JPH1119609A - 回転ディスクの表面処理方法および装置 - Google Patents
回転ディスクの表面処理方法および装置Info
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- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 回転ディスクの両面に対する洗浄処理や研磨
処理などの処理を簡単に行い得るようにする。 【解決手段】 回転ディスク１０は位置決めローラ１
３，１４に外周面が接触して所定の位置に位置決めされ
る。回転ディスク１０の両側にはその一方の面に接触す
る第１処理ローラ１７と、他方の面に接触する第２処理
ローラ１８とが配置されており、これらの処理ローラ１
７，１８は相互に接近離反移動自在となっている。両方
の処理ローラ１７，１８によって回転ディスク１０が挟
まれた状態にあっては、両方の処理ローラ１７，１８の
一端部側と他端部側とでは、回転ディスク１０に対して
相違した摩擦力が加えられる。これにより、処理ローラ
１７，１８の回転運動は回転ディスク１０の回転運動に
変換されつつ、回転ディスクの表面に対する処理が施さ
れる。
処理などの処理を簡単に行い得るようにする。 【解決手段】 回転ディスク１０は位置決めローラ１
３，１４に外周面が接触して所定の位置に位置決めされ
る。回転ディスク１０の両側にはその一方の面に接触す
る第１処理ローラ１７と、他方の面に接触する第２処理
ローラ１８とが配置されており、これらの処理ローラ１
７，１８は相互に接近離反移動自在となっている。両方
の処理ローラ１７，１８によって回転ディスク１０が挟
まれた状態にあっては、両方の処理ローラ１７，１８の
一端部側と他端部側とでは、回転ディスク１０に対して
相違した摩擦力が加えられる。これにより、処理ローラ
１７，１８の回転運動は回転ディスク１０の回転運動に
変換されつつ、回転ディスクの表面に対する処理が施さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータの記憶
媒体として使用される磁気ディスクなどの回転ディスク
の表面を処理する技術に関する。
媒体として使用される磁気ディスクなどの回転ディスク
の表面を処理する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、コンピュータの記憶媒体とし
て使用される磁気ディスクは、アルミニウム合金製の素
材を用いて中心部に貫通孔を有し所定の内外径のディス
クを形成した後に、種々の表面処理工程を経て製造され
ている。その表面処理工程としては、たとえば、表面を
砥石を用いて研削する研削工程、アルミナ粉末、炭化け
い素粉末、ダイヤモンド粉末などの砥粒を有するラップ
剤を用いたラッピン、あるいはラップ剤よりも細かい砥
粒を有するポリッシング剤を用いたポリッシングとも言
われる研磨工程、表面に磁性膜を形成するためのスパッ
タリング工程、めっき工程、洗浄工程および外観検査工
程など種々の工程がある。
て使用される磁気ディスクは、アルミニウム合金製の素
材を用いて中心部に貫通孔を有し所定の内外径のディス
クを形成した後に、種々の表面処理工程を経て製造され
ている。その表面処理工程としては、たとえば、表面を
砥石を用いて研削する研削工程、アルミナ粉末、炭化け
い素粉末、ダイヤモンド粉末などの砥粒を有するラップ
剤を用いたラッピン、あるいはラップ剤よりも細かい砥
粒を有するポリッシング剤を用いたポリッシングとも言
われる研磨工程、表面に磁性膜を形成するためのスパッ
タリング工程、めっき工程、洗浄工程および外観検査工
程など種々の工程がある。
【０００３】さらに、磁性膜を形成する前には、磁性膜
の配向性を高めるために、鏡面仕上げされたディスクの
表面に僅かなすじを形成して表面を微粗面化するテクス
チャリング処理が施されている。
の配向性を高めるために、鏡面仕上げされたディスクの
表面に僅かなすじを形成して表面を微粗面化するテクス
チャリング処理が施されている。
【０００４】ディスクの表面の洗浄処理を始めとして、
表面を処理するために、ディスクを回転させながら、デ
ィスク表面に処理ローラを押し付けた状態で処理ローラ
の外周面を滑らすようにした処理装置が使用されてい
る。ディスクを洗浄処理する装置としては、たとえば、
特公平７−１４５０９号公報に記載されるようなものが
ある。
表面を処理するために、ディスクを回転させながら、デ
ィスク表面に処理ローラを押し付けた状態で処理ローラ
の外周面を滑らすようにした処理装置が使用されてい
る。ディスクを洗浄処理する装置としては、たとえば、
特公平７−１４５０９号公報に記載されるようなものが
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これまでの上述したタ
イプの処理装置として使用されているものにあっては、
ディスクを支持する支持ローラを駆動源により回転駆動
させてディスクを回転駆動する一方、洗浄用ブラシなど
のようにディスクの表面を滑るようにした部材をローラ
の駆動とは異なった駆動源により回転駆動するようにし
ている。したがって、ディスク回転用の駆動源とブラシ
回転用の駆動源との２つの駆動源とを必要としており、
装置の複雑化が避けられなかった。
イプの処理装置として使用されているものにあっては、
ディスクを支持する支持ローラを駆動源により回転駆動
させてディスクを回転駆動する一方、洗浄用ブラシなど
のようにディスクの表面を滑るようにした部材をローラ
の駆動とは異なった駆動源により回転駆動するようにし
ている。したがって、ディスク回転用の駆動源とブラシ
回転用の駆動源との２つの駆動源とを必要としており、
装置の複雑化が避けられなかった。
【０００６】本発明の目的は、回転ディスクの両面に対
する洗浄処理や研磨処理などの処理を簡単に行い得るよ
うにすることにある。
する洗浄処理や研磨処理などの処理を簡単に行い得るよ
うにすることにある。
【０００７】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【０００９】すなわち、本発明の回転ディスクの表面処
理方法は、一対の位置決めローラに回転ディスクの外周
を接触させ、前記回転ディスクの一方の面に接触する第
１処理ローラと、前記回転ディスクの他方の面に接触し
前記第１処理ローラに沿って配置された第２処理ローラ
との間で前記回転ディスクを挟むとともに、前記両処理
ローラの前記回転ディスクに対する摩擦力を前記両処理
ローラの一端部と他端部とで相違させ、前記両処理ロー
ラに処理液を供給し、相互に逆方向の前記両処理ローラ
の回転運動を摩擦力の相違により前記回転ディスクの回
転運動に変換しながら、前記回転ディスクの表面に前記
それぞれの処理ローラの外周面を滑らせて前記回転ディ
スクの表面を前記両処理ローラにより処理することを特
徴とする。
理方法は、一対の位置決めローラに回転ディスクの外周
を接触させ、前記回転ディスクの一方の面に接触する第
１処理ローラと、前記回転ディスクの他方の面に接触し
前記第１処理ローラに沿って配置された第２処理ローラ
との間で前記回転ディスクを挟むとともに、前記両処理
