JPH11180032A

JPH11180032A - 記録用シート及びその製造方法

Info

Publication number: JPH11180032A
Application number: JP9355821A
Authority: JP
Inventors: Seiji Mizumoto; 清治水元
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1997-12-24
Filing date: 1997-12-24
Publication date: 1999-07-06

Abstract

(57)【要約】【課題】インクジェット記録用シートにおいて、イン
ク吸収性、耐水性、印字性、画像の鮮明性及び耐久性を
改善し、印刷面の反対側から画像を見る。【解決手段】透明基材上に、画像が形成可能なインク
受容層を形成して記録用シートを形成する。前記インク
受容層は、透明基材上のインク吸収層とこのインク吸収
層の上に形成した多孔質層とで構成でき、インク受容層
に形成した画像を透明基材側から見ることができる。画
像は顔料インクにより形成できる。前記インク吸収層は
親水性高分子（セルロース誘導体、ビニルアルコール系
重合体、ビニルエステル系重合体、ポリビニルピロリド
ンなど）で構成でき、多孔質層はセルロース誘導体、ビ
ニル系重合体、ポリスルホン系重合体などで構成でき
る。多孔質層は、ミクロ相分離構造を有しており、平均
孔径は０．４〜１０μｍ程度である。記録用シートの波
長４００ｎｍでの光線透過率を３０％未満にすると、鮮
明な記録画像を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は記録用シート及びそ
の製造方法、並びにその記録物に関する。さらに詳しく
はインクジェット記録方式におけるインクの吸収性、イ
ンク定着性、印字性、記録画像の耐水性及び耐久性に優
れ、透明基材側から記録画像を視認するのに有用な記録
用シート及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット記録方式は、フルカラー
化が容易であり、低騒音で印字品質に優れている。ま
た、インクジェットプリンターは低価格で、しかも高速
化が容易であるため、コンピュータ用記録装置、ワード
プロセッサ、コピー機などの印字・出力装置として広く
用いられている。インクジェット記録用のインク成分と
しては、安全性、記録適性の点から主に水系インクが使
用され、ノズルから記録用シートにむけてインク小滴を
飛翔させることにより記録が行われる。使用する記録シ
ートのインク吸収性が低い場合、飛翔させたインク小滴
の周辺にインクが飛散したり、記録終了後もインクが記
録用シートの表面に長時間残り、装置の一部への接触、
取り扱い者への接触や、記録シートの重ね合せにより、
記録部分が汚れる。また、高密度画像部では、多量に供
給されたインクが吸収されないまま混合されるとともに
流れ出し、不鮮明な画像となる。このため、記録用シー
トは、速やかにインクを吸収すること、及び高い定着性
が要求される。

【０００３】また、前述のように種々の用途に適用可能
なインクジェット記録方式においては、透明な基材の上
に形成した画像記録層に画像を形成し、透明基材側から
見ることを目的とした記録シートなどが研究されてい
る、このような用途において、基材側から鮮明な画像を
観察するためには、画像形成層は速やかなインク浸透及
び高いインク定着性、また、基材の高い透明度が要求さ
れる。さらに、画像形成層が不透明であれば、記録画像
が際立ち鮮明性が強調される。

【０００４】特開昭５９−１７４３８２号公報には、透
明性基材及びＤ−ソルビトールとベンズアルデヒドとの
縮合生成物を含有する透明性のインク吸収層で構成され
た被記録材が開示されており、インク吸収層が多孔質層
であってもよいことが記載されている。しかし、このよ
うな被記録材では、インク吸収性を改善すると耐水性が
低下するとともに、基材側から画像を鮮明に見ることが
困難である。

【０００５】特開昭６１−１９７２８５号公報には、透
明又は略透明な支持体の片面に多孔質の表層を積層し、
表層側から印刷して支持体側から視認することができる
印刷物が開示されている。しかし、多孔質層だけでは、
インク吸収性に限界がある。特開平４−１１５９８４号
公報には、透明基材上に多孔質の擬ベーマイト層と多孔
性シリカ層とを設けた記録用シートが開示されている。
特開平４−２６３９８１号公報及び特開平６−１８３１
２６号公報には、透明基材又は艶消し加工を施した透明
基材上に、アルミナ水和物の層と不透明多孔質層とを設
けた記録用シートが開示されている。また、特開平５−
１６５１７号公報及び特開平５−５０７３９号公報に
は、透明基材上に、溶媒吸収性の樹脂層、色素を定着す
る多孔性アルミナ水和物層、溶媒吸収性の多孔質層、及
び不透明多孔質層を積層した記録シートが開示されてい
る。しかし、これらの記録用シートでは、記録画像を主
に不透明な多孔質層を背景として、透明基材側から見る
ことが開示されているが、インク定着又は吸収層の透明
度が低いため、画像を基材側から見たときに、画像の鮮
明性が低下する。

【０００６】特開平５−１６９７９８号公報には、光透
過性基材フィルムに、インク受容層と、加熱により粘着
性となる光透過性粘着剤層とを積層し、粘着剤層の表面
に印刷又は印字する印刷シートが開示されている。しか
し、粘着層が加熱により光透過性となるため、被着体に
貼り付けても画像の鮮明性が低下する。

【０００７】なお、インクジェット記録方式において、
耐水性を向上されるため、顔料を用いたインクが検討さ
れている。しかし、染料インクと異なり、粒子状の顔料
インクではインク受容層に対する定着性ひいては耐水性
が低下する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、染料インク及び顔料インクであっても、インク吸収
性、インク定着性、及び耐水性に優れ、しかも基材側か
ら鮮明な画像を見ることができる記録用シート及びその
製造方法を提供することにある。本発明の他の目的は、
インク吸収性及び耐水性を高いレベルでバランスよく備
え、且つ印字性及び画像の鮮明性に優れた記録用シート
及びその製造方法を提供することにある。本発明のさら
に他の目的は、鮮明な画像を透明基材側から見ることが
できるとともに、画像を透明基材により有効に保護でき
る記録物を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意検討の結果、透明基材上に、イン
ク吸収層と多孔質層とを形成すると、インク吸収性、イ
ンク定着性、耐水性、及び印字性、さらには画像の鮮明
性及び耐久性が大幅に改善でき、透明基材側から鮮明な
画像を視認できることを見出し本発明を完成した。

【００１０】すなわち、本発明の記録用シートは、透明
基材と、画像が形成可能なインク受容層とで構成されて
いる。前記インク受容層は、前記透明基材上のインク吸
収層と、このインク吸収層上に形成された多孔質層とで
構成されている。前記記録用シートでは、インク受容層
に形成された画像を透明基材側から視認可能である。画
像は、顔料インクを用いて形成してもよい。前記多孔質
層はミクロ相分離構造を有していてもよく、通常、非透
明性である。多孔質層の平均孔径は０．４〜１０μｍ程
度、空孔率は１０〜７０％程度であってもよい。さら
に、前記記録用シートの透明性について、波長４００ｎ
ｍでの光線透過率は３０％未満であってもよい。インク
吸収層は、親水性高分子で構成してもよい。インク吸収
層の厚みは５〜５０μｍ程度、多孔質層の厚みは１〜１
００μｍ程度に形成できる。

【００１１】本発明の記録用シートは、透明基材上に、
画像が形成可能なインク受容層を形成することにより製
造できる。前記インク受容層は、インク吸収層と多孔質
層とで構成され、この多孔質層は、インク吸収層の上に
重合体を含む塗布液を塗布した後、成膜過程で形成して
もよい。本発明には、前記記録用シートに、画像を顔料
インクにより形成し、透明基材側から見る記録物も含ま
れる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の記録用シートは、透明基
材と、画像が形成可能なインク受容層とで構成されてい
る。このような記録用シートは、飛翔するインク小滴に
より記録画像を形成するインクジェット用の記録用シー
トとして有用であり、インク受容層に形成された画像を
透明基材側から見ることができる。［透明基材］基材は、透明又は半透明であれば、その材
質には特に制限はないが、プラスチックフィルムなどが
好ましい。形成された画像を基材側から見る際に、画像
の鮮明性を高める場合、基材の透明度は高いものが好ま
しい。

【００１３】プラスチックフィルムを構成するポリマー
としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ
（メタ）アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリビニ
ルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、
酢酸セルロースなどのセルロース誘導体、ポリエステル
（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レートなどのポリアルキレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリブチレンナフタレートなどのポ
リアルキレンナフタレートなど）、ポリカーボネート、
ポリアミド（ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリア
ミド６／１０、ポリアミド６／１２など）、ポリエステ
ルアミド、ポリエーテル、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリエーテルエステルなどが挙げられ、さらにこれ
らの共重合体、ブレンド物、架橋物を用いてもよい。

【００１４】これらのフィルムのうち、通常、ポリオレ
フィン（特に、ポリプロピレンなど）、ポリエステル
（特に、ポリエチレンテレフタレートなど）、ポリアミ
ドなどが使用され、特に、機械的強度、作業性などの点
からポリエステル（特にポリエチレンテレフタレートな
ど）が好ましい。

【００１５】プラスチックフィルムには、必要に応じ
て、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤、滑剤、顔料
などの慣用の添加剤を添加してもよい。また、インク吸
収層との接着性を改善するため、コロナ放電処理やアン
ダーコート処理などの表面処理を行ってもよい。

