JPH11296923A

JPH11296923A - 露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JPH11296923A
Application number: JP10094880A
Authority: JP
Inventors: Fusaaki Endo; 惣銘遠藤; Mitsuo Arima; 光男有馬; Hiroshi Nomura; 宏野村
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1998-04-07
Filing date: 1998-04-07
Publication date: 1999-10-29

Abstract

(57)【要約】【課題】複数に分離された光路の記録用レーザ光のば
らつきを抑制するとともに、分離されたそれぞれの光路
の記録用レーザ光の光出力を、各々最適な状態に保つこ
とができ、高密度の光ディスクに対応した潜像を高精度
に形成することができる露光装置及び露光方法を提供す
る。【解決手段】光源２から出射されたレーザ光の光路を
複数に分離するビームスプリッタ３と、このビームスプ
リッタ３により分離された複数の光路のレーザ光の一部
を各々検出し、レーザ光の光出力が所定の値となるよう
に制御する複数の光出力制御手段４，５とを備えるよう
に露光装置１を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば基板上に形
成されたフォトレジスト層に対してレーザ光を照射する
ことにより、フォトレジスト層にレーザ光の照射軌跡に
応じた潜像を形成する露光装置及び露光方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】記録媒体として、ディスク基板の表面に
情報信号を示すピット等が形成され、このピット等が形
成されたディスク基板にＡｌ反射膜や保護膜が形成され
てなる光ディスクが普及している。

【０００３】この光ディスクのディスク基板は、主とし
て、射出成形法により成形されている。射出成形法は、
例えば一対の金型のキャビティ内に、ディスク基板のピ
ット等とは反転パターンの凹凸形状が形成されたスタン
パを配設し、この金型のキャビティに加熱溶融したディ
スク材料を射出し、ディスク基板を成形する方法であ
る。

【０００４】そして、この射出成形法に用いられるスタ
ンパは、以下に示すように形成される。

【０００５】先ず、例えば、直径が約２００ｍｍ、厚さ
が数ｍｍの表面が精密研磨された円盤状のガラス基板の
主面に、密着補強剤等を介して、記録用レーザ光源の波
長に十分な感度を有するフォトレジストが、膜厚０．１
μｍ程度で均一に塗布される。そして、このフォトレジ
ストの有機溶剤が揮発され、ガラス基板上にフォトレジ
スト層が形成される。

【０００６】次に、フォトレジスト層が形成されたガラ
ス基板が、露光装置にセットされる。そして、この露光
装置により、記録用レーザ光が、０．５μｍ程度のスポ
ットサイズでガラス基板のフォトレジスト上に集光され
る。

【０００７】露光装置は、このレーザ光を、入力される
記録信号に基づいて強度変調しながら、ガラス基板のレ
ジスト層上にスパイラル状に照射し、レジスト層に、所
定のピット、グルーブに対応した凹凸パターンの潜像を
形成する。

【０００８】次に、潜像が形成されたレジスト層が、ア
ルカリ性の現像液により現像され、所定のピット、グル
ーブに対応した凹凸パターンを有するレジスト原盤が形
成される。

【０００９】次に、レジスト原盤の凹凸パターンを有す
る主面に、スパッタリング法、蒸着法、無電解メッキ法
等の方法で、銀またはニッケル等の金属被膜が形成され
る。

【００１０】次に、金属被膜が形成されたレジスト原盤
が、電気メッキ装置にセットされ、金属被膜を電極とし
て、電気メッキが行われることにより、レジスト原盤の
主面上に、電気メッキ層が形成される。

【００１１】次に、金属被膜及び電気メッキ層からレジ
スト原盤が剥離され、余分な金属被膜がプレス除去さ
れ、スタンパが完成する。

【００１２】ところで、上述したスタンパ作製工程にお
いて用いられる露光装置としては、従来より、例えば図
７に示すような露光装置２００が提案されている。この
図７に示す露光装置２００は、例えば幅の異なる２種類
の記録パターンに応じた潜像をレジスト層に形成するこ
とが可能となるように構成されたものであり、記録用レ
ーザ光を連続発振する光源２０１と、この光源２０１か
ら出射される記録用レーザ光を、入力される信号電界に
応じて強度変調する電気光学変調器（ＥＯＭ：Electro
Optic Modulator）２０２と、このＥＯＭ２０２により
強度変調された記録用レーザ光の一部を透過し、他の一
部を反射することにより、記録用レーザ光の光路を２つ
に分離する光路分離用ハーフミラー２０３と、この光路
分離用ハーフミラー２０３により分離された第１の光路
の記録用レーザ光を、記録信号に応じて変調された超音
波に基づいて強度変調する第１の音響光学変調器（ＡＯ
Ｍ：Acousto Optic Modulator）２０４と、光路分離用
ハーフミラー２０３により分離された第２の光路の記録
用レーザ光を、記録信号に応じて変調された超音波に基
づいて強度変調する第２のＡＯＭ２０５と、第１の光路
の記録用レーザ光と第２の光路の記録用レーザ光とを、
その偏光状態に応じて透過または反射することにより、
略同一の光路上に導く偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ：
PolarizationBeam Splitter）２０６と、このＰＢＳ２
０６により略同一の光路上に導かれた記録用レーザ光を
集光して、ガラス基板２３０上に形成されたレジスト層
２３１に照射させる対物レンズ２０７とを主たる構成要
素として構成されている。

【００１３】以上のように構成された露光装置２００に
より露光を行う場合は、まず、光源２０１から記録用レ
ーザ光が出射される。

【００１４】光源２０１から出射された記録用レーザ光
は、ＥＯＭ２０２により強度変調され検光子２２３を透
過した後、一部が光路分離用ハーフミラー２０３を透過
し、他の一部が光路分離用ハーフミラー２０３により反
射される。そして、光路分離用ハーフミラー２０３を透
過した第１の光路の記録用レーザ光は、第１の光路上に
配設されたハーフミラー２０８により一部が反射され
る。このとき、ハーフミラー２０８を透過した記録用レ
ーザ光の他の一部は、透過光路上に配設された光検出器
２０９に入射する。

【００１５】光検出器２０９とＥＯＭ２０２との間に
は、光出力制御部（ＡＰＣ：Auto Power Controller）
２１０が接続されており、光検出器２０９に入射した記
録用レーザ光は、光検出器２０９により電気信号に変換
されてＡＰＣ２１０に供給される。

【００１６】ＡＰＣ２１０は、光検出器２０９より供給
される信号に基づいて制御信号を生成し、この制御信号
をＥＯＭ２０２に供給する。ＥＯＭ２０２は、このＡＰ
Ｃ２１０より供給される制御信号の信号電界に応じて、
光源２０１から出射される記録用レーザ光の強度変調を
行う。

【００１７】この露光装置２００は、以上のように、記
録用レーザ光の一部を光検出器２０９により検出し、こ
れに基づいてＡＰＣ２１０によりＥＯＭ２０２に対して
フィードバック制御を行うことにより、ＥＯＭ２０２を
透過する記録用レーザ光の光出力を安定させるようにな
されている。

【００１８】ハーフミラー２０８により反射された第１
の光路の記録用レーザ光は、第１の光路上に配設された
第１のＡＯＭ２０４により、記録信号に応じて強度変調
される。第１のＡＯＭ２０４には、入力される記録信号
に応じて変調した超音波を第１のＡＯＭ２０４に供給す
る第１のドライバ２１１が接続されている。第１のＡＯ
Ｍ２０４は、この第１のドライバ２１１より供給される
超音波に基づいて、当該第１のＡＯＭ２０４を透過する
記録用レーザ光の強度変調を行う。なお、第１の光路上
には、第１のＡＯＭ２０４の直前に集光レンズ２１２が
配設されており、第１のＡＯＭ２０４の直後にレンズ２
１３が配設されている。これにより、第１の光路の記録
用レーザ光は、集光レンズ２１２により集光された状態
で第１のＡＯＭ２０４に入射し、第１のＡＯＭ２０４か
ら出射された後にコリメートレンズ２１３により平行光
とされる。

【００１９】コリメートレンズ２１３により平行光とさ
れた第１の光路の記録用レーザ光は、１／２波長板２１
４により、例えば、Ｓ偏光からＰ偏光へと偏光状態が変
えられ、反射ミラー２１５により反射されて、ＰＢＳ２
０６に入射する。

【００２０】一方、光路分離用ハーフミラー２０３によ
り反射された第２の光路の記録用レーザ光は、第２の光
路上に配設された第２のＡＯＭ２０５により、記録信号
に応じて強度変調される。第２のＡＯＭ２０５には、入
力される記録信号に応じて変調した超音波を第２のＡＯ
Ｍ２０５に供給する第２のドライバ２１６が接続されて
いる。第２のＡＯＭ２０５は、この第２のドライバ２１
６より供給される超音波に基づいて、当該第２のＡＯＭ
２０５を透過する記録用レーザ光の強度変調を行う。な
お、第２の光路上には、第１の光路と同様に、第２のＡ
ＯＭ２０５の直前に集光レンズ２１７が配設されてお
り、第２のＡＯＭ２０５の直後にコリメートレンズ２１
８が配設されている。これにより、第２の光路の記録用
レーザ光は、集光レンズ２１７により集光された状態で
第２のＡＯＭ２０５に入射し、第２のＡＯＭ２０５から
出射された後にコリメートレンズ２１８により平行光と
される。