ローラの前記回転ディスクに対する摩擦力を前記両処理
ローラの一端部と他端部とで相違させ、前記両処理ロー
ラに処理液を供給し、相互に逆方向の前記両処理ローラ
の回転運動を摩擦力の相違により前記回転ディスクの回
転運動に変換しながら、前記回転ディスクの表面に前記
それぞれの処理ローラの外周面を滑らせて前記回転ディ
スクの表面を前記両処理ローラにより処理することを特
徴とする。
【００１０】また、本発明の回転ディスクの表面処理装
置は、回転ディスクの外周に接触して前記回転ディスク
の中心位置を規制する一対の位置決めローラと、前記回
転ディスクの一方の面に接触する第１処理ローラと、前
記第１処理ローラに沿って配置されて相対接近離反移動
自在となり、かつ前記回転ディクスの他方の面に接触し
て前記回転ディスクを前記第１処理ローラとの間で挟む
とともに一端部と他端部とで相違した摩擦力を前記第１
処理ローラとにより前記回転ディスクに与える第２処理
ローラと、前記それぞれの処理ローラに処理液を供給す
る処理液供給手段と、前記第１処理ローラと前記第２処
理ローラとを相互に逆方向に回転駆動する駆動手段とを
有し、前記摩擦力の相違により前記それぞれの処理ロー
ラの回転運動を前記回転ディスクの回転運動に変換しな
がら、前記回転ディスクの表面に前記それぞれの処理ロ
ーラの外周面を滑らせて前記回転ディスクの表面を前記
それぞれの処理ローラにより処理することを特徴とす
る。
置は、回転ディスクの外周に接触して前記回転ディスク
の中心位置を規制する一対の位置決めローラと、前記回
転ディスクの一方の面に接触する第１処理ローラと、前
記第１処理ローラに沿って配置されて相対接近離反移動
自在となり、かつ前記回転ディクスの他方の面に接触し
て前記回転ディスクを前記第１処理ローラとの間で挟む
とともに一端部と他端部とで相違した摩擦力を前記第１
処理ローラとにより前記回転ディスクに与える第２処理
ローラと、前記それぞれの処理ローラに処理液を供給す
る処理液供給手段と、前記第１処理ローラと前記第２処
理ローラとを相互に逆方向に回転駆動する駆動手段とを
有し、前記摩擦力の相違により前記それぞれの処理ロー
ラの回転運動を前記回転ディスクの回転運動に変換しな
がら、前記回転ディスクの表面に前記それぞれの処理ロ
ーラの外周面を滑らせて前記回転ディスクの表面を前記
それぞれの処理ローラにより処理することを特徴とす
る。
【００１１】本発明にあっては、処理ローラを回転駆動
することにより、回転ディスクを回転することができる
とともに、処理ローラを回転ディスクの表面に滑らせる
ことができ、回転ディスクを回転駆動する駆動源が不要
となり、簡単な構造で確実に回転ディスクの表面を処理
することができる。
することにより、回転ディスクを回転することができる
とともに、処理ローラを回転ディスクの表面に滑らせる
ことができ、回転ディスクを回転駆動する駆動源が不要
となり、簡単な構造で確実に回転ディスクの表面を処理
することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
に基づいて詳細に説明する。
【００１３】図１は本発明の一実施の形態である回転デ
ィスクの表面処理装置の基本構造を示す斜視図であり、
図２は図１の正面図であり、図３は図２の平面図であ
り、図４は図２における４−４線に沿う断面図である。
ィスクの表面処理装置の基本構造を示す斜視図であり、
図２は図１の正面図であり、図３は図２の平面図であ
り、図４は図２における４−４線に沿う断面図である。
【００１４】図示する表面処理装置は回転ディスク１０
の表面を研磨処理したり、テクスチャリング処理するた
めに使用されている。この装置は相互に平行となってほ
ぼ水平に延びて対となった２本の位置決め用のロッド１
１，１２を有している。これら２本のロッド１１，１２
の先端には、回転ディスク１０を保持するためにそれぞ
れ位置決めローラ１３，１４が回転自在に装着され、回
転ディスク１０はその外周が位置決めローラ１３，１４
に接触して保持され、回転中心軸Ｏd の位置がずれない
ように規制される。
の表面を研磨処理したり、テクスチャリング処理するた
めに使用されている。この装置は相互に平行となってほ
ぼ水平に延びて対となった２本の位置決め用のロッド１
１，１２を有している。これら２本のロッド１１，１２
の先端には、回転ディスク１０を保持するためにそれぞ
れ位置決めローラ１３，１４が回転自在に装着され、回
転ディスク１０はその外周が位置決めローラ１３，１４
に接触して保持され、回転中心軸Ｏd の位置がずれない
ように規制される。
【００１５】それぞれの位置決めローラ１３，１４に
は、回転ディスク１０の外周部が入り込む環状溝１３
ａ，１４ａが形成されている。ただし、環状溝１３ａ，
１４ａを形成することなく、外周面をフラットに形成す
るようにしても良い。
は、回転ディスク１０の外周部が入り込む環状溝１３
ａ，１４ａが形成されている。ただし、環状溝１３ａ，
１４ａを形成することなく、外周面をフラットに形成す
るようにしても良い。
【００１６】それぞれのロッド１１，１２に対してほぼ
直角方向を向き、かつほぼ水平方向に延びる第１駆動軸
１５がロッド１１，１２の上方に配置され、この第１駆
動軸１５に沿って第２駆動軸１６が配置されている。第
１駆動軸１５には、位置決めローラ１３，１４に位置決
めされて保持された回転ディスク１０の一方の面に接触
する第１処理ローラ１７が取り付けられ、第２駆動軸１
６には他方の面に接触する第２処理ローラ１８が取り付
けられている。
直角方向を向き、かつほぼ水平方向に延びる第１駆動軸
１５がロッド１１，１２の上方に配置され、この第１駆
動軸１５に沿って第２駆動軸１６が配置されている。第
１駆動軸１５には、位置決めローラ１３，１４に位置決
めされて保持された回転ディスク１０の一方の面に接触
する第１処理ローラ１７が取り付けられ、第２駆動軸１
６には他方の面に接触する第２処理ローラ１８が取り付
けられている。
【００１７】駆動軸１５，１６は、図３において矢印で
示すように、相互に接近離反移動自在となっており、接
近させた状態では、両方の処理ローラ１７，１８により
回転ディスク１０は挟み込まれることになり、離反させ
た状態で回転ディスク１０を位置決めローラ１３，１４
にセットしたり、取り外したりすることができる。ただ
し、両方の処理ローラ１７，１８は相対的に接近離反移
動するようになっておれば良く、一方の処理ローラは水
平方向には移動させることなく、他方の処理ローラのみ
を一方の処理ローラに向けて接近離反移動させるように
しても良い。
示すように、相互に接近離反移動自在となっており、接
近させた状態では、両方の処理ローラ１７，１８により
回転ディスク１０は挟み込まれることになり、離反させ
た状態で回転ディスク１０を位置決めローラ１３，１４
にセットしたり、取り外したりすることができる。ただ
し、両方の処理ローラ１７，１８は相対的に接近離反移
動するようになっておれば良く、一方の処理ローラは水
平方向には移動させることなく、他方の処理ローラのみ
を一方の処理ローラに向けて接近離反移動させるように
しても良い。
【００１８】それぞれの処理ローラ１７，１８は繊維を
