド１１の主面上をスポットが走査するように記録光が照
射される。
【００４７】この光記録媒体では、上述したように、相
変化型の記録膜７を有しており、この記録膜７が初期化
状態として結晶状態とされる。そして、この記録膜７の
所望の位置に対して記録光を照射することにより、記録
光が照射された部分の記録膜７が加熱されて結晶状態か
らアモルファス状態に変化する。これにより、この光デ
ィスク１では、初期化状態として結晶化された記録膜７
上にアモルファス状態のの記録マークを形成することに
よって、信号を記録することができる。したがって、こ
の記録光は、結晶状態の記録膜７をアモルファス状態に
変化させるに足るエネルギを与えることができる程度の
強い光とされる。
【００４８】このように、この光ディスク１では、結晶
化されたランド１１の主面上にアモルファス状態の記録
マークが形成されたこととなる。そして、この光ディス
ク１では、ランド１１の主面上を所定の波長の再生光を
照射することにより、上述したような記録マークとして
記録された信号を再生することができる。このとき、再
生光は、上述した記録光と同様に、スポットがランド１
１の主面上をトラック方向に走査するように照射され
る。
【００４９】この光ディスク１を再生する際には、照射
された再生光の反射光を検出している。このとき、照射
された再生光は、記録膜７が結晶状態かアモルファス状
態かによってその反射率が異なる。したがって、この光
ディスク１においては、再生光の反射光を検出すること
により、アモルファス状態として記録された記録マーク
を検出することができる。なお、この再生光は、記録膜
７の相変化を起こさせない程度の比較的弱い光とされ
る。
【００５０】さらに、この光ディスク１においては、上
述したように、所定の領域に一列に並んで配された複数
のピット１０に対しても再生光を照射することにより、
この領域に記録された信号が再生される。このとき、再
生光は、スポットがランド１１の主面上をトラック方向
に走査するように照射された後、スポットが所定の領域
に一列に並んで形成された複数のピット１０からなるピ
ット列上を走査するように照射される。
【００５１】このとき、再生光は、ピット１０に照射さ
れると、ピット１０の底面で反射してなる反射光の位相
がずれるため、反射強度が低下する。このため、この光
ディスク１においては、一列に並んで配されるピット列
に再生光が照射され、この再生光の反射光を検出するこ
とにより、ピット１０として記録された信号を再生する
ことができる。
【００５２】なお、これらのピット１０によれば、光デ
ィスク１の固有情報やアドレス情報等の付帯信号を記録
することができる。
【００５３】この光ディスク１では、詳細を後述する
が、所定の形状を有するスタンパを用いて樹脂を成形す
ることにより、基板２上に微小な凹部であるピット１０
が形成されている。このため、この光ディスク１におい
て、ピット１０は、スタンパの形状を非常に正確に転写
したものとなる。
【００５４】このため、本実施の形態に示す光ディスク
では、固有情報やアドレス情報等の付帯信号が確実に記
録されたものとなる。したがって、この光ディスクは、
これらの付帯信号が確実に再生されるために高品質なも
のとなるまた、この光ディスク１では、図２に示したよ
うに、光透過層５側から記録光及び再生光（以下、単に
光という。）が照射される。このため、これらの光は、
光透過層５を透過して記録膜７に照射され、反射層３で
反射する。言い換えると、この光ディスク１において
は、照射される光は光透過層５の厚みに相当する部分を
透過すればよい。
【００５５】これに対して、従来の光ディスク１００
は、図５に示すように、一主面１０１ａに凹凸パターン
が形成された基板１０１と、この基板１０１の一主面１
０１ａ上に積層された記録層１０２と、この記録層１０
２上に積層された反射層１０３と、この反射層１０３上
に積層された保護膜１０４とを備え、基板１０１の他主
面１０１ｂ側から光を照射することにより記録再生が行
われている。したがって、この光ディスク１００では、
光は、基板１０１の厚みｔに相当する部分を透過しなく
てはならなかっった。
【００５６】ところで、これら光のスポット径φは、下
記式（１）に示すように、光の波長λと対物レンズの開
口数Ｎ．Ａによって決定される。
【００５７】 φ＝１．２２×（λ／Ｎ．Ａ）・・・（１） そして、一般に、光ディスクにおいて、記録密度を向上
させるためには、スポット径φを小さくすればよいが、
このためには式（１）から分かるように、光の波長λを
小さくする（短波長化）及び開口数Ｎ．Ａを大きくすれ
ば（高開口数化）よい。
【００５８】このように、スポット径φを微小なものと
するために高開口数化すると、照射される光は、デフォ
ーカス、基板の反り（スキュー）及び基板の厚みムラ等
が発生した場合に所望の領域を照射することができない
ことがあった。このため、従来の光ディスク１００で
は、基板１０１の厚みｔを薄くすることによりこれらの
問題に対処していた。
【００５９】しかしながら、従来の光ディスク１００に
おいて、基板１０１の厚みｔを薄くすると、微小な凹凸
パターンを正確に転写することが困難になるとともに基
板１０１に反りが発生しやすくなってしまう。このた
め、従来の光ディスク１００において、基板１０１の厚
みを薄くするには限界があり、具体的には基板の厚みｔ
が約０．６μｍ程度のものを用いていた。このため、従
来の光ディスク１００においては、高開口数化された対
物レンズ１０５を用いて、正確に記録再生を行えないこ
とがあった。
【００６０】これに対して、上述した光ディスク１にお
いては、このように高開口数化された対物レンズ８を用
いて光が照射されたとしても、光透過層５の厚み（図２
中、Ｔで示す。）を非常に薄くすることができるため、
正確に記録再生を行うことができる。すなわち、この光
ディスク１では、基板２を反りの発生しない程度の厚み
で成形したとしても、光透過層５を非常に薄くすること
ができ、照射された光が透過する部分の厚みを非常に薄
くすることができる。具体的には、例えば、開口数Ｎ．
Ａが０．８５〜０．９５程度の対物レンズ８を用いた場
合であっても、光透過層５の膜厚Ｔを０．３μｍ程度に
することによって、正確に記録再生することができる。
【００６１】また、この光ディスク１では、光透過層５
側から見て凸である部分、すなわち、ランド１１の主面
上に記録マークを形成している。そして、この光ディス
ク１では、図２に示すように、ランド１１の幅Ｗに対し
て、ランド１１上に積層された記録膜７の幅Ｗeffが大
となる。これは、記録膜７が反射層３及び誘電体膜６
ａ，６ｂを介して基板２上に積層されたため、その分記
録膜７の幅Ｗeffが大となるためである。
【００６２】これに対して、図６に示すように、光透過
層５側から見て凹である部分、すなわち、グルーブ９の
底面に記録マークを形成した場合には、グルーブ９の幅
Ｗｇに対して記録膜７の幅Ｗeffが小となっている。
【００６３】このため、図２に示すように、ランド１１
の主面に記録マークを形成した場合には、グルーブ９に
記録マークを形成した場合と比較して、再生信号のキャ