【００２１】コリメートレンズ２１８により平行光とさ
れた第２の光路の記録用レーザ光は、反射ミラー２１
９，２２０によりそれぞれ反射されて、ＰＢＳ２０６に
入射する。なお、このとき第２の光路の記録用レーザ光
は、その偏光状態が第１の光路の記録用レーザ光と異な
り、例えばＳ偏光の状態とされている。

【００２２】ここで、ＰＢＳ２０６は、例えば、Ｐ偏光
の偏光成分を透過し、Ｓ偏光の偏光成分を反射するよう
になされている。したがって、第１の光路の記録用レー
ザ光はＰＢＳ２０６を透過し、第２の光路の記録用レー
ザ光はＰＢＳ２０６により反射される。これにより、第
１の光路の記録用レーザ光と第２の光路の記録用レーザ
光とが略同一光路上に導かれることになる。

【００２３】ＰＢＳ２０６を透過した第１の光路の記録
用レーザ光及びＰＢＳ２０６により反射された第２の光
路の記録用レーザ光は、ともに拡大レンズ２２１を透過
することによりビーム径が拡大され、反射ミラー２２２
により反射されて、対物レンズ２０７に入射する。

【００２４】対物レンズ２０７に入射した第１及び第２
の光路の記録用レーザ光は、対物レンズ２０７により集
光されて、図示しないエアースピンドルにより回転操作
されるガラス基板２３０上に形成されたレジスト層２３
１に照射される。

【００２５】この露光装置２００は、以上説明したよう
に、記録用レーザ光の光路を２つに分離し、それぞれ個
別に強度変調するようにしているので、例えば幅の異な
る２種類のパターンの潜像を同時に形成することができ
る。なお、この露光装置２００は、第１の光路と第２の
光路とを必要に応じて使い分けることにより、２種類の
パターンの潜像を個別に形成することができることは勿
論である。

【００２６】また、この露光装置２００は、光源２０１
から出射される記録用レーザ光の一部を検出し、ＥＯＭ
２０２に対してフィードバック制御を行うようにしてい
るので、ＥＯＭ２０２を透過する記録用レーザ光の光出
力を安定な状態に保つことができる。

【００２７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、光デ
ィスク等においては、記録容量を増大させるために記録
密度の向上が図られており、このような光ディスクのス
タンパ作製工程に用いられる露光装置に対しても、露光
精度に対する要求が厳しくなってきている。

【００２８】しかしながら、上述した従来の露光装置２
００のように、記録用レーザ光の光出力が安定な状態と
なるように制御した後に、記録用レーザ光の光路を分離
するようにした場合、レーザ共振器の微少量のずれによ
り、レーザ光に微少量の位置ずれが生じ、分離された光
路の記録用レーザ光に微少量の位置ずれが生じる。そし
て、この位置ずれが生じたレーザ光が第１のＡＯＭ２０
４又は第２のＡＯＭ２０５により強度変調される際に、
ブラッグ角が微少量変化することにより、強度変化が生
じてしまう場合がある。

【００２９】また、分離されたそれぞれの光路の記録用
レーザ光は、その形成する潜像のパターンに応じて、最
適な光出力が異なる場合がある。

【００３０】そこで、本発明は、複数に分離された光路
の記録用レーザ光のばらつきを抑制するとともに、分離
されたそれぞれの光路の記録用レーザ光の光出力を、各
々最適な状態に保つことができ、高密度の光ディスクに
対応した潜像を高精度に形成することができる露光装置
及び露光方法を提供することを目的とする。

【００３１】

【課題を解決するための手段】本発明に係る露光装置
は、光源から出射されたレーザ光の光路を複数に分離す
る光路分離手段と、この光路分離手段により分離された
複数の光路のレーザ光の一部を各々検出し、レーザ光の
光出力が所定の値となるように制御する複数の光出力制
御手段とを備える。

【００３２】この露光装置によれば、光路分離手段によ
り光源から出射されたレーザ光の光路が複数に分離され
る。そして、分離されたそれぞれの光路のレーザ光は、
その光出力が、複数の出力制御手段により個別に制御さ
れる。これにより、光路が分離されたレーザ光の光出力
を、それぞれ最適な値に制御することができると共に、
複数の光路のレーザ光のばらつきを抑制することができ
る。

【００３３】また、本発明に係る露光装置においては、
上記複数の光出力制御手段のうち少なくとも一つの光出
力制御手段が、分離されたレーザ光の光路上に配設され
た強度変調手段に供給される記録信号のキャリア強度を
調整することにより、レーザ光の光出力が所定の値とな
るように制御することが望ましい。これにより、露光装
置は、構成を簡素にしながら、精度の良い露光を行うこ
とができる。

【００３４】また、本発明に係る露光装置においては、
上記複数の光出力制御手段のうち少なくとも一つの光出
力制御手段が、分離されたレーザ光の少なくとも一つの
光路上に配設された光偏向手段に供給される記録信号の
キャリア強度を調整することにより、レーザ光の光出力
が所定の値となるように制御することが望ましい。これ
により、露光装置は、構成を簡素にしながら、精度の良
い露光を行うことができる。

【００３５】また、本発明に係る露光方法は、光源から
出射されるレーザ光の光路を複数に分離し、複数の光出
力制御手段により、分離された複数の光路のレーザ光の
一部を各々検出してこれらレーザ光の光出力が所定の値
となるように制御するようにしている。

【００３６】この露光方法によれば、光路が分離された
レーザ光の光出力を、それぞれ最適な値に制御すること
ができると共に、複数の光路のレーザ光のばらつきを抑
制することができる。

【００３７】また、本発明に係る露光方法においては、
上記複数の光出力制御手段のうち少なくとも一つの光出
力制御手段が、分離されたレーザ光の光路上に配設され
た強度変調手段に供給される記録信号のキャリア強度を
調整することにより、レーザ光の光出力が所定の値とな
るように制御することが望ましい。これにより、精度の
良い露光を簡便に行うことができる。

【００３８】また、本発明に係る露光方法においては、
上記複数の光出力制御手段のうち少なくとも一つの光出
力制御手段が、分離されたレーザ光の少なくとも一つの
光路上に配設された光偏向手段に供給される記録信号の
キャリア強度を調整することにより、レーザ光の光出力
が所定の値となるように制御することが望ましい。これ
により、精度の良い露光を簡便に行うことができる。

【００３９】

【発明の実施の形態】本発明に係る露光装置は、例えば
ピットやグルーブ等を有する光ディスクや光磁気ディス
ク等のディスク状記録媒体のディスク基板を射出成形す
る際に用いられるスタンパを作製するためのものであ
り、ガラス基板上に形成されたレジスト層上にレーザ光
を照射させて、レジスト層に光ディスクのピットやグル
ーブに対応した所定パターンの潜像を形成するためのも
のである。

【００４０】以下、この露光装置の実施の形態を図面を
参照して説明する。

【００４１】（第１の実施の形態）第１の実施の形態の
露光装置１は、記録用レーザ光の光路を二つに分離し、
それぞれの光路の記録用レーザ光に対して光出力の制御
を行うようにしたものであり、図１に示すように、基本
構成として、記録用レーザ光を出射する光源２と、光源
２から出射された記録用レーザ光の一部を透過し、他の
一部を反射させることにより、記録用レーザ光の光路を
分離するビームスプリッタ３と、ビームスプリッタ３を
透過した第１の光路の記録用レーザ光の光出力を一定に
する第１の光出力制御手段４と、ビームスプリッタ３に
より反射された第２の光路の記録用レーザ光の光出力を
一定にする第２の光出力制御手段５と、第１の光出力制
御手段４により光出力が制御された第１の光路の記録用
レーザ光に対して強度変調を行う第１の変調光学系６
と、第２の光出力制御手段５により光出力が制御された
第２の光路の記録用レーザ光に対して強度変調を行う第
２の変調光学系７と、第１の変調光学系６により強度変
調された第１の光路の記録用レーザ光と第２の変調光学
系７により強度変調された第２の光路の記録用レーザ光
とを略同一光路上に導き、これら記録用レーザ光を集光
してガラス基板３７上に形成されたレジスト層３８に照
射させる照射光学系８とを備えている。