素材とした織布や不織布などからなる研磨パッドを巻き
付けて形成されており、図示する場合には、それぞれの
駆動軸１５，１６の一端部側１７ａ，１８ａと他端部側
１７ｂ，１８ｂとに分割され、両方の部分は、図２に示
すように、回転ディスク１０の貫通孔１０ａの内径ｄよ
りも小さい距離Ｌだけ離れている。
素材とした織布や不織布などからなる研磨パッドを巻き
付けて形成されており、図示する場合には、それぞれの
駆動軸１５，１６の一端部側１７ａ，１８ａと他端部側
１７ｂ，１８ｂとに分割され、両方の部分は、図２に示
すように、回転ディスク１０の貫通孔１０ａの内径ｄよ
りも小さい距離Ｌだけ離れている。
【００１９】両方の処理ローラ１７，１８により回転デ
ィスク１０を挟み込んだ状態では、両方の駆動軸１５，
１６の回転中心軸Ｏ1 ，Ｏ2 が、回転ディスク１０の回
転中心軸Ｏd の延長上に交差することになり、一端部側
１７ａ，１８ａの外周面が、回転ディスク１０のうち貫
通孔１０ａと外周との間に接触し、他端部側１７ｂ，１
８ｂの外周面が、回転ディスク１０に対して１８０度位
相がずれた部分に接触する。
ィスク１０を挟み込んだ状態では、両方の駆動軸１５，
１６の回転中心軸Ｏ1 ，Ｏ2 が、回転ディスク１０の回
転中心軸Ｏd の延長上に交差することになり、一端部側
１７ａ，１８ａの外周面が、回転ディスク１０のうち貫
通孔１０ａと外周との間に接触し、他端部側１７ｂ，１
８ｂの外周面が、回転ディスク１０に対して１８０度位
相がずれた部分に接触する。
【００２０】両方の駆動軸１５，１６は相互に逆方向に
回転駆動されるようになっており、図４に示すように、
両方の処理ローラ１７，１８により挟み込まれた回転デ
ィスク１０は、両方の処理ローラ１７，１８により位置
決めローラ１３，１４に向かう方向の摩擦力を受けるこ
とになる。この摩擦力は、図２に示すように、処理ロー
ラ１７，１８の一端部側１７ａ，１８ａの摩擦力Ｆａよ
りも、他端部側１７ｂ，１８ｂの摩擦力Ｆｂの方を大き
く設定すると、これらの摩擦力の相違によって回転ディ
スク１０は図２に矢印で示す方向に回転駆動されること
になる。
回転駆動されるようになっており、図４に示すように、
両方の処理ローラ１７，１８により挟み込まれた回転デ
ィスク１０は、両方の処理ローラ１７，１８により位置
決めローラ１３，１４に向かう方向の摩擦力を受けるこ
とになる。この摩擦力は、図２に示すように、処理ロー
ラ１７，１８の一端部側１７ａ，１８ａの摩擦力Ｆａよ
りも、他端部側１７ｂ，１８ｂの摩擦力Ｆｂの方を大き
く設定すると、これらの摩擦力の相違によって回転ディ
スク１０は図２に矢印で示す方向に回転駆動されること
になる。
【００２１】しかも、それぞれの処理ローラ１７，１８
の外周面は、回転ディスク１０の表面に対して滑りが発
生する。その滑り速度は、回転ディスク１０の各部位に
おける移動速度が半径の位置によって相違する。
の外周面は、回転ディスク１０の表面に対して滑りが発
生する。その滑り速度は、回転ディスク１０の各部位に
おける移動速度が半径の位置によって相違する。
【００２２】このように、両方の処理ローラ１７，１８
とこれらに挟み込まれた状態の回転ディスク１０との間
に発生する摩擦力を、処理ローラ１７，１８の一端部側
と他端部側とで相違させたことから、処理ローラ１７，
１８を相互に逆の方向に回転駆動することにより、処理
ローラ１７，１８の回転運動が回転ディスク１０の回転
運動に変換されることになり、しかも、回転ディスク１
０と処理ローラ１７，１８の外周面との間には滑りが発
生することになる。この滑りによって、回転ディスク１
０の表面は、付着した異物を除去したり、洗浄処理した
り、研磨処理やテクスチャリング処理がなされる。この
ような処理を行うために、処理ローラ１７，１８にはノ
ズル１９から、砥粒などを含むスラリー状の研磨液など
の処理液が供給されるようになっている。
とこれらに挟み込まれた状態の回転ディスク１０との間
に発生する摩擦力を、処理ローラ１７，１８の一端部側
と他端部側とで相違させたことから、処理ローラ１７，
１８を相互に逆の方向に回転駆動することにより、処理
ローラ１７，１８の回転運動が回転ディスク１０の回転
運動に変換されることになり、しかも、回転ディスク１
０と処理ローラ１７，１８の外周面との間には滑りが発
生することになる。この滑りによって、回転ディスク１
０の表面は、付着した異物を除去したり、洗浄処理した
り、研磨処理やテクスチャリング処理がなされる。この
ような処理を行うために、処理ローラ１７，１８にはノ
ズル１９から、砥粒などを含むスラリー状の研磨液など
の処理液が供給されるようになっている。
【００２３】処理ローラ１７，１８の一端部と他端部と
で回転ディスク１０に対する摩擦力を相違させるため
に、図３に示された両方の処理ローラ１７の回転中心軸
Ｏ1 と処理ローラ１８の回転中心軸Ｏ2 との軸間の距離
Ｒを一端部側１７ａ，１８ａよりも他端部側１７ｂ，１
８ｂの方が小さくなるように軸間距離を変化させても良
く、一端部側１７ａ，１８ａよりも他端部側１７ｂ，１
８ｂの外径を大きく設定するようにしても良い。また、
一端部側から他端部側に向けて徐々に外径が大きくなる
ようにテーパー状に処理ローラ１７，１８を形成しても
良い。さらに、一端部側１７ａ，１８ａと他端部側１７
ｂ，１８ｂとで素材を変化させることにより、他端部側
の摩擦係数を大きい素材としても良い。
で回転ディスク１０に対する摩擦力を相違させるため
に、図３に示された両方の処理ローラ１７の回転中心軸
Ｏ1 と処理ローラ１８の回転中心軸Ｏ2 との軸間の距離
Ｒを一端部側１７ａ，１８ａよりも他端部側１７ｂ，１
８ｂの方が小さくなるように軸間距離を変化させても良
く、一端部側１７ａ，１８ａよりも他端部側１７ｂ，１
８ｂの外径を大きく設定するようにしても良い。また、
一端部側から他端部側に向けて徐々に外径が大きくなる
ようにテーパー状に処理ローラ１７，１８を形成しても
良い。さらに、一端部側１７ａ，１８ａと他端部側１７
ｂ，１８ｂとで素材を変化させることにより、他端部側
の摩擦係数を大きい素材としても良い。
【００２４】図示する場合には、それぞれの処理ローラ
１７，１８を一端部側と他端部側とに分割しているが、
一体的に連なった形状としても良い。また、摩擦力を一
端部側を他端部側よりも大きく設定するようにしても良
く、その場合には、回転ディスク１０は図示する場合と
は逆の方向に回転駆動される。
１７，１８を一端部側と他端部側とに分割しているが、
一体的に連なった形状としても良い。また、摩擦力を一
端部側を他端部側よりも大きく設定するようにしても良
く、その場合には、回転ディスク１０は図示する場合と
は逆の方向に回転駆動される。
【００２５】処理ローラ１７，１８の両側には、図３お
よび図４に示すように、金属などのように弾性変形し得
る板材からなる異物除去用のスクレーパー２１，２２が
配置されており、それぞれのスクレーパー２１，２２の
側辺のエッジが、それぞれの処理ローラ１７，１８の外
周面のうち、回転ディスク１０に接触する位置に対して
１８０度ずれた位置に接触するようになっている。スク
レーパー２１，２２は、処理ローラ１７，１８の外周面
