JPH11131283A - 赤外線リモートコントロール受光ユニット及びその製造方法 - Google Patents

赤外線リモートコントロール受光ユニット及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 シールドケースにより放熱効率が悪い、また
コストアップになる。 【解決手段】 回路基板面2にフォトダイオード、集積
回路、コンデンサ及び抵抗等の電子部品を実装し、前記
電子部品の上面を透光性の封止樹脂7(エポキシ樹脂)
で封止したモジュール本体を、受光ユニットの受光窓2
3a及び回路基板2のグランド用スルーホール電極以外
のスルーホール電極を除く、封止樹脂7の全表面にNi
メッキ層21を形成する。エポキシ樹脂表面に形成した
Niメッキ層21のGNDへの接地は、取り付け基板側
(マザーボード)のGND電極9でNiメッキされたグ
ランド用スルーホール電極の一部を半田10で半田付け
して処理する。シールドケースを使用しないので、部材
費での製品のコストダウン、組立工数、検査工数等での
製品のコストダウン、Niメッキ層21によるシールド
対策、放熱効果アップでの信頼性の向上、小型、薄型化
が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、TV、VTR、オ
ーディオ機器、エアコン、カーステレオ、カメラ等の民
生機器に使用される赤外線リモートコントロール受光ユ
ニット及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光通信機能を搭載したTV、VT
R、オーディオ機器、エアコン、カーステレオ、カメラ
等の民生機器に使用される赤外線リモートコントロール
受光ユニット等の民生機器の小型、薄型化、信頼性の向
上及びコストダウン等がより強く要求されている。従来
の一般的な赤外線リモートコントロール受光ユニットの
構造について、図15でその概要を説明する。図15
は、赤外線リモートコントロール受光ユニットの外観を
示す斜視図である。
【0003】図15において、1は、赤外線リモートコ
ントロール受光ユニットである。2はガラスエボキシ、
BTレジン等の耐熱性及び絶縁性を有する回路基板であ
り、表面には図示しない電極パターンが形成されてい
る。
【0004】図示しない受光素子であるフォトダイオー
ドが回路基板2上面側に形成された電極パターンにダイ
ボンド及びワイヤーボンド実装されている。フォトダイ
オードは電極パターン上に、導電性接着剤として銀ペー
スト等のダイボンドペーストで電気的に接続されてい
る。前記回路基板2上には、前記フォトダイオード以外
に、図示しない集積回路、コンデンサ、抵抗等の電子部
品が搭載されている。
【0005】図15において、7は、可視光線カット剤
入りエポキシ系樹脂等の透光性の封止樹脂で、フォトダ
イオード等の電子部品を覆っている。
【0006】8は、略箱型形状をした薄板、例えば、略
0.15mmの厚さのステンレス、アルミ、銅、鉄等の
金属製のシールドケースである。シールドケース8は、
前記赤外線リモートコントロール受光ユニット1の受光
部1aの位置に受光窓8aを有し、モジュール本体を覆
っている。前記シールドケース8は、回路部を囲ってい
るので、電磁シールド対策を採ることができ、外部から
のノイズなどによる影響を防止するのに極めて有効であ
る。従って、前記受光部1a及びプリント配線基板等の
マザーボードに実装される以外の面は、前記シールドケ
ース8でカバーされている。9は、マザーボードのGN
D電極であり、赤外線リモートコントロール受光ユニッ
ト1はこのGND電極に半田10にて半田付けされてい
る。
【0007】前記赤外線リモートコントロール受光ユニ
ット1の製造方法の概略について説明する。図8〜図1
5は、従来の赤外線リモートコントロール受光ユニット
の製造方法を示す。図8は、集合回路基板にスルーホー
ル加工工程と電極パターン形成工程、図9は、コンデン
サ及び抵抗を実装する電極パターン上に銀ペースト印
刷、マウント、リフロー工程、図10は、フォトダイオ
ード及び集積回路を実装する電極パターン上に銀ペース
ト印刷、ダイボンド、キュアー工程、図11は、ワイヤ
ーボンド工程、図12は、樹脂封止工程、図13は、ダ