【００４２】レジスト層３８が形成されたガラス基板３
７は、高回転精度で回転するエアースピンドル上にチャ
ッキングされている。

【００４３】なお、以下の説明においては、第１の光路
の記録用レーザ光を第１の露光ビームと呼び、第２の光
路の記録用レーザ光を第２の露光ビームと呼ぶ。

【００４４】光源２としては、レジスト層３８を構成す
るレジスト材料の感光波長のレーザ光を出射するガスレ
ーザが用いられる。具体的には、例えば、レジスト層３
８を構成するレジスト材料がポジ型の場合、波長が４５
８ｎｍのＡｒレーザや、波長が４４２ｎｍのＨｅ−Ｃｄ
レーザ、波長が４１３ｎｍのＫｒレーザ等を出射するイ
オンレーザ型のガスレーザ等が用いられる。

【００４５】第１の光出力制御手段４は、第１の光路上
に配設され、第１の露光ビームの光出力を調整する第１
の電気光学変調器（ＥＯＭ：Electro Optical Modulato
r）１０と、第１のＥＯＭ１０を透過した第１の露光ビ
ームのＳ偏光だけを透過する第１の検光子１１と、第１
の検光子１１を透過した第１の露光ビームの一部を反射
させ、他の一部を透過させる第１のハーフミラー１２
と、第１のハーフミラー１２を透過した第１の露光ビー
ムを受光し制御信号を生成する第１の光検出器１３と、
第１の光検出器１３により生成された制御信号に基づい
て第１のＥＯＭ１０の動作を制御する第１のオートパワ
ーコントローラ（ＡＰＣ：Auto Power Controller）１
４とにより構成される。

【００４６】同様に、第２の光出力制御手段５は、第２
の光路上に配設され、第２の露光ビームの光出力を調整
する第２のＥＯＭ１５と、第２のＥＯＭ１５を透過した
第２の露光ビームのＳ偏光だけを透過する第２の検光子
１６と、第２の検光子１６を透過した第２の露光ビーム
の一部を反射させ、他の一部を透過させる第２のハーフ
ミラー１７と、第２のハーフミラー１７を透過した第２
の露光ビームを受光し制御信号を生成する第２の光検出
器１８と、第２の光検出器１８により生成された制御信
号に基づいて第２のＥＯＭ１５の動作を制御する第２の
ＡＰＣ１９とにより構成される。

【００４７】光源２から出射された記録用レーザ光は、
ビームスプリッタ３により第１の露光ビームと第２の露
光ビームとに分離される。

【００４８】ビームスプリッタ３を透過した第１の露光
ビームは、第１のＡＰＣ１４により制御される第１のＥ
ＯＭ１０に入射し、この第１のＥＯＭ１０により、光出
力が一定になるように強度補正される。第１のＥＯＭ１
０を透過した第１の露光ビームは、第１の検光子１１に
よりＳ偏光とされた後、一部が第１のハーフミラー１２
により反射され、一部が第１のハーフミラー１２を透過
する。

【００４９】第１のハーフミラー１２を透過した第１の
露光ビームは、第１の光検出器１３に受光される。第１
の光検出器１３は、受光した光の光強度に応じた制御信
号を生成し、この制御信号を第１のＡＰＣ１４に供給す
る。

【００５０】第１のＡＰＣ１４は、第１の光検出器１３
より供給される制御信号に基づいて、第１のＥＯＭ１０
を制御する。具体的には、第１のＡＰＣ１４は、第１の
光検出器１３により受光される第１の露光ビームの光強
度が所定のレベルにて一定になるように、第１のＥＯＭ
１０に対して印加する信号電界を調整する。これによ
り、第１のＥＯＭ１０を透過する第１の露光ビームの光
強度が一定となるように自動光量制御がなされ、ノイズ
の少ない安定した露光ビームが得られる。

【００５１】一方、ビームスプリッタ３をにより反射さ
れた第２の露光ビームは、反射ミラー２０により光路が
折り曲げられた後に、第２のＡＰＣ１９により制御され
る第２のＥＯＭ１５に入射する。そして、この第２のＥ
ＯＭ１５により、光出力が一定になるように強度補正さ
れる。第２のＥＯＭ１５を透過した第２の露光ビーム
は、第２の検光子１６によりＳ偏光とされた後、一部が
第２のハーフミラー１７により反射され、一部が第２の
ハーフミラー１７を透過する。

【００５２】第２のハーフミラー１７を透過した第２の
露光ビームは、第２の光検出器１８に受光される。第２
の光検出器１８は、受光した光の光強度に応じた制御信
号を生成し、この制御信号を第２のＡＰＣ１９に供給す
る。

【００５３】第２のＡＰＣ１９は、第２の光検出器１８
より供給される制御信号に基づいて、第２のＥＯＭ１５
を制御する。具体的には、第２のＡＰＣ１９は、第２の
光検出器１８により受光される第２の露光ビームの光強
度が所定のレベルにて一定になるように、第２のＥＯＭ
１５に対して印加する信号電界を調整する。これによ
り、第２のＥＯＭ１５を透過する第２の露光ビームの光
強度が一定となるように自動光量制御がなされ、ノイズ
の少ない安定した露光ビームが得られる。

【００５４】第１のハーフミラー１２により反射された
第１の露光ビームは、第１の変調光学系６により強度変
調が施される。また、第２のハーフミラー１７により反
射された第２の露光ビームは、第２の変調光学系７によ
り強度変調が施される。

【００５５】第１の変調光学系６は、第１のハーフミラ
ー１２により反射された第１の露光ビームを集光する第
１の集光レンズ２１と、第１の集光レンズ２１により集
光された第１の露光ビームに対して記録信号に応じて強
度変調を施す第１の音響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto
Optical Modulator）２２と、第１のＡＯＭ２２により
強度変調された第１の露光ビームを平行光にする第１の
コリメートレンズ２３と、第１のＡＯＭ２２を駆動する
第１の駆動ドライバ２４とにより構成される。ここで、
第１のＡＯＭ２２としては、例えば、酸化テルル（Ｔｅ
Ｏ₂）からなる音響光学素子が好適である。

【００５６】同様に、第２の変調光学系７は、第２のハ
ーフミラー１７により反射された第２の露光ビームを集
光する第２の集光レンズ２５と、第２の集光レンズ２５
により集光された第２の露光ビームに対して記録信号に
応じて強度変調を施す第２のＡＯＭ２６と、第２のＡＯ
Ｍ２６により強度変調された第２の露光ビームを平行光
にする第２のコリメートレンズ２７と、第２のＡＯＭ２
６を駆動する第２の駆動ドライバ２８とにより構成され
る。ここで、第２のＡＯＭ２６としては、例えば、酸化
テルル（ＴｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適であ
る。

【００５７】第１のハーフミラー１２により反射された
第１の露光ビームは、第１の集光レンズ２１により集光
された状態で、第１のＡＯＭ２２に入射する。そして、
第１の露光ビームは、第１の駆動ドライバ２４により駆
動される第１のＡＯＭ２２によって、所望する露光パタ
ーンに対応するように強度変調される。

【００５８】第１の駆動ドライバ２４には、所望する露
光パターンに応じた信号Ｓ１が入力される。具体的に
は、例えば、２−８変調が施されたピットパターンの潜
像をレジスト層３８に形成する場合には、２−８変調が
施されたピットパターンに対応した変調信号が第１の駆
動ドライバ２４に入力される。第１の駆動ドライバ２４
は、この信号Ｓ１に基づいて第１のＡＯＭ２２を駆動す
る。これにより、第１のＡＯＭ２２に入射した第１の露
光ビームは、例えば２−８変調が施されたピットパター
ンに対応するように、第１のＡＯＭ２２によって強度変
調が施される。

【００５９】第１のＡＯＭ２２により強度変調された第
１の露光ビームは、第１のコリメートレンズ２３により
平行光とされた後、移動光学テーブル上に設けられた照
射光学系８に向かう。

【００６０】一方、第２のハーフミラー１７により反射
された第２の露光ビームは、第２の集光レンズ２５によ
り集光された状態で、第２のＡＯＭ２６に入射する。そ
して、第２の露光ビームは、第２の駆動ドライバ２８に
より駆動される第２のＡＯＭ２６によって、所望する露
光パターンに対応するように強度変調される。

【００６１】第２の駆動ドライバ２８には、所望する露
光パターンに応じた信号Ｓ２が入力される。具体的に
は、例えば、一定の深さのストレートグルーブに対応し
たグルーブパターンの潜像をレジスト層３８に形成する
場合には、一定レベルのＤＣ信号が第２の駆動ドライバ
２８に入力される。第２の駆動ドライバ２８は、この信
号Ｓ２に基づいて第２のＡＯＭ２６を駆動する。これに
より、第２のＡＯＭ２６に入射した第２の露光ビーム
は、所望するグルーブパターンに対応するように、第２
のＡＯＭ２６によって強度変調が施される。

【００６２】第２のＡＯＭ２６により強度変調された第
２の露光ビームは、第２のコリメートレンズ２７により
平行光とされた後、移動光学テーブル上に設けられた照
射光学系８に向かう。

