JPH11135433A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPH11135433A JPH11135433A JP30100897A JP30100897A JPH11135433A JP H11135433 A JPH11135433 A JP H11135433A JP 30100897 A JP30100897 A JP 30100897A JP 30100897 A JP30100897 A JP 30100897A JP H11135433 A JPH11135433 A JP H11135433A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- gas
- reactor
- processing apparatus
- vacuum processing
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ガス整流板近傍の熱を吸収し、ガス整流板に膜
が付着することを防止して、ガス整流板のクリーニング
工程を省くことができることを課題とする。 【解決手段】上部に開口部を有する有底の筒状のリアク
タ11と、このリアクタ11内に配置され、内部にヒータ12
を備えるとともに上部にウェハ14を配置するサセプタ13
と、前記リアクタ11内に前記ウェハ14と向き合うように
配置されたガス整流板15と、前記リアクタ11の開口部に
設けられた天板18と、前記リアクタ11に設けられ、前記
ガス整流板15と天板18間の領域に反応ガスを挿入するガ
ス導入口22とを具備した真空処理装置において、前記ガ
ス整流板15と向き合う天板18表面を黒色化したことを特
徴とする真空処理装置。
が付着することを防止して、ガス整流板のクリーニング
工程を省くことができることを課題とする。 【解決手段】上部に開口部を有する有底の筒状のリアク
タ11と、このリアクタ11内に配置され、内部にヒータ12
を備えるとともに上部にウェハ14を配置するサセプタ13
と、前記リアクタ11内に前記ウェハ14と向き合うように
配置されたガス整流板15と、前記リアクタ11の開口部に
設けられた天板18と、前記リアクタ11に設けられ、前記
ガス整流板15と天板18間の領域に反応ガスを挿入するガ
ス導入口22とを具備した真空処理装置において、前記ガ
ス整流板15と向き合う天板18表面を黒色化したことを特
徴とする真空処理装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空処理装置に関
し、整流板と向き合う上蓋としての天板に改良を施した
真空処理装置に関する。
し、整流板と向き合う上蓋としての天板に改良を施した
真空処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ウェハ上に気相成長により成膜を
行う真空処理装置としては、例えば図２に示すものが知
られている。図中の符番１は有底の筒状のリアクタであ
る。このリアクタ１内には、内部にヒータ２を備えたサ
セプタ３が配置されている。このサセプタ３上にはウェ
ハ４が載置される。前記リアクタ１の真上には、石英製
のガス整流板５が、下面を前記ウェハ４の主面と向き合
うように配置されている。ここで、ガス整流板５には、
後述する反応ガスをウェハ４主面に均一に送給するよう
に、多数のノズル穴６が格子状に形成されている。前記
リアクタ１の上部には、上蓋としてのＡｌ製の天板７が
設けられている。前記天板７には、該点板７を冷却する
冷却水を流す冷却管８が設けられている、前記リアクタ
１には、前記ガス整流板５と天板７で形成される空洞部
９に反応ガスを導入するガス導入口10が設けられてい
る。
行う真空処理装置としては、例えば図２に示すものが知
られている。図中の符番１は有底の筒状のリアクタであ
る。このリアクタ１内には、内部にヒータ２を備えたサ
セプタ３が配置されている。このサセプタ３上にはウェ
ハ４が載置される。前記リアクタ１の真上には、石英製
のガス整流板５が、下面を前記ウェハ４の主面と向き合
うように配置されている。ここで、ガス整流板５には、
後述する反応ガスをウェハ４主面に均一に送給するよう
に、多数のノズル穴６が格子状に形成されている。前記
リアクタ１の上部には、上蓋としてのＡｌ製の天板７が
設けられている。前記天板７には、該点板７を冷却する
冷却水を流す冷却管８が設けられている、前記リアクタ
１には、前記ガス整流板５と天板７で形成される空洞部
９に反応ガスを導入するガス導入口10が設けられてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
真空処理装置においては、気相成長によりウェハ４上に
膜を付ける場合、ウェハ直上にあるガス整流板５が高温
になるため、ガス整流板５に膜が付着しやすいという問
題があった。
真空処理装置においては、気相成長によりウェハ４上に
膜を付ける場合、ウェハ直上にあるガス整流板５が高温