に付着した異物を除去するように機能する。処理ローラ
１７，１８の外周面のうち、回転方向手前側とスクレー
パー２１，２２のなす角度θは鋭角に設定されている。
なお、スクレーパー２１，２２は、図１にあっては二点
鎖線で示され、図２においては図示省略されている。
よび図４に示すように、金属などのように弾性変形し得
る板材からなる異物除去用のスクレーパー２１，２２が
配置されており、それぞれのスクレーパー２１，２２の
側辺のエッジが、それぞれの処理ローラ１７，１８の外
周面のうち、回転ディスク１０に接触する位置に対して
１８０度ずれた位置に接触するようになっている。スク
レーパー２１，２２は、処理ローラ１７，１８の外周面
に付着した異物を除去するように機能する。処理ローラ
１７，１８の外周面のうち、回転方向手前側とスクレー
パー２１，２２のなす角度θは鋭角に設定されている。
なお、スクレーパー２１，２２は、図１にあっては二点
鎖線で示され、図２においては図示省略されている。
【００２６】図示する場合には、回転ディスク１０を下
側の２つの位置決めローラ１３，１４によって支持して
位置決めするようにしているが、図２において二点鎖線
で示すように、上側にも位置決めローラ２３，２４を配
置して４つのローラにより位置決めするようにしても良
い。その場合には、回転ディスク１０をセットしたり取
り外ししたりする際には、上側の位置決めローラ２３，
２４を退避移動させることになる。また、その場合に、
駆動軸１５，１６を図示する回転方向に対してそれぞれ
逆方向に回転させると、回転ディスク１０は上側の位置
決めローラ２３，２４に押し付けられる方向に摩擦力を
受けて位置決めされる。
側の２つの位置決めローラ１３，１４によって支持して
位置決めするようにしているが、図２において二点鎖線
で示すように、上側にも位置決めローラ２３，２４を配
置して４つのローラにより位置決めするようにしても良
い。その場合には、回転ディスク１０をセットしたり取
り外ししたりする際には、上側の位置決めローラ２３，
２４を退避移動させることになる。また、その場合に、
駆動軸１５，１６を図示する回転方向に対してそれぞれ
逆方向に回転させると、回転ディスク１０は上側の位置
決めローラ２３，２４に押し付けられる方向に摩擦力を
受けて位置決めされる。
【００２７】さらに、下側の２つの位置決めローラ１
３，１４を設けることなく、上側に配置した位置決めロ
ーラ２３，２４により回転ディスク１０の位置決めを行
うようにしても良く、その場合にはそれぞれの駆動軸１
５，１６を図示する方向とは逆方向に回転駆動すること
になる。
３，１４を設けることなく、上側に配置した位置決めロ
ーラ２３，２４により回転ディスク１０の位置決めを行
うようにしても良く、その場合にはそれぞれの駆動軸１
５，１６を図示する方向とは逆方向に回転駆動すること
になる。
【００２８】図５〜図８は前述した処理装置における駆
動軸１５，１６を駆動する部分を示す図である。図５〜
図７に示すように、支持台３１には２つのガイド部材３
２ａ，３２ｂが固定されており、それぞれのガイド部材
３２ａ，３２ｂにはＸ方向に往復動自在に揺動テーブル
３３ａ，３３ｂが装着されている。２つの揺動テーブル
３３ａ，３３ｂにはそれぞれガイド部材３４ａ，３４ｂ
が設けられており、それぞれのガイド部材３４ａ，３４
ｂには、揺動テーブル３３ａ，３３ｂの往復動方向（Ｘ
方向）に対して直角の方向であるＹ方向に移動自在に摺
動テーブル３５ａ，３５ｂが装着されている。
動軸１５，１６を駆動する部分を示す図である。図５〜
図７に示すように、支持台３１には２つのガイド部材３
２ａ，３２ｂが固定されており、それぞれのガイド部材
３２ａ，３２ｂにはＸ方向に往復動自在に揺動テーブル
３３ａ，３３ｂが装着されている。２つの揺動テーブル
３３ａ，３３ｂにはそれぞれガイド部材３４ａ，３４ｂ
が設けられており、それぞれのガイド部材３４ａ，３４
ｂには、揺動テーブル３３ａ，３３ｂの往復動方向（Ｘ
方向）に対して直角の方向であるＹ方向に移動自在に摺
動テーブル３５ａ，３５ｂが装着されている。
【００２９】摺動テーブル３５ａには第１駆動軸１５を
駆動するための第１駆動機構３６ａが設けられ、摺動テ
ーブル３５ｂには第２駆動軸１６を駆動するための第２
駆動機構３６ｂが設けられている。それぞれの駆動機構
３６ａ，３６ｂはそれぞれ同様の構造となっており、図
７には第１駆動機構３６ａが示されている。
駆動するための第１駆動機構３６ａが設けられ、摺動テ
ーブル３５ｂには第２駆動軸１６を駆動するための第２
駆動機構３６ｂが設けられている。それぞれの駆動機構
３６ａ，３６ｂはそれぞれ同様の構造となっており、図
７には第１駆動機構３６ａが示されている。
【００３０】図７に示すように、摺動テーブル３５ａに
固定された支持ブロック３７には、軸受スリーブ３８が
組み込まれており、この軸受スリーブ３８の先端部には
駆動ヘッド４１が固定されている。軸受スリーブ３８を
貫通して回転自在に設けられたスピンドル４２の先端に
は駆動歯車４３が固定され、後端にはプーリー４４が固
定されている。スピンドル４２を駆動するために、摺動
テーブル３５ａに支持ブロック３７に隣接して電動モー
タ４５が取り付けられ、モータ４５の主軸４６に固定さ
れたプーリー４７と前記プーリー４４とにはタイミング
ベルト４８が掛け渡されている。
固定された支持ブロック３７には、軸受スリーブ３８が
組み込まれており、この軸受スリーブ３８の先端部には
駆動ヘッド４１が固定されている。軸受スリーブ３８を
貫通して回転自在に設けられたスピンドル４２の先端に
は駆動歯車４３が固定され、後端にはプーリー４４が固
定されている。スピンドル４２を駆動するために、摺動
テーブル３５ａに支持ブロック３７に隣接して電動モー
タ４５が取り付けられ、モータ４５の主軸４６に固定さ
れたプーリー４７と前記プーリー４４とにはタイミング
ベルト４８が掛け渡されている。
【００３１】駆動ヘッド４１には第１駆動軸１５が回転
自在に装着されており、この駆動軸１５に固定された従
動歯車５１は、アイドル歯車５２を介して駆動歯車４３
に噛み合っている。したがって、モータ４５を駆動する
ことによって、第１駆動軸１５により第１処理ローラ１
７は所定の方向に回転駆動されることになる。第２摺動
テーブル３５ｂの構造は、それに設けられた部材が第１
摺動テーブル３５ａとは対称的に配置されていることを
除いてほぼ同様となっている。ただし、一方の処理ロー
ラをＹ方向に移動させずに、他方の処理ローラのみを移
動させる場合には、一方の摺動テーブルはそれが設けら
れる揺動テーブルに対して固定することになる。
自在に装着されており、この駆動軸１５に固定された従
動歯車５１は、アイドル歯車５２を介して駆動歯車４３
に噛み合っている。したがって、モータ４５を駆動する
ことによって、第１駆動軸１５により第１処理ローラ１
７は所定の方向に回転駆動されることになる。第２摺動
テーブル３５ｂの構造は、それに設けられた部材が第１
摺動テーブル３５ａとは対称的に配置されていることを
除いてほぼ同様となっている。ただし、一方の処理ロー
ラをＹ方向に移動させずに、他方の処理ローラのみを移
動させる場合には、一方の摺動テーブルはそれが設けら