【００６３】第１のコリメートレンズ２３により平行光
とされた第１の露光ビームは、１／２波長板２９により
偏光方向が９０°回転させられ、Ｐ偏光とされた後、反
射ミラー３０により光路が折り曲げられて、移動光学テ
ーブル上に水平に導かれる。また、第２のコリメートレ
ンズ２７により平行光とされた第２の露光ビームは、反
射ミラー３１，３２により光路が折り曲げられて、移動
光学テーブル上に水平に導かれる。

【００６４】照射光学系８は、第１の露光ビームを透過
し、第２の露光ビームを反射する偏光ビームスプリッタ
（ＰＢＳ：Polarization Beam Splitter）３３と、ＰＢ
Ｓ３３を透過した第１の露光ビーム及びＰＢＳ３３によ
り反射された第２の露光ビームのビーム径を拡大させる
拡大レンズ３４と、拡大レンズ３４によりビーム径が拡
大され、反射ミラー３５により光路が折り曲げられた第
１及び第２の露光ビームをそれぞれ集光し、ガラス基板
３７上に形成されたレジスト層３８に照射させる対物レ
ンズ３６とにより構成される。そして、これら照射光学
系８を構成する各光学素子は、レジスト層３８が形成さ
れたガラス基板３７の径方向に移動操作される移動光学
テーブル上に支持されている。

【００６５】ＰＢＳ３３は、Ｐ偏光成分を透過し、Ｓ偏
光成分を反射するようになされている。ＰＢＳ３３に入
射する第１の露光ビームは、第１の変調光学系６により
強度変調がなされた後に、１／２波長板２９によりＰ偏
光とされているので、このＰＢＳ３３を透過することに
なる。一方、ＰＢＳ３３に入射する第２の露光ビームは
Ｓ偏光のままであるので、ＰＢＳ３３により反射され
る。これにより、第１の露光ビームと第２の露光ビーム
とは、略同一の光軸上に導かれることになる。

【００６６】ＰＢＳ３３を透過した第１の露光ビーム
と、ＰＢＳ３３により反射された第２の露光ビームと
は、それぞれ拡大レンズ３４を透過することによりビー
ム径が拡大され、反射ミラー３５により光路が折り曲げ
られて、対物レンズ３６に入射する。対物レンズ３６に
入射した第１及び第２の露光ビームは、それぞれ対物レ
ンズ３６により集光されて、エアースピンドルにより回
転操作されるガラス基板３７上に形成されたレジスト層
３８に照射される。

【００６７】これにより、第１及び第２の露光ビームの
照射軌跡に応じた潜像が、レジスト層３８に形成され
る。

【００６８】以上説明したように、この露光装置１は、
光源から出射される記録用レーザ光の光路を２つに分離
し、それぞれの光路の記録用レーザ光に対して、個別に
自動光量制御を行うようにしているので、光路が分離さ
れた記録用レーザ光の光出力を、それぞれ最適な値に制
御することができると共に、これらレーザ光のばらつき
を抑制し、精度の良い潜像を形成することができる。

【００６９】なお、以上は、第１のＥＯＭ１０を備えた
第１の光出力制御手段４により第１の露光ビームの自動
光量制御を行い、第２のＥＯＭ１５を備えた第２の光出
力制御手段５により第２の露光ビームの自動光量制御を
行うようにした露光装置１について説明したが、本発明
に係る露光装置は、この例に限定されるものではなく、
例えば、変調光学系のＡＯＭ等を利用して、自動光量制
御を行うようにしても良い。

【００７０】第２のＥＯＭ１５の代わりに第２の変調光
学系７の第２のＡＯＭ２６を利用して、第２の露光ビー
ムに対して自動光量制御を行うようにした露光装置４０
を図２に示す。

【００７１】この露光装置４０は、ビームスプリッタ３
により反射された第２の露光ビームを、露光装置１が備
える第２の光出力制御手段５のような光出力制御手段を
通さずに、第２の変調光学系７に直接導くようにしてい
る。そして、露光装置１が備える反射ミラー３１に代え
て、当該箇所に第２のハーフミラー１７を配置し、第２
のハーフミラー１７の透過光路上に、第２の光検出器１
８を配置するようにしている。そして、この露光装置４
０においては、第２の光検出器１８と第２の変調光学系
７の第２の駆動ドライバ２８との間に、第２のＡＰＣ１
９が接続され、第２の変調光学系７、第２のハーフミラ
ー１７、第２の光検出器１８及び第２のＡＰＣ１９とに
より第２の光出力制御手段が構成されている。

【００７２】この露光装置４０によれば、第２のハーフ
ミラー１７を透過した第２の露光ビームは、第２の光検
出器１８に受光される。第２の光検出器１８は、受光し
た光の光強度に応じた制御信号を生成し、この制御信号
を第２のＡＰＣ１９に供給する。

【００７３】第２のＡＰＣ１９は、第２の光検出器１８
より供給される制御信号に基づいて、第２の駆動用ドラ
イバ２８を制御する。具体的には、第２のＡＰＣ１９
は、第２の光検出器１８により受光される第２の露光ビ
ームの光強度が所定のレベルにて一定になるように、第
２の駆動用ドライバ２８から第２のＡＯＭ２６に供給さ
れる信号Ｓ２のキャリアの強度を調整する。これによ
り、第２のＡＯＭ２６を透過する第２の露光ビームの光
強度が一定となるように自動光量制御がなされ、ノイズ
の少ない安定した露光ビームが得られる。

【００７４】露光装置４０は、以上のように、第２の変
調光学系７を利用して自動光量制御を行うようにしてい
るので、先に説明した露光装置１に比べ、構成を簡素化
することができると共に、第２の露光ビームに対して、
より対物レンズ３６に近いところで自動光量制御を行う
ことができ、より精度の良い潜像を形成することができ
る。

【００７５】次に、第１のＥＯＭ１０の代わりに第１の
変調光学系６の第１のＡＯＭ２２を利用して、第１の露
光ビームに対して自動光量制御を行い、第２のＥＯＭ１
５の代わりに、第２の露光ビームに対して光学偏向を施
すための偏向光学系５１の音響光学偏向器（ＡＯＤ：Ac
ousto Optical Deflector）５２を利用して、第２の露
光ビームに対して自動光量制御を行うようにした露光装
置５０を図３に示す。

【００７６】ここで、偏向光学系５１は、第２の露光ビ
ームに対して光学偏向を施すことにより、レジスト層３
８に照射される第２の露光ビームの照射軌跡を蛇行さ
せ、いわゆるウォブリンググルーブを形成するためのも
のであり、第２の露光ビームの光路上に配設されたＡＯ
Ｄ５２と、ＡＯＤ５２の前後に配された一対のウェッジ
プリズム５３，５４と、ＡＯＤ５２を駆動させる第３の
駆動ドライバ５５とにより構成される。

【００７７】ＡＯＤ５２に使用される音響光学素子とし
ては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ₂）からなる音響光
学素子が好適である。

【００７８】また、一対のウェッジプリズム５３，５４
は、第２の露光ビームがＡＯＤ５２の格子面に対してブ
ラッグ条件を満たすようにＡＯＤ５２に入射させると共
に、ＡＯＤ５２により光学偏向が施された第２の露光ビ
ームの水平高さを維持するためのものである。

【００７９】また、第３の駆動ドライバ５５には、電圧
制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscillato
r）５６が接続されており、このＶＣＯ５６より高周波
信号が供給されるようになされている。

【００８０】偏向光学系５１に入射した第２の露光ビー
ムは、ウェッジプリズム５３を介して、第３の駆動ドラ
イバ５５により駆動されるＡＯＤ５２に入射する。第３
の駆動ドライバ５５には、ＶＣＯ５６からの高周波信号
が、アドレス情報を含む制御信号Ｓ３によりＦＭ変調さ
れ供給される。第３の駆動用ドライバ５５は、この信号
に応じてＡＯＤ５２を駆動する。これにより、ＡＯＤ５
２に入射した第２の露光ビームは、所望する露光パター
ンに対応するように光学偏向が施される。

【００８１】この露光装置５０は、ビームスプリッタ３
を透過した第１の露光ビームを、露光装置１が備える第
１の光出力制御手段４のような光出力制御手段を通さず
に、第１の変調光学系６に直接導くようにしている。そ
して、露光装置１が備える反射ミラー３０に代えて、当
該箇所に第１のハーフミラー１２を配置し、第１のハー
フミラー１２の透過光路上に、第１の光検出器１３を配
置するようにしている。そして、この露光装置５０にお
いては、第１の光検出器１３と第１の変調光学系６の第
１の駆動ドライバ２４との間に、第１のＡＰＣ１４が接
続され、第１の変調光学系６、第１のハーフミラー１
２、第１の光検出器１３及び第１のＡＰＣ１４とにより
第１の光出力制御手段が構成されている。