になるため、ガス整流板５に膜が付着しやすいという問
題があった。
【０００４】なお、従来、常圧ＣＶＤ装置でリアクタ内
壁に膜が付着しないようにＮ2 をカーテン状に流し、パ
ージしている例はあるが、ガス整流板への膜付着に関す
る対策例は未だない。
壁に膜が付着しないようにＮ2 をカーテン状に流し、パ
ージしている例はあるが、ガス整流板への膜付着に関す
る対策例は未だない。
【０００５】本発明はこうした事情を考慮してなされた
もので、ガス整流板と向き合う天板表面を黒色化するこ
とにより、ガス整流板近傍の熱を吸収し、ガス整流板に
膜が付着することを防止して、ガス整流板のクリーニン
グ工程を省くことができる真空処理装置を提供すること
を目的とする。
もので、ガス整流板と向き合う天板表面を黒色化するこ
とにより、ガス整流板近傍の熱を吸収し、ガス整流板に
膜が付着することを防止して、ガス整流板のクリーニン
グ工程を省くことができる真空処理装置を提供すること
を目的とする。
【０００６】本発明は、また、天板に冷却水路を備えた
構成とすることにより、ガス整流板近傍の熱を一層効果
的に吸収し、ガス整流板に膜が付着することを防止しえ
る真空処理装置を提供することを目的とする。
構成とすることにより、ガス整流板近傍の熱を一層効果
的に吸収し、ガス整流板に膜が付着することを防止しえ
る真空処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上部に開口部
を有する有底の筒状のリアクタと、このリアクタ内に配
置され、内部に加熱機構を備えるとともに上部にウェハ
を配置するサセプタと、前記リアクタ内に前記ウェハと
向き合うように配置されたガス整流板と、前記リアクタ
の開口部に設けられた天板と、前記リアクタに設けら
れ、前記ガス整流板と天板間の領域に反応ガスを挿入す
るガス導入口とを具備した真空処理装置において、前記
ガス整流板と向き合う天板表面を黒色化したことを特徴
とする真空処理装置である。
を有する有底の筒状のリアクタと、このリアクタ内に配
置され、内部に加熱機構を備えるとともに上部にウェハ
を配置するサセプタと、前記リアクタ内に前記ウェハと
向き合うように配置されたガス整流板と、前記リアクタ
の開口部に設けられた天板と、前記リアクタに設けら
れ、前記ガス整流板と天板間の領域に反応ガスを挿入す
るガス導入口とを具備した真空処理装置において、前記
ガス整流板と向き合う天板表面を黒色化したことを特徴
とする真空処理装置である。
【０００８】本発明においては、ガス整流板と向き合う
天板表面を黒色化することにより、黒体による輻射熱吸
収の原理によりガス整流板近傍の熱を吸収し、ガス整流
板が高温化するのを抑制する。従って、天板に冷却水を
流す冷却水路を備えておくことにより、ガス整流板近傍
の熱の吸収を一層効果的に行うことができる。
天板表面を黒色化することにより、黒体による輻射熱吸
収の原理によりガス整流板近傍の熱を吸収し、ガス整流
板が高温化するのを抑制する。従って、天板に冷却水を
流す冷却水路を備えておくことにより、ガス整流板近傍
の熱の吸収を一層効果的に行うことができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
１（Ａ），（Ｂ）を参照して説明する。ここで、図１
（Ａ）は真空処理装置の全体図、図１（Ｂ）は図１
（Ａ）の装置の一構成である整流板の一部切欠した平面
図を示す。
１（Ａ），（Ｂ）を参照して説明する。ここで、図１
（Ａ）は真空処理装置の全体図、図１（Ｂ）は図１
（Ａ）の装置の一構成である整流板の一部切欠した平面
図を示す。
【００１０】図中の符番11は有底の筒状のリアクタであ
る。このリアクタ11内には、内部にヒータ12を備えたサ
セプタ13が配置されている。このサセプタ13上にはウェ
ハ14が載置される。前記処理室11の真上には、石英製の
ガス整流板15が、下面を前記ウェハ14の主面と向き合う
ように支持枠16により支持されて配置されている。ここ
で、ガス整流板15には、後述する反応ガスをウェハ14主
面に均一に送給するように、多数のノズル穴17が格子状
に形成されている。前記リアクタ11の上部には、上蓋と
してのＡｌ製の天板18がけられている。この天板18のガ
ス整流板15と向き合う面には黒色化した層19が形成され
ている。前記天板18には、該天板18を冷却する冷却水を
流す冷却管20が設けられている。前記リアクタ11には、
前記ガス整流板15と天板18で形成される空洞部21に反応
ガスを導入するガス導入口22が設けられている。
る。このリアクタ11内には、内部にヒータ12を備えたサ
セプタ13が配置されている。このサセプタ13上にはウェ
ハ14が載置される。前記処理室11の真上には、石英製の
ガス整流板15が、下面を前記ウェハ14の主面と向き合う
ように支持枠16により支持されて配置されている。ここ
で、ガス整流板15には、後述する反応ガスをウェハ14主
面に均一に送給するように、多数のノズル穴17が格子状
に形成されている。前記リアクタ11の上部には、上蓋と
