JPH10500532A - 粒子−光学機器内における粒子波の再構築方法 - Google Patents
粒子−光学機器内における粒子波の再構築方法Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.一連の実測的映像(実測的映像群)に基づく粒子−光学機器内において検査 されるべき試料の映像の繰り返し形成方法であって、各実測的映像は少なくとも 一つの結像パラメータの各々の異なる値で記録され、 a) 試料の真裏における照射粒子波(試料波)のシミュレーションを決定する 工程と、 b) 試料の一連の映像の評価(評価された映像群)を決定する工程(この群に おいては、前記結像パラメータは毎時の前記各々の異なる値を持ち、この決定は 前記試料波のシミュレーションに対して周波数領域内において処理する一方当該 粒子−光学機器の関数を使用することにより実行され、この関数は該機器の該周 波数領域における伝達特性を表している)と、 c) 前記各映像の評価と検査されるべき前記試料の対応する各実測的映像との 間の各々の差を形成する工程と、 d) これらの差が所定の近似評価基準を満足しているかどうかに関しテストを 実行する工程(このテストは第1または第2のテスト結果を持っても良い)と、 e) 最初に、前記一連の映像の各映像に対して、前記差に対する演算を前記周 波数領域において実行する一方、該映像と関連付けられ当該粒子−光学機器の前 記周波数領域における前記伝達特性を表す該機器の関数を使用することにより、 前記第1のテスト結果に依存して、補助補正波を形成し、次いで、前記個別の補 助補正波と得られる補正波による前記試料波のシミュレーションの次なる補正と の加算により補正波を形成する工程と、 f) 前記第1のテスト結果に依存して前記工程a〜eを繰返す工程と、 g) 前記第2のテスト結果に依存して前記繰り返し処理を終了する工程とを有 する繰り返し形成方法において、 工程において、 干渉性に至る結像パラメータの値の各々の異なる組に対応する)、 評価時に、 フィードバック時に、 ことにより形成され、 うに形成された積にフーリエ変換が施され、 * 中間積の組がこのようにフーリエ変換された前記一連の積FT{ΔIn ら得られる前記重み付け係数giと前記中間積との重み付き和Σigi×p* n,i ことを特徴とする方法。 2.請求項1に記載の方法であって、 前記繰り返し処理において、前記試料の真裏における前記照射粒子波の第1の シミュレーションが、 * 前記映像数の実測的映像の各アイテムを各該実測的映像から線形結像に貢献 するものを選択する関連付けられるフィルタ関数により前記周波数領域において 乗算する(このフィルタ関数は前記関連する映像に対して有効な前記伝達関数に 対する補正をなす) * 全ての実測的映像に対してこのように得られた積の和をとる、 ことにより得られることを特徴とする方法。 3.請求項1に記載の方法であって、 前記映像数の実測的映像を記録するために毎時設定が変更される前記結像パラ メータは照射ビームが結像レンズを通過する角度であることを特徴とする方法。 4.請求項1に記載の方法であって、 前記映像数の実測的映像を記録するために毎時設定が変更される前記結像パラ メータは結像レンズの焦点距離であることを特徴とする方法。 5.請求項4に記載の方法であって、 * 前記映像数の実測的映像の記録の際に、前記焦点距離が一定のステップサイ ズで変更され(焦点ステップサイズ)、 * 毎時の時間的非干渉性に至る結像パラメータの値の異なる組(この組に対し の異なる組の各アイテムに関連付けられる焦点距離が一定のステップサイズ(干 渉性ステップサイズ)で変更されるように選択され、 * 前記焦点ステップサイズと前記干渉性ステップサイズは大きさが等しいこと を特徴とする方法。 6.請求項4に記載の方法であって、 時間的非干渉性により生じる前記結像レンズの焦点距離における拡がりにより 生じる前記重み付け係数giは、最小化されるべき量を時間的非干渉性により決 定される伝達クロス係数における解析エンベロープ関数とこれら重み付け係数に より決定されるフォームとの間の最大絶対偏差により形成するような最小化処理 工程を適用することにより選択されることを特徴とする方法。 7. 請求項4に記載の方法であって、 時間的非干渉性により生じる前記結像レンズの前記焦点距離における拡がりに より生じる前記重み付け係数giは、最小化されるべき数量を時間的非干渉性に より決定される伝達クロス係数における解析エンベロープ関数とこれら重み付け 係数により決定されるフォームとの間の平均二乗偏差の平方根により形成するよ うな最小化処理工程を適用することにより選択されることを特徴とする方法。 8.a) 一連の実測的映像(実測的映像群)を記録する手段(各実測的映像は 少なくとも一つの結像パラメータの各々の異なる設定で記録される)と、 b) 前記試料の真裏における照射粒子波(試料波)のシミュレーションを決定 する手段と、 c) 一連の映像の評価(評価された映像群)を決定する手段(この群において は、前記結像パラメータは毎時の前記各々の異なる値を持ち、この決定は前記試 料波のシミュレーションに対して実行される一方当該粒子−光学機器の関数を使 用することにより実行され、この関数は該機器の該周波数領域における伝達特性 を表している)と、 d) 前記各映像の前記評価と検査されるべき前記試料の対応する各実測的映像 との間の各々の差を形成する手段と、 e) これらの差が所定の近似評価基準を満足しているかどうかに関しテストを 