【００８２】また、この露光装置５０は、ビームスプリ
ッタ３により反射された第２の露光ビームを、露光装置
１が備える第２の光出力制御手段５のような光出力制御
手段を通さずに、第２の変調光学系７及び偏向光学系５
１に直接導くようにしている。そして、露光装置１が備
える反射ミラー３２に代えて、当該箇所に第２のハーフ
ミラー１７を配置し、第２のハーフミラー１７の透過光
路上に、第２の光検出器１８を配置するようにしてい
る。そして、この露光装置５０においては、第２の光検
出器１８と偏向光学系５１の第３の駆動ドライバ５５と
の間に、第２のＡＰＣ１９が接続され、偏向光学系５
１、第２のハーフミラー１７、第２の光検出器１８及び
第２のＡＰＣ１９とにより第２の光出力制御手段が構成
されている。

【００８３】この露光装置５０によれば、第１のハーフ
ミラー１２を透過した第１の露光ビームは、第１の光検
出器１３に受光される。第１の光検出器１３は、受光し
た光の光強度に応じた制御信号を生成し、この制御信号
を第１のＡＰＣ１４に供給する。

【００８４】第１のＡＰＣ１４は、第１の光検出器１３
より供給される制御信号に基づいて、第１の駆動用ドラ
イバ２４を制御する。具体的には、第１のＡＰＣ１４
は、第１の光検出器１３により受光される第１の露光ビ
ームの光強度が所定のレベルにて一定になるように、第
１の駆動用ドライバ２４から第１のＡＯＭ２２に供給さ
れる信号Ｓ１のキャリアの強度を調整する。これによ
り、第１のＡＯＭ２２を透過する第１の露光ビームの光
強度が一定となるように自動光量制御がなされる。

【００８５】また、この露光装置５０によれば、第２の
ハーフミラー１７を透過した第２の露光ビームは、第２
の光検出器１８に受光される。第２の光検出器１８は、
受光した光の光強度に応じた制御信号を生成し、この制
御信号を第２のＡＰＣ１９に供給する。

【００８６】第２のＡＰＣ１９は、第２の光検出器１８
より供給される制御信号に基づいて、第３の駆動用ドラ
イバ５５を制御する。具体的には、第２のＡＰＣ１９
は、第２の光検出器１８により受光される第２の露光ビ
ームの光強度が所定のレベルにて一定になるように、第
３の駆動用ドライバ５５からＡＯＤ５２に供給される信
号Ｓ３のキャリアの強度を調整する。これにより、ＡＯ
Ｄ５２を透過する第２の露光ビームの光強度が一定とな
るように自動光量制御がなされる。

【００８７】露光装置５０は、以上のように、第１の変
調光学系６を利用して第１の露光ビームの自動光量制御
を行い、偏向光学系５１を利用して第２の露光ビームの
自動光量制御を行うようにしているので、先に説明した
露光装置１に比べ、構成を簡素化することができると共
に、第１及び第２の露光ビームに対して、より対物レン
ズ３６に近いところで自動光量制御を行うことができ、
より精度の良い潜像を形成することができる。

【００８８】（第２の実施の形態）第２の実施の形態の
露光装置は、例えば、図４及び図５に示すような光磁気
ディスクを形成するために構成されたものであって、光
源から出射された記録用レーザ光を３つの露光ビームに
分離するようにしている。

【００８９】ここで、第２の実施の形態の露光装置の説
明に先立ち、図４及び図５に示す光磁気ディスク６０に
ついて説明する。なお、図４は、この光磁気ディスク６
０の要部を拡大した断面図であり、図５は、この光磁気
ディスクの記録領域の一部を拡大した平面図である。

【００９０】この光磁気ディスク６０は、円盤状に形成
されてなり、磁気光学効果を利用してデータの記録が行
われる。そして、この光磁気ディスク６０は、図４に示
すように、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポ
リカーボネート（ＰＣ）等からなるディスク基板６１上
に、光磁気記録がなされる記録層６２と、当該記録層６
２を保護する保護層６３とが形成されてなる。ここで、
記録層６２は、例えば、ＳｉＮ等からなる誘電体膜と、
ＴｅＦｅＣｏ合金等からなる垂直磁気記録膜と、ＳｉＮ
等からなる誘電体膜と、Ａｌ等からなる反射膜とが積層
されてなる。また、保護層６３は、例えば、記録層６２
の上に紫外線硬化樹脂がスピンコートされてなる。

【００９１】この光磁気ディスク６０は、図５に示すよ
うに、記録領域の一部が、ＴＯＣ（Table Of Content
s）情報等がエンボスピット６４によって予め書き込ま
れた再生専用の領域Ｂ１とされており、その他の領域
が、光磁気記録によるデータの書き込みが可能な領域Ｂ
２となっている。

【００９２】なお、エンボスピット６４によってＴＯＣ
情報等が書き込まれている領域Ｂ１は、再生専用のデー
タ領域であり、以下の説明では、このデータ領域のこと
を再生専用領域Ｂ１と称する。また、光磁気記録による
データの書き込みが可能となっている領域Ｂ２のこと
を、以下の説明では、書き込み可能領域Ｂ２と称する。

【００９３】この光磁気ディスク６０において、再生専
用領域Ｂ１に形成されたエンボスピット６４は、例えば
２−８変調が施されてなるピットパターンが、シングル
スパイラル状に形成されている。すなわち、記録トラッ
クに沿ってシングルスパイラル状に形成されたピット列
により、再生専用領域Ｂ１にＴＯＣ情報等が書き込まれ
ている。

【００９４】一方、書き込み可能領域Ｂ２には、ウォブ
リンググルーブ６５とストレートグルーブ６６とがダブ
ルスパイラル状に形成されており、ウォブリンググルー
ブ６５とストレートグルーブ６６との間のランドの部分
に、光磁気記録によるデータの記録が行われる。すなわ
ち、図５に示すように、ウォブリンググルーブ６５とス
トレートグルーブ６６の間であって、ディスク内周側が
ストレートグルーブ６６となっている部分が、情報信号
が記録される第１の記録トラックTrackＡとなり、ま
た、ウォブリンググルーブ６５とストレートグルーブ６
６の間であって、ディスク内周側がウォブリンググルー
ブ６５となっている部分が、情報信号が記録される第２
の記録トラックTrackＢとなる。

【００９５】ここで、ウォブリンググルーブ６５は、±
１０ｎｍの振幅にて一定の周期で蛇行するように形成さ
れている。すなわち、この光磁気ディスク６０では、一
方のグルーブ（すなわちウォブリンググルーブ６５）を
±１０ｎｍの振幅にてウォブリングさせることにより、
グルーブにアドレス情報を付加している。

【００９６】また、この光磁気ディスク６０において、
再生専用領域Ｂ１のトラックピッチTPitchは０．９５μ
ｍとされ、同様に、書き込み可能領域Ｂ２のトラックピ
ッチTPitchは０．９５μｍとされている。

【００９７】ここで、再生専用領域Ｂ１のトラックピッ
チTPitchは、隣接するピット列の中心位置の間隔に相当
する。すなわち、この光磁気ディスク６０において、隣
接するピット列の中心位置の間隔は、０．９５μｍとさ
れている。また、書き込み可能領域Ｂ２のトラックピッ
チは、ウォブリンググルーブ６５とストレートグルーブ
６６の中心位置の間隔に相当する。すなわち、この光磁
気ディスク６０において、ウォブリンググルーブ６５と
ストレートグルーブ６６の中心位置の間隔は、０．９５
μｍとされる。

【００９８】なお、以下の説明では、隣接するストレー
トグルーブ６６の中心位置の間隔のことをトラックピリ
オドTPeriodと称する。トラックピリオドTPeriodは、ト
ラックピッチTPitchの２倍に相当するものであり、この
光磁気ディスク６０においてトラックピリオドTPeriod
は、１．９０μｍとされている。

【００９９】また、この光磁気ディスク６０において、
再生専用領域Ｂ１と書き込み可能領域Ｂ２との間の領域
を遷移領域Ｂ３と称する。そして、この光磁気ディスク
６０では、再生専用領域Ｂ１と書き込み可能領域Ｂ２と
のディスク半径方向における間隔、すなわち遷移領域Ｂ
３の幅ｔ１を２０μｍ以内とする。このように遷移領域
Ｂ３の幅ｔ１を十分に小さくしておくことにより、記録
再生時に、記録再生位置が再生専用領域Ｂ１から書き込
み可能領域Ｂ２に遷移したり、或いは、記録再生位置が
書き込み可能領域Ｂ２から再生専用領域Ｂ１に遷移した
りした場合にも、記録トラックを見失うことなく、連続
して記録再生を安定に行うことが可能となる。