【００１６】基材の厚みは、用途に応じて当業者の所望
により選択できるが、通常、インクジェットプリンター
に挿入して画像を形成することを考慮すると、例えば、
２０〜２００μｍ程度の範囲から選択でき、好ましくは
５０〜１７０μｍ程度、さらに好ましくは８０〜１５０
μｍ程度である。支持体の厚みが２０μｍより薄いと、
強度及び剛性面からプリンタへの挿入、シートの反り、
及びシートの取り扱いに困難を来たし、２００μｍより
厚いと、１枚当たりの価格の上昇、シートの重量の増大
により多数のシートの持ち運び性などが低下しやすい。［インク受容層］インク受容層は、前記透明基材上のイ
ンク吸収層とこのインク吸収層上に形成された多孔質層
とで構成される。

【００１７】［インク吸収層］インク吸収層は、インク
を吸収可能な物質で構成されている限り特に制限はな
い。前記インク吸収層は重合体で構成でき、重合体とし
ては、例えば、天然高分子又はその誘導体、セルロース
誘導体、オレフィン系重合体、アクリル系重合体、スチ
レン系重合体、ビニル系重合体（酢酸ビニル系共重合
体、ビニルエーテル系重合体など）、ビニルアルコール
系重合体、ポリアルキレンオキサイド、ポリエステル、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリス
ルホン、エポキシドから誘導される重合体などが挙げら
れる。これらの重合体は、親水性基（カルボキシル基、
スルホン酸基などの酸性基又はそれらの塩、塩基性基又
はその塩）を有していてもよい。インクジェット記録方
式においては、水性インクが多用されているため、イン
ク吸収層は、特に水溶性高分子又は水不溶性であっても
吸収性を有する高分子（親水性高分子）で構成されるの
が好ましい。

【００１８】水溶性高分子又は水不溶性であっても吸収
性を有する高分子（親水性高分子）としては、例えば、
親水性天然高分子又はその誘導体（デンプン、コーンス
ターチ、アルギン酸ナトリウム、アラビアゴム、ゼラチ
ン、カゼイン、デキストリンなど）、セルロース誘導体
（メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロ
ーススルフェート、シアノエチルセルロースなど）、ビ
ニルアルコール系重合体（ポリビニルアルコール、エチ
レン−ビニルアルコール共重合体など）、エチレン系重
合体（エチレン−無水マレイン酸共重合体など）、酢酸
ビニル系共重合体（酢酸ビニル−アクリル酸メチル共重
合体など）、ポリアルキレンオキサイド（ポリエチレン
オキサイド、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイ
ドブロック共重合体など）、カルボキシル基又はスルホ
ン酸基を有する重合体又はその塩［アクリル系重合体
（ポリ（メタ）アクリル酸又はその塩（アンモニウム、
ナトリウムなどのアルカリ金属塩）、メタクリル酸メチ
ル−（メタ）アクリル酸共重合体、アクリル酸−ポリビ
ニルアルコール共重合体など）、ビニルエーテル系重合
体（ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルイソブチル
エーテルなどのポリビニルアルキルエーテル、メチルビ
ニルエーテル−無水マレイン酸共重合体など）、スチレ
ン系重合体（スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチ
レン−（メタ）アクリル酸共重合体、ポリスチレンスル
ホン酸ナトリウムなど）、ポリビニルスルホン酸ナトリ
ウムなど］、窒素含有重合体（又はカチオン性ポリマ
ー）又はその塩（ポリビニルベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、ポリジアリルジメチルアンモニウム
クロライドなどの４級アンモニウム塩、ポリジメチルア
ミノエチル（メタ）アクリレート塩酸塩、ポリビニルピ
リジン、ポリビニルイミダゾール、ポリエチレンイミ
ン、ポリアミドポリアミン、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルピロリドンなど）などが挙げられる。これらの親
水性高分子は単独で又は二種以上組み合わせて使用でき
る。

【００１９】これらの親水性高分子のうち、セルロース
誘導体（特にヒドロキシエチルセルロースなど）、ビニ
ルアルコール系重合体（特にポリビニルアルコールな
ど）、ビニルエステル系重合体（特に酢酸ビニル系共重
合体など）、ポリビニルピロリドンなどが好ましい。

【００２０】また、ポリオキシアルキレン単位，アセト
アセチル基，カルボキシル基，酸無水物基およびアミノ
基から選択された少なくとも１つの官能基を有する親水
性高分子も好ましい。

【００２１】前記ビニルエステル系重合体（酢酸ビニル
系共重合体など）は、ビニルエステル（酢酸ビニルな
ど）と他の共重合性モノマーとの共重合体であり、その
部分ケン化物（例えば、ケン化度１０〜９０％程度の部
分ケン化物）なども含まれる。好ましい共重合性モノマ
ーには、親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホン
酸基やこれらの塩、ヒドロキシル基、エーテル基など）
を有する親水性モノマーが含まれ、特にエーテル基、な
かでもオキシアルキレン単位を有するビニルモノマー、
例えば、アルキレンオキサイドの単位（付加モル）数が
１〜１００、好ましくは２〜８０（例えば、５〜８
０）、さらに好ましくは５〜７０（例えば、１０〜５
０）程度の（メタ）アクリル酸エステルやアリルエーテ
ルなどが使用できる。

【００２２】オキシアルキレン単位を有するビニルモノ
マーには、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、ポリブロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アリルエー
テル、トリエチレングリコールモノ（メタ）アリルエー
テル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アリルエー
テル、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アリルエー
テル、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アリルエ
ーテル、ポリブロピレングリコールモノ（メタ）アリル
エーテルなどが含まれる。これらのビニルモノマーは単
独で又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましいモ
ノマーには、オキシアルキレン単位がオキシエチレン単
位であるビニル単量体である（メタ）アクリレート、特
にポリオキシアルキレン（メタ）アリルエーテル（なか
でもポリオキシエチレンアリルエーテル）が含まれる。

【００２３】共重合性モノマーの割合は、画像の鮮明
性、耐水性などを損なわない範囲で選択でき、例えば、
モノマー全体の０．１〜５０モル％程度、好ましくは１
〜３０モル％程度、さらに好ましくは２．５〜２５モル
％（例えば、３〜２０モル％）程度である。なお、酢酸
ビニルとポリオキシアルキレン単位を有するビニル単量
体との共重合体（変性酢酸ビニル系樹脂）は、例えば、
日本合成化学（株）から商品名「ＯＫＳ−７１５８Ｇ」
などとして入手できる。

【００２４】アセトアセチル基変性親水性高分子には、
ヒドロキシル基を有する親水性高分子とアセト酢酸エス
テルとの反応により生成するアセトアセチル基含有親水
性高分子、例えば、アセトアセチル基変性酢酸ビニル系
共重合体（アセトアセチル基含有ポリビニルアルコー
ル，アセトアセチル基含有セルロース誘導体など）が含
まれる。アセトアセチル基変性酢酸ビニル系共重合体、
例えば、日本合成化学工業（株）から入手できる。

【００２５】カルボキシル基変性親水性高分子には、
（ａ）カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、例え
ば、ビニルエステル（酢酸ビニル，プロピオン酸ビニ
ル，ギ酸ビニルなど）とカルボキシル基含有不飽和単量
体（（メタ）アクリル酸などのモノカルボン酸、マレイ
ン酸，フマル酸，イタコン酸などのジカルボン酸又はこ
れらの酸無水物もしくはモノアルキルエステルなど）と
の共重合体の部分ケン化物、例としては、スチレン−
（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸エス
テル−（メタ）アクリル酸共重合体（メタクリル酸メチ
ル−（メタ）アクリル酸共重合体など）、酢酸ビニル−
（メタ）アクリル酸共重合体などのケン化物など、
（ｂ）カルボキシル基含有多糖類、例えば、カルボキシ
Ｃ_1-4アルキルセルロース、カルボキシメチルデキスト
ラン、アルギン酸などが含まれる。

【００２６】酸無水物基含有親水性高分子には、アルキ
ルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体（メチルビ
ニルエーテル−無水マレイン酸共重合体など）、エチレ
ン−無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
（メタ）アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合体
（メタクリル酸メチル−無水マレイン酸共重合体など）
などが含まれる。

【００２７】アミノ基含有親水性高分子には、ポリアミ
ド−ポリアミン、ポリビニルアミン、ポリ（Ｎ−ビニル
ホルムアミド）の部分加水分解物、アミノ基含有多糖類
（アミノデキストラン、キトサンなど）などが挙げられ
る。

【００２８】他の好ましい高分子には、エポキシ基を有
する親水性高分子が含まれる。エポキシ基含有高分子
は、（１）エポキシ基を有する単量体単位を有する単独
又は共重合体、（２）樹脂のエポキシ化によるエポキシ
化樹脂などのいずれであってもよい。エポキシ基含有単
量体としては、例えば、アリルグリシジルエーテル、グ
リシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、メ
タアリルグリシジルエーテル、１−アリルオキシ−３，
４−エポキシブタン、１−（３−ブテニルオキシ）−
２，３−エポキシプロパン、４−ビニル−１−シクロへ
キセン−１，２エポキシドなどが例示できる。これらの
エポキシ含有単量体は、単独で又は二種以上使用でき
る。好ましいエポキシ含有単量体には、アリルグリシジ
ルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレートなどが含
まれる。