リアレベルを向上させることとなり、その結果、ＣＮ比
を向上させることができる。このとき、予め、ＣＮ比を
向上させるためには、グルーブ幅Ｗｇを広く形成して図
６に示すようなグルーブ記録を行うことが考えられる。
しかしながら、トラックピッチが狭くなって記録密度の
向上がなされると、良好なＣＮ比が得られる程度に、グ
ルーブ幅Ｗｇを十分に広げることは物理的に不可能とな
る。
【００６４】したがって、光が光透過層５側から照射さ
れるような光ディスクにおいて、ランド１１の主面に記
録マークを形成することにより、記録再生特性が大幅に
向上することとなる。
【００６５】ところで、本発明にかかる光記録媒体の製
造方法は、例えば、上述したような光ディスク１を製造
する際に適用される。
【００６６】本手法は、図７に示すように、光ディスク
原盤形成工程Ｓ１と、スタンパ形成工程Ｓ２と、基板成
形工程Ｓ３と、成膜工程Ｓ４と有する。すなわち、この
手法では、先ず、スタンパを形成するために光ディスク
原盤を形成し（光ディスク原盤形成工程Ｓ１）、その
後、この光ディスク原盤を用いてスタンパを形成し（ス
タンパ形成工程Ｓ２）、その後、このスタンパを用いた
射出成形により光ディスクの基板を形成し（基板成形工
程Ｓ３）、そして、この基板上に反射膜等を成膜する
（成膜工程Ｓ４）ことによって、光ディスク１が製造さ
れる。
【００６７】光ディスク原盤形成工程Ｓ１では、先ず、
図８に示すように、円盤状のガラス基板２０の一主面２
０ａ上に所定の厚みでレジスト膜２１を形成する。この
とき、ガラス基板２０は、レジスト膜２１が形成される
一主面２０ａが高度に平坦化されるとともに、この一主
面２０ａが高度に鏡面化される。そして、レジスト膜２
１は、詳細を後述するが、その深さがグルーブ９及びピ
ット１０の深さを規定するため、ガラス基板２０上に高
精度に均一に形成される。
【００６８】次に、図９に示すような露光装置を用い
て、図１０に示すように、回転するガラス基板２０上に
形成されたレジスト膜２１の所定の領域Ｒを露光してパ
ターニングを行う。このパターニングでは、光ディスク
１に形成されるグルーブ９及びピット１０に対応した形
状のレジスト膜２１がガラス基板２０上に残存するよう
に行われる。
【００６９】この露光装置は、いわゆる、２ビーム光学
系を有するものであり、レジスト膜２１上に２つの異な
るスポットを形成することができる。この露光装置は、
図９に示すように、レーザを出射するレーザ光源２５
と、レーザ光源２５から出射されたレーザの強度を制御
するとともにレーザを分離する制御部２６と、分離され
たレーザをそれぞれ変調する変調部２７と、それぞれの
レーザを合流させるとともにレーザのスポット径を調節
する調節部２８と、レジスト膜２１に対向して配される
対物レンズ２９とを備える。
【００７０】また、この露光装置は、図示しないが、レ
ジスト膜２１が形成されたガラス基板２０を載置すると
ともにこのガラス基板２０を所定の速度で回転させるタ
ーンテーブルと、このターンテーブルに載置されたガラ
ス基板２０と対物レンズ２９との距離を所定の値に維持
する制御装置とを有する。
【００７１】この露光措置において、レーザ光源２５
は、例えば、波長λ＝３５１ｎｍのＫｒイオンレーザを
出射するものである。このレーザ光源２５から出射され
たレーザは、制御部２６に入射する。
【００７２】この制御部２６は、レーザ光源２５から出
射されたレーザＬZが入射する電気光学結晶素子３０
（以下、ＥＯ３０と略称する。）と、このＥＯ３０から
出射されたレーザＬZの偏向を検出する検光子３１と、
この検光子３１を通ったレーザＬZが入射されるととも
にこのレーザＬZから第１のレーザＬ1を分離する第１の
レーザスプリッタ３２と、分離された第１のレーザＬ1
以外のレーザＬZから第２のレーザＬ2を分離する第２の
レーザスプリッタ３３と、分離された第１のレーザＬ1
及び第２のレーザＬ2以外のレーザＬZを検出するするフ
ォトディテクタ３４と、ＥＯ３０から出射されるレーザ
ＬZの出力を制御する出力制御装置３５とを備える。な
お、この手法では、第１のレーザＬ1がランド１１及び
ピット列に対応した部分を露光し、第２のレーザＬ2が
隣合うピット列間を露光する。
【００７３】このように構成された制御部２６では、レ
ーザ光源２５から出射されたレーザＬZがＥＯ３０に入
射する。これにより、ＥＯ３０は、出射されたレーザＬ
Zを所望の強度に変調することができる。そして、レー
ザＬZは、ＥＯ３０により強度変調を受けた後、第１の
レーザスプリッタ３２により第１のレーザＬ1が分離さ
れるとともに、第２のレーザスプリッタ３３により第２
のレーザＬ2が分離される。
【００７４】また、この制御部２６では、第１のレーザ
Ｌ1及び第２のレーザＬ2が分離された後のレーザ強度を
フォトディテクタ３４にて検出している。そして、この
フォトディテクタ３４は、出力制御装置３５と接続され
ており、検出したレーザ強度信号を出力制御装置３５に
対して出力する。この出力制御装置３５は、フォトディ
テクタ３４から出力されたレーザ強度信号を基にして、
ＥＯ３０からから出力されるレーザ強度を制御してい
る。すなわち、この制御部２６では、ＥＯ３０から出力
されたレーザＬZをフォトディテクタ３４にて検出して
フィードバック制御することによって、ＥＯ３０からは
常に所望の強度を有するレーザＬZが出力される。
【００７５】そして、この制御部２６で分離された第１
のレーザＬ1及び第２のレーザＬ2は、それぞれ変調部２
７に入射する。この変調部２７は、第１のレーザＬ1の
光軸上に順に配された第１のレンズ３６、第１の音響光
学変調器３７及び第２のレンズ３８と、第２のレーザＬ
2の光軸上に順に配された第３のレンズ３９、第２の音
響光学変調器４０及び第４のレンズ４１と、これら第１
の音響光学変調器３７及び第２の音響光学変調器４０に
接続された信号制御装置４２とを備える。
【００７６】このように構成された変調部２７では、第
１のレーザＬ1が第１のレンズ３６により所定のスポッ
ト径とされて第１の音響光学変調器３７に入射される。
また、第２のレーザＬ2が第３のレンズ３９により所定
のスポット径とされて第２の音響光学変調器４０に入射
される。これら第１の音響光学変調器３７及び第２の音
響光学変調器４０は、信号制御装置４２からの制御信号
に基づいて、入射された第１のレーザＬ1及び第２のレ
ーザＬ2の光強度をそれぞれ制御する。
【００７７】具体的に、信号制御装置４２から出力され
た信号が「０」と「１」の２値からなる場合、第１のレ
ーザＬ1及び第２のレーザＬ2は、オン又はオフに制御さ
れる。なお、これら第１の音響光学変調器３７及び第２
の音響光学変調器４０は、数十ＭＨｚの帯域で使用でき
るものが好ましい。
【００７８】この手法では、第１のレーザＬ1によって
ランド１１及びピット列に対応した部分が照射されると
ともに複数形成されたピット列間に対応した部分が第２
のレーザＬ2によって照射される。このため、第１のレ
ーザＬ1がレジスト膜２１上におけるランド１１に対応
した部分を露光するとともにトラック方向に並列するピ
ット１０とピット１０との間を露光するように、第１の
音響光学変調器３７が第１のレーザＬ1のオンオフ制御