【０１００】以上のように構成される光磁気ディスク６
０のスタンパを作製する工程においては、図６に示すよ
うな露光装置７０が用いられる。

【０１０１】この図６に示す露光装置７０は、基本構成
として、記録用レーザ光を出射する光源７１と、光源７
１から出射された記録用レーザ光の一部を透過し、他の
一部を反射させることにより、記録用レーザ光の光路を
分離する第１のビームスプリッタ７２と、第１のビーム
スプリッタ７２を透過した記録要レーザ光の一部を透過
し、他の一部を反射させることにより、記録要レーザ光
の光炉を分離する第２のビームスプリッタ７３と、第２
のビームスプリッタ７３を透過した第１の光路の記録用
レーザ光の光出力を一定にする第１の光出力制御手段７
４と、第２のビームスプリッタ７３により反射された第
２の光路の記録用レーザ光の光出力を一定にする第２の
光出力制御手段７５と、第１のビームスプリッタ７２に
より反射された第３の光路の記録用レーザ光の光出力を
一定にする第３の光出力制御手段７６と、第１の光出力
制御手段７４により光出力が制御された第１の光路の記
録用レーザ光に対して強度変調を行う第１の変調光学系
７７と、第２の光出力制御手段７５により光出力が制御
された第２の光路の記録用レーザ光に対して強度変調を
行う第２の変調光学系７８と、第３の光出力制御手段７
６により光出力が制御された第３の光路の記録用レーザ
光に対して強度変調を行う第３の変調光学系７９と、第
２の変調光学系７８により強度変調された第２の光路の
記録用レーザ光に対して光学偏向を施す偏向光学系８０
と、第１乃至第３の光路の記録要レーザ光を略同一光路
上に導き、これら記録用レーザ光を集光してガラス基板
３７上に形成されたレジスト層３８に照射させる照射光
学系８１とを備えている。

【０１０２】レジスト層３８が形成されたガラス基板３
７は、高回転精度で回転するエアースピンドル上にチャ
ッキングされている。

【０１０３】なお、以下の説明においては、第１の光路
の記録用レーザ光を第１の露光ビームと呼び、第２の光
路の記録用レーザ光を第２の露光ビームと呼び、第３の
光路の記録要レーザ光を第３の露光ビームと呼ぶ。

【０１０４】また、各光学素子は、上述した第１の実施
の形態で説明したものと同様であるので、詳細な説明を
省略する。

【０１０５】第１の光出力制御手段７４は、第１の露光
ビームの光出力を調整する第１のＥＯＭ８２と、第１の
ＥＯＭ８２を透過した第１の露光ビームのＳ偏光だけを
透過する第１の検光子８３と、第１の検光子８３を透過
した第１の露光ビームの一部を反射させ、他の一部を透
過させる第１のハーフミラー８４と、第１のハーフミラ
ー８４を透過した第１の露光ビームを受光し制御信号を
生成する第１の光検出器８５と、第１の光検出器８５に
より生成された制御信号に基づいて第１のＥＯＭ８２の
動作を制御する第１のＡＰＣ８６とにより構成される。

【０１０６】同様に、第２の光出力制御手段７５は、第
２の露光ビームの光出力を調整する第２のＥＯＭ８７
と、第２のＥＯＭ８７を透過した第２の露光ビームのＳ
偏光だけを透過する第２の検光子８８と、第２の検光子
８８を透過した第２の露光ビームの一部を反射させ、他
の一部を透過させる第２のハーフミラー８９と、第２の
ハーフミラー８９により反射された第２の露光ビームを
受光し制御信号を生成する第２の光検出器９０と、第２
の光検出器９０により生成された制御信号に基づいて第
２のＥＯＭ８７の動作を制御する第２のＡＰＣ９１とに
より構成される。

【０１０７】同様に、第３の光出力制御手段７６は、第
３の露光ビームの光出力を調整する第３のＥＯＭ９２
と、第３のＥＯＭ９２を透過した第３の露光ビームのＳ
偏光だけを透過する第３の検光子９３と、第３の検光子
９３を透過した第３の露光ビームの一部を反射させ、他
の一部を透過させる第３のハーフミラー９４と、第３の
ハーフミラー９４により反射された第３の露光ビームを
受光し制御信号を生成する第３の光検出器９５と、第３
の光検出器９５により生成された制御信号に基づいて第
３のＥＯＭ９２の動作を制御する第３のＡＰＣ９６とに
より構成される。

【０１０８】光源２から出射された記録用レーザ光は、
第１及び第２のビームスプリッタ７２，７３により第１
の露光ビームと第２の露光ビームと第３の露光ビームと
に分離される。

【０１０９】第２のビームスプリッタ７３を透過した第
１の露光ビームは、第１のＡＰＣ８６により制御される
第１のＥＯＭ８２に入射し、この第１のＥＯＭ８２によ
り、光出力が一定になるように強度補正される。第１の
ＥＯＭ８２を透過した第１の露光ビームは、第１の検光
子８３によりＳ偏光とされた後、一部が第１のハーフミ
ラー８４により反射され、一部が第１のハーフミラー８
４を透過する。

【０１１０】第１のハーフミラー８４を透過した第１の
露光ビームは、第１の光検出器８５に受光される。第１
の光検出器８５は、受光した光の光強度に応じた制御信
号を生成し、この制御信号を第１のＡＰＣ８６に供給す
る。

【０１１１】第１のＡＰＣ８６は、第１の光検出器８５
より供給される制御信号に基づいて、第１のＥＯＭ８２
を制御する。具体的には、第１のＡＰＣ８６は、第１の
光検出器８５により受光される第１の露光ビームの光強
度が所定のレベルにて一定になるように、第１のＥＯＭ
８２に対して印加する信号電界を調整する。これによ
り、第１のＥＯＭ８２を透過する第１の露光ビームの光
強度が一定となるように自動光量制御がなされ、ノイズ
の少ない安定した露光ビームが得られる。

【０１１２】一方、第２のビームスプリッタ７３により
反射された第２の露光ビームは、第２のＡＰＣ９１によ
り制御される第２のＥＯＭ８７に入射し、この第２のＥ
ＯＭ８７により、光出力が一定になるように強度補正さ
れる。第２のＥＯＭ８７を透過した第２の露光ビーム
は、第２の検光子８８によりＳ偏光とされた後、一部が
第２のハーフミラー８９により反射され、一部が第２の
ハーフミラー８９を透過する。

【０１１３】第２のハーフミラー８９により反射された
第２の露光ビームは、第２の光検出器９０に受光され
る。第２の光検出器９０は、受光した光の光強度に応じ
た制御信号を生成し、この制御信号を第２のＡＰＣ９１
に供給する。

【０１１４】第２のＡＰＣ９１は、第２の光検出器９０
より供給される制御信号に基づいて、第２のＥＯＭ８７
を制御する。具体的には、第２のＡＰＣ９１は、第２の
光検出器９０により受光される第２の露光ビームの光強
度が所定のレベルにて一定になるように、第２のＥＯＭ
８７に対して印加する信号電界を調整する。これによ
り、第２のＥＯＭ８７を透過する第２の露光ビームの光
強度が一定となるように自動光量制御がなされ、ノイズ
の少ない安定した露光ビームが得られる。

【０１１５】また、第１のビームスプリッタ７２により
反射された第３の露光ビームは、第３のＡＰＣ９４によ
り制御される第３のＥＯＭ９２に入射し、この第３のＥ
ＯＭ９２により、光出力が一定になるように強度補正さ
れる。第３のＥＯＭ９２を透過した第３の露光ビーム
は、第３の検光子９３によりＳ偏光とされた後、一部が
第３のハーフミラー９４により反射され、一部が第３の
ハーフミラー９４を透過する。

【０１１６】第３のハーフミラー９４により反射された
第３の露光ビームは、第３の光検出器９５に受光され
る。第３の光検出器９５は、受光した光の光強度に応じ
た制御信号を生成し、この制御信号を第３のＡＰＣ９６
に供給する。

【０１１７】第３のＡＰＣ９６は、第３の光検出器９５
より供給される制御信号に基づいて、第３のＥＯＭ９２
を制御する。具体的には、第３のＡＰＣ９６は、第３の
光検出器９５により受光される第３の露光ビームの光強
度が所定のレベルにて一定になるように、第３のＥＯＭ
９２に対して印加する信号電界を調整する。これによ
り、第３のＥＯＭ９２を透過する第３の露光ビームの光
強度が一定となるように自動光量制御がなされ、ノイズ
の少ない安定した露光ビームが得られる。

【０１１８】第１のハーフミラー８４により反射された
第１の露光ビームは、第１の変調光学系７７により強度
変調が施される。また、第２のハーフミラー８９を透過
した第２の露光ビームは、第２の変調光学系７８により
強度変調が施される。また、第３のハーフミラー９４を
透過した第３の露光ビームは、第３の変調光学系７９に
より強度変調が施される。

【０１１９】第１の変調光学系７７は、第１のハーフミ
ラー８４により反射された第１の露光ビームを集光する
第１の集光レンズ９７と、第１の集光レンズ９７により
集光された第１の露光ビームに対して記録信号に応じて
強度変調を施す第１のＡＯＭ９８と、第１のＡＯＭ９８
により強度変調された第１の露光ビームを平行光にする
第１のコリメートレンズ９９と、第１のＡＯＭ９８を駆
動する第１の駆動ドライバ１００とにより構成される。