【００２９】エポキシ含有単量体と共重合可能な共重合
性モノマーとしては、酢酸ビニルや前記例示の共重合性
モノマー、特に、ビニルエステル類（酢酸ビニルな
ど）、ビニルピロリドン、（メタ）アクリル系単量体
（（メタ）アクリル酸Ｃ_1-8アルキルエステルなど）、
カルボキシル基又はその塩を含有する単量体（（メタ）
アクリル酸又はその塩など）が使用できる。なお、前記
高分子においてビニルエステル類の単位は、加水分解に
よりビニルアルコール単位を構成してもよい。

【００３０】エポキシ基を含有する単量体の使用量（含
有量）は、単量体全体に対して０．０１〜１０モル％
（例えば、０．０１〜５モル％）、好ましくは０．１〜
３モル％（例えば、０．２〜２．５モル％）、特に０．
２〜２モル％程度である。

【００３１】前記エポキシ基含有樹脂（２）において、
親水性高分子をエポキシ化する方法としては、活性水素
原子（例えば、水酸基，アミノ基，カルボキシル基な
ど）を有する吸水性高分子又は水溶性高分子にエピクロ
ルヒドリンを反応させ、エポキシ基を導入する方法など
が採用できる。

【００３２】エポキシ基の導入量は、前記と同様に、高
分子全体に対して０．０１〜１０モル％（例えば、０．
０１〜５モル％）、好ましくは０．１〜３モル％（例え
ば、０．２〜２．５モル％）、さらに好ましくは０．２
〜２モル％程度である。

【００３３】エポキシ基を有する好ましい高分子は、例
えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、
水溶性アクリル系樹脂（例えば、ポリ（メタ）アクリル
酸又はその塩，（メタ）アクリル酸Ｃ_1-8アルキルエス
テル−（メタ）アクリル酸共重合体又はその塩などのカ
ルボキシル基含有（メタ）アクリル系樹脂又はその塩）
から選択された少なくとも一種で構成できる。

【００３４】なお、エポキシ変性ポリビニルアルコール
は、(１)酢酸ビニルとエポキシ基を有する単量体(アリ
ルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート
など)との共重合体のケン化、(２)エピクロルヒドリン
などのエポキシ化剤によるポリビニルアルコールのエポ
キシ化により得ることができる。エポキシ基を含有する
単量体の使用量(含有量)やエポキシ基の導入量は、０．
０１〜５モル％程度、好ましくは０．１〜３モル％(例
えば、０．２〜２．５モル％)、特に０．２〜２モル％
程度である。

【００３５】ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル系
単量体を単量体成分とするアクリル系重合体は、ヒドロ
キシル基に加えてカルボキシル基を含有していてもよ
い。ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル系単量体に
は、ヒドロキシＣ_2-6アルキル(メタ)アクリレート−(メ
タ)アクリル酸共重合体、ヒドロキシＣ_2-6アルキル(メ
タ)アクリレート−(メタ)アクリル酸Ｃ_1-12アルキルエ
ステル−(メタ)アクリル酸共重合体「例えば、メタクリ
ル酸メチル−ヒドロキシＣ_2-6アルキル(メタ)アクリレ
ート−(メタ)アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル
−アクリル酸Ｃ_1- ₁₂アルキルエステル−ヒドロキシＣ
_2-6アルキル(メタ)アクリレート−(メタ)アクリレート
共重合体など」、スチレン−(メタ)アクリル酸Ｃ_1-12ア
ルキルエステル−ヒドロキシＣ_2-6アルキル(メタ)アク
リレート共重合体などが例示でき、カルボキシル基を有
するアクリル系重合体は、塩(アンモニウム塩、アミン
塩、ナトリウムなどのアルカリ金属塩)を形成してもよ
い。アクリル系重合体は、必要であれば、前記酢酸ビニ
ル系共重合体の項で例示の共重合性モノマー「エポキシ
基含有(メタ)アクリレート、シアン化ビニル、アリル系
単量体、スルホン酸基又はその塩を含有するモノマー、
酸無水物基を含有するモノマー、ビニル系単量体など」
の他、アミノ基含有(メタ)アクリレート、アミド基含有
モノマーなどを共重合させた共重合体であってもよい。

【００３６】アクリル系重合体におけるヒドロキシル基
の含有量は、ヒドロキシエチルメタアクリレート換算
で、５〜１００重量％、好ましくは５〜７５重量％、さ
らに好ましく５〜５０重量％程度の範囲から選択でき、
通常、１０〜３０重量％程度である。アクリル系重合体
におけるカルボキシル基の含有量は、通常、メタアクリ
ル酸換算で、５〜６０重量％、好ましくは１０〜５０重
量％、さらに好ましくは１５〜３５重量％程度の範囲か
ら選択できる。

【００３７】耐水性を向上させるため、前記インク吸収
層には架橋剤を添加してもよい。架橋剤としては、例え
ば、有機系架橋剤［アミノ樹脂（尿素樹脂、グアナミン
樹脂、メラミン樹脂など）、エポキシ系化合物、アミン
化合物［エチレンジアミン，ヘキサメチレンジアミン，
ポリオキシアルキレン型ジアミン又はポリアミン（すな
わちポリエーテル型ジアミン又はポリアミン）などの脂
肪族，脂環族，芳香族ジアミン又はポリアミン］、多価
カルボン酸又は酸無水物、ポリイソシアネート、ブロッ
ク型ポリイソシアネートなど］、無機系架橋剤［ホウ酸
又はホウ酸塩（硼砂など）、ジルコニウム化合物（例え
ば、ハロゲン化物、硫酸などの無機酸や酢酸などの有機
酸との塩など）、チタニウム化合物（例えば、テトラエ
トキシチタネートなどのアルコキシドなど）、アルミニ
ウム化合物（例えば、トリメトキシアルミネートなどの
アルコキシドなど）、リン化合物（例えば、亜リン酸エ
ステル、ビスフェノールＡ変性ポリリン酸など）、シラ
ンカップリング剤（アルコキシ基、グリシジル基などの
反応性官能基を有するシリコーン化合物）など］などが
例示できる。これらの架橋剤は単独で又は二種以上使用
できる。これらの架橋剤のうちポリイソシアネートを用
いる場合が多く、エポキシ基含有高分子を用いる場合に
は、多価カルボン酸又は酸無水物類、アミン類（第１級
又は第２級アミンなど）などのエポキシ硬化剤を用いる
場合が多い。

【００３８】架橋剤の添加量は、重合体の種類などに応
じて選択でき、例えば、重合体１００の重量部に対して
０．０１〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量
部、さらに好ましくは１〜５重量部程度である。

【００３９】インク吸収層には、硬化反応を促進するた
めに、硬化剤（硬化触媒又は硬化促進剤）を添加しても
よい。硬化剤としては、例えば、有機スズ化合物（ジブ
チルスズジラウレート、ジブチルスズジマレエート、ジ
オクチルスズジラウレート、ジオクチルスズジマレエー
ト、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジメトキ
サイド、トリブチルスズサルファイト、ジブチルスズチ
オグリコレート、オクチル酸スズなど）、有機アルミニ
ウム化合物（アルミニウムイソプロピレート、アルミニ
ウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウム
トリス（アセチルアセトネート）、エチルアセトアセテ
ートアルミニウムジイソプロピレートなど）、有機チタ
ニウム化合物（イソプロピルトリステアロイルチタネー
ト、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイ
ト）チタネート、ビス（ジオクチルピロホスフェート）
オキシアセテートチタネートなど）、有機ジルコニウム
化合物（テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、オクチル
酸ジルコニル、アルコキシジルコニウムとアセチルアセ
トンまたはアセト酢酸エステルとの反応物など）、酸性
化合物（有機酸、例えば、酢酸，プロピオン酸などの脂
肪族有機カルボン酸，オキシカルボン酸、安息香酸など
の芳香族カルボン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸などのスル
ホン酸など）、塩基性化合物（塩基、例えば、トリエチ
ルアミンなどの有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどの無機塩基）、酸性リン酸エステル（モノブ
チルホスフェート、ジブチルホスフェート、イソプロピ
ルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェー
ト、オクチルアシッドホスフェート、トリデシルアシッ
ドホスフェートなど）、前記酸性リン酸エステルとアミ
ン（ヘキシルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルドデシルアミン、３−プロパノールアミンなど）の
混合物または反応物が挙げられる。これらの硬化剤は単
独で又は２種以上を混合して用いることができる。

【００４０】硬化剤の使用量は、硬化性を促進できる範
囲、例えば、固形分換算で、親水性高分子で構成された
樹脂組成物１００重量部に対して０.０１〜１０重量
部、好ましくは０.１〜５重量部程度である。

【００４１】さらに、着色剤（染料）の定着性を向上さ
せるため、染料固着剤、特に高分子染料固着剤を用いる
のが有利である。染料固着剤（高分子染料固着剤）は、
通常、分子中にカチオン基（特に、グアニジル基や第４
級アンモニウム塩型の強いカチオン基）を有している。
染料固着剤は水溶性であってもよい。

