JPH1081505A - ヘキサフルオロ燐酸リチウム又はヘキサフルオロ砒酸リチウムの製法 - Google Patents

ヘキサフルオロ燐酸リチウム又はヘキサフルオロ砒酸リチウムの製法

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JPH1081505A
JPH1081505A JP9168507A JP16850797A JPH1081505A JP H1081505 A JPH1081505 A JP H1081505A JP 9168507 A JP9168507 A JP 9168507A JP 16850797 A JP16850797 A JP 16850797A JP H1081505 A JPH1081505 A JP H1081505A
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Alf Schulz
シュルツ アルフ
Dirk Seffer
ゼッファー ディルク
Matthias Dr Rieland
リーラント マッティアス
Werner Dr Rudolph
ルードルフ ヴェルナー
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Solvay Fluor und Derivate GmbH
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    • C01G28/002Compounds containing, besides arsenic, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01DCOMPOUNDS OF ALKALI METALS, i.e. LITHIUM, SODIUM, POTASSIUM, RUBIDIUM, CAESIUM, OR FRANCIUM
    • C01D15/00Lithium compounds
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヘキサフルオロ燐酸リチウム又はヘキサフル
オロ砒酸リチウムの製法 【解決手段】 燐又は砒素の3価のハロゲン化物を使用
し、これらを塩素、臭素又は沃素を用い、フッ化水素の
存在下に酸化し、その場で又は引き続きハロゲン化リチ
ウム、例えばLiCl又はLiFと反応させて、式Li
MF(式中、MはP又はAsである)の化合物を製造
する。 【効果】 酸化段階を容易に制御可能である

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明の方法は、リチウムの
ヘキサフルオロ燐酸塩及びヘキサフルオロ砒酸塩の製造
に関する。
【0002】
【従来の技術】ヘキサフルオロ燐酸リチウム及びヘキサ
フルオロ砒酸リチウムは、バッテリーの導電性塩として
使用することができる(US−A 5427874参
照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、ヘキ
サフルオロ燐酸リチウム又はヘキサフルオロ砒酸リチウ
ムを、工業的に簡単で、良好に制御可能な方法で製造す
ることのできる方法を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この課題は、請求の範囲
に記載の方法により解決される。式:LiMF(式
中、MはP又はAsを表す)の化合物を製造するための
本発明の方法は、MX(式中Mは前記のものを表し、
Xはフッ素、塩素又は臭素を表す)と元素状塩素、臭素
及び沃素及びHFとの反応により反応生成物を形成さ
せ、この反応生成物をその形成と同時に又はその後にハ
ロゲン化リチウムと接触させることを意図している。
【0005】好ましくはLiPFを製造する。三塩化
燐、三臭化燐、三塩化砒素、三臭化砒素、殊に三塩化燐
から出発するのが有利である。勿論、燐化合物の混合物
又は砒素化合物の混合物も使用できる。酸化は、元素状
塩素又は臭素、殊に元素状塩素を用いて行うのが有利で
ある。ハロゲン化リチウムとしては、LiF、LiC
l、LiBr及びLiJ又はこれらの混合物を使用する
ことができる。LiF及びLiClが有利である。Li
Fの使用の二つの有利な実施形の一つを用いて、本発明
を更に説明する。化学量論的に、3価の出発化合物1モ