イシング工程、図14は、赤外線リモートコントロール
受光ユニットの半完成品単体にするチップバラシ工程、
図15は、図14の半完成品をシールドケースに組み込
んで赤外線リモートコントロール受光ユニットの完成品
にするためのシールドケース組み込み工程を示す、それ
ぞれの斜視図である。
【0008】図8において、スルーホール加工工程は、
ガラスエポキシ樹脂よりなる多数個取りする集合回路基
板2Aの各列毎に、上下面導電パターン接続用の複数個
のスルーホール11をNC切削等の加工手段により穴明
けする。
【0009】次に、メッキ工程において、前記スルーホ
ール11の壁面を含む集合回路基板2Aの全表面を洗浄
した後、集合回路基板2Aの全表面に無電解メッキによ
り銅メッキ層を形成し、その上に電解メッキによりニッ
ケルメッキ層を形成し、更に、その上に電解メッキによ
り金メッキ層を形成する。
【0010】更に、電極パターン形成工程は、エッチン
グ工程で、メッキレジストをラミネートし、露光現像し
てパターンマスクを形成し、前記集合回路基板2Aの上
面に電子部品実装用電極パターン2a、2b、2c及び
2dと、上面及び下面の導電パターンと接続するスルー
ホール電極11aを形成する。
【0011】図9において、コンデンサ及び抵抗を固着
するマウント及びリフロー工程は、前記回路基板2A上
に形成された電極パターン2c及び2d上に、導電性接
着剤である銀ペースト3を印刷等で塗布し、コンデンサ
4及び抵抗5を銀ペースト3上にマウントし、リフロー
する。
【0012】図10において、フォトダイオード6及び
集積回路12を固着するダイボンド及びキュアー工程
は、前記回路基板2A上に形成された電極パターン2a
及び2b上に、導電性接着剤である銀ペースト3を印刷
等で塗布し、フォトダイオード6及び集積回路12に傷
が付かない程度に軽く加圧しながら銀ペースト3上に搭
載し、その後キュアー炉に入れて、所定の温度で所定の
時間保持して、銀ペースト3が硬化することにより、集
合回路基板2A上に固着し一体化される。
【0013】図11において、ワイヤーボンド工程は、
前記集合回路基板2A上に固着された前記フォトダイオ
ード6及び集積回路12を金線等よりなるボンディング
ワイヤー13により集合回路基板2A上のパターンにワ
イヤーボンド接続する。
【0014】図12において、樹脂封止工程は、前記コ
ンデンサ4、抵抗5、フォトダイオード6及び集積回路
12の上面を覆うように、集合回路基板2Aの上面側を
透光性のエポキシ樹脂よりなる封止樹脂7を充填して、
成形、キュアーする。以上により、赤外線リモートコン
トロール受光ユニット集合体1Aが形成される。
【0015】図13において、ダイシング工程は、前記
赤外線リモートコントロール受光ユニット集合体1A
を、直交する2つのカットラインに沿って、ダイシング
又はスライシングマシン等で切断して単体の赤外線リモ
ートコントロール受光ユニット半完成品1Bに分割す
る。前記カットラインのうち、X方向のカットライン1
4は、前記各列間に形成された複数の図示しないスルー
ホール(11)の中心を通るラインであり、このライン
に直交するY方向のカットライン15は、前記電子部品
の一組を含むラインである。前記X方向のカットライン
14の列上には、半円形状の図示しないスルーホール電
極(11a)が形成されている。
【0016】チップバラシ工程は、図14に示すよう
に,前記ダイシング工程で分割され単体にばらされて、
赤外線リモートコントロール受光ユニット半完成品1B
になる。前述したように、図15は、シールドケース組
み込み工程で、赤外線リモートコントロール受光ユニッ
ト半完成品1Bを、略箱型形状をし、受光ユニットの受
光部1aに対応する位置に受光窓8aを有する、薄板の
ステンレス、アルミ、銅、鉄等の金属製のシールドケー
ス8で覆うことにより、赤外線リモートコントロール受
光ユニット1が完成される。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た赤外線リモートコントロール受光ユニット及びその製
造方法には次のような問題点がある。即ち、赤外線リモ
ートコントロール受光ユニットにおいて、使用中におけ
る電子部品から発生する熱の放熱及び外部からのノイズ
対策をシールドケースを用いて行っているため、先ず、