【００４２】染料固着剤としては、例えば、ジシアン系
固着剤（ジシアンジアミド−ホルマリン重縮合体な
ど）、ポリアミン系固着剤［ジエチレントリアミン，ト
リエチレンテトラミン，ジプロピレントリアミン，ポリ
アリルアミンなどの脂肪族ポリアミン、フェニレンジア
ミンなどの芳香族ポリアミン、ジシアンジアミドと（ポ
リ）Ｃ_2-4アルキレンポリアミンとの縮合体（ジシアン
ジアミド−ジエチレントリアミン重縮合体など）］、ポ
リカチオン系固着剤などが例示できる。ポリカチオン系
固着剤としては、例えば、エピクロルヒドリン−ジＣ
_1-4アルキルアミン付加重合体（エピクロルヒドリン−
ジメチルアミン付加重合体など）、アリルアミン又はそ
の塩の重合体（ポリアリルアミン又はその塩酸塩の重合
体、例えば、日東紡績（株），PAA-10C，PAA-HCl-3L，P
AA-HCl-10Lなど）、ジアリルＣ_1-4アルキルアミン又は
その塩の重合体（ジアリルメチルアミン又はその塩酸塩
の重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-M-1など）、
ジアリルジＣ_1-4アルキルアンモニウム塩の重合体（ジ
アリルジメチルアンモニウムクロライドの重合体、例え
ば、日東紡績（株），PAS-H-5L，PAS-H-10Lなど）、ジ
アリルアミン又はその塩と二酸化イオウとの共重合体
（ジアリルアミン塩酸塩−二酸化イオウ共重合体、例え
ば、日東紡績（株），PAS-92など），ジアリルジＣ_1-4
アルキルアンモニウム塩−二酸化イオウ共重合体（ジア
リルジメチルアンモニウムクロライド−二酸化イオウ共
重合体、例えば、日東紡績（株），PAS-A-1，PAS-A-5，
PAS-A-120L，PAS-A-120Aなど），ジアリルジＣ_1-4アル
キルアンモニウム塩とジアリルアミン又はその塩もしく
は誘導体との共重合体（ジアリルジメチルアンモニウム
クロライド−ジアリルアミン塩酸塩誘導体の共重合体、
例えば、日東紡績（株），PAS-880など）、ジアリルジ
Ｃ_1-4アルキルアンモニウム塩重合体，ジＣ_1-4アルキ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート４級塩の重合体、
ジアリルジＣ_1-4アルキルアンモニウム塩−アクリルア
ミド共重合体（ジアリルジメチルアンモニウムクロライ
ド−アクリルアミド共重合体、例えば、日東紡績
（株），PAS-J-81など）、アミン−カルボン酸共重合体
（例えば、日東紡績（株），PAS-410など）などが例示
できる。これらの染料固着剤も単独で又は二種以上混合
して使用できる。

【００４３】染料固着剤の使用量は、定着性を向上でき
る範囲、例えば、固形分換算で、親水性高分子で構成さ
れた樹脂組成物１００重量部に対して０．１〜４０重量
部、好ましくは１〜３０重量部、さらに好ましくは２〜
２０重量部程度の範囲から選択できる。

【００４４】インク吸収層には、必要に応じて、他の成
分、例えば、非架橋性重合体や重合体粒子を含む水性エ
マルジョン（例えば、アクリル樹脂エマルジョン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体エマルジョン、酢酸ビニル系
エマルジョンなど）を含有させてもよい。

【００４５】また、インク吸収層は、粉粒体（顔料な
ど）とバインダー樹脂とで構成してもよい。具体的な粉
粒体としては、例えば、無機粉粒体［ホワイトカーボ
ン、微粒子状珪酸カルシウム、ゼオライト、アミノ珪酸
マグネシウム、焼成珪成土、微粒子状炭酸マグネシウ
ム、微粒子状アルミナ、単一粒子が複数個凝集したウニ
状又は球状の軽質炭酸カルシウムなどの多孔質粉粒体や
顔料、タルク、カオリン、クレー、デラミカオリン、重
質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウム、炭酸マグネシ
ウム、二酸化チタン、水酸化アルミニウム、水酸化カル
シウム、水酸化マグネシウム、珪酸マグネシウム、硫酸
カルシウム、セリサイト、ベントナイト、スメクタイト
などの鉱物質粉粒体など］、有機粉粒体［ポリスチレン
樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾ
グアナミン樹脂などの架橋又は非架僑有機微粒子、微小
中空粒子などの有機質粉粒体など］が挙げられる。これ
らの粉粒体は１種又は２種以上適宜選択して併用可能で
ある。バインダー樹脂としては前記の水溶性高分子又は
親水性高分子が使用できる。粉粒体とバインダー樹脂と
の割合は、得られる塗布液の操作特性（例えば、粘度、
流動性）及び得られるインク吸収層の特性（例えば、イ
ンク吸収性、インク滲み）により選択でき、粉粒体１０
０重量部に対してバインダー樹脂５〜８０重量部、好ま
しくは１０〜６０重量部程度である。インク吸収層の厚
みは、用途に応じて選択でき、例えば、５〜５０μｍ、
好ましくは１０〜３０μｍ程度であり、通常、５〜３０
μｍ程度である。

【００４６】［多孔質層］前記インク吸収層の上に形成
された多孔質層は、水性インクに対して濡れ性を有し、
且つ孔中に水性インクが浸透可能であれば特に制限され
ない。前記多孔質層は、通常、種々のポリマー、例え
ば、オレフィン系重合体、ビニル系重合体、アクリル系
重合体、スチレン系重合体、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリスルホン、
エポキシドから誘導される重合体、セルロース誘導体な
どで構成できる。

【００４７】好ましい多孔質層は、水性インクに濡れ性
が高く、孔中に水性インクが侵入するに十分な親水性表
面を有している。このような多孔質層は、親水性重合体
又は親水化処理された重合体で構成できる。なお、親水
性重合体又は親水化処理された重合体とは、接触角が８
０°未満（好ましくは０〜６０°、特に０〜４０°程
度）の重合体を意味する。接触角とは、室温で、重合体
面上の水滴の広がりが停止した状態で、水滴の表面と重
合体面との交点において、水滴に対する接線と重合体面
との間の角度である。

【００４８】親水性重合体としては、前記インク吸収層
と同様な親水性高分子が使用できる。より具体的には、
親水性重合体としては、例えば、セルロース誘導体［セ
ルロースエステル（酢酸セルロース、セルロースプロピ
オネート、セルロースブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、
セルロースアセテートフタレートなどの有機酸エステ
ル；硝酸セルロース、硫酸セルロース、リン酸セルロー
スなどの無機酸エステル；硝酸酢酸セルロースなどの混
酸エステルなど）、セルロースエーテル（エチルセルロ
ースなど）など］、アクリル系重合体［前記例示のポリ
（メタ）アクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、
ポリアクリルアミド、ポリＮ−メチルアクリルアミドな
ど］、ポリビニルピロリドン、ポリアルキレンオキサイ
ド（ポリエチレングリコールなど）、ポリ酢酸ビニル及
びその完全又は部分ケン化物（ポリビニルアルコールな
ど）、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びその完全又は
部分ケン化物（エチレン−ビニルアルコール共重合
体）、ポリアルキルビニルエーテル（ポリメチルビニル
エーテルなど）、カルボキシル基含有重合体又はその塩
（スチレン−無水マレイン酸共重合体、（メタ）アクリ
ル酸アルキルエステル−（メタ）アクリル酸共重合体、
メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体な
ど）、ポリアミド、ポリエチレンイミン、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホンなどが挙げられる。これらの
親水性重合体は単独で又は二種以上組合せて使用でき
る。

【００４９】なお、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のオレフィン系樹脂、ポリスチレンなどのスチレン系樹
脂、フッ素樹脂などの疎水性重合体であっても、界面活
性剤、湿潤剤などの添加や塗布、プラズマ処理、コロナ
放電処理などの処理により表面に親水性を付与すること
ができ、このような親水性が付与された疎水性重合体も
前記親水性重合体に含まれる。

【００５０】多孔質層は、好ましくはセルロースエステ
ル、（メタ）アクリロニトリル系重合体、（メタ）アク
リル酸エステル系重合体及びポリスルホン系重合体から
選択された少なくとも一種で構成され、平均孔径が０．
５〜５μｍ程度であるのが好ましい。

【００５１】多孔質層を形成するための好ましいセルロ
ースエステルには、セルロース有機酸エステル（例え
ば、炭素数２〜４程度の有機酸とのエステル）、特にセ
ルロースアセテート（セルロースジアセテートやセルロ
ーストリアセテートなど）などが含まれる。

【００５２】セルロース誘導体（セルロースエステルな
ど）の粘度平均重合度は、例えば、５０〜８００、好ま
しくは７５〜５００、さらに好ましくは１００〜２５０
（特に１００〜２００）程度である。粘度平均重合度１
００〜１９０程度のセルロースアセテートも有効に使用
できる。