してのＡｌ製の天板18がけられている。この天板18のガ
ス整流板15と向き合う面には黒色化した層19が形成され
ている。前記天板18には、該天板18を冷却する冷却水を
流す冷却管20が設けられている。前記リアクタ11には、
前記ガス整流板15と天板18で形成される空洞部21に反応
ガスを導入するガス導入口22が設けられている。
【００１１】上記実施例に係る真空処理装置によれば、
ガス整流板15と向き合う天板18表面に黒色化した層19を
形成した構成とすることにより、黒体による輻射熱吸収
の原理によりガス整流板15近傍の熱を吸収し、ガス整流
板15が高温化するのを抑制する。また、この効果は、天
板18に冷却水を流す冷却管20を備えているため、一層効
果的である。従って、ガス整流板のクリーニング工程を
省くことができる。
ガス整流板15と向き合う天板18表面に黒色化した層19を
形成した構成とすることにより、黒体による輻射熱吸収
の原理によりガス整流板15近傍の熱を吸収し、ガス整流
板15が高温化するのを抑制する。また、この効果は、天
板18に冷却水を流す冷却管20を備えているため、一層効
果的である。従って、ガス整流板のクリーニング工程を
省くことができる。
【００１２】なお、上記実施例では、ガス整流板に格子
状のノズル穴が設けられている場合について述べたが、
これに限定されず、ノズル穴が同心円状に設けられてい
てもよい。
状のノズル穴が設けられている場合について述べたが、
これに限定されず、ノズル穴が同心円状に設けられてい
てもよい。
【００１３】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ガ
ス整流板と向き合う天板表面を黒色化することにより、
ガス整流板近傍の熱を吸収し、ガス整流板に膜が付着す
ることを防止して、ガス整流板のクリーニング工程を省
くことができる真空処理装置を提供できる。
ス整流板と向き合う天板表面を黒色化することにより、
ガス整流板近傍の熱を吸収し、ガス整流板に膜が付着す
ることを防止して、ガス整流板のクリーニング工程を省
くことができる真空処理装置を提供できる。
【００１４】また、本発明によれば、天板に冷却水路を
備えた構成とすることにより、ガス整流板近傍の熱を一
層効果的に吸収し、ガス整流板に膜が付着することを防
止しえる真空処理装置を提供できる。
備えた構成とすることにより、ガス整流板近傍の熱を一
層効果的に吸収し、ガス整流板に膜が付着することを防
止しえる真空処理装置を提供できる。
【図１】本発明の一実施例に係る真空処理装置の説明図
で、図１（Ａ）は同装置の全体を示す断面図、図１
（Ｂ）は図１（Ａ）の装置の一構成であるガス整流板の
一部切欠した平面図である。
で、図１（Ａ）は同装置の全体を示す断面図、図１
（Ｂ）は図１（Ａ）の装置の一構成であるガス整流板の
一部切欠した平面図である。
【図２】従来の真空処理装置の断面図。
11…リアクタ、 12…ヒータ（加熱機構）、 13…サセプタ、 14…ウェハ、 15…ガス整流板、 17…ノズル穴、 18…天板、 19…黒色化した層、 20…冷却管、 21…空洞部、 22…ガス導入口。
Claims (2)
- 【請求項１】 上部に開口部を有する有底の筒状のリア
クタと、このリアクタ内に配置され、内部に加熱機構を
備えるとともに上部にウェハを配置するサセプタと、前
記リアクタ内に前記ウェハと向き合うように配置された
ガス整流板と、前記リアクタの開口部に設けられた天板
と、前記リアクタに設けられ、前記ガス整流板と天板間
の領域に反応ガスを挿入するガス導入口とを具備した真
空処理装置において、 前記ガス整流板と向き合う天板表面を黒色化したことを
特徴とする真空処理装置。 - 【請求項２】 前記天板が冷却水路を備えていることを
特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30100897A JPH11135433A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30100897A JPH11135433A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11135433A true JPH11135433A (ja) | 1999-05-21 |
Family
ID=17891729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30100897A Pending JPH11135433A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11135433A (ja) |
-
1997
- 1997-10-31 JP JP30100897A patent/JPH11135433A/ja active Pending
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