薄板の金属製のシールドケース(部品代)が必要とな
る。また、シールドケースを作るための金型(金型代)
が必要となる。更に、シールドケースに製品を組み込む
作業(工数)が必要となる。また、組み込み後の組み込
み高さ検査(工数)も必要となる。また、組み込まれた
製品とシールドケースの間(特に上面方向)に隙間(空
気層)があるため、空気層に熱がこもってしまい、放熱
が十分でなく、電子部品の寿命劣化等を促進させる。こ
のため、シールドケースの使用により信頼性及び製品の
コストアップ、また、薄型化に不利になる等致命的な問
題があった。
【0018】本発明は上記従来の課題に鑑みなされたも
のであり、その目的は、従来の金属製のシールドケース
を使わずに、その代わりとてエボキシ樹脂よりなる封止
樹脂の表面にNiメッキ層を形成した簡単な構成で、N
iメッキ層でシールド対策及び放熱効率をアップさせ
る。即ち、電子部品から発生する熱を放熱させることが
できると同時に、外部からのノイズ対策に対応すること
ができる。安価で、超小型、薄型で信頼性に優れた赤外
線リモートコントロール受光ユニットを提供するもので
ある。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明における赤外線リモートコントロール受光ユ
ニットは、平面が略長方形形状のガラスエポキシ樹脂よ
りなる回路基板面にスルーホール電極及び電極パターン
を形成し、前記電極パターンに受光素子及び集積回路、
コンデンサ、抵抗等の電子部品を実装し、前記電子部品
の上面を覆うように透光性エポキシ樹脂よりなる封止樹
脂で封止したモジュール本体を、受光窓を有するシール
ド部材でシールドした赤外線リモートコントロール受光
ユニットにおいて、前記受光窓を除く封止樹脂の表面に
Niメッキを施し、Niメッキ層でシールド部材を形成
したことを特徴とするものである。
【0020】また、前記受光窓及び回路基板のグランド
用スルーホール電極以外のスルーホール電極を除く封止
樹脂の表面にNiメッキを施し、Niメッキ層でシール
ド部材を形成し、前記シールド部材とグランド用スルー
ホール電極とを前記Niメッキ層で電気的に接続したこ
とを特徴とするものである。
【0021】また、ガラスエポキシ樹脂よりなる多数個
取りする集合回路基板の各列毎に、上下面導電パターン
接続用の複数個のスルーホールを穴明けするスルーホー
ル加工工程と、前記スルーホールの各列間の所定位置に
メッキ処理により前記スルーホール内面を含む集合回路
基板の全面にメッキ層を形成するメッキ工程と、メッキ
レジストをラミネートし、露光現像後パターンマスクを
形成し、パターンエッチングを行い、集合回路基板の上
面に電子部品実装用電極パターンと、前記スルーホール
にスルーホール電極を形成する電極パターン形成工程
と、前記集合回路基板の上面に受光素子、集積回路、コ
ンデンサ、抵抗等の電子部品を導電性接着剤で固着し、
電気的接続として実装する実装工程と、前記電子部品の
上面を覆うように透光性エポキシ樹脂よりなる封止樹脂
で封止する樹脂封止工程と、直交するカットラインに沿
って切断するハーフダイシング工程と、前記封止樹脂の
上面に受光窓のみ露出するマスク型等のマスク部材及
び、集合回路基板の裏面のグランド用スルーホール電極
以外のスルーホール電極部をマスキングテープ等のマス
ク部材でマスクするマスキング工程と、前記封止樹脂の
表面でマスキングにより露出した受光窓の表面にレジス
ト液を塗布又は吹き付け、キュアーすることにより、開
口した受光窓部にレジスト膜を形成するレジスト塗布工
程と、前記封止樹脂の上面を覆ったマスク型等のマスク
部材を取り外した後、Niメッキによりエポキシ樹脂よ
りなる封止樹脂の表面にNiメッキ層を形成するNiメ
ッキ工程と、前記レジスト膜及びマスキングテープ等の
マスク部材の除去工程と、前記ハーフダイシングで残し
た集合回路基板を切断して赤外線リモートコントロール
受光ユニットの単体に分割するフルダイシング工程とよ
りなることを特徴とするものである。
【0022】また、前記ハーフダイシング工程は、直交
する2つのカットラインに沿って封止樹脂のみ切断する
ことを特徴とするものである。
【0023】また、前記ハーフダイシング工程は、直交
するカットラインの中で、一方のカットラインに沿って