【００５３】セルロースアセテートなどのセルロースエ
ステルの粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田
和夫、斎藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻１号、１０５〜
１２０頁、１９６２年）により測定できる。すなわち、
メチレンクロライド／メタノール＝９／１（重量比）の
混合溶液に精秤したセルロースエステルを溶解し、所定
の濃度ｃ（２．００ｇ／Ｌ）の溶液を調整する。この溶
液をオストワルド粘度計に注入し、２５℃で粘度計の刻
線間を溶液が通過する時間（秒）ｔを測定する。一方、
前記混合溶剤単独についても上記と同様にして通過する
時間（秒）ｔ₀を測定し、下記式に従って、粘度平均重
合度を算出する。 η_rel＝ｔ／ｔ₀ ［η］＝（ｌｎη_rel）／ｃＤＰ＝［η］／（６×１０^-4）（式中、ｔは溶液の通過時間（秒）、ｔ₀は溶媒の通過
時間（秒）、ｃは溶液のセルロースエステル濃度（ｇ／
Ｌ）、η_relは相対粘度、［η］は極限粘度、ＤＰは平
均重合度を示す）セルロース誘導体の平均置換度は、１〜３程度の範囲か
ら選択できる。例えば、好ましいセルロースアセテート
では、例えば、平均酢化度４２〜６２％（４３〜６０
％）程度、好ましくは４２〜５７％程度である。

【００５４】ビニル系重合体のうち、（メタ）アクリロ
ニトリル系重合体および（メタ）アクリル酸エステル系
重合体が好ましい。すなわち、（メタ）アクリロニトリ
ル，（メタ）アクリル酸エステル系単量体から選択され
た少なくとも一種の（メタ）アクリル系単量体の単独又
は共重合体、この（メタ）アクリル系単量体と他の共重
合性単量体［ビニルエステル系単量体，複素環式ビニル
系単量体，芳香族ビニル単量体，重合性不飽和ジカルボ
ン酸又はその誘導体などから選択された少なくとも一種
の単量体］との共重合体が好ましい。

【００５５】（メタ）アクリロニトリル系重合体には、
ポリアクリロニトリル、ポリメタアクリロニトリル，
（メタ）アクリロニトリルと共重合性単量体との共重合
体が含まれる。前記共重合性単量体としては、例えば、
ビニルエステル系単量体（ギ酸ビニル，酢酸ビニル，プ
ロピオン酸ビニルなど）、（メタ）アクリル系単量体
［（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸メチル，
（メタ）アクリル酸エチル，（メタ）アクリル酸ブチ
ル，（メタ）アクリル酸ヘキシル，（メタ）アクリル酸
２−エチルヘキシルなどの（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10ア
ルキルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエ
チル，（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル，
（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチルなどのヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレート、グリシジル（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート，ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト，ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレートなど
のアルキルアミノ−アルキル（メタ）アクリレート、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリル
アミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、アルコキ
シメチル（メタ）アクリルアミドなど］、複素環式ビニ
ル系単量体（ビニルピロリドン，ビニルピリジン，ビニ
ルピペリジン，ビニルイミダゾール，ビニルカルバゾー
ルなどの窒素原子，酸素原子およびイオウ原子から選択
された少なくとも一種のヘテロ原子を含む５〜６員複素
環式ビニル系単量体など）、芳香族ビニル単量体（スチ
レン，ビニルトルエン，α−メチルスチレンなど）、重
合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体（イタコン酸、
マレイン酸、無水マレイン酸，フマル酸，これらの低級
アルキルエステル又は酸無水物，マレイミド，Ｎ−アル
キルマレイミド，Ｎ−フェニルマレイミドなど）などが
例示できる。これらの共重合性単量体は単独で又は二種
以上組み合わせて使用できる。

【００５６】好ましい共重合性単量体には、ビニルエス
テル系単量体（酢酸ビニルなど）、（メタ）アクリル系
単量体［（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸Ｃ
_1-8アルキルエステル、Ｃ_1-4アルキルアミノ−Ｃ_2-4
アルキル（メタ）アクリレートなど］、窒素含有複素環
式ビニル系単量体（ビニルピロリドンなど）又はこれら
の組合わせが含まれる。

【００５７】（メタ）アクリロニトリル系共重合体とし
ては、例えば、アクリロニトリル−ビニルピロリドン共
重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−Ｃ_1-8アルキル（メタ）アクリレート共
重合体（アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合
体など）、アクリロニトリル−ビニルピロリドン−Ｃ
_1-8アルキル（メタ）アクリレート共重合体、アクリロ
ニトリル−酢酸ビニル−Ｃ_1-8アルキル（メタ）アクリ
レート共重合体、アクリロニトリル−（メタ）アクリル
酸共重合体、アクリロニトリル−酢酸ビニル−（メタ）
アクリル酸共重合体、アクリロニトリル−Ｃ_1-8アルキ
ル（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体
などが例示できる。

【００５８】（メタ）アクリル酸エステル系重合体とし
ては、前記（メタ）アクリル酸エステルの単独又は共重
合体［例えば、ポリ（メタ）アクリル酸，ポリ（メタ）
アクリル酸Ｃ_1-18アルキルエステルの単独又は共重合体
（ポリ（メタ）アクリル酸メチル，ポリ（メタ）アクリ
ル酸エチル，ポリ（メタ）アクリル酸ブチル，メタクリ
ル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体などの（メ
タ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエステル−（メタ）アク
リル酸共重合体，メタクリル酸メチル−アクリル酸Ｃ
_1-10アルキルエステル共重合体などのメタクリル酸Ｃ
_1-10アルキルエステル−アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエス
テル共重合体など］、（メタ）アクリル系単量体と共重
合性単量体（ビニルエステル系単量体，芳香族ビニル単
量体，重合性不飽和ジカルボン酸又はその誘導体など）
との共重合体［例えば、メタクリル酸メチル−スチレン
共重合体などの（メタ）アクリル酸Ｃ_1-10アルキルエス
テル−スチレン共重合体，メタクリル酸メチル−（メ
タ）アクリル酸−スチレン共重合体などの（メタ）アク
リル酸Ｃ_1-10アルキルエステル−（メタ）アクリル酸−
スチレン共重合体など］などが例示できる。

【００５９】前記多孔質層は、多数の細孔を有してお
り、細孔は、貫通孔、網目状などの無定形孔などのいず
れであってもよい。好ましい多孔質層は、通常、ミクロ
層分離構造を有している。このミクロ層分離構造におい
て、細孔の形状は、通常、不定形であり、不規則で非円
形である。

【００６０】多孔質層の平均孔径は、例えば、０．００
１〜１０μｍ（例えば、０．００５〜１０μｍ）、好ま
しくは０．００５〜５μｍ（例えば、０．０１〜５μ
ｍ）、さらに好ましくは０．００５〜２．５μｍ（例え
ば、０．００５〜１μｍ）程度であってもよい。平均孔
径が０．００１μｍ未満では、インク吸収性がさほど改
善されず、１０μｍを越えると耐水性や印字品質が低下
しやすい。

【００６１】多孔質層は透明、半透明又は非透明のいず
れであってもよいが、本発明において、インク受容層に
形成された画像を透明基材側から見ることを考慮する
と、画像の鮮明性の点から非透明性であるのが好まし
い。非透明性の多孔質層の平均孔径は、０．４〜１０μ
ｍ程度、好ましくは０．５〜１０μｍ（例えば、０．５
〜５μｍ）程度、さらに好ましくは０．５〜３μｍ程度
である。このような非透明性の多孔質層を備えた記録用
シートは、通常、波長４００ｎｍでの光線透過率が、３
０％未満、好ましくは２５％未満（例えば、０．１〜２
０％程度）である。多孔質膜の空孔率は、インク吸収性
に応じて選択でき、例えば、１０〜７０％（例えば、１
０〜６５％）、好ましくは１５〜６５％（例えば、１５
〜５０％）、さらに好ましくは２０〜６０％（例えば、
２０〜４５％）程度である。

【００６２】多孔質膜の厚さは用途によって適宜選択で
き、例えば、１〜１００μｍ、好ましくは３〜５０μ
ｍ、特に３〜２０μｍ程度である。多孔質層の厚さが１
μｍ未満では、耐水性が不十分であり、１００μｍを越
える場合にはインクの吸収性が低下するおそれがある。

【００６３】前記多孔質層は濡れ性が高く、孔中に水性
インクが侵入するに十分な親水性表面を有しているた
め、インクジェット方式において、飛翔されたインク
が、多孔質層を形成する親水性重合体に速やかに吸収さ
れて、記録用シートの表面では迅速に見掛上の乾燥状態
を得ることができる。

【００６４】本発明に用いられる多孔質膜は、通常膜フ
ィルターとして市販されている市販品であってもよい。
市販品としては、例えば、トリアセチルセルロース製メ
ンブレンフィルター（富士写真フィルム（株）社製）、
トリアセチルセルロース／ニトロセルロース混合セルロ
ース製メンブレンフィルター（ミリポア製）などが例示
できる。［記録用シートの製造方法］本発明の記録用シートは、
前記基材上に、インク吸収層と多孔質層とを順次形成す
ることにより得ることができる。インク吸収層は、前記
インク吸収性重合体（親水性高分子）を含む塗布液を基
材に塗布し乾燥することにより形成できる。インク吸収
性の塗布液は、前記親水性高分子と溶媒（水又は有機溶
媒）とで構成され、後述する添加剤を含んでいてもよ
い。また、フィルム状のインク吸収層を基材に、必要に
より接着剤などを用いて、貼り付けなどにより積層させ
てもよい。また、インク吸収層と後述の多孔質層との積
層体を形成した後、インク吸収層側を基材上に、必要に
より接着剤などを用いて貼り付けなどにより積層させる
こともできる。