を行う。また、第２のレーザＬ2がレジスト膜２１上に
おけるピット列間に対応した部分を露光するように、第
２の音響光学変調器４０が第２のレーザＬ2のオンオフ
制御を行う。
【００７９】そして、上述したように、所望のタイミン
グでオンオフ制御された第１のレーザＬ1及び第２のレ
ーザＬ2は、第２のレンズ３８及び第４のレンズ４１を
介して調節部２８にそれぞれ入射される。この調節部２
８は、第１のレーザＬ1の光軸上に順に配された第３の
ビームスプリッタ４３及び半波長板４４と、第２のレー
ザＬ2の光軸上に順に配された第４のビームスプリッタ
４５及び第５のビームスプリッタ４６と、第１のレーザ
Ｌ1及び第２のレーザＬ2を合流させる偏向ビームスプリ
ッタ４７（以下ＰＢＳ４７と略称する。）と、ＰＢＳ４
７を透過した第１のレーザＬ1及び第２のレーザＬ2の光
軸上に配された第５のレンズ４８及び第６のレンズ４９
とを備える。また、この調節部２８において、半波長板
４４は、図示しない信号出力制御装置と接続されてい
る。
【００８０】この調節部２８において、半波長板４４
は、半波長板４４の面内の所定の方向（結晶軸方向）と
第１のレーザＬ1の偏向方向とのなす角θとしたとき
に、第１のレーザＬ1の偏向方向を２θ回転させる素子
である。また、第５のビームスプリッタ４６は、第２の
レーザＬ2を所定の角度傾斜させてＰＢＳ４７に入射さ
せるものである。さらに、このＰＢＳ４７は、所定の方
向の直線偏光を有するレーザを１００％透過することが
でき、この方向と垂直する方向の直線偏光を有するレー
ザを１００％遮蔽するものである。
【００８１】このように構成された調節部２８では、第
１のレーザＬ1のうちで、第３のビームスプリッタ４３
で反射した分が半波長板４４に入射し、第３のビームス
プリッタ４３で透過した分が図示しないモニタに入射す
る。また、第２のレーザビームＬ2のうちで、第４のビ
ームスプリッタ４５で反射した分が第５のビームスプリ
ッタ４６に入射し、第４のビームスプリッタ４５で透過
した分が図示しないモニタに入射する。
【００８２】そして、半波長板４４の結晶軸方向と第１
のレーザの偏向方向とのなす角θを所望の値に制御する
ことにより、第１のレーザＬ1は、所望の偏向方向を有
するものとなる。このため、第１のレーザＬ1の偏向方
向を、ＰＢＳ４７が１００％透過する方向から所定量ず
れたものとすることによって、第１のレーザＬ1は、Ｐ
ＢＳ４７における０〜１００％の任意の透過率を有する
こととなる。すなわち、ＰＢＳ４７に入射する第１のレ
ーザＬ1の偏向方向を調節することによって、ＰＢＳ４
７を透過する第１のレーザＬ1の強度を調節することが
できる。
【００８３】また、第２のレーザＬ2は、第５のビーム
スプリッタ４６で反射された分がＰＢＳ４７に入射する
こととなる。このとき、第２のレーザＬ2は、第１のレ
ーザＬ1がＰＢＳ４７に対して入射する角度に対して所
定量傾斜してＰＢＳ４７に入射する。すなわち、この第
２のレーザＬ2は、ＰＢＳ４７に所定の「あおり角」を
与えることにより、第１のレーザＬ1の入射角に対して
傾斜している。
【００８４】さらに、この調節部２８では、第３のビー
ムスプリッタ４３で透過した第１のレーザＬ1をモニタ
により検出するとともに第４のビームスプリッタ４５で
透過した第２のレーザＬ2をモニタにより検出してい
る。すなわち、この調節部２８では、第１のレーザＬ1
及び第２のレーザＬ2の強度をそれぞれ検出することが
できる。このため、この調節部２８では、第１のレーザ
Ｌ1の強度及び第２のレーザＬ2の強度を比較することが
でき、この結果を基に、ＰＢＳ４７に入射する第１のレ
ーザＬ1の強度を、上述したように調節することができ
る。
【００８５】さらにまた、第１のレーザＬ1及び第２の
レーザＬ2は、ＰＢＳ４７にて合流された後、第５のレ
ンズ４８及び第６のレンズ４９に入射する。この第５の
レンズ４８及び第６のレンズ４９は、第１のレーザＬ1
及び第２のレーザＬ2のビーム径をそれぞれ拡大してい
る。そして、第１のレーザＬ1及び第２のレーザＬ2は、
これら第５のレンズ４８及び第６のレンズ４９により拡
大された後に対物レンズ２９に入射することとなる。
【００８６】この露光装置において、対物レンズ２９
は、入射した第１のレーザＬ1及び第２のレーザＬ2を集
光することによって、第１のレーザＬ1及び第２のレー
ザＬ2を所定のスポット径でレジスト膜２１上に照射す
る。このとき、この露光装置では、ＰＢＳ４７に対する
第１のレーザＬ1の入射角とＰＢＳ４７に対する第２の
レーザＬ2の入射角とが異なる。このため、第１のレー
ザＬ1と第２のレーザＬ2とは、対物レンズ２９に対して
異なる入射角で入射することとなる。したがって、この
露光装置では、第１のレーザＬ1及び第２のレーザＬ2が
ガラス基板２０の径方向にずれたかたちで照射されるこ
とになる。なお、対物レンズ２９は、図示しない制御装
置によりターンテーブルに載置されたガラス基板２０と
の距離を所定の値に維持された状態で第１のレーザＬ1
及び第２のレーザＬ2を照射する。
【００８７】このとき、本手法では、ランド１１に対応
する部分のレジスト膜２１が第１のレーザＬ1により露
光されるとともに、図１１に示すように、トラック方向
に並列して配されるピット１０間の領域Ｒ1に対応する
部分のレジスト膜２１が第１のレーザＬ1により露光さ
れる。また、この手法では、図１１に示すように、トラ
ック幅方向に並列して配されるピット列間に対応する領
域Ｒ2のレジスト膜２１が第２のレーザＬ2により露光さ
れる。
【００８８】次に、この光ディスク原盤形成工程Ｓ１で
は、所定の領域が露光されたレジスト膜２１に対して現
像処理を行う。この現像処理では、上述したように、第
１のレーザＬ1又は第２のレーザＬ2により露光された領
域のレジスト膜２１を、ガラス基板２０上から除去して
いる。これにより、光ディスク１上における複数の凹
部、すなわち、複数のピット１０に対応した部分は、図
１２及び図１３に示すように、ガラス基板２０上におい
て、レジスト膜２１からなる凸部として残存している。
【００８９】なお、このとき、光ディスク１におけるラ
ンド１１に対応した部分のレジスト膜２１も除去されて
おり、光ディスクにおけるグルーブ９に対応した部分の
レジスト膜２１がガラス基板２０上に残存している。こ
のように、ガラス原盤形成工程Ｓ１では、ガラス基板２
０上の所定の領域にレジスト膜２１からなる凸部が形成
されてなるガラス原盤５０が形成される。
【００９０】次に、スタンパ形成工程Ｓ２は、上述した
ように形成されたガラス原盤５０を用いて行われる。
【００９１】このスタンパ形成工程Ｓ２では、先ず、図
１４に示すように、所定の領域にレジスト膜２１が残存
したガラス原盤５０の一主面５０ａにＮｉメッキを行
い、一主面５０ａ上に第１のニッケルメッキ層５１を形
成する。その後、図１５に示すように、第１のニッケル
メッキ層５１を剥離して、マスタースタンパ５２を形成
する。これにより、マスタースタンパ５２の一主面５２
ａには、ガラス原盤５０の凹凸が反転した凹凸パターン
が形成されることとなる。
【００９２】次に、図１６に示すように、重クロム酸溶