グランド用スルーホール電極以外のスルーホール電極上
と、他方のカットラインに沿ってダイシングする切削深
さは、封止樹脂のみを切断するハーフダイシングであ
り、前記グランド用スルーホール電極上のカットライン
に沿ってダイシングする切削深さは、前記封止樹脂と、
更に、基板のスルーホール電極内に達することを特徴と
するものである。
【0024】また、前記ハーフダイシング工程は、直交
するカットラインの中で、前記一方のスルーホール電極
上をダイシングする切削深さは、前記封止樹脂のみのダ
イシングと、封止樹脂の全切断に加えて基板のスルーホ
ール電極に達するダイシングとを交互に行うことを特徴
とするものである。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明にお
ける赤外線リモートコントロール受光ユニットについて
説明する。図1〜図7は、本発明の実施の形態に係わる
赤外線リモートコントロール受光ユニット及びその製造
方法を説明するそれぞれの斜視図である。図において、
従来技術と同一部材は同一符号で示す。
【0026】図1において、20は、赤外線リモートコ
ントロール受光ユニットである。2は、従来と同様に、
平面が略長方形形状のガラスエポキシ樹脂よりなる回路
基板で、表面には図示しない電極パターン及びスルーホ
ール電極が形成さている。フォトダイオード、集積回
路、コンデンサ及び抵抗等の電子部品が回路基板2の上
面側に形成さた電極パターンに銀ペースト等の導電性接
着剤により固着され、フォトダイオード及び集積回路は
金線等のボンディングワイヤーによりワイヤーボンド実
装されている。
【0027】また、従来と同様に、回路基板2の上面に
実装された電子部品は、その上面をエポキシ樹脂等の透
光性の封止樹脂7で封止されている。
【0028】21は、赤外線リモートコントロール受光
ユニット20の受光部20a及びマザーボードへ接地す
るために、グランド用スルーホール電極以外のスルーホ
ール電極部を除く、封止樹脂7の表面に形成されたNi
メッキ層である。前記Niメッキ層21は、従来のシー
ルドケースの機能を有するもので、電磁シールド対策を
採ることができ、外部からのノイズなどによる影響を防
止するのに極めて有効である。更に、電子部品から発生
する熱を放熱するのに、従来のシールドケースと異な
り、回路基板2及び封止樹脂7は露出しているので空気
層が介在することもなく放熱効率は極めて良好である。
9は、マザーボードのGND電極で、赤外線リモートコ
ントロール受光ユニット20はこのGND電極に半田1
0にて半田付けされている。
【0029】前記赤外線リモートコントロール受光ユニ
ット20の製造方法の概略について説明する。図2〜図
7は、本発明の赤外線リモートコントロール受光ユニッ
トの製造方法を示す。図2(a)は、ハーフダイシング
工程を示す斜視図、図2(b)は、X方向のカットライ
ンで、図2(a)の二点鎖線Aの円で囲むハーフダイシ
ングを示す断面図、図2(c)は、図2(a)の二点鎖
線Bの円で囲むハーフダイシングを示す断面図。図3
は、マスキング工程、図4は、レジスト塗布工程、図5
は、Niメッキ工程、図6は、マスク部材の剥離工程、
図7は、回路基板を切断するフルダイシング工程で単体
に分割された赤外線リモートコントロール受光ユニット
を示すもので、それぞれの斜視図である。
【0030】本発明の実施の形態に係わる赤外線リモー
トコントロール受光ユニットの製造方法において、ガラ
スエポキシ樹脂よりなる多数個取りする集合回路基板の
各列毎に、上下面導電パターン接続用の複数個のスルー
ホールを穴明けするスルーホール加工工程と、前記スル
ーホールの各列間の所定位置にメッキ処理により前記ス
ルーホール内面を含む集合回路基板の全面にメッキ層を
形成するメッキ工程と、メッキレジストをラミネート
し、露光現像後パターンマスクを形成し、パターンエッ
チングを行い、集合回路基板の上面に電子部品実装用電
極パターンと、前記スルーホールにスルーホール電極を
形成する電極パターン形成工程と、前記集合回路基板の
上面に形成された電極パターン上に、導電性接着剤であ
る銀ペーストを印刷等で塗布し、コンデンサ及び抵抗を
銀ペースト上にマウントしリフローする工程と、前記集
合回路基板上に形成された電極パターン上に、導電性接