【００６５】多孔質層は、基材上のインク吸収層に、必
要により接着剤などを用いて積層させてもよく、例え
ば、良溶剤と貧溶剤とを用いて高分子をミクロ相分離
させる相分離法、高分子を発泡させて孔を形成する発
泡法、高分子フィルムを延伸処理する延伸法、放射
線を高分子フィルムに照射して孔を形成する放射線照射
法、溶剤に対する可溶成分（高分子，無機塩類など）
と前記溶剤に対する不溶性高分子とで形成されたフィル
ムを、前記溶剤により可溶成分を抽出除去して孔を形成
する抽出法、有機粒子（高分子粒子など）又は無機粒
子をバインダーなどで結合し粒子間の間隙に孔を形成す
る焼結法などにより形成することもできる。好ましい方
法には、前記相分離法、特にインク吸収層の上に重合
体を含む塗布液を塗布した後、多孔質層の孔を形成する
方法（すなわち、成膜工程で多孔質層の細孔を形成する
方法）が含まれる。

【００６６】前記相分離法において、多孔質層の細孔
は湿式相転換法（すなわち、重合体の良溶媒溶液をイン
ク吸収層上に塗布した後、スプレー、浸漬などにより塗
布層に前記重合体に対する貧溶媒を適用して細孔を形成
する方法）により形成してもよいが、乾式相転換法（す
なわち、重合体と、この重合体に対する良溶剤と、この
良溶剤よりも沸点が高く、前記重合体に対する貧溶剤と
を含む塗布液をインク吸収層の上に塗布した後、溶媒を
蒸発させて乾燥することによりミクロ相分離を生じさせ
て多孔質層を形成する方法）により形成するのが量産性
などの点から好ましい。

【００６７】この乾式相転換法では、重合体と良溶剤と
貧溶剤とを含む塗布液を塗布後、乾燥すると、沸点の低
い良溶剤が優先的に蒸発し、良溶剤の蒸発の進行に伴っ
て、重合体の溶解度が低下し、重合体はミセル（ゲル
相）を形成し貧溶剤相と相分離する。さらに乾燥が進む
と、ミセルの凝固・接触により網目構造が形成され、貧
溶剤の蒸発の完了により、粒子間に細孔を有する多孔質
相が形成される。

【００６８】乾式相転換法（乾式相分離法）では、良溶
剤よりも沸点の高い溶媒（高沸点溶媒）を貧溶媒として
使用することが肝要であり、上記乾式相分離プロセスに
おいて、多孔質膜の孔径を制御するには、良溶媒と貧溶
媒を選定することが重要である。良溶媒と貧溶媒は、重
合体の種類などに応じて、脂肪族炭化水素類（ヘキサ
ン、オクタンなど）、脂環族炭化水素類（シクロヘキサ
ンなど）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレンな
ど）、ハロゲン化炭化水素類（塩化メチレン、塩化エチ
レンなど）、アルコール類（メタノール、エタノール、
ブタノールなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチ
ルなど）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトンな
ど）、エーテル類（ジオキサン、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランなど）、セロソルブ類などの種々の溶
媒から実験的に選択できる。

【００６９】以下に、特に良溶媒と貧溶媒の選択が多孔
質相の細孔の形成に大きく影響するセルロース誘導体を
例にとって、溶媒についてより具体的に説明する。

【００７０】良溶剤としては、セルロース誘導体の種類
などに応じて、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルプロピルケトンなどのＣ_3-5ジアル
キルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（ギ
酸エチルなどのギ酸Ｃ_1-4 アルキルエステル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸Ｃ_1-4 アルキル
エステル、プロピオン酸エチル、乳酸エチルなど）、エ
ーテル類（ジオキサン、ジメトキシエタンなどの環状又
は鎖状Ｃ_4-6 エーテル）、セロソルブ類（メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのＣ
_1-4 アルキルセロソルブ）、セロソルブアセテート類
（メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセ
テートなどのＣ_1-4 アルキルセロソルブアセテート）、
芳香族炭化水素類（トルエンなど）、ハロゲン化炭化水
素類（塩化メチレン、塩化エチレンなど）、およびこれ
らの混合物から選択できる。良溶媒は、ニトロ化合物
（ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパンな
ど）、低級アルコール類（メタノール、エタノールなど
のＣ_1-3 アルコール、ジアセトンアルコールなど）を含
んでいてもよい。

【００７１】セルロース誘導体に対する好ましい良溶媒
には、メチルエチルケトンなどのＣ _3-5 ジアルキルケト
ン類（特にアセトン、メチルエチルケトン）、酢酸エチ
ルなどの酢酸Ｃ_1-4 アルキルエステル類（特に酢酸メチ
ル、酢酸エチル）、ジオキサン、ジメトキシエタンなど
の環状又は鎖状Ｃ_4-6 エーテル類、メチルセロソルブな
どのＣ_1-4 アルキルセロソルブ類（特にメチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ）、メチルセロソルブアセテート
などのＣ_1-4 アルキルセロソルブアセテート類（特にメ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト）などが含まれる。セルロース誘導体がセルロースア
セテートである場合、特に好ましい良溶媒には少なくと
もＣ_1-2アルキル−セロソルブ類（中でもメチルセロソ
ルブ）を含む溶媒が含まれる。

【００７２】良溶媒の沸点は、通常、３５〜１６０℃
（例えば、３５〜１５０℃）、好ましくは３５〜１３０
℃、さらに好ましくは４０〜１２５℃程度である。

【００７３】セルロース誘導体に対する貧溶剤は、前記
良溶剤よりも沸点が高ければいずれも使用でき、貧溶媒
の種類は特に制限されない。貧溶媒としては、例えば、
エステル類（ギ酸アミル、ギ酸イソアミルなどのギ酸Ｃ
_5-8 アルキルエステル、酢酸アミル、酢酸ヘキシル、酢
酸オクチルなどの酢酸Ｃ_4-10アルキルエステル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピルなどの安
息香酸Ｃ_1-4アルキルエステル類）、アルコール類（シ
クロペンタノール、シクロヘキサノール、メチルシクロ
ヘキサノール、ジメチルシクロヘキサノールなどのＣ
_4-8シクロアルカノール、アミルアルコール、イソアミ
ルアルコール、ヘキシルアルコールなどのＣ_5-8アルコ
ール類）、ケトン類（メチルブチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、メチルペンチルケトン、メチルイソペン
チルケトンなどのＣ_6-10ジアルキルケトン、アセトニル
アセトン、アセトフェノンなど）、エーテル類（メチル
フェニルエーテル、メトキシトルエン、ジブチルエーテ
ル、ベンジルエチルエーテルなどのＣ_7-10エーテルな
ど）及びこれらの混合物が例示できる。これらの溶媒の
うち好ましい貧溶媒には、ギ酸Ｃ_5-8アルキルエステ
ル、安息香酸Ｃ_1-4アルキルエステル、Ｃ_4-8シクロアル
カノール、Ｃ_6-10ジアルキルケトンおよびＣ_7-10エーテ
ルから選択された少なくとも一種の溶媒、特に少なくと
もＣ_5-7シクロアルカノール（中でもシクロヘキサノー
ル類、例えば、シクロヘキサノール，メチルシクロヘキ
サノール、ジメチルシクロヘキサノールなどのモノ又は
ジＣ_1-2アルキル置換体など）を含む溶媒が含まれる。

【００７４】貧溶媒の沸点は、通常、１００〜２３０
℃、好ましくは１２０〜２００℃程度である。また、貧
溶媒は、通常、前記良溶媒よりも２０℃以上（２０〜６
０℃程度）、好ましくは３０〜５０℃程度高い沸点を有
している。

【００７５】乾式相転換法の塗布液における良溶媒と貧
溶媒との割合は、重合体の均一溶液を形成できる限り特
に制限されず、通常、良溶媒１００重量部に対して貧溶
媒１〜１００重量部、好ましくは２〜７５重量部、さら
に好ましくは３〜６０重量部（例えば、１０〜５０重量
部）程度の範囲から選択できる。なお、貧溶媒の割合が
大きくなるにつれて、多孔質層は不透明化する場合が多
い。そのため、不透明な多孔質層を形成する場合、良溶
媒と貧溶媒との割合は、通常、良溶媒１００重量部に対
して、貧溶媒１０〜７０重量部（例えば、２０〜７０重
量部）、好ましくは２０〜６０重量部、さらに好ましく
は２０〜５０重量部程度である。

【００７６】さらに、塗布液の重合体の含有量は、重合
体の重合度などに応じて選択でき、例えば、５〜３０重
量％、好ましくは５〜２０重量％、特に５〜１５重量％
程度である。重合体がセルロース誘導体である場合、塗
布液は、通常、重合体５〜３０重量％（好ましくは５〜
２０重量％）程度の良溶媒溶液１００重量部に対して、
貧溶媒２〜１００重量部（好ましくは３〜７０重量部）
程度を含んでおり、良溶媒溶液に対して、析出を抑制し
つつ、貧溶媒を添加することにより調製できる。不透明
な多孔質層を形成するための塗布液は、重合体５〜３０
重量％（好ましくは５〜２０重量％）程度の良溶媒溶液
１００重量部に対して、貧溶媒２０〜６０重量部（好ま
しくは２０〜５０重量部）程度を含んでいる。