液によりマスタースタンパ５２の一主面５２ａを酸処理
することによって、マスタースタンパ５２の一主面５２
ａに剥離被膜５３を形成する。
【００９３】次に、図１７に示すように、マスタースタ
ンパ５２の一主面５２ａ上に剥離被膜５３を介してＮｉ
メッキを行い、第２のニッケルメッキ層５４を形成す
る。その後、図１８に示すように、第２のニッケルメッ
キ層５４を剥離して、マザースタンパ５５を形成する。
これにより、マザースタンパ５５の一主面５５ａ上に
は、マスタースタンパ５２の凹凸パターンが反転した凹
凸パターン、すなわち、ガラス原盤５０に形成された凹
凸パターンと同じ凹凸パターンが形成されることとな
る。
【００９４】このとき、マザースタンパ５５は、マスタ
ースタンパ５２を基にして複数枚形成しておくことが好
ましい。複数枚のマザースタンパ５５を形成することに
より、後述する基板成形工程Ｓ３を多数行うことがで
き、光ディスク１を製造する生産性が大幅に向上するこ
ととなる。
【００９５】次に、基板成形工程Ｓ３は、上述したよう
に形成されたマザースタンパ５５を用いて行われる。こ
の基板成形工程Ｓ３では、図１９に示すような射出成形
機６０が用いられる。この射出成形機６０は、固定金型
６１とこの固定金型６１に対して近接離間する方向に移
動可能な可動金型６２とから構成されるキャビティ６３
と、このキャビティ６３の内部と連結されに溶融した樹
脂Ｐが充填される加熱筒６４と、この加熱筒６４内に充
填された樹脂Ｐを混練するとともにキャビティ６３内に
溶融した樹脂Ｐを射出するピストン６５とを備える。そ
して、この射出成形機６０は、加熱筒６４に樹脂Ｐを充
填するためのホッパ６６を備える。また、この射出成形
機６０は、加熱筒６４の内周面にスクリュー溝６７が形
成されている。
【００９６】この射出成形機６０では、ホッパ６６から
加熱筒６４に充填された樹脂Ｐがピストン６５により押
し出され、キャビティ６３内に樹脂Ｐが射出される。こ
のとき、樹脂Ｐは、加熱筒６４の内周面に形成されたス
クリュー溝６７により十分に混練される。なお、この射
出成形機６０は、油圧によりピストン６５を駆動してい
る。
【００９７】そして、この射出成形機６０では、キャビ
ティ６３を構成する固定金型６１の一主面に、上述した
ように形成されたマザースタンパ５５を装着する。この
とき、マザースタンパ５５は、凹凸パターンが形成され
た面をキャビティ６３の内方に向けて配される。
【００９８】このように構成された射出成形機６０は、
マザースタンパ５５を取り付けた固定金型６１に対して
可動金型６２を近接する方向に駆動し、キャビティ６３
を形成する。そして、キャビティ６３内に溶融した樹脂
Ｐを射出して充填する。そして、固定金型６１及び可動
金型６２を冷却して、キャビティ６３内の樹脂Ｐを冷却
固化する。その後、可動金型６２を固定金型６１から離
間する方向に駆動させ、キャビティ６３内で冷却固化し
た樹脂Ｐを取り出す。
【００９９】これにより、マザースタンパ５５に形成さ
れた凹凸パターンが転写された基板２が形成される。し
たがって、この基板２は、マザースタンパ５５に形成さ
れた凹凸パターンを反転した凹凸パターンを有すること
となる。言い換えると、このように成形された基板２
は、ガラス原盤５０の一主面に形成された凹凸パターン
を反転した凹凸パターンを有することとなる。
【０１００】次に、成膜工程Ｓ４は、上述したように形
成された基板２の一主面２ａに対して光透過層５等を形
成する。具体的に、成膜工程Ｓ４では、先ず、凹凸パタ
ーンが形成された一主面２ａに対して反射層３が形成さ
れる。この反射層３は、例えば、Ａｌが用いられ、約６
０ｎｍの膜厚で形成される。
【０１０１】次に、この反射層３上に第１の誘電体膜６
ａを形成する。この第１の誘電体膜６ａは、例えば、Ｚ
ｎＳとＳｉＯ2との混合物が用いられ、約１８ｎｍの膜
厚で形成される。続いて、この第１の誘電体膜６ａ上に
記録膜７が形成される。この記録膜７は、例えば、上述
したようなＧｅＳｂＴｅ等の相変化材料が用いられ、約
２４ｎｍの膜厚で形成される。続いて、この記録膜７上
に、上述したような材料及び膜厚で第２の誘電体膜６ｂ
を形成する。
【０１０２】次に、この第２の誘電体膜６ｂ上に光透過
層５を形成する。この光透過層５は、例えば、光透過性
を有する樹脂を、いわゆる、２Ｐ法（Photo Polymeriza
tion法）により形成することができる。また、この光透
過層５は、例えば、０．３ｍｍ以下、好ましくは、０．
１ｍｍ程度の膜厚で形成される。これにより、記録光や
再生光等の光が高開口数化された場合であっても、上述
したような不都合が発生することなく良好に記録再生が
行われることとなる。
【０１０３】以上のように、本発明に係る手法では、ガ
ラス原盤５０を形成する際に第１のレーザＬ1及び第２
のレーザＬ2を用いてピット列に相当する部分を露光し
ている。そして、この場合、特にピット１０に相当する
部分を未露光部分のレジスト膜２１として、ガラス基板
２０上に微小な凸部を形成している。
【０１０４】このため、この手法では、射出成形に用い
られるマザースタンパ５５において、ピット１０に相当
する部分が微小な凸部として形成されることとなる。し
たがって、この手法では、射出成形の際に、ピット１０
に相当する部分に樹脂を充填しやすく、この部分の転写
性が劣化するようなことがない。
【０１０５】また、この手法では、ピット１０に相当す
る部分及びグルーブ９に相当する部分がレジスト膜２１
としてガラス基板２０上に形成されている。言い換える
と、この手法では、ランド１１の主面及びピット９の周
囲の部分の主面が、ガラス原盤５０におけるガラス基板
２０が露出した部分に相当する。
【０１０６】すなわち、この手法では、ガラス原盤５０
において、信号記録面の幅がレジスト膜２１の露光領域
の幅となっている。この場合、トラックピッチが所定の
値に規制されているときには、規制されたトラックピッ
チ内で十分に信号記録面を広くとることができる。これ
に対して、ガラス原盤５０において、信号記録面をレジ
スト膜２１の未露光領域とする場合には、少なくとも露
光領域としてスポット径に相当する分をトラックピッチ
内から取らなくてはならない。したがって、この場合、
信号記録面は、トラックピッチ内に十分に広く取ること
はできない。
【０１０７】このように、信号記録面をレジスト膜２１
の露光領域とすることにより、トラックピッチ内におけ
る信号記録面の幅を、レジスト膜２１の幅が略々０にな
るまで広く取ることができる。したがって、本手法は、
特に、高密度記録に伴ってトラックピッチが狭くなった
場合に好適である。具体的には、露光するレーザの波長
が３５１ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａが０．９０である光
学系を用いてトラックピッチが０．５μｍであるグルー
ブを形成した場合、露出するガラス面幅の最小値は０．
１５μｍ（露光領域）であった。このため、レジスト膜
の最大値は０．３５μｍ（未露光領域）となる。これに
対して、同じトラックピッチで露光領域を０．３９μｍ
まで広くすることができるため、信号記録面の幅をレジ
スト膜の幅とするよりも露光領域の幅とするほうが信号