れる揺動テーブルに対して固定することになる。
【００３２】回転ディスク１０の回転位置を規制する位
置決め用のロッド１１，１２は、図５に示すように、支
持台３１に固定された固定台５３に取り付けられてい
る。位置決めローラ１３，１４に対して回転ディスク１
０を装填する際には、両方の処理ローラ１７，１８を相
互に所定の距離だけ離反させる一方、処理ローラ１７，
１８により回転ディスク１０を処理する際にはこれらを
最接近させるために、図６および図８に示すように、支
持台３１に台座５４を介して固定された支持部材５５に
は、ガイド部材５６が取り付けられ、このガイド部材５
６には軸方向に往復動自在にカム部材５７が装着されて
いる。
置決め用のロッド１１，１２は、図５に示すように、支
持台３１に固定された固定台５３に取り付けられてい
る。位置決めローラ１３，１４に対して回転ディスク１
０を装填する際には、両方の処理ローラ１７，１８を相
互に所定の距離だけ離反させる一方、処理ローラ１７，
１８により回転ディスク１０を処理する際にはこれらを
最接近させるために、図６および図８に示すように、支
持台３１に台座５４を介して固定された支持部材５５に
は、ガイド部材５６が取り付けられ、このガイド部材５
６には軸方向に往復動自在にカム部材５７が装着されて
いる。
【００３３】カム部材５７を軸方向に往復動するため
に、支持部材５５には空気圧シリンダ５８が取り付けら
れ、この空気圧シリンダ５８により駆動されるピストン
ロッド５９がカム部材５７に連結されている。カム部材
５７の先端部には、図８に示すように、急傾斜面５７ａ
と緩傾斜面５７ｂとが形成され、全体的に先端面に向け
て幅が狭くなったテーパー形状となり、それぞれの傾斜
面を転動するカムローラ６０が摺動テーブル３５ａ，３
５ｂに取り付けられている。
に、支持部材５５には空気圧シリンダ５８が取り付けら
れ、この空気圧シリンダ５８により駆動されるピストン
ロッド５９がカム部材５７に連結されている。カム部材
５７の先端部には、図８に示すように、急傾斜面５７ａ
と緩傾斜面５７ｂとが形成され、全体的に先端面に向け
て幅が狭くなったテーパー形状となり、それぞれの傾斜
面を転動するカムローラ６０が摺動テーブル３５ａ，３
５ｂに取り付けられている。
【００３４】したがって、カム部材５７を空気圧シリン
ダ５８により前進移動させることにより、カム部材５７
の幅広の部分をそれぞれのカムローラ６０が転動する
と、２つの摺動テーブル３５ａ，３５ｂは相互に所定の
距離だけ離反する。一方、カム部材５７を後退移動させ
ると、接近移動することになる。接近移動に際しては、
カムローラ６０が緩傾斜面５７ｂを転動しているときに
は、ゆっくりと両方の摺動テーブル３５ａ，３５ｂが接
近移動して、徐々に２つの処理ローラ１７，１８が回転
ディスク１０の表面に接触することになり、ディスク表
面が傷付くことが防止される。
ダ５８により前進移動させることにより、カム部材５７
の幅広の部分をそれぞれのカムローラ６０が転動する
と、２つの摺動テーブル３５ａ，３５ｂは相互に所定の
距離だけ離反する。一方、カム部材５７を後退移動させ
ると、接近移動することになる。接近移動に際しては、
カムローラ６０が緩傾斜面５７ｂを転動しているときに
は、ゆっくりと両方の摺動テーブル３５ａ，３５ｂが接
近移動して、徐々に２つの処理ローラ１７，１８が回転
ディスク１０の表面に接触することになり、ディスク表
面が傷付くことが防止される。
【００３５】回転ディスク１０が両側から処理ローラ１
７，１８により挟み込まれた状態における処理ローラ１
７，１８の回転ディスク１０に対する押し付け力が所定
値となるように設定するために、図５に示すように、そ
れぞれの揺動テーブル３３ａ，３３ｂには電空レギュレ
ータを有する空気圧シリンダ６１が設けられており、こ
の空気圧シリンダ６１のピストンロッド６１ａは摺動テ
ーブル３５ａ，３５ｂに連結されている。電空レギュレ
ータによってピストンロッド６１ａに加えられる空気圧
の値は任意の値に設定することができ、しかも、ピスト
ンロッド６１ａに加えられる空気圧値が変動した場合に
はフィードバック制御により常に所定値に設定される。
７，１８により挟み込まれた状態における処理ローラ１
７，１８の回転ディスク１０に対する押し付け力が所定
値となるように設定するために、図５に示すように、そ
れぞれの揺動テーブル３３ａ，３３ｂには電空レギュレ
ータを有する空気圧シリンダ６１が設けられており、こ
の空気圧シリンダ６１のピストンロッド６１ａは摺動テ
ーブル３５ａ，３５ｂに連結されている。電空レギュレ
ータによってピストンロッド６１ａに加えられる空気圧
の値は任意の値に設定することができ、しかも、ピスト
ンロッド６１ａに加えられる空気圧値が変動した場合に
はフィードバック制御により常に所定値に設定される。
【００３６】２つの空気圧シリンダ６１の空気圧を制御
するための電空レギュレータとしては、２つの空気圧シ
リンダ６１に別々に設けるようにしても良く、１つの電
空レギュレータにより両方の空気圧シリンダ６１の空気
圧を制御するようにしても良い。また、処理ローラ１
７，１８により回転ディスク１０が挟み込まれた状態の
もとでは、所定の摩擦力が得られるのであれば、カム部
材５７を２つのカムローラ６０の間から退避させるよう
にしても良く、２つのカムローラ６０の一方あるいは両
方をカム部材５７に当接させるようにしても良い。さら
に、挟み込まれた状態では、カム部材５７をこれに両方
のカムローラ６０が転動しない状態で両方のカムローラ
６０の間に進入させるようにしても良い。その場合に
は、空気圧シリンダ６１の誤動作によって設定値以上の
押し付け力が摺動テーブル３５ａ，３５ｂに加わって
も、その押し付け力が回転ディスク１０に作用すること
が防止される。
するための電空レギュレータとしては、２つの空気圧シ
リンダ６１に別々に設けるようにしても良く、１つの電
空レギュレータにより両方の空気圧シリンダ６１の空気
圧を制御するようにしても良い。また、処理ローラ１
７，１８により回転ディスク１０が挟み込まれた状態の
もとでは、所定の摩擦力が得られるのであれば、カム部
材５７を２つのカムローラ６０の間から退避させるよう
にしても良く、２つのカムローラ６０の一方あるいは両
方をカム部材５７に当接させるようにしても良い。さら
に、挟み込まれた状態では、カム部材５７をこれに両方
のカムローラ６０が転動しない状態で両方のカムローラ
６０の間に進入させるようにしても良い。その場合に
は、空気圧シリンダ６１の誤動作によって設定値以上の
押し付け力が摺動テーブル３５ａ，３５ｂに加わって
も、その押し付け力が回転ディスク１０に作用すること
が防止される。
【００３７】一対の位置決めローラ１３，１４により位
置決めされた回転ディスク１０に対して処理ローラ１
７，１８をＸ方向に往復動するために、図８に示すよう
に、支持台３１に固定された軸受６２には回転軸６３が
装着されており、図６に示すように、回転軸６３の回転
中心に対して偏心した外周面を有する偏心カム６３ａが
２つ回転軸６３に固定されている。
置決めされた回転ディスク１０に対して処理ローラ１
７，１８をＸ方向に往復動するために、図８に示すよう