ル当たり酸化剤1モル及びLiF1モルが必要である。
3価の出発化合物も酸化剤も、所望の場合には、化学量
論的過剰に使用することができる。3価の出発化合物M
と酸化剤(塩素、臭素、沃素)とのモル比は1:
0.85〜0.85:1の範囲であるのが有利である。
反応成分の1つが過剰に存在する場合には、連続的な方
法で、場合によっては反応器から排出させる。燐−又は
砒素化合物又はハロゲンを、適当な手段でPF又はA
sFから次に接続されているLiFとの反応の前に、
例えば凍結又はガス洗浄により分離することができる。
【0006】交換すべきハロゲン原子1個当たり、HF
1分子が必要である。例えばPCl1モルをCl
モルで酸化してPClにし、PFに変換(これは、
次いでLiFと更に反応する)すべき場合には、HF5
モルが必要である。フッ化水素は、過剰にも使用でき、
その場合には溶剤としての役割をする。
【0007】反応生成物の製造時の酸化反応の温度は、
有利に−100℃〜+100℃、好ましくは−25℃〜
40℃の範囲である。
【0008】過圧下に、例えばオートクレーブ中で又は
大気圧で操作することもできる。回分的又は連続的実施
が可能である。
【0009】LiFとの接触は、気−固−反応又は気−
液−反応の種類に応じて実施することができる。3価の
出発化合物の酸化による反応生成物の製造並びに同時に
存在するLiFの存在下でのHFとの反応を行うように
実施することができる。差し当たり、出発化合物からの
反応生成物への変換を実施することもでき、次いでPF
又はAsFの更なる単離をすることなくLiFを添
加することができる。更に、出発化合物の反応時に生じ
る生成物(HClと混合した相応する金属五フッ化物)
をガス状で使用反応器から排出させ、LiFと接触させ
ることができる。この場合に、LiFは固体として、又
は例えばHF中の溶液の形で存在することができる。
【0010】本発明方法の利点は、−攻撃性の元素状フ
ッ素の使用を断念して−良好に配量可能な出発化合物を
使用し、所望の場合には反応成分、例えば3価の出発化
合物又は酸化剤の配量により反応を制御することができ
ることである。
【0011】
【実施例】次の実施例につき本発明を更に詳述するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0012】例1 LiAsFの製造反応 AsCl+5HF+LiF+Cl−−−>LiAsF+5HClバッチ AsCl(181.3gモル)d=2.16g/cm 25ml HF(20g/モル)d=1g/cm 80ml LiF(196g/モル)0.3モル 7.8g Cl(35.5g/モル) 21g実施 製造を、テフロンインライナーを有する250mlオー
トクレーブ中で行った。HFをドライアイス上で予め冷
却した。オートクレーブも同様に(窒素掃気下に)ドラ
イアイス中で予め冷却した。HF及びLiFをオートク
レーブ中で一緒にし、これにAsClを添加した。引
き続き、オートクレーブを閉じ、次いで−50℃の内部
温度で塩素を配量添加し、この際、温度は−30℃まで
上昇した。次いで、このオートクレーブをマグネット撹
拌機上に設置し、撹拌時に室温まで加温した。3時間後
に、23℃で32バールの圧力になった。この反応混合
物を一晩放置した。次いで、30分かかって廃ガスを放
出させ、上にあるHFを水流ポンプを用いて気相を通し
て吸引除去(3.5時間)した。引き続き、LiAsF
を白色の結晶固体として単離した。LiFに対する収
率は46.6%であった。
【0013】例2: LiAsFの製造 出発物質 →三塩化砒素: 量:53.5g=0.294モル(ガラスシリン ダ−の完全内容) →フッ化水素(高純度): 量:82.6g=4.13モル、AsClと の反応用;2.66モル=18 1.0%の過剰 →塩素/Cl: 量:26.2g=0.37モル、0.07モル の過剰(配量による) →フッ化リチウム: 量: 5.1g=0.2モル →苛性カリ/KOH20% 量:1055.4g=(KOH−片85%+蒸留 水から製造)実験の実施 使用容器を乾燥箱中で乾燥させた。この場合に、実験室
用オートクレーブ中に三塩化砒素及びフッ化リチウムを
予め装入した。このオートクレーブを閉じ、サーモ容器
(Termobehaelter)中で冷却させた。引き続き、−30
℃でフッ化水素を頂部から、かつ塩素を8分かかって浸
漬管から配量導入し、この際、オートクレーブ中の温度