記録領域を広く取ることができることが判る。
【０１０８】さらに、本手法では、ガラス原盤５０にお
いて、光ディスク１の信号記録面に相当する部分がガラ
ス基板２０の一主面２０ａとなっている。そして、この
ガラス基板２０では、レジスト膜が形成される面が高度
に鏡面化されている。したがって、この手法では、信号
記録面がガラス基板２０の一主面２０ａの形状を転写す
ることとなり、高度に鏡面化されたものとなる。
【０１０９】これに対して、ガラス原盤５０において、
光ディスク１の信号記録面に相当する部分がレジスト膜
２１の主面となっている場合には、このレジスト膜２１
の主面が信号記録面にとして転写されることとなる。こ
のレジスト膜２１の主面は、ガラス基板２０の一主面と
比較して面垂直方向のＲＳＭ値で約２倍の粗さを有して
いる。このため、本手法では、ガラス基板２０を転写す
ることにより信号記録面を形成しているため、信号記録
面が非常に滑らかな表面性を有する光ディスクを製造す
ることができる。したがって、この手法によれば、信号
記録面の粗さに起因するノイズが低減され、良好なＣＮ
比を示す光ディスク１を製造することができる。
【０１１０】ところで、上述したガラス原盤形成工程Ｓ
１では、トラックピッチが一定に形成されず、トラック
ピッチにムラが発生してしまうことがある。しかしなが
ら、トラックピッチにムラが発生してしまった場合で
も、第１のレーザＬ1は、所定の幅をもって露光するこ
とができるため、本手法では、信号記録面の幅を所定の
値に維持することができる。
【０１１１】これに対して、ガラス原盤５０における未
露光領域を信号記録領域とする場合には、未露光領域の
幅が信号記録面の幅を規定することとなる。この場合、
未露光領域の幅は、トラックピッチの幅から露光領域の
幅を差し引いた値となるため、トラックピッチにムラが
発生した場合には、この影響を受けて不均一なものとな
る。このため、この場合には、信号記録領域の幅が不均
一になり、その結果、安定した再生信号振動を示さない
ものとなってしまう。
【０１１２】したがって、本手法によれば、トラックピ
ッチにムラが発生してしまった場合であっても、信号記
録面の幅が変動することなく、安定的な再生信号振動を
示すことのできる光ディスク１を製造することができ
る。
【０１１３】一方、本発明に係る光記録媒体の製造方法
は、上述したように、マスタースタンパ５２から形成さ
れたマザースタンパを用いて射出成形することにより樹
脂基板を形成するような手法に限定されるものではな
い。すなわち、本発明に係る光記録媒体の製造方法は、
マスタースタンパ５２からの転写を奇数回行うことによ
って得られたものをマザースタンパ５５として射出成形
に用いるものであってもよい。
【０１１４】この場合も、マザースタンパ５５は、ガラ
ス原盤５０の一主面に形成された凹凸パターンと同じ凹
凸パターンが形成されたものとなる。そして、上述した
場合と同様に、このマザースタンパを用いて射出成形す
ることにより基板２を形成することができる。
【０１１５】
【実施例】ここで、上述したような本発明に係る光記録
媒体の実施例として示す光ディスクを実際に作製し、こ
の光ディスクの特性を評価した。また、この実施例とし
て示す光ディスクと比較するために、従来の光ディスク
を比較例として作製した。
【０１１６】実施例１ 実施例１では、表１に示すような基板を用いて光ディス
クを作製した。
【０１１７】
【表１】
【０１１８】そして、この基板のピット及びグルーブが
形成された一主面に対してＡｌからなる反射膜及び記録
膜を形成し、更に、この記録膜上に光透過層を形成し
た。
【０１１９】実施例２ この実施例２では、いわゆる、２Ｐ法を用いてガラス基
板上に紫外線硬化樹脂よりなる層を成形して基板を形成
した以外は実施例１と同様にして非違仮ディスクを作製
した。ここで用いられた２Ｐ法とは、ガラス基板の一主
面とマザースタンパとの間に紫外線硬化樹脂を充填し、
圧力を加えながら紫外線を照射することにより紫外線硬
化樹脂を硬化する手法である。この２Ｐ法によれば、マ
ザースタンパ上に形成された凹凸パターンを略々完全に
転写することができる。
【０１２０】比較例１ この比較例１では、従来の光ディスクの製造方法におい
て形成されたガラス基板を用いて作製されたマスタース
タンパを用いて基板を形成した以外は、実施例１と同様
にして光ディスクを作製した。すなわち、この比較例１
では、ピットに相当する部分が単一のレーザにより露光
されてガラス原盤上における凹部として形成されてい
る。したがって、この場合、マスタースタンパは、ピッ
トに相当する部分が微小な凸部となっている。
【０１２１】比較例２ この比較例２では、従来の光ディスクの製造方法におい
て形成されたガラス原盤を用いて作製されたマザースタ
ンパを用いて基板を形成した以外は、実施例１と同様に
して光ディスクを作製した。すなわち、この比較例２で
は、ピットに相当する部分が単一のレーザにより露光さ
れてガラス原盤上における凹部として形成されている。
したがって、この場合、マザースタンパは、ピットに相
当する部分が微小な凹部となっている。
【０１２２】特性評価 以上のように作製された実施例１、実施例２、比較例１
及び比較例２を用いてピット列の転写性を基板に形成さ
れたピットの深さを測定することにより評価し、また、
各光ディスクのジッターを測定することにより記録再生
特性を評価した。
【０１２３】このとき、各光ディスクに対しては、表２
に示すような条件で信号を記録再生した。
【０１２４】
【表２】
【０１２５】各光ディスクのジッターを測定した結果を
表３に示す。なお、このジッターの測定は、デフォーカ
ス及びディスクの傾き等のない状態で行われた。このジ
ッターの値は、変換点位置誤差であって、小さいほど信
号品質はよいものとなる。
【０１２６】
【表３】
【０１２７】この表３から判るように、比較例２の光デ
ィスクでは、十分な再生信号を得ることができなかっ
た。これは、比較例２においては、マザースタンパ上の
微小な凹部に樹脂を充填することが困難であり、転写不
良が発生してしまったためである。このとき、実際に、
比較例２の光ディスクにおけるピットの深さを測定する
と、２０ｎｍ程度しかなかった。
【０１２８】これに対して、実施例１及び実施例２で
は、比較例１と比較しても略々同等なジッター値を示
し、十分なレベルの再生信号を出力することができるこ
とが判った。また、ピットの深さも、略々１００ｎｍと
なっていた。また、凹凸パターンを略々完全に転写する
ことができる２Ｐ法を用いて作製された実施例２と射出
成形を用いて作製された実施例１とを比較すると、殆ど
ジッター値に差がないことが判る。このことから、本手
法を用いて作製したマザースタンパを用いた場合、射出
成形法を用いても非常に正確に転写できることが明らか
になった。
【０１２９】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る光記録媒体は、凸条部の主面と同じ高さ位置から形
成された凹部を有している。この凹部は、凸条部ととも
に形成されることにより、精度良く形成されたものとな