に、支持台３１に固定された軸受６２には回転軸６３が
装着されており、図６に示すように、回転軸６３の回転
中心に対して偏心した外周面を有する偏心カム６３ａが
２つ回転軸６３に固定されている。
【００３８】それぞれの揺動テーブル３３ａ，３３ｂに
は偏心カム６３ａが係合する従動カム部材６４が取り付
けられており、支持台３１に取り付けられた電動モータ
６５の主軸６６に設けられたプーリー６７と、回転軸６
３に固定されたプーリー６８とにはタイミングベルト６
９が掛け渡されている。これにより、電動モータ６５を
駆動すると、２つの偏心カム６３ａが回転してそれぞれ
の揺動テーブル３３ａ，３３ｂが同時にＸ方向に揺動運
動し、両方の処理ローラ１７，１８は回転ディスク１０
に対して軸方向に往復動することになる。
は偏心カム６３ａが係合する従動カム部材６４が取り付
けられており、支持台３１に取り付けられた電動モータ
６５の主軸６６に設けられたプーリー６７と、回転軸６
３に固定されたプーリー６８とにはタイミングベルト６
９が掛け渡されている。これにより、電動モータ６５を
駆動すると、２つの偏心カム６３ａが回転してそれぞれ
の揺動テーブル３３ａ，３３ｂが同時にＸ方向に揺動運
動し、両方の処理ローラ１７，１８は回転ディスク１０
に対して軸方向に往復動することになる。
【００３９】このような表面処理装置を用いて回転ディ
スク１０の両面に研磨処理やテクスチャリング処理を施
すには、まず、カム部材５７を前進移動させて、２つの
摺動テーブル３５ａ，３５ｂをＹ方向に所定の距離だけ
離反させた状態とする。この状態のもとで、図示しない
搬送装置によって回転ディスク１０を、両方の処理ロー
ラ１７，１８の間に搬入して位置決めローラ１３，１４
に外周面を接触させて位置決めを行う。
スク１０の両面に研磨処理やテクスチャリング処理を施
すには、まず、カム部材５７を前進移動させて、２つの
摺動テーブル３５ａ，３５ｂをＹ方向に所定の距離だけ
離反させた状態とする。この状態のもとで、図示しない
搬送装置によって回転ディスク１０を、両方の処理ロー
ラ１７，１８の間に搬入して位置決めローラ１３，１４
に外周面を接触させて位置決めを行う。
【００４０】次いで、カム部材５７を後退移動させるこ
とにより、２つの摺動テーブル３５ａ，３５ｂを相互に
接近移動させる。このときには、カムローラ６０が緩傾
斜面５７ｂに接触する位置までカム部材５７が後退移動
すると、その後はゆっくりと摺動テーブル３５ａ，３５
ｂが接近して、２つの処理ローラ１７，１８はゆっくり
と回転ディスク１０に接触することになる。処理ローラ
１７，１８が回転ディスク１０を挟み付ける力は、空気
圧シリンダ６１に供給される空気圧が電空レギュレータ
により制御されることから所定の値となる。
とにより、２つの摺動テーブル３５ａ，３５ｂを相互に
接近移動させる。このときには、カムローラ６０が緩傾
斜面５７ｂに接触する位置までカム部材５７が後退移動
すると、その後はゆっくりと摺動テーブル３５ａ，３５
ｂが接近して、２つの処理ローラ１７，１８はゆっくり
と回転ディスク１０に接触することになる。処理ローラ
１７，１８が回転ディスク１０を挟み付ける力は、空気
圧シリンダ６１に供給される空気圧が電空レギュレータ
により制御されることから所定の値となる。
【００４１】このようにして、回転ディスク１０のセッ
トが完了した後、ノズル１９から処理液を吐出するとと
もに、それぞれの電動モータ４５を駆動すると、処理ロ
ーラ１７，１８が相互に逆方向に駆動され、処理ローラ
１７，１８によって回転ディスク１０が回転駆動される
とともに、回転ディスク１０に対して処理ローラ１７，
１８の外周面が滑ることになり、回転ディスク１０の異
物除去、洗浄処理、研磨処理およびテクスチャリング処
理がなされる。
トが完了した後、ノズル１９から処理液を吐出するとと
もに、それぞれの電動モータ４５を駆動すると、処理ロ
ーラ１７，１８が相互に逆方向に駆動され、処理ローラ
１７，１８によって回転ディスク１０が回転駆動される
とともに、回転ディスク１０に対して処理ローラ１７，
１８の外周面が滑ることになり、回転ディスク１０の異
物除去、洗浄処理、研磨処理およびテクスチャリング処
理がなされる。
【００４２】図９〜図１１は本発明の他の実施の形態で
ある表面処理装置を示す図であり、装置本体を構成する
駆動ボックス７０には、第１揺動アーム７１と第２揺動
アーム７２がそれぞれの揺動中心軸Ｏa ，Ｏb を中心に
揺動自在に取り付けられている。第１揺動アーム７１の
先端部には第１処理ローラ１７が固定された第１駆動軸
１５が回転自在に取り付けられ、第２揺動アーム７２の
先端部には第２処理ローラ１８が固定された第２駆動軸
１６が回転自在に取り付けられている。それぞれの処理
ローラ１７，１８の回転中心軸Ｏ1 ，Ｏ2 は、揺動中心
軸Ｏa ，Ｏb に対してほぼ平行となっている。
ある表面処理装置を示す図であり、装置本体を構成する
駆動ボックス７０には、第１揺動アーム７１と第２揺動
アーム７２がそれぞれの揺動中心軸Ｏa ，Ｏb を中心に
揺動自在に取り付けられている。第１揺動アーム７１の
先端部には第１処理ローラ１７が固定された第１駆動軸
１５が回転自在に取り付けられ、第２揺動アーム７２の
先端部には第２処理ローラ１８が固定された第２駆動軸
１６が回転自在に取り付けられている。それぞれの処理
ローラ１７，１８の回転中心軸Ｏ1 ，Ｏ2 は、揺動中心
軸Ｏa ，Ｏb に対してほぼ平行となっている。
【００４３】それぞれの揺動アーム７１，７２は、駆動
ボックス７０内に組み込まれた駆動手段によって、図１
０において矢印で示すように、駆動されるようになって
おり、この揺動運動によって第１処理ローラ１７と第２
処理ローラ１８は、相互に接近離反移動することにな
る。
ボックス７０内に組み込まれた駆動手段によって、図１
０において矢印で示すように、駆動されるようになって
おり、この揺動運動によって第１処理ローラ１７と第２
処理ローラ１８は、相互に接近離反移動することにな
る。
【００４４】回転ディスク１０の外周に接触する位置決
めローラ１３，１４は、駆動ボックス７０の前面に取り
付けられた支持ブラケット７３に対して回転自在に装着
されている。また、それぞれの揺動アーム７１，７２に
は、図１０に示すように、処理ローラ１７，１８の外周
面に付着した異物を除去するスクレーパー２１，２２が
取付具２５により取り付けられるようになっている。
めローラ１３，１４は、駆動ボックス７０の前面に取り
付けられた支持ブラケット７３に対して回転自在に装着
されている。また、それぞれの揺動アーム７１，７２に
は、図１０に示すように、処理ローラ１７，１８の外周
面に付着した異物を除去するスクレーパー２１，２２が
取付具２５により取り付けられるようになっている。
【００４５】図１１はそれぞれの揺動アーム７１，７２
の内部構造を示す断面図であり、それぞれの揺動アーム
７１，７２の基端部には、図示しないモータにより回転
駆動される回転軸７５，７６が組み込まれ、それぞれの
回転軸７５，７６にはプーリー７７，７８が取り付けら
れている。それぞれの揺動アーム７１，７２の先端部に
回転自在に装着された駆動軸１５，１６にはプーリー８