【００７７】前記のように、塗布層を乾燥する乾燥工程
（成膜工程）において、多孔質層の細孔が形成される。
そのため、乾燥条件も重要である。すなわち、塗布され
た塗膜の乾燥工程では、一段で乾燥してもよいが、先ず
低温で乾燥して、沸点の低い良溶媒を蒸発させ（例え
ば、実質的に沸点の低い良溶媒の蒸発を完了させ）、次
いで高温での乾燥により残存する貧溶媒の蒸発を行う二
段階乾燥を行うのが好ましい。二段階乾燥の乾燥条件は
使用する良溶媒、貧溶媒の種類に応じて選択でき、セル
ロースエステルなどのセルロース誘導体では、一般に、
一段目の乾燥は、温度１０〜１００℃（好ましくは２０
〜６０℃）程度で３０秒〜６０分（好ましくは１〜６０
分）程度行い、二段目の乾燥は、一段目の温度よりも高
い温度、例えば、温度５０〜１５０℃（好ましくは６０
〜１３０℃）程度で２秒〜３０分（例えば、２秒〜１０
分）程度行うのが好ましい。また、一段目の乾燥は相対
湿度５０〜１００％ＲＨ（好ましくは７０〜１００％Ｒ
Ｈ）の高湿度雰囲気下で行うことが好ましい。

【００７８】インク吸収層及び／又は多孔質層の塗布液
には、インク吸収層及び／又は多孔質層の特性を損なわ
ない範囲で慣用の添加剤、例えば、消泡剤、塗布性改良
剤、増粘剤、滑剤、安定剤（酸化防止剤，紫外線吸収
剤、熱安定剤など）、帯電防止剤、顔料、アンチブロッ
キング剤などを添加してもよい。

【００７９】塗布液は、慣用の流延又は塗布方法、例え
ば、ロールコーター、エアナイフコーター、ブレードコ
ーター、ロッドコーター、バーコーター、コンマコータ
ー、グラビアコーター、シルクスクリーンコーター法な
どにより、基材上に流延又は塗布される。

【００８０】本発明の記録用シートに画像を形成する場
合、インク成分としては、インクジェット記録方式に使
用可能な、各種染料インク又は顔料インクを用いること
ができるが、記録画像の耐水性を向上させるために、顔
料インクを用いるのが好ましい。本発明の記録用シート
は、顔料インクのような粒子状着色剤であっても、その
多孔質層の孔中に取り込んでインク受容層に定着させ、
耐水性を大幅に改善できる。

【００８１】本発明においては、インクジェット記録方
式により、前記記録用シートに染料インク又は顔料イン
クなどのインク成分を多孔質層側から飛翔させ画像を形
成する。飛翔させたインクは、多孔質層の孔中やインク
吸収層に吸収、定着され、透明基材側から鮮明な記録画
像を見ることができる。このような記録物は、記録画像
が多孔質層の孔中やインク吸収層に形成されるため、画
像の耐水性、耐久性が向上するとともに、実際に画像を
見る側には透明基材が存在するため、画像を有効に保護
する。なお、前記記録物は、画像形成後、多孔質層表面
に接着剤、粘着剤などを塗布し、被着体に貼り付けても
よい。

【００８２】本発明の記録用シートは、インクの小滴を
飛翔させて記録するインクジェット記録方式により記録
用シートとして有用であるが、オフセット印刷、フレキ
ソ印刷などの印刷用シート（特に水性インク用シート）
などとしても利用できる。

【００８３】

【発明の効果】本発明の記録用シートは、透明基材状
に、インク吸収層と多孔質層とで構成されたインク受容
層を形成しているため、インク吸収性、インク定着性、
及び耐水性を大幅に改善でき、透明基材側から鮮明画像
を見ることができる。また、印字品質を改善しつつ、相
反する特性である耐水性とインク吸収性とを高いレベル
で両立できる。さらに、画像の鮮明性を向上するととも
に、透明基材により画像が保護されているため、画像の
耐久性を大幅に改善できる。

【００８４】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。なお、実施例及び比較例で得られた記録用
シートにおいて、耐水性と印字性を以下のように評価し
た。

【００８５】インクジェットプリンター（Ｅｎｃａｄ
製，ＭａｓｔｅｒＪｅｔ）を使用し、記録用シート
に、顔料タイプ水性インク（シアン、イエロー、マゼン
タ、ブラックの各々の色）をベタで印字し、記録画像を
形成した。

【００８６】（インク吸収性）印字した後、一定時間ご
とに印字部上にＰＰＣ用コピー紙を載せ、コピー用紙の
上から荷重（２５０ｇ／ｃｍ²）を１０秒間かけた後、
コピー紙を剥し、インクの裏移りの程度を目視で判断
し、裏移りが認められなくなるまでの時間を基準にして
インク吸収性を評価した。

【００８７】（耐水性）印字した後、印字部を、水を含
ませた綿棒で３往復拭き、下記の基準で、インクの取れ
具合を目視で判断した。 ◎ 変化なし ○ インクが少し取れ、印字部が薄くなる × 拭いた部分の印字部が完全に取れる（印字状態）印字した後、印字状態を下記の基準で基材
側から目視で評価した。 ◎ 印字部が均一に印字されている ○ 印字部に若干のむらが認められる × 印字部に著しいむらが認められる（水浸漬試験）印字した後、印字部を３０℃の水に１分
間浸漬した後、垂直に引き上げ、水を良く切り乾燥し
た。乾燥後、下記の基準で印字部を目視で評価した。 ◎ 印字部が完全に残っている ○ 印字部に滲みが認められる × 印字部が残っていない（透明性）分光光度計［（株）日立製作所製，分光光度
計Ｕ−３３００］を用い、波長４００ｎｍでの光線透過
率を測定し透明性の指標とした。

【００８８】（平均孔径および空孔率）倍率５０００倍
で撮影した電子顕微鏡表面写真において、３箇所の所定
面積（２ｃｍ×２ｃｍ）を画像処理装置で処理し、電子
顕微鏡表面写真の各孔を真円として孔径を測定し、平均
することにより平均孔径を求めた。空孔率（％）は、計
算式（孔の全面積／測定面積）×１００により算出し
た。実施例１厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、変性酢酸ビニル系共重合体（日本合成化
学製、ＯＫＳ−７１５８Ｇ）の１５重量％水溶液を塗布
し、１２０℃で３分間乾燥することにより、厚さ１５μ
ｍのインク吸収層を形成した。酢酸セルロース（平均酢
化度：５５、粘度平均重合度：１７０）のメチルセロソ
ルブ８重量％溶液１００重量部にシクロヘキサノール４
５重量部を添加して塗布液（ドープ）を調製し、この塗
布液を前記インク吸収層上に塗布し、温度３５℃、湿度
９０％ＲＨの雰囲気下で５分間乾燥したのち、１２０℃
で３分間乾燥し、平均孔径１．１μｍ、空孔率５５％、
厚さ５μｍの白色多孔質膜を形成した。得られた記録用
シートの波長４００ｎｍでの光線透過率は１８％であっ
た。

【００８９】実施例２厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、ポリビニルピロリドン（重量平均分子
量：３６００００）の１０重量％水溶液を塗布し、１２
０℃で３分間乾燥することにより、厚さ１０μｍのイン
ク吸収層を形成した。酢酸セルロース（平均酢化度：４
４、粘度平均重合度：１１０）２重量部と酢酸セルロー
ス（平均酢化度：５５、粘度平均重合度：１８０）８重
量部とメチルセロソルブ９０重量部からなる溶液に、シ
クロヘキサノール４５．５重量部を添加して塗布液（ド
ープ）を調製した。この塗布液を前記インク吸収層上に
塗布し、温度２５℃、湿度９０％ＲＨの雰囲気下で１０
分間乾燥したのち、１２０℃で３分間乾燥し、平均孔径
０．８μｍ、空孔率５３％、厚さ１０μｍの白色多孔質
層を形成した。得られた記録用シートの波長４００ｎｍ
での光線透過率は１２％であった。

【００９０】実施例３厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、ＰＶＡ／ＡＧＥ共重合体（ＰＶＡ部のケ
ン化度：８０％、共重合組成比：ＰＶＡ／ＡＧＥ＝９
９．５／０．５（モル比）、重合度：５００）の１０重
量％水溶液１００重量部にポリオキシプロピレン−α，
ω−ジアミン（分子量：２３０）の５重量％水溶液２重
量部を添加して調製した塗布液を塗布し、１２０℃で１
０分間乾燥することにより、厚さ１０μｍのインク吸収
層を形成した。酢酸セルロース（平均酢化度：５５、粘
度平均重合度：１７０）のジメトキシエタン５重量％溶
液１００重量部にギ酸アミル２２．３重量部を添加して
塗布液（ドープ）を調製した。この塗布液を前記インク
吸収層上に塗布し、温度２５℃、湿度７０％ＲＨの雰囲
気下で５分間乾燥したのち、１２０℃で３分間乾燥し、
平均孔径１．５μｍ、空孔率６０％、厚さ５μｍの白色
多孔質層を形成した。得られた記録用シートの波長４０
０ｎｍでの光線透過率は８％であった。