【０１２０】同様に、第２の変調光学系７８は、第２の
ハーフミラー８９を透過した第２の露光ビームを集光す
る第２の集光レンズ１０１と、第２の集光レンズ１０１
により集光された第２の露光ビームに対して記録信号に
応じて強度変調を施す第２のＡＯＭ１０２と、第２のＡ
ＯＭ１０２により強度変調された第２の露光ビームを平
行光にする第２のコリメートレンズ１０３と、第２のＡ
ＯＭ１０２を駆動する第２の駆動ドライバ１０４とによ
り構成される。

【０１２１】同様に、第３の変調光学系７９は、第３の
ハーフミラー９４を透過した第３の露光ビームを集光す
る第３の集光レンズ１０５と、第３の集光レンズ１０５
により集光された第３の露光ビームに対して記録信号に
応じて強度変調を施す第３のＡＯＭ１０６と、第３のＡ
ＯＭ１０６により強度変調された第３の露光ビームを平
行光にする第３のコリメートレンズ１０７と、第３のＡ
ＯＭ１０６を駆動する第３の駆動ドライバ１０８とによ
り構成される。

【０１２２】第１のハーフミラー８４により反射された
第１の露光ビームは、第１の集光レンズ９７により集光
された状態で、第１のＡＯＭ９８に入射する。そして、
第１の露光ビームは、第１の駆動ドライバ１００により
駆動される第１のＡＯＭ９８によって、所望する露光パ
ターンに対応するように強度変調される。

【０１２３】第１の駆動ドライバ１００には、所望する
露光パターンに応じた信号Ｓ４が入力される。具体的に
は、例えば、一定の深さのストレートグルーブに対応し
たグルーブパターンの潜像をレジスト層３８に形成する
場合には、一定レベルのＤＣ信号が第１の駆動ドライバ
１００に入力される。第１の駆動ドライバ１００は、こ
の信号Ｓ４に基づいて第１のＡＯＭ９８を駆動する。こ
れにより、第１のＡＯＭ９８に入射した第２の露光ビー
ムは、所望するグルーブパターンに対応するように、第
１のＡＯＭ９８によって強度変調が施される。

【０１２４】第１のＡＯＭ９８により強度変調された第
１の露光ビームは、第１のコリメートレンズ９９により
平行光とされた後、移動光学テーブル上に設けられた照
射光学系８１に向かう。

【０１２５】一方、第２のハーフミラー８９を透過した
第２の露光ビームは、第２の集光レンズ１０１により集
光された状態で、第２のＡＯＭ１０２に入射する。そし
て、第２の露光ビームは、第２の駆動ドライバ１０４に
より駆動される第２のＡＯＭ１０２によって、所望する
露光パターンに対応するように強度変調される。

【０１２６】第２の駆動ドライバ１０４には、所望する
露光パターンに応じた信号Ｓ５が入力される。具体的に
は、例えば、一定の深さのウォブリンググルーブに対応
したグルーブパターンの潜像をレジスト層３８に形成す
る場合には、一定レベルのＤＣ信号が第２の駆動ドライ
バ１０４に入力される。第２の駆動ドライバ１０４は、
この信号Ｓ５に基づいて第２のＡＯＭ１０２を駆動す
る。これにより、第２のＡＯＭ１０２に入射した第２の
露光ビームは、所望するグルーブパターンに対応するよ
うに、第２のＡＯＭ１０２によって強度変調が施され
る。

【０１２７】第２のＡＯＭ１０２により強度変調された
第２の露光ビームは、第２のコリメートレンズ１０３に
より平行光とされた後、偏向光学系８０に向かう。

【０１２８】また、第３のハーフミラー９４により反射
された第３の露光ビームは、第３の集光レンズ１０５に
より集光された状態で、第３のＡＯＭ１０６に入射す
る。そして、第３の露光ビームは、第３の駆動ドライバ
１０８により駆動される第３のＡＯＭ１０６によって、
所望する露光パターンに対応するように強度変調され
る。

【０１２９】第３の駆動ドライバ１０８には、所望する
露光パターンに応じた信号Ｓ６が入力される。具体的に
は、例えば、２−８変調が施されたピットパターンの潜
像をレジスト層３８に形成する場合には、２−８変調が
施されたピットパターンに対応した変調信号が第３の駆
動ドライバ１０８に入力される。第３の駆動ドライバ１
０８は、この信号Ｓ６に基づいて第３のＡＯＭ１０６を
駆動する。これにより、第３のＡＯＭ１０６に入射した
第３の露光ビームは、例えば２−８変調が施されたピッ
トパターンに対応するように、第３のＡＯＭ１０６によ
って強度変調が施される。

【０１３０】第３のＡＯＭ１０６により強度変調された
第３の露光ビームは、第３のコリメートレンズ１０７に
より平行光とされた後、移動光学テーブル上に設けられ
た照射光学系８１に向かう。

【０１３１】第１のコリメートレンズ９９により平行光
とされた第１の露光ビームは、１／２波長板１０９によ
り偏光方向が９０°回転させられ、Ｐ偏光とされた後、
反射ミラー１１０により光路が折り曲げられて、移動光
学テーブル上に水平に導かれ、照射光学系８１に向か
う。また、第３のコリメートレンズ１０７により平行光
とされた第３の露光ビームは、反射ミラー１１１，１１
２により光路が折り曲げられ、ハーフミラー１１９を透
過して、移動光学テーブル上に水平に導かれ、照射光学
系８１に向かう。

【０１３２】第２のコリメートレンズ１０３により平行
光とされた第２の露光ビームは、反射ミラー１１３によ
り光路が折り曲げられて、偏向光学系８０に向かう。

【０１３３】偏向光学系８０は、第２の露光ビームに対
して光学偏向を施すことにより、レジスト層３８に照射
される第２の露光ビームの照射軌跡を蛇行させ、いわゆ
るウォブリンググルーブを形成するためのものであり、
ＡＯＤ１１４と、ＡＯＤ１１４の前後に配された一対の
ウェッジプリズム１１５，１１６と、ＡＯＤ１１４を駆
動させる第４の駆動ドライバ１１７とにより構成され
る。

【０１３４】第４の駆動ドライバ１１７には、ＶＣＯ１
１８が接続されており、このＶＣＯ１１８より高周波信
号が供給されるようになされている。

【０１３５】偏向光学系８０に入射した第２の露光ビー
ムは、ウェッジプリズム１１５を介して、第４の駆動ド
ライバ１１７により駆動されるＡＯＤ１１４に入射す
る。第４の駆動ドライバ１１７には、ＶＣＯ１１８から
の高周波信号が、アドレス情報を含む制御信号Ｓ７によ
りＦＭ変調され供給される。第４の駆動用ドライバ１１
７は、この信号に応じてＡＯＤ１１４を駆動する。これ
により、ＡＯＤ１１４に入射した第２の露光ビームは、
所望する露光パターンに対応するように光学偏向が施さ
れる。

【０１３６】偏向光学系８０により光学偏向が施された
第２の露光ビームは、ハーフミラー１１９により光路が
折り曲げられて、移動光学テーブル上に水平に導かれ、
照射光学系８１に向かう。

【０１３７】照射光学系８１は、第１の露光ビームを透
過し、第２及び第３のの露光ビームを反射するＰＢＳ１
２０と、ＰＢＳ１２０を透過した第１の露光ビーム及び
ＰＢＳ１２０により反射された第２及び第３の露光ビー
ムのビーム径を拡大させる拡大レンズ１２１と、拡大レ
ンズ１２１によりビーム径が拡大され、反射ミラー１２
２により光路が折り曲げられた第１乃至第３の露光ビー
ムをそれぞれ集光し、ガラス基板３７上に形成されたレ
ジスト層３８に照射させる対物レンズ１２３とにより構
成される。そして、これら照射光学系８１を構成する各
光学素子は、レジスト層３８が形成されたガラス基板３
７の径方向に移動操作される移動光学テーブル上に支持
されている。

【０１３８】ＰＢＳ１２０は、Ｐ偏光成分を透過し、Ｓ
偏光成分を反射するようになされている。ＰＢＳ１２０
に入射する第１の露光ビームは、１／２波長板１０９に
よりＰ偏光とされているので、このＰＢＳ１２０を透過
することになる。一方、ＰＢＳ１２０に入射する第２及
び第３の露光ビームはＳ偏光のままであるので、ＰＢＳ
１２０により反射される。これにより、第１の露光ビー
ムと第２の露光ビームと第３の露光ビームとは、略同一
の光軸上に導かれることになる。