１，８２が取り付けられ、それぞれのプーリーにはタイ
ミングベルト８３，８４が掛け渡されている。これによ
り、それぞれの回転軸７５，７６の回転が処理ローラ１
７，１８に伝達されることになる。なお、タイミングベ
ルト８３，８４に対して張力を加えるためのテンション
ローラをそれぞれの揺動アーム７１，７２内に組み込む
ようにしても良い。
の内部構造を示す断面図であり、それぞれの揺動アーム
７１，７２の基端部には、図示しないモータにより回転
駆動される回転軸７５，７６が組み込まれ、それぞれの
回転軸７５，７６にはプーリー７７，７８が取り付けら
れている。それぞれの揺動アーム７１，７２の先端部に
回転自在に装着された駆動軸１５，１６にはプーリー８
１，８２が取り付けられ、それぞれのプーリーにはタイ
ミングベルト８３，８４が掛け渡されている。これによ
り、それぞれの回転軸７５，７６の回転が処理ローラ１
７，１８に伝達されることになる。なお、タイミングベ
ルト８３，８４に対して張力を加えるためのテンション
ローラをそれぞれの揺動アーム７１，７２内に組み込む
ようにしても良い。
【００４６】揺動アーム７１，７２内の動力伝達機構と
しては、それぞれのプーリー７７，７８，８１，８２に
換えて歯車を使用し、歯車相互間の動力をアイドル歯車
により伝達するようにしても良い。
しては、それぞれのプーリー７７，７８，８１，８２に
換えて歯車を使用し、歯車相互間の動力をアイドル歯車
により伝達するようにしても良い。
【００４７】図１２は揺動アーム７１，７２の他のタイ
プを示す図であり、この図にあっては、２つの揺動アー
ムのうち一方のみが示されているが、他の揺動アームも
同様の構造となっている。
プを示す図であり、この図にあっては、２つの揺動アー
ムのうち一方のみが示されているが、他の揺動アームも
同様の構造となっている。
【００４８】この揺動アーム７２に取り付けられた駆動
軸１６は、前述した場合では片持ち支持構造であるのに
対して、揺動アーム７２に取り付けられた支持ブラケッ
ト８５により駆動軸１６の先端部が支持され、駆動軸１
６は両端支持構造となっており、この支持ブラケット８
５に異物除去用のスクレーパー２２が取り付けられるよ
うになっている。
軸１６は、前述した場合では片持ち支持構造であるのに
対して、揺動アーム７２に取り付けられた支持ブラケッ
ト８５により駆動軸１６の先端部が支持され、駆動軸１
６は両端支持構造となっており、この支持ブラケット８
５に異物除去用のスクレーパー２２が取り付けられるよ
うになっている。
【００４９】図示するように、揺動アーム７１，７２の
先端に処理ローラ１７，１８を取り付けるようにした場
合には、揺動アーム７１，７２の中に動力伝達機構が内
蔵され、駆動ボックス７０内に動力源が内蔵されている
ので、処理液が動力伝達機構や動力源に付着することを
防止することができる。
先端に処理ローラ１７，１８を取り付けるようにした場
合には、揺動アーム７１，７２の中に動力伝達機構が内
蔵され、駆動ボックス７０内に動力源が内蔵されている
ので、処理液が動力伝達機構や動力源に付着することを
防止することができる。
【００５０】以上、本発明者によってなされた発明を実
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記の
形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記の
形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【００５１】たとえば、図示する場合には回転ディスク
の表面を研磨処理したり、テクスチャリング処理してい
るが、洗浄処理のみや研削処理のみを行うためにも適用
することができる。
の表面を研磨処理したり、テクスチャリング処理してい
るが、洗浄処理のみや研削処理のみを行うためにも適用
することができる。
【００５２】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【００５３】(1).回転ディスクの両側に位置してこれを
挟む第１処理ローラと第２処理ローラの回転運動を回転
ディスクの回転運動に変換するようにしたので、回転デ
ィスク自体の回転のための動力源が不要となり、簡単な
構造により回転ディスクの処理を行うことができる。
挟む第１処理ローラと第２処理ローラの回転運動を回転
ディスクの回転運動に変換するようにしたので、回転デ
ィスク自体の回転のための動力源が不要となり、簡単な
構造により回転ディスクの処理を行うことができる。
【００５４】(2).それぞれの処理ローラを回転ディスク
の表面に沿って軸方向に往復動するようにしたことか
ら、処理ローラの外周面が回転ディスクの表面に片寄っ
て接触することがなく、高精度で回転ディスクを処理す
ることができる。
の表面に沿って軸方向に往復動するようにしたことか
ら、処理ローラの外周面が回転ディスクの表面に片寄っ
て接触することがなく、高精度で回転ディスクを処理す
ることができる。
【００５５】(3).回転ディスクの処理に際して処理ロー
ラの外周面に付着した異物は、異物除去スクレーパーに
より除去されるので、高精度で回転ディスクを処理する
ことができる。
ラの外周面に付着した異物は、異物除去スクレーパーに
より除去されるので、高精度で回転ディスクを処理する
ことができる。
【００５６】(4).２つの処理ローラを回転ディスクに接
触させる際には、徐々に回転ディスクの表面に接触する
ので、処理ローラの接触時に回転ディスクに衝撃力が加
わることなく、衝撃に起因した傷が回転ディスクに発生
することを防止することができる。
触させる際には、徐々に回転ディスクの表面に接触する
ので、処理ローラの接触時に回転ディスクに衝撃力が加
わることなく、衝撃に起因した傷が回転ディスクに発生
することを防止することができる。
【図１】本発明の一実施の形態である回転ディスクの表
面処理装置の基本構造を示す斜視図である。
面処理装置の基本構造を示す斜視図である。
【図２】図１の正面図である。
【図３】図２の平面図である。
【図４】図２における４−４線に沿う断面図である。
【図５】図１〜図４に示された表面処理装置の駆動機構
部を示す平面図である。
部を示す平面図である。
【図６】図５および図８における６−６線に沿う断面図
である。
である。
【図７】図５の要部を示す斜視図である。
【図８】図５に連なった部分を示す平面図である。
【図９】本発明の他の実施の形態である回転ディスクの
表面処理装置の基本構造を示す斜視図である。
表面処理装置の基本構造を示す斜視図である。
【図１０】図９の正面図である。
【図１１】図９および図１０に示された揺動アームの内
部構造を示す断面図である。
部構造を示す断面図である。
【図１２】揺動アームの変形例を示す斜視図である。