【００９１】実施例４厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、ＰＶＡ／ＡＧＥ共重合体（ＰＶＡ部のケ
ン化度：８０％、共重合組成比：ＰＶＡ／ＡＧＥ＝９
９．５／０．５（モル比）、重合度：５００）の１０重
量％水溶液１００重量部にヘキサメチレンジアミンの５
重量％水溶液１重量部を添加して調製した塗布液を塗布
し、１２０℃で１０分間乾燥することにより、厚さ１０
μｍのインク吸収層を形成した。酢酸セルロース（平均
酢化度：５５、粘度平均重合度：１７０）のメチルセロ
ソルブ５重量％溶液１００重量部に、安息香酸エチル３
６．８重量部を添加して塗布液（ドープ）を調製した。
この塗布液を前記インク吸収層上に塗布し、温度２５
℃、湿度８０％ＲＨの雰囲気下で１０分間乾燥したの
ち、１３０℃で１０分間乾燥し、平均孔径１．７μｍ、
空孔率５８％、厚さ７μｍの白色多孔質層を形成した。
得られた記録用シートの波長４００ｎｍでの光線透過率
は４％であった。

【００９２】実施例５厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、合成非結晶シリカ（サイロイド７４、富
士デビィソン社製）１００重量部、ポリビニルアルコー
ル（ＰＶＡ−６１３、クラレ（株）製）４０重量部、カ
チオン性樹脂（ポリフィクス６０１、昭和高分子（株）
製）２０重量部からなる固形分濃度１４重量％の水性塗
布液を塗布し、１２０℃で１０分間乾燥することによ
り、厚さ１０μｍのインク吸収層を形成した。酢酸セル
ロース（平均酢化度：５５、粘度平均重合度：１７０）
のメチルセロソルブ８重量％溶液１００重量部に、ジイ
ソブチルケトン３２．４重量部を添加して塗布液（ドー
プ）を調製した。この塗布液を前記インク吸収層上に塗
布し、温度２５℃、湿度８０％ＲＨの雰囲気下で１５分
間乾燥したのち、１２０℃で３分間乾燥し、平均孔径
１．８μｍ、空孔率５５％、厚さ１０μｍの白色多孔質
層を形成した。得られた記録用シートの波長４００ｎｍ
での光線透過率は０．５％であった。

【００９３】実施例６厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、変性酢酸ビニル系共重合体（日本合成化
学製、ＯＫＳ−７１５８Ｇ）の１５重量％水溶液１００
重量部にマレイン酸１．５重量部を添加して調製した塗
布液を塗布し、１１０℃で１０分間乾燥することによ
り、厚さ１０μｍのインク吸収層を形成した。酢酸セル
ロース（平均酢化度：５１、粘度平均重合度：２５０）
のメチルセロソルブ４重量％溶液１００重量部に、シク
ロヘキサノール４２．８重量部を添加して塗布液（ドー
プ）を調製した。この塗布液を前記インク吸収層上に塗
布し、温度３５℃、湿度９０％ＲＨの雰囲気下で１０分
間乾燥したのち、１２０℃で３分間乾燥し、平均孔径
２．５μｍ、空孔率６５％、厚さ１０μｍの白色多孔質
膜を形成した。得られた記録用シートの波長４００ｎｍ
での光線透過率は６％であった。

【００９４】比較例１厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、変性酢酸ビニル系共重合体（日本合成化
学製、ＯＫＳ−７１５８Ｇ）の１５重量％水溶液を塗布
し、１２０℃で３分間乾燥して厚さ１５μｍのインク吸
収層を形成した。

【００９５】比較例２厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、ポリビニルピロリドン（重量平均分子
量：３６００００）の１０重量％水溶液を塗布し、１２
０℃で３分間乾燥することにより、厚さ１０μｍのイン
ク吸収層を形成した。

【００９６】比較例３厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、ＰＶＡ／ＡＧＥ共重合体（ＰＶＡ部のケ
ン化度：８０％、共重合組成比：ＰＶＡ／ＡＧＥ＝９
９．５／０．５（モル比）、重合度：５００）の１０重
量％水溶液１００重量部にポリオキシプロピレン−α，
ω−ジアミン（分子量：２３０）の５重量％水溶液２重
量部を添加して調製した塗布液を塗布し、１２０℃で１
０分間乾燥することにより、厚さ１０μｍのインク吸収
層を形成した。

【００９７】比較例４厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、ＰＶＡ／ＡＧＥ共重合体（ＰＶＡ部のケ
ン化度：８０％、共重合組成比：ＰＶＡ／ＡＧＥ＝９
９．５／０．５（モル比）、重合度：５００）の１０重
量％水溶液１００重量部にヘキサメチレンジアミンの５
重量％水溶液１重量部を添加して調製した塗布液を塗布
し、１２０℃で１０分間乾燥することにより、厚さ１０
μｍのインク吸収層を形成した。

【００９８】比較例５厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、合成非結晶シリカ（サイロイド７４、富
士デビィソン社製）１００重量部、ポリビニルアルコー
ル（ＰＶＡ−６１３、クラレ（株）製）４０重量部、カ
チオン性樹脂（ポリフィクス６０１、昭和高分子（株）
製）２０重量部からなる固形分濃度１４重量％の水性塗
布液を塗布し、１２０℃で１０分間乾燥することによ
り、厚さ１０μｍのインク吸収層を形成した。

【００９９】比較例６厚さ１００μｍの易接着処理済みポリエチレンテレフタ
レートフィルム（ＩＣＩジャパン（株）製、メリネック
ス７０５）に、変性酢酸ビニル系共重合体（日本合成化
学製、ＯＫＳ−７１５８Ｇ）の１５重量％水溶液１００
重量部にマレイン酸１．５重量部を添加して調製した塗
布液を塗布し、１１０℃で１０分間乾燥して厚さ１０μ
ｍのインク吸収層を形成した。

【０１００】そして、実施例及び比較例で得られた記録
用シートの特性を評価したところ、表に示す結果を得
た。

【０１０１】

【表１】表１から明らかなように、実施例の記録用シートを用い
ると、インク吸収性、画像の鮮明性が良好であり、耐水
性も高い。これに対して、比較例の記録用シートを用い
ると、インク吸収性、画像の鮮明性は比較的良好である
ものの、耐水性が十分でない。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材上に画像が形成可能なインク受
容層が形成されており、前記透明基材側から記録画像を
見るための記録用シートであって、前記インク受容層が
透明基材上のインク吸収層とこのインク吸収層上に形成
された多孔質層とで構成されている記録用シート。
【請求項２】画像が顔料インクにより形成可能である
請求項１記載の記録用シート。
【請求項３】インク吸収層が、セルロース誘導体、ビ
ニルアルコール系重合体、ビニルエステル系重合体、ポ
リビニルピロリドンから選択された少なくとも一種の親
水性高分子で構成されている請求項１記載の記録用シー
ト。
【請求項４】インク吸収層が、ポリオキシアルキレン
単位、アセトアセチル基、カルボキシル基、酸無水物
基、及びアミノ基から選択された、少なくとも１つの官
能基を有する親水性高分子で構成されている請求項１記
載の記録用シート。
【請求項５】多孔質層がミクロ相分離構造を有し、非
透明性である請求項１記載の記録用シート。
【請求項６】多孔質層が、セルロース誘導体、ビニル
系重合体及びポリスルホン系重合体から選択された少な
くとも一種で構成されている請求項１記載の記録用シー
ト。
【請求項７】多孔質層の平均孔径が０．４〜１０μｍ
である請求項１記載の記録用シート。
【請求項８】多孔質層が、セルロースエステル、（メ
タ）アクリロニトリル系重合体、（メタ）アクリル酸エ
ステル系重合体及びポリスルホン系重合体から選択され
た少なくとも一種で構成され、多孔質層の平均孔径が
０．５〜５μｍである請求項１記載の記録用シート。
【請求項９】多孔質層の空孔率が１０〜７０％である
請求項１記載の記録用シート。
【請求項１０】インク吸収層の厚さが５〜５０μｍで
あり、多孔質層の厚さが１〜１００μｍである請求項１
記載の記録用シート。
【請求項１１】波長４００ｎｍでの光線透過率が３０
％未満である請求項１記載の記録用シート。
【請求項１２】透明基材上に画像が形成可能なインク
受容層を形成し、前記透明基材側から記録画像を見るた
めの記録用シートの製造方法であって、前記透明基材上
にインク吸収層と多孔質層とを順次積層し、インク受容
層を形成する記録用シートの製造方法。
【請求項１３】重合体と、この重合体に対する良溶剤
と、この良溶剤よりも沸点が高く、前記重合体に対する
貧溶剤とを含む塗布液をインク吸収層の上に塗布した
後、乾燥することにより多孔質層を形成する請求項１２
記載の記録用シートの製造方法。
【請求項１４】請求項１記載の記録用シートのインク
受容層に、顔料インクにより画像を形成し、透明基材側
から記録画像を視認可能な記録物。