【０１３９】ＰＢＳ１２０を透過した第１の露光ビーム
と、ＰＢＳ１２０により反射された第２及び第３のの露
光ビームとは、それぞれ拡大レンズ１２１を透過するこ
とによりビーム径が拡大され、反射ミラー１２２により
光路が折り曲げられて、対物レンズ１２３に入射する。
対物レンズ１２３に入射した第１乃至第３の露光ビーム
は、それぞれ対物レンズ１２３により集光されて、エア
ースピンドルにより回転操作されるガラス基板３７上に
形成されたレジスト層３８に照射される。

【０１４０】これにより、第１乃至第３の露光ビームの
照射軌跡に応じた潜像が、レジスト層３８に形成され
る。

【０１４１】以上説明した露光装置７０を用いることに
より、先に図４及び図５に示した光磁気ディスク６０用
のスタンパを作製することができる。この露光装置７０
を用いて光磁気ディスク６０用のスタンパを作製する際
は、第１の露光ビームによりストレートグルーブ６６に
対応した潜像を形成し、第２の露光ビームによりウォブ
リンググルーブ６５に対応した潜像を形成し、第３の露
光ビームによりエンボスピット６４に対応した潜像を形
成するようにする。

【０１４２】なお、上述したように、光磁気ディスク６
０においては、エンボスピット６４は、光磁気ディスク
６０の内周側の再生専用領域Ｂ１に形成され、ウォブリ
ンググルーブ６５及びストレートグルーブ６６は、遷移
領域Ｂ３を挟んで再生専用領域Ｂ１よりも外周側の書き
込み可能領域Ｂ２にダブルスパイラル形状をなすように
形成される。したがって、露光装置７０を用いて光磁気
ディスク６０用のスタンパを作製する際は、まず、第３
の露光ビームのみを用いて、ガラス基板３７上のレジス
ト層３８の内周側にエンボスピット６４に対応したパタ
ーンの潜像を形成する。そして、遷移領域Ｂ３となる箇
所で第３の露光ビームと第１及び第２の露光ビームの切
り換えを行う。次いで、第１及び第２の露光ビームを用
いて、レジスト層３８の外周側にダブルスパイラル形状
をなすウォブリンググルーブ６５及びストレートグルー
ブ６６を形成するようにする。これにより、レジスト層
３８に、光磁気ディスク６０に対応した潜像を適切に形
成することができる。

【０１４３】以上説明したように、この露光装置７０
は、光源から出射される記録用レーザ光の光路を３つに
分離し、それぞれの光路の記録用レーザ光に対して、個
別に自動光量制御を行うようにしているので、光路が分
離された記録用レーザ光の光出力を、それぞれ最適な値
に制御することができると共に、これらレーザ光のばら
つきを抑制し、例えばエンボスピットに対応した潜像、
ウォブリンググルーブに対応した潜像、ストレートグル
ーブに対応した潜像といったように、異なる形状の３種
の潜像を精度良く形成することができる。

【０１４４】なお、以上は、第１のＥＯＭ８２を備えた
第１の光出力制御手段７４により第１の露光ビームの自
動光量制御を行い、第２のＥＯＭ８７を備えた第２の光
出力制御手段７５により第２の露光ビームの自動光量制
御を行い、第３のＥＯＭ９２を備えた第３の光出力制御
手段７６により第３の露光ビームの自動光量制御を行う
ようにした露光装置７０について説明したが、本発明に
係る露光装置は、この例に限定されるものではなく、第
１の実施の形態と同様に、例えば、変調光学系のＡＯＭ
や偏向光学系８０のＡＯＤ等を利用して、自動光量制御
を行うようにしても良い。

【０１４５】

【発明の効果】本発明に係る露光装置は、光源から出射
されたレーザ光の光路を光路分離手段により複数に分離
し、分離されたそれぞれの光路のレーザ光を、その光出
力が一定の値となるように、複数の出力制御手段により
個別に制御するようにしているので、光路が分離された
レーザ光の光出力を、それぞれ最適な値に制御すること
ができると共に、複数の光路のレーザ光のばらつきを抑
制することができる。

【０１４６】また、本発明に係る露光方法は、光源から
出射されるレーザ光の光路を複数に分離し、複数の光出
力制御手段により、分離された複数の光路のレーザ光の
一部を各々検出してこれらレーザ光の光出力が所定の値
となるように制御するようにしているので、光路が分離
されたレーザ光の光出力を、それぞれ最適な値に制御す
ることができると共に、複数の光路のレーザ光のばらつ
きを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る露光装置の概略構成を示す構成図
である。

【図２】本発明に係る他の露光装置の概略構成を示す構
成図である。

【図３】本発明に係る更に他の露光装置の概略構成を示
す構成図である。

【図４】光磁気ディスクの要部断面図である。

【図５】同光磁気ディスクの記録領域を示す平面図であ
る。

【図６】本発明に係る更に他の露光装置の概略構成を示
す構成図である。

【図７】従来の露光装置の概略構成を示す構成図であ
る。

【符号の説明】

１，４０，５０，７０露光装置、２，７１光源、３
ビームスプリッタ、７２第１のビームスプリッタ、
７３第２のビームスプリッタ、４，７４第１の光出
力制御手段、５，７５第２の光出力制御手段、７６
第３の光出力制御手段、６，７７第１の変調光学系、
７，７８第２の変調光学系、７９第３の変調光学
系、５１，８０偏向光学系、３８レジスト層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源から出射されたレーザ光を感光剤層
に照射し、この感光剤層に所定のパターンの潜像を形成
する露光装置において、上記レーザ光の光路を複数に分離する光路分離手段と、上記光路分離手段により分離された複数の光路のレーザ
光の一部を各々検出し、上記レーザ光の光出力が所定の
値となるように制御する複数の光出力制御手段とを備え
ることを特徴とする露光装置。
【請求項２】上記分離された複数の光路のレーザ光を
略同一の光路上に導く光路合成手段を備えることを特徴
とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】上記光路分離手段により分離されたレー
ザ光の複数の光路上にそれぞれ配設され、供給される記
録信号に基づいて上記レーザ光を強度変調する複数の強
度変調手段を備えることを特徴とする請求項１記載の露
光装置。
【請求項４】上記複数の光出力制御手段のうち少なく
とも一つの光出力制御手段は、上記強度変調手段に供給
される記録信号のキャリア強度を調整することにより、
上記レーザ光の光出力が所定の値となるように制御する
ことを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】上記光路分離手段により分離されたレー
ザ光の複数の光路のうち少なくとも一つの光路上に配設
され、供給される制御信号に基づいて上記レーザ光を偏
向する少なくとも一つの光偏向手段を備えることを特徴
とする請求項１記載の露光装置。
【請求項６】上記複数の光出力制御手段のうち少なく
とも一つの光出力制御手段は、上記光偏向手段に供給さ
れる制御信号のキャリア強度を調整することにより、上
記レーザ光の光出力が所定の値となるように制御するこ
とを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【請求項７】上記光路分離手段は、上記レーザ光の光
路を３つに分離することを特徴とする請求項１記載の露
光装置。
【請求項８】光源から出射されたレーザ光を感光剤層
に照射し、この感光剤層に所定のパターンの潜像を形成
する露光方法において、上記レーザ光の光路を複数に分離し、複数の光出力制御手段により、分離された複数の光路の
レーザ光の一部を各々検出してこれらレーザ光の光出力
が所定の値となるように制御することを特徴とする露光
方法。
【請求項９】上記分離された複数の光路のレーザ光を
光路合成手段により略同一の光路上に導くことを特徴と
する請求項８記載の露光方法。
【請求項１０】上記光路分離手段により分離されたレ
ーザ光の複数の光路上に、供給される記録信号に基づい
て上記レーザ光を強度変調する複数の強度変調手段をそ
れぞれ配設し、上記複数の強度変調手段により、上記複数の光路のレー
ザ光をそれぞれ個別に強度変調することを特徴とする請
求項８記載の露光方法。
【請求項１１】上記複数の光出力制御手段のうち少な
くとも一つの光出力制御手段は、上記強度変調手段に供
給される記録信号のキャリア強度を調整することによ
り、上記レーザ光の光出力が所定の値となるように制御
することを特徴とする請求項８記載の露光方法。
【請求項１２】上記光路分離手段により分離されたレ
ーザ光の複数の光路のうち少なくとも一つの光路上に、
供給される制御信号に基づいて上記レーザ光を偏向する
少なくとも一つの光偏向手段を配設し、上記光偏向手段により、上記複数の光路のレーザ光のう
ち少なくとも一つの光路のレーザ光を偏向することを特
徴とする請求項８記載の露光方法。
【請求項１３】上記複数の光出力制御手段のうち少な
くとも一つの光出力制御手段は、上記光偏向手段に供給
される制御信号のキャリア強度を調整することにより、
上記レーザ光の光出力が所定の値となるように制御する
ことを特徴とする請求項１２記載の露光方法。
【請求項１４】上記レーザ光の光路を３つに分離する
ことを特徴とする請求項８記載の露光方法。