る。このため、この光記録媒体は、良好な再生信号を示
すことができる。
【０１３０】また、本発明に係る光記録媒体の製造方法
は、マスタースタンパからの転写を奇数回行うことによ
り形成されたマザースタンパを用いて樹脂基板を形成し
ている。このとき、このマザースタンパには、原盤にお
ける凹部が凸部として形成されている。このため、この
手法では、ガラス原盤における微小な凹部列がマザース
タンパにおける微小な凸部として形成されることとな
る。したがって、この手法では、ガラス原盤における凹
部列を転写性良く成形することができ、微小な凹部列を
有する樹脂基板を確実に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光記録媒体の一例として示す光デ
ィスクの斜視図である。
【図２】図１に示した光ディスクの要部断面図である。
【図３】光ディスクの基板の要部斜視図である。
【図４】同基板の平面図である。
【図５】従来の光ディスクの記録再生を示す要部断面図
である。
【図６】光透過層側から見て凹となる部分に記録を行う
際の要部断面図である。
【図７】本発明に係る光記録媒体の製造方法のフローチ
ャートである。
【図８】ガラス基板上にレジスト膜を形成した状態を示
す要部断面図である。
【図９】露光装置の構成図である。
【図１０】ガラス基板上に形成されたレジスト膜の所定
の領域に露光した状態を示す要部断面図である。
【図１１】ガラス基板上に形成されたレジスト膜の所定
の領域に露光した状態を示す要部平面図である。
【図１２】現像処理が施されることによりガラス基板上
に残存するレジスト膜を有するガラス原盤の要部平面図
である。
【図１３】ガラス原盤の要部断面図である。
【図１４】ガラス原盤上にＮｉメッキを行った状態を示
す要部断面図である。
【図１５】ガラス原盤からマスタースタンパを剥離した
状態を示す要部断面図である。
【図１６】マスタースタンパ上に剥離被膜を形成した状
態を示す要部断面図である。
【図１７】マスタースタンパ上の剥離被膜上にＮｉメッ
キを行った状態を示す要部断面図である。
【図１８】マスタースタンパ上からマザースタンパを剥
離した状態を示す要部断面図である。
【図１９】射出成形機の要部断面図である。
【図２０】基板面内における凹溝の割合とこの凹溝に充
填されて形成されたグルーブの深さとの関係を、樹脂の
温度を変化させて測定した結果を示す特性図である。
【符号の説明】
１ 光ディスク、２ 基板、３ 反射層、４ 記録層、
５ 光透過層、６ 誘電体膜、７ 記録膜、８ 対物レ
ンズ、９ グルーブ、１０ ピット、１１ ランド

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板とこの基板上に少なくとも光透過層
    を有し、この光透過層側から所定の波長の光を照射する
    ことにより信号の記録及び／又は再生を行う光記録媒体
    において、 上記基板は、上記光透過層側からみて凸となるような凸
    条部と、この凸条部の長手方向の位置に、凸条部の主面
    と同じ高さ位置から形成された凹部とを有することを特
    徴とする光記録媒体。
  2. 【請求項２】 上記基板上に積層された反射膜と、この
    反射膜上に積層された記録膜とを備え、上記凸条部上に
    形成された上記記録膜を記録領域とすることを特徴とす
    る請求項１記載の光記録媒体。
  3. 【請求項３】 上記記録膜は、相変化型記録膜、光磁気
    記録膜、有機色素型記録膜のうちのいずれかであること
    を特徴とする請求項３記載の光記録媒体。
  4. 【請求項４】 基板上に形成されたレジスト膜の所定の
    領域を露光することによって、レジスト膜に凹部が一列
    に配列されてなる凹部列を複数本形成するとともに、隣
    り合う凹部列間のレジスト膜を除去して原盤を形成し、 この原盤に金属メッキを行い、これを剥離することによ
    りマスタースタンパを形成し、 このマスタースタンパからの転写を奇数回行うことによ
    りマザースタンパを形成し、 このマザースタンパを転写することにより樹脂基板を成
    形し、 この樹脂基板の上記マザースタンパが転写された面上に
    少なくとも光透過層を形成することを特徴とする光記録
    媒体の製造方法。
  5. 【請求項５】 上記原盤上に、上記凹部列と同列上に凹
    溝を形成することを特徴とする請求項５記載の光記録媒
    体の製造方法。
  6. 【請求項６】 上記凹溝及び上記凹部は、それぞれの底
    面に上記基板が露出することを特徴とする請求項６記載
    の光記録媒体の製造方法。
  7. 【請求項７】 上記レジスト膜がポジ型のレジスト膜で
    あることを特徴とする請求項５記載の光記録媒体の製造
    方法。
  8. 【請求項８】 上記レジスト膜に対して、第１の光で露
    光することにより上記凹部を形成するとともに第２の光
    で露光することにより上記凹部列間のレジスト膜を除去
    することを特徴とする請求項８記載の光記録媒体の製造
    方法。
  9. 【請求項９】 上記第１の光及び上記第２の光は、単一
    の光源から出射された光が分光されてなり、同一の対物
    レンズを介して上記レジスト膜に照射されることを特徴
    とする請求項９記載の光記録媒体の製造方法。
JP10048071A 1998-02-27 1998-02-27 光記録媒体及びその製造方法 Withdrawn JPH11250504A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10048071A JPH11250504A (ja) 1998-02-27 1998-02-27 光記録媒体及びその製造方法
US09/252,921 US20020075791A1 (en) 1998-02-27 1999-02-19 Optical recording medium, and method of manufacturing same
EP99103408A EP0939399A3 (en) 1998-02-27 1999-02-22 Optical recording medium, and method of manufacturing same
EP01129109A EP1184860A2 (en) 1998-02-27 1999-02-22 Method of manufacturing an optical recording medium
KR1019990006580A KR19990072993A (ko) 1998-02-27 1999-02-26 광기록매체및그의제조방법
CN99102431A CN1227382A (zh) 1998-02-27 1999-02-26 光记录介质及其制造方法