着剤である銀ペーストを印刷等で塗布し、フォトダイオ
ード及び集積回路を銀ペースト上に搭載し、その後キュ
アー炉に入れて、所定の温度で所定の時間保持するダイ
ボンド及びワイヤーボンド実装する実装工程と、前記電
子部品の上面を覆うように透光性のエポキシ樹脂よりな
る封止樹脂で封止する樹脂封止工程は、前述した従来技
術と同様であるので、その説明は省略する。前記樹脂封
止工程迄で、赤外線リモートコントロール受光ユニット
集合体20Aが形成される。
【0031】図2において、14は、X方向のカットラ
インであり、前記各列間に形成された複数のスルーホー
ル11の中心を通るラインである。このX方向のカット
ラインに直交するY方向のカットライン15は、前記電
子部品の一組を含むカットラインである。前記赤外線リ
モートコントロール受光ユニット集合体20Aを、この
直交する2つのカットライン14、15に沿って、ダイ
シング又はスライシングマシン等でダイシングするが、
そのダイシングの深さは、X方向のカットライン14の
中、グランド用スルーホール電極以外のスルーホール電
極11a上及びY方向のカットライン15をダイシング
する際、図2(b)のように、集合回路基板2Aは切断
することなく、集合回路基板2Aの手前まで切り込み、
封止樹脂7の厚み分を切断するハーフダイシングである
が、隣接するX方向のカットライン14でグランド用ス
ルーホール電極11a上をダイシングする際は、そのダ
イシングの深さは、図2(c)に示すように、封止樹脂
7の全ての切断に加えて集合回路基板2Aのスルーホー
ル電極11a内に達する迄切り込みを入れるハーフダイ
シングである。
【0032】図3において、マスキング工程は、集合回
路基板2Aの裏面のグランド用スルーホール電極以外の
スルーホール電極部11aをマスク部材として、例え
ば、マスキングテープ22等でマスクする。また、赤外
線リモートコントロール受光ユニット20の受光部20
aに対応する位置に受光窓23aを形成したマスク部材
として、例えば、マスク型23で封止樹脂の表面をマス
クする。
【0033】図4において、レジスト塗布工程は、前記
マスキングされた赤外線リモートコントロール受光ユニ
ット集合体20Aに、レジスト液を塗り付けるか又は吹
き付け、キュアーすることにより、前記受光窓23aの
表面にレジスト膜24が形成される。
【0034】図5において、Niメッキ工程は、前記封
止樹脂7の表面をマスクしていたマスク型23を除去し
た後、Niメッキを施す。Niメッキ層21は、レジス
ト膜24でマスクされた受光窓23aとグランド用スル
ーホール電極以外のスルーホール電極11aを除く封止
樹脂7の全面に形成される。前記Niメッキ層21の厚
みとては、その目的がシールドであることより、薄くて
はシールドの効果が発揮されず、最低でも、例えば、
0.1mm以上の厚みを確保する必要がある。従って、
シールド用のNiメッキ層21は厚メッキになる。尚、
前記Niメッキの際、集合回路基板2Aの表面にもメッ
キ液は浸るが、基板の材質がガラス入りのエポキシ樹脂
のため、基板の表面にはNiメッキは付かない。
【0035】図6において、剥離工程は、受光窓23a
をマスクしていたレジスト膜24を剥離した後、基板裏
面のグランド用スルーホール電極以外のスルーホール電
極11aをマスクしていたマスキングテープ22を除去
する。
【0036】図7において、フルダイシング工程は、前
記ハーフダイシング工程で残した集合回路基板2Aを切
断して単体の赤外線リモートコントロール受光ユニット
20が完成される。フルダイシング工程で、前記X方向
のカットライン14の列上には、半円形状の図示しない
スルーホール電極(11a)が形成される。
【0037】前述した図1は、全工程を終え完成した赤
外線リモートコントロール受光ユニット20である。封
止樹脂7の表面に形成されたNiメッキ層21が形成さ
れ、電磁シールド対策を採ることができ、外部からのノ
イズなどによる影響を防止するのに極めて有効である。
更に、実装された電子部品から発生する熱を放熱するの
に、封止樹脂7面から直接Niメッキ層21へ、また回
路基板2から直接放熱することができるので、放熱効率
は極めて良好である。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の赤外線リ