を−29℃〜−24℃であった。次いで、このオートク
レーブを徐々に、サーモ容器及びクリオマート(Kryoma
t)を用いて+19.4℃の温度まで、次いで室温まで
加温した。この場合、合計31.5バールまで圧力上昇
した。この圧力は一晩にわたり更に上昇しなかった。こ
の反応の間の最高に測定された温度は、+26.7℃で
あった。実験終了の後に、ガス相を廃ガス洗浄器中に放
出し、引き続き、オートクレーブをアルゴンで掃気し
た。
【0014】アルゴンでの掃気の終了後に、ヘキサフル
オロ砒酸リチウムを濾過し、次いで、PVDF製の濾過
容器をアルゴンで掃気した。生成物を取り出すために、
濾過容器をグローブボックス(Glovebox)中に
入れ、生成物を取り出した。得られた生成物は、窒素掃
気下のグローブボックス中で匂わなかった。LiAsF
を計量した。収率:25.9g。
【0015】例3: LiF/HF−溶液中へのPFの導入によるヘキサフ
ルオロ燐酸リチウムの製造反応式 PCl+Cl+5HF−−−>PF+5HCl PF+LiF−−−>LiPF 出発物質 三塩化燐: 量:61.8g=0.45モル フッ化水素(高純度): 量:76.9g=3.84モル、PClと の反応のため;1.59モル =70.7%の過剰 塩素/Cl: 量:40.0g=0.56モル フッ化リチウム: 量: 7.8g=0.3モル フッ化水素(高純度): 量:351.4g=17.56モル、LiF用 の溶剤としてのみ使用 LiF/HF−溶液:2.2重量%実験の実施 使用容器を乾燥箱中で乾燥させた。実験室用オートクレ
ーブ中に三塩化燐を予め装入し、当量的に必要な量より
多くのフッ化水素を(N−ポルスターを用い)徐々に
導入した(量:76.9g)。引き続く連続的な開放系
での塩素配量の間(時間:355分)の実験室用オート
クレーブ中の温度は、−65.7℃〜−21.7℃であ
った。この場合に、オートクレーブから固体を排出し
た。反応の間に生じるガス混合物を冷却器(PFA−ホ
ース及びドライアイス/メタノール−混合物を有するジ
ュワー瓶からなる反応冷却器)に通し、かつ冷却された
安全瓶を通して、直接LiF/HF−溶液中に導入し
た。一晩で配量を中断し、オートクレーブを約−67℃
まで温度処理し、全ての弁を遮断した。次の日に、塩素
配量を継続し、この際に、オートクレーブ中の温度はゆ
っくり上昇した。塩素配量の後に、オートクレーブ中の
温度を1.3℃まで高め、発生するガス混合物を絶えず
LiF/HF−溶液中に導入した。
【0016】LiF/HF−溶液の温度は、このガス混
合物の導入の間、−66.8℃〜−61.4℃であっ
た。実験終了の後に、生じたヘキサフルオロ燐酸リチウ
ムをなお再結晶させた。この場合に、温度は−7.5℃
まで上昇し、−65.1℃まで冷却の後に、及び約17
時間の後に、濾過を行った(圧力ポルスター:アルゴ
ン、浸漬管を通す取り出し)。濾液はこのフィルターを
停滞せずに流過した。PVDF−容器中に残渣は残らな
かった。濾過終了後に、濾過容器を先ず10%フッ素/
90%窒素−ガス混合物で(65分)、次いで、21時
間35分アルゴンで掃気した。生成物を有する濾過容器
をグローブボックス中に移し、生成物を取り出した。
【0017】得られた非常に微細な流動性の雪白色生成
物は、窒素掃気下でのグローブボックス中で匂わなかっ
た。LiPFを計量した。収量:0.8g。
【0018】この収量は、高濃度LiF/HF−溶液の
使用及び濾過の前の濃縮によりなお改善できる。
【0019】例4 気−固反応下でのLiPFの製造出発物質 a)三塩化燐: 量: 45.0g=0.33モル HF: 量: 117.3g=5.86モル Cl: 量: 25.5g=0.36モル LiF: 量: 7.8g=0.3モル b)三塩化燐: 量: 44.9g=0.33モル HF: 量: 109.4g=5.47モル Cl: 量: 26.2g=0.37モル LiF: 量: 7.8g=0.3モル 不錆鋼製の乾燥実験反応器中に、LiF7.8gを装入
し、アルゴン気下に150℃に加熱した。実験室用オー
トクレーブ中にPClを予め装入し、−52℃に冷却
し、次いでHFを配量添加した。−58℃まで冷却の後
に、Cl−配量を行った(量はそれぞれaに記載と同
様)。オートクレーブを冷却浴から取り出し、HCl/
PF−ガス混合物を実験反応器中のLiF上に導入し
た。ガス混合物の導入の終了後に、改めて、LiF7.