US09/841,986 US6440333B2 (en) 1998-02-27 2001-04-25 Optical recording medium, and method of manufacturing same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10048071A JPH11250504A (ja) 1998-02-27 1998-02-27 光記録媒体及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11250504A true JPH11250504A (ja) 1999-09-17

Family

ID=12793128

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10048071A Withdrawn JPH11250504A (ja) 1998-02-27 1998-02-27 光記録媒体及びその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US20020075791A1 (ja)
EP (2) EP0939399A3 (ja)
JP (1) JPH11250504A (ja)
KR (1) KR19990072993A (ja)
CN (1) CN1227382A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7366083B2 (en) 2001-05-02 2008-04-29 Victor Company Of Japan, Ltd. Information recording medium having substrate with microscopic pattern and reproducing apparatus therefor

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000030257A (ja) * 1998-07-08 2000-01-28 Taiyo Yuden Co Ltd 光情報媒体とその記録方法
JP4310885B2 (ja) * 2000-05-11 2009-08-12 ソニー株式会社 光ディスク装置、光ディスクのアクセス方法及び光ディスク
US6560248B1 (en) * 2000-06-08 2003-05-06 Mania Barco Nv System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation
US7079477B2 (en) 2000-10-03 2006-07-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information medium, recording and reproduction apparatus, and recording and reproduction method
JP4239403B2 (ja) * 2000-12-06 2009-03-18 ソニー株式会社 光ディスク
EP1364367A2 (en) * 2001-02-27 2003-11-26 TDK Corporation Method for producing photoresist master for optical information medium, and method for producing stamper for optical information medium
JP2003085829A (ja) * 2001-09-06 2003-03-20 Tdk Corp 光情報媒体用スタンパの製造方法およびこれに用いるフォトレジスト原盤、ならびに、光情報媒体用スタンパおよび光情報媒体
US7914711B2 (en) * 2002-01-24 2011-03-29 Dphi Acquisitions, Inc. Use of mother stamper for optical disk molding
KR100636726B1 (ko) * 2002-05-31 2006-10-23 후지쯔 가부시끼가이샤 광 기록 매체 및 광 기억 장치
ATE487218T1 (de) * 2002-10-10 2010-11-15 Sony Corp Verfahren zur herstellung eines originals für optische datenträgerbenutzung und verfahren zur herstellung eines optischen datenträgers
TW200519925A (en) * 2003-08-05 2005-06-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical disc and the manufacturing method thereof
CA2553837C (en) * 2004-01-21 2012-10-16 Microcontinuum, Inc. Pre-formatted linear optical data storage medium
US9307648B2 (en) 2004-01-21 2016-04-05 Microcontinuum, Inc. Roll-to-roll patterning of transparent and metallic layers
JP2006040445A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Toshiba Corp 光ディスク及び情報再生装置
CA2643510C (en) 2006-02-27 2014-04-29 Microcontinuum, Inc. Formation of pattern replicating tools
US8023395B2 (en) * 2006-10-16 2011-09-20 Thomson Licensing Optical storage medium comprising tracks with positive and negative marks, and stampers and production methods for manufacturing of the optical storage medium
US9589797B2 (en) 2013-05-17 2017-03-07 Microcontinuum, Inc. Tools and methods for producing nanoantenna electronic devices

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63275053A (ja) * 1987-05-07 1988-11-11 Canon Inc スタンパ−の製造方法
CA1303740C (en) * 1987-08-21 1992-06-16 Kazuo Van Optical disk for use in optical memory devices
DE3876544T3 (de) * 1987-09-02 1999-04-29 Sharp K.K., Osaka Optisches Speichersystem.