モートコントロール受光ユニットは、受光窓及びグラン
ド用スルーホール電極以外のスルーホール電極部を除
く、封止樹脂の表面にNiメッキ層を形成することによ
り、このNiメッキ層が従来のシールドケースの機能を
有するもので、電磁シールド対策を採ることができ、外
部からのノイズなどによる影響を防止するのに極めて有
効である。更に、電子部品から発生する熱を放熱するの
に、従来は基板とシールドケースとの間に空気層が介在
していたが、封止樹脂面から直接Niメッキ層へ、また
回路基板から直接放熱し、放熱効果をアップすることが
できる。
【0039】また、従来使用していたシールドケースは
不要となる。これに伴いシールドケースを作るための金
型が不要となり、シールドケースに製品を組み込む作業
が不要となる。更に、組み込み後の検査も不要となる。
【0040】以上述べたように、部材費でのコストダウ
ン、組立工数、検査工数等での製品のコストダウン、多
数個取り生産による生産性のアップ、放熱効果がアップ
することによる信頼性の向上、シールドケースがなくな
るので、小型・薄型になる等の様々な実用効果を発揮す
る赤外線リモートコントロール受光ユニット及びその製
造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係わる赤外線リモートコ
ントロール受光ユニットの外観斜視図である。
【図2】図2(a)は、図1の赤外線リモートコントロ
ール受光ユニットの製造方法におけるハーフダイシング
工程を示す斜視図、図2(b)は、図2(a)の二点鎖
線Aの円で囲むスルーホール電極上を封止樹脂のみを切
断するハーフダイシングを示す断面図、図2(c)は、
図2(a)の二点鎖線Bの円で囲むグランド用スルーホ
ール電極上を封止樹脂と、更に、基板のスルーホール電
極内に達するハーフダイシングを示す断面図である。
【図3】図2にマスキングテープ及びマスク型を取り付
けるマスキング工程を示す斜視図である。
【図4】図3の受光窓にレジスト膜を形成するレジスト
液塗布工程を示す斜視図である。
【図5】図4の受光窓及びグランド用スルーホール電極
以外のスルーホール電極を除く封止樹脂の表面にNiメ
ッキ層を形成するNiメッキ工程を示す斜視図である。
【図6】図5のマスキングテープの除去及びレジスト膜
の剥離工程を示す斜視図である。
【図7】図6の基板を切断するフルダイシング工程を示
す斜視図である。
【図8】従来と本発明に共通した集合回路基板にスルー
ホール加工及び電極パターン形成工程を示す斜視図であ
る。
【図9】図8の集合回路基板の電極パターンに銀ペース
トを印刷し、コンデンサ及び抵抗を固着するマウント、
リフロー工程を示す斜視図である。
【図10】図9の集合回路基板の電極パターンに銀ペー
ストを印刷し、フォトダイオード及び集積回路を固着す
るダイボンド、キュアー工程を示す斜視図である。
【図11】図10のフォトダイオード及び集積回路をボ
ンディングワイヤーで接続するワイヤーボンド工程を示
す斜視図である。
【図12】図11の電子部品を封止する樹脂封止工程を
示す斜視図である。
【図13】従来のダイシング工程を示す斜視図である。
【図14】図13で分割された赤外線リモートコントロ
ール受光ユニット半完成品を示す斜視図である。
【図15】図14の半完成品をシールドケースに組み込
んで完成された状態の赤外線リモートコントロール受光
ユニットの外観を示す斜視図である。
【符号の説明】 2 回路基板 2A 集合回路基板 2a、2b、2c、2d 電子部品実装用電極パターン 3 銀ペースト(導電性接着剤) 4 コンデンサ 5 抵抗 6 フォトダイオード 7 封止樹脂 9 マザーボードのGND電極 10 半田 11 スルーホール 11a スルーホール電極 12 集積回路 13 ボンディングワイヤー 14 X方向カットライン 15 Y方向カットライン 20 赤外線リモートコントロール受光ユニット 20A 赤外線リモートコントロール受光ユニット集合
体 20a 受光部 21 Niメッキ層 22 マスキングテープ 23 マスク型 23a 受光窓 24 レジスト膜

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面が略長方形形状のガラスエポキシ樹