8gを実験反応中にLiPFが生じるようにを供給し
た。b)に記載の量で、前記の製造法と同様にして、改
めて、HCl/PF−ガス混合物を得、実験反応器中
のLiPF/LiF−混合物上に導入した。得られた
LiPFは良好な結晶性であり、眼に見える蒸気の発
生なしに乳鉢処理できた。
【0020】オートクレーブを出て、冷加水分解された
PF−ガス混合物のGC−試料は、PF不含である
ことを示した。
【0021】例5 LiF、PCl、Br及びHFからのLiPF
製造反応: PCl+5HF+Br−−−>PF+3HCl+2HBr PF+LiF−−−>LiPF 出発物質 バッチ: 1/10モル PCl(137g/モル)d=1.57g/cm 10ml(10%過剰を包含) HF(20g/モル)d=1g/cm 80ml Br(160g/モル) 16g LiF(25.94g/モル) 2.0g(=0.075モル) HF(LiF用の溶剤として) 165.3g=8.26モル オートクレーブ、HF80ml及びPCl10mlを
先ず、それぞれドライアイスで予め冷却した。次いで、
HF及び臭素をオートクレーブ中で一緒にし(臭素は直
ちに固化した)、PClを添加した。オートクレーブ
を閉じ、室温にした。圧力は18バールまで上昇した。
【0022】PFA−洗浄瓶中にHF165.3g中の
LiFを装入し、ドライアイス温度まで冷却した。次い
で、この実験室用オートクレーブを出るガス相を導入し
た。引き続き、過剰のHFを排出させ、冷却時に沈殿す
る固体を濾過し、乳鉢処理した。
【0023】収量:LiPF1.9g(16.7%)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 592165314 Hans−Bockler−Allee 20,D−30173Hannover,BRD (72)発明者 マッティアス リーラント ドイツ連邦共和国 ハノーヴァー イン デア ベービー 70 (72)発明者 ヴェルナー ルードルフ ドイツ連邦共和国 ハノーヴァー オーダ ーシュトラーセ 38

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式: LiMF (式中、MはP又はAsを表す)の化合物を製造するた
    めに、MX(式中Mは前記のものを表し、Xはフッ
    素、塩素又は臭素を表す)と元素状塩素、臭素及び沃素
    及びHFとの反応により反応生成物を形成させ、この反
    応生成物をその形成時に又はその後にハロゲン化リチウ
    ムと接触させることを特徴とする、ヘキサフルオロ燐酸
    リチウム又はヘキサフルオロ砒酸リチウムの製法。
  2. 【請求項2】 MはP又はAs、好ましくはPを表す、
    請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 三塩化燐から出発する、請求項1又は2
    に記載の方法。
  4. 【請求項4】 元素状塩素又は臭素素、好ましくは元素
    状塩素を使用する、請求項1から3のいずれか1項に記
    載の方法。
  5. 【請求項5】 ハロゲン化リチウムとしてLiF又はL
    iClを使用する、請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 LiFを使用する、請求項5に記載の方
    法。
  7. 【請求項7】 LiF用の溶剤を使用する、請求項6に
    記載の方法。
  8. 【請求項8】 溶剤としてHF又はCHCNを使用す
    る、請求項7に記載の方法。
JP9168507A 1996-06-26 1997-06-25 ヘキサフルオロ燐酸リチウム又はヘキサフルオロ砒酸リチウムの製法 Pending JPH1081505A (ja)

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