JP2754785B2 (ja) * 1989-09-20 1998-05-20 ソニー株式会社 高密度光ディスクの製造方法
DE69127058T2 (de) * 1990-11-28 1998-03-26 Sharp Kk Herstellungsverfahren einer Matrize
JP2585861B2 (ja) * 1990-11-30 1997-02-26 シャープ株式会社 光メモリ素子用フォトマスクの製造方法
US5346654A (en) * 1992-07-31 1994-09-13 Sanyo Laser Products, Inc. Mehod of forming indicia on compact disks and indicia-bearing compact disks
JP3237982B2 (ja) * 1993-03-16 2001-12-10 株式会社東芝 光学的情報記録再生装置及び光学的情報記録媒体
US5508995A (en) * 1993-07-15 1996-04-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical disk capable of recording information on both groove and land tracks
US5638354A (en) * 1993-07-16 1997-06-10 Ricoh Company, Ltd. Optical information recording medium
US5494782A (en) * 1994-07-29 1996-02-27 Sony Corporation Direct to stamper/mother optical disk mastering
DE19510096A1 (de) * 1995-03-20 1996-09-26 Leybold Ag Matrize zum Abformen von Schallaufzeichnungen und Verfahren zu ihrer Herstellung
US6207247B1 (en) * 1998-03-27 2001-03-27 Nikon Corporation Method for manufacturing a molding tool used for sustrate molding

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7366083B2 (en) 2001-05-02 2008-04-29 Victor Company Of Japan, Ltd. Information recording medium having substrate with microscopic pattern and reproducing apparatus therefor
US7492698B2 (en) 2001-05-02 2009-02-17 Victor Company Of Japan, Limited Information recording medium having substrate with microscopic pattern and reproducing apparatus therefor
US7580342B2 (en) 2001-05-02 2009-08-25 Victor Company Of Japan, Limited Information recording medium having substrate with microscopic pattern and reproducing apparatus therefor
US7821912B2 (en) 2001-05-02 2010-10-26 Victor Company Of Japan, Limited Information recording medium having substrate with microscopic pattern and reproducing apparatus therefor

Also Published As

Publication number Publication date
US20020075791A1 (en) 2002-06-20
US20010017841A1 (en) 2001-08-30
EP0939399A3 (en) 2000-05-03
CN1227382A (zh) 1999-09-01
EP0939399A2 (en) 1999-09-01
KR19990072993A (ko) 1999-09-27
US6440333B2 (en) 2002-08-27
EP1184860A2 (en) 2002-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100697756B1 (ko) 광 디스크 및 그 제조 방법
JPH11250504A (ja) 光記録媒体及びその製造方法
JP2000231745A (ja) 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及びその製造方法
TWI244083B (en) Optical recording/reproducing medium-use substrate, production method for optical recording/reproducing medium reproducing stamper and optical recording/reproducing medium producing stamper
US7438547B2 (en) Optical recording medium and master disc for manufacturing optical recording medium
US7242662B2 (en) Optical recording/reproducing medium, mother stamper for producing optical recording/reproducing medium and optical recording/reproducing device
KR20040090393A (ko) 광학 기록 재생 매체, 광학 기록 재생 매체 제조용 원반및 광학 기록 재생 장치
JPH11296910A (ja) 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤
JP2005032317A (ja) 光学記録再生媒体、光学記録再生媒体製造用スタンパ及び光学記録方法
JP4320916B2 (ja) 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置
JP4320915B2 (ja) 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置
JP4385552B2 (ja) 光学記録再生媒体作製用原盤の記録方法、光学記録再生媒体作製用スタンパ、光学記録再生媒体及びこれを用いた光学記録再生装置
JP2002334484A (ja) 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、マザースタンパ、成形用スタンパとこれらの製造方法
JP2003045040A (ja) 光記録媒体、光記録媒体作製用原盤、成形用スタンパ及びこれらの製造方法、ならびに光学記録再生方法
JPH11339329A (ja) 露光装置及び露光方法
JP2002109784A (ja) 光記録媒体
JP2004139662A (ja) 原盤記録方法および原盤、光情報記録媒体
JPH11273155A (ja) 記録媒体及び記録媒体製造用原盤
JPH11296923A (ja) 露光装置及び露光方法
JPH10312545A (ja) 情報記録媒体およびその記録再生方法
JP2000276778A (ja) 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び光記録再生装置
JP2004178651A (ja) 光学記録再生媒体及びこれを用いた光学記録再生装置
JP2002352477A (ja) 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤及び記録再生方法
JP2002319140A (ja) 光情報記録媒体及び情報再生装置
JPH11296909A (ja) 記録媒体及び記録媒体製造用原盤

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050510