    脂よりなる回路基板面にスルーホール電極及び電極パタ
    ーンを形成し、前記電極パターンに受光素子及び集積回
    路、コンデンサ、抵抗等の電子部品を実装し、前記電子
    部品の上面を覆うように透光性エポキシ樹脂よりなる封
    止樹脂で封止したモジュール本体を、受光窓を有するシ
    ールド部材でシールドした赤外線リモートコントロール
    受光ユニットにおいて、前記受光窓を除く封止樹脂の表
    面にNiメッキを施し、Niメッキ層でシールド部材を
    形成したことを特徴とする赤外線リモートコントロール
    受光ユニット。
  2. 【請求項2】 前記受光窓及び回路基板のグランド用ス
    ルーホール電極以外のスルーホール電極を除く封止樹脂
    の表面にNiメッキを施し、Niメッキ層でシールド部
    材を形成し、前記シールド部材とグランド用スルーホー
    ル電極とを前記Niメッキ層によって電気的に接続した
    ことを特徴とする請求項1記載の赤外線リモートコント
    ロール受光ユニット。
  3. 【請求項3】ガラスエポキシ樹脂よりなる多数個取りす
    る集合回路基板の各列毎に、上下面導電パターン接続用
    の複数個のスルーホールを穴明けするスルーホール加工
    工程と、前記スルーホールの各列間の所定位置にメッキ
    処理により前記スルーホール内面を含む集合回路基板の
    全面にメッキ層を形成するメッキ工程と、メッキレジス
    トをラミネートし、露光現像後パターンマスクを形成
    し、パターンエッチングを行い、集合回路基板の上面に
    電子部品実装用電極パターンと、前記スルーホールにス
    ルーホール電極を形成する電極パターン形成工程と、前
    記集合回路基板の上面に受光素子、集積回路、コンデン
    サ、抵抗等の電子部品を導電性接着剤で固着し、電気的
    接続をして実装する実装工程と、前記電子部品の上面を
    覆うように透光性エポキシ樹脂よりなる封止樹脂で封止
    する樹脂封止工程と、直交するカットラインに沿って切
    断するハーフダイシング工程と、前記封止樹脂の上面に
    受光窓のみ露出するマスク型等のマスク部材及び、集合
    回路基板の裏面のグランド用スルーホール電極以外のス
    ルーホール電極部をマスキングテープ等のマスク部材で
    マスクするマスキング工程と、前記封止樹脂の表面でマ
    スキングにより露出した受光窓の表面にレジスト液を塗
    布又は吹き付け、キュアーすることにより、開口した受
    光窓部にレジスト膜を形成するレジスト塗布工程と、前
    記封止樹脂の上面を覆ったマスク型等のマスク部材を取
    り外した後、Niメッキによりエポキシ樹脂よりなる封
    止樹脂の表面にNiメッキ層を形成するNiメッキ工程
    と、前記レジスト膜及びマスキングテープ等のマスク部
    材の除去工程と、前記ハーフダイシングで残した集合回
    路基板を切断して赤外線リモートコントロール受光ユニ
    ットの単体に分割するフルダイシング工程とよりなるこ
    とを特徴とする赤外線リモートコントロール受光ユニッ
    トの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記ハーフダイシング工程は、直交する
    カットラインに沿って封止樹脂のみ切断することを特徴
    とする請求項3記載の赤外線リモートコントロール受光
    ユニットの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記ハーフダイシング工程は、直交する
    カットラインの中で、一方のカットラインに沿ってグラ
    ンド用スルーホール電極以外のスルーホール電極上と、
    他方のカットラインに沿ってダイシングする切削深さ
    は、封止樹脂のみを切断するハーフダイシングであり、
    前記グランド用スルーホール電極上のカットラインに沿
    ってダイシングする切削深さは、前記封止樹脂と、更
    に、基板のスルーホール電極内に達することを特徴とす
    る請求項3記載の赤外線リモートコントロール受光ユニ