１０ 回転ディスク １１，１２ 位置決め用ロッド １３，１４ 位置決めローラ １５ 駆動軸（第１駆動軸） １６ 駆動軸（第２駆動軸） １７ 処理ローラ（第１処理ローラ） １８ 処理ローラ（第２処理ローラ） １９ ノズル ２１，２２ スクレーパー ３１ 支持台 ３３ａ，３３ｂ 揺動テーブル ３５ａ，３５ｂ 摺動テーブル ３６ａ，３６ｂ 駆動機構 ３７ 支持ブロック ３８ 軸受スリーブ ４１ 駆動ヘッド ４３ 駆動歯車 ４４ プーリー ４５ モータ ４７ プーリー ４８ タイミングベルト ５１ 従動歯車 ５２ アイドル歯車 ５７ カム部材 ５８ 空気圧シリンダ ５９ ピストンロッド ６０ カムローラ ６１ 空気圧シリンダ ６３ 回転軸 ６３ａ 偏心カム ６５ モータ ６６ 主軸 ６７，６８ プーリー ６９ タイミングベルト
Claims (7)
- 【請求項１】 一対の位置決めローラに回転ディスクの
外周を接触させ、 前記回転ディスクの一方の面に接触する第１処理ローラ
と、前記回転ディスクの他方の面に接触し前記第１処理
ローラに沿って配置された第２処理ローラとの間で前記
回転ディスクを挟むとともに、前記両処理ローラの前記
回転ディスクに対する摩擦力を前記両処理ローラの一端
部と他端部とで相違させ、 前記両処理ローラに処理液を供給し、 相互に逆方向の前記両処理ローラの回転運動を摩擦力の
相違により前記回転ディスクの回転運動に変換しなが
ら、前記回転ディスクの表面に前記それぞれの処理ロー
ラの外周面を滑らせて前記回転ディスクの表面を前記両
処理ローラにより処理することを特徴とする回転ディス
クの表面処理方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の回転ディスクの表面処理
方法において、前記両処理ローラを前記回転ディスクの
表面に沿って軸方向に揺動するようにしたことを特徴と
する回転ディスクの表面処理方法。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の回転ディスクの
表面処理方法において、前記両処理ローラの外周面に接
触する異物除去部材により前記両処理ローラの表面の異
物を除去するようにしたことを特徴とする回転ディスク
の表面処理方法。 - 【請求項４】 回転ディスクの外周に接触して前記回転
ディスクの中心位置を規制する一対の位置決めローラ
と、 前記回転ディスクの一方の面に接触する第１処理ローラ
と、 前記第１処理ローラに沿って配置されて相対接近離反移
動自在となり、かつ前記回転ディクスの他方の面に接触
して前記回転ディスクを前記第１処理ローラとの間で挟
むとともに一端部と他端部とで相違した摩擦力を前記第
１処理ローラとにより前記回転ディスクに与える第２処
理ローラと、 前記それぞれの処理ローラに処理液を供給する処理液供
給手段と、 前記第１処理ローラと前記第２処理ローラとを相互に逆
方向に回転駆動する駆動手段とを有し、 前記摩擦力の相違により前記それぞれの処理ローラの回
転運動を前記回転ディスクの回転運動に変換しながら、
前記回転ディスクの表面に前記それぞれの処理ローラの
外周面を滑らせて前記回転ディスクの表面を前記それぞ
れの処理ローラにより処理することを特徴とする回転デ
ィスクの表面処理装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の回転ディスクの表面処理
装置において、前記それぞれの処理ローラの回転中心軸
相互間の距離を一端部と他端部とで相違させるか、前記
それぞれの処理ローラの少なくとも一方の外径を一端部
と他端部とで相違させるか、あるいは前記それぞれの処
理ローラの少なくとも一方の外径をテーパー形状として
前記摩擦力を相違させるようにしたことを特徴とする回
転ディスクの表面処理装置。 - 【請求項６】 請求項４または５記載の回転ディスクの
表面処理装置において、前記第１処理ローラをこれの径
方向に往復動自在の第１移動台に取り付け、前記第２処
理ローラを前記第１移動台と同一の方向に移動自在の第
２移動台に取り付け、前記第１移動台と前記第２移動台
との少なくとも一方を相互に直線方向移動させることに
より、前記第１処理ローラと前記第２処理ローラとを相
互に接近離反移動するようにしたことを特徴とする回転
ディスクの表面処理装置。 - 【請求項７】 請求項４または５記載の回転ディスクの
表面処理装置において、前記第１処理ローラを前記第１
処理ローラの回転中心軸と平行な揺動中心軸を有する第
１揺動アームの先端に取り付け、前記第１処理ローラを
前記第２処理ローラの回転中心軸と平行な揺動中心軸を
有する第２揺動アームの先端に取り付け、前記第１揺動
アームと前記第２揺動アームの少なくとも一方を揺動中
心軸を中心に揺動させることにより、前記第１処理ロー
ラと前記第２処理ローラとを相互に接近離反移動するよ
うにしたことを特徴とする回転ディスクの表面処理装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9181966A JPH1119609A (ja) | 1997-07-08 | 1997-07-08 | 回転ディスクの表面処理方法および装置 |
| US09/105,624 US6033522A (en) | 1997-07-08 | 1998-06-26 | Surface treatment method and apparatus for rotatable disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9181966A JPH1119609A (ja) | 1997-07-08 | 1997-07-08 | 回転ディスクの表面処理方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1119609A true JPH1119609A (ja) | 1999-01-26 |
Family
ID=16109988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9181966A Pending JPH1119609A (ja) | 1997-07-08 | 1997-07-08 | 回転ディスクの表面処理方法および装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6033522A (ja) |
| JP (1) | JPH1119609A (ja) |
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| JP2014094341A (ja) * | 2012-11-08 | 2014-05-22 | Sony Corp | 清掃装置 |
| JP2020136618A (ja) * | 2019-02-25 | 2020-08-31 | 株式会社東京精密 | ブラシ洗浄装置 |
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1998
- 1998-06-26 US US09/105,624 patent/US6033522A/en not_active Expired - Lifetime
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| US6033522A (en) | 2000-03-07 |
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