    ットの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記ハーフダイシング工程は、直交する
    カットラインの中で、前記一方のスルーホール電極上を
    ダイシングする切削深さは、前記封止樹脂のみのダイシ
    ングと、封止樹脂の全切断に加えて基板のスルーホール
    電極に達するダイシングとを交互に行うことを特徴とす
    る請求項3記載の赤外線リモートコントロール受光ユニ
    ットの製造方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003037276A (ja) * 2001-07-23 2003-02-07 Citizen Electronics Co Ltd リモコンセンサ
JP2005072392A (ja) * 2003-08-26 2005-03-17 Kyocera Corp 電子装置の製造方法
US7187060B2 (en) 2003-03-13 2007-03-06 Sanyo Electric Co., Ltd. Semiconductor device with shield
JP2008288610A (ja) * 2008-07-17 2008-11-27 Taiyo Yuden Co Ltd 回路モジュールの製造方法
JP2009060071A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Yiguang Electronic Ind Co Ltd 電磁干渉を防止する電子装置およびその製造方法
JP2012009611A (ja) * 2010-06-24 2012-01-12 Murata Mfg Co Ltd 回路モジュール
JP2012160527A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Hitachi Cable Ltd 光電変換モジュール及び光電変換モジュールの製造方法
CN104134635A (zh) * 2013-05-02 2014-11-05 阿尔卑斯电气株式会社 树脂密封件以及树脂密封件的制造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003037276A (ja) * 2001-07-23 2003-02-07 Citizen Electronics Co Ltd リモコンセンサ
US7187060B2 (en) 2003-03-13 2007-03-06 Sanyo Electric Co., Ltd. Semiconductor device with shield
JP2005072392A (ja) * 2003-08-26 2005-03-17 Kyocera Corp 電子装置の製造方法
JP2009060071A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Yiguang Electronic Ind Co Ltd 電磁干渉を防止する電子装置およびその製造方法
JP2008288610A (ja) * 2008-07-17 2008-11-27 Taiyo Yuden Co Ltd 回路モジュールの製造方法
JP2012009611A (ja) * 2010-06-24 2012-01-12 Murata Mfg Co Ltd 回路モジュール
JP2012160527A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Hitachi Cable Ltd 光電変換モジュール及び光電変換モジュールの製造方法
US9507112B2 (en) 2011-01-31 2016-11-29 Hitachi Metals, Ltd. Photoelectric conversion module and method of manufacturing photoelectric conversion module
CN104134635A (zh) * 2013-05-02 2014-11-05 阿尔卑斯电气株式会社 树脂密封件以及树脂密封件的制造方法

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