実行する手段(このテストは第1または第2のテスト結果を持っても良い)と、 f) 前記一連の映像の各映像に対して、前記差に対する演算を前記周波数領域 において実行する一方、該映像と関連付けられ当該粒子−光学機器の前記周波数 領域における前記伝達特性を表す該機器の関数を使用することにより、前記第1 のテスト結果に依存して、補助補正波を形成し、次いで、前記個別の補助補正波 とここで得られる補正波による前記試料波のシミュレーションの次なる補正との 加算により補正波を形成する手段と、 g) 前記第1のテスト結果に依存して前記工程b〜fを繰返す工程と、 g) 前記第2のテスト結果に依存して前記繰り返し処理を終了する工程とを有 する粒子−光学機器において、 前記粒子−光学機器また、前記繰り返し処理における各繰り返し工程時に、以 下の処理、 性に至る結像パラメータの値の各々の異なる組に対応する)、 評価時に、 フィードバック時に、 の各アイテムの評価を前記実測的映像群の対応するアイテムから減算することに より形成され、 形成された積にフーリエ変換が施され、 * 中間積の組がこのようにフーリエ変換された前記一連の積FT{ΔIn ら得られる前記重み付け係数giと前記中間積との重み付き和Σigi×p* n,i 有していることを特徴とする粒子−光学機器。 9.請求項8に記載の粒子−光学機器であって、 前記機器は、前記繰り返し処理時に、前記試料の真裏における前記照射粒子波 の第1のシミュレーションを、 * 前記映像数の実測的映像の各アイテムを各該実測的映像から線形結像に貢献 するものを選択する関連付けられるフィルタ関数により前記周波数領域において 乗算する(このフィルタ関数は前記関連する映像に対して有効な前記伝達関数に 対する補正をなす) * 全ての実測的映像に対してこのように得られた積の和をとる、 ことにより得る手段を有していることを特徴とする粒子−光学機器。 10.請求項8に記載の粒子−光学機器において、 前記機器は、前記映像数の実測的映像を記録するために毎時設定が変更される 前記結像パラメータが照射ビームが結像レンズを通過する角度であるような手段 を有することをことを特徴とする粒子−光学機器。 11.請求項8に記載の粒子−光学機器であって、 前記機器は、前記映像数の実測的映像を記録するために毎時設定が変更される 前記結像パラメータが結像レンズの焦点距離であるような手段を有することを特 徴とする粒子−光学機器。 12.請求項11に記載の粒子−光学機器であって、 前記機器は、以下のような工程、 * 前記映像数の実測的映像の記録の際に、前記焦点距離を一定のステップサイ ズで変更し(焦点ステップサイズ)、 * 毎時の時間的非干渉性に至る結像パラメータの値の異なる組(この組に対し の異なる組の各アイテムに関連付けられる焦点距離が一定のステップサイズ(干 渉性ステップサイズ)で変更されるように選択し、 * 前記焦点ステップサイズと前記干渉性ステップサイズは大きさが等しくなる ように選択する、 を実行するように構成された手段を有することを特徴とする粒子−光学機器。 13.請求項11に記載の粒子−光学機器であって、 前記機器は、時間的非干渉性により生じる前記結像レンズの焦点距離における 拡がりにより生じる前記重み付け係数giが、これら係数が最小化されるべき量 を時間的非干渉性により決定される伝達クロス係数における解析エンベロープ関 数とこれら重み付け係数により決定されるフォームとの間の最大絶対偏差または 平均二乗偏差の平方根のいずれかにより形成するような最小化処理工程を適用す ることにより選択されるように決定されるよう構成された手段を有することを特 徴とする粒子−光学機器。
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JP2016207651A (ja) * | 2015-04-15 | 2016-12-08 | エフ イー アイ カンパニFei Company | 荷電粒子顕微鏡によるトモグラフィックイメージングを実行する方法 |
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Families Citing this family (19)
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---|---|---|---|---|
US20020053734A1 (en) * | 1993-11-16 | 2002-05-09 | Formfactor, Inc. | Probe card assembly and kit, and methods of making same |
JP3402868B2 (ja) * | 1995-09-14 | 2003-05-06 | 株式会社東芝 | 荷電粒子光学鏡筒における非点収差の補正及び焦点合わせ方法 |
WO1997013269A1 (en) * | 1995-10-03 | 1997-04-10 | Philips Electronics N.V. | Method of reconstructing an image in a particle-optical apparatus |
US6148120A (en) * | 1997-10-30 | 2000-11-14 | Cognex Corporation | Warping of focal images to correct correspondence error |
US6590209B1 (en) * | 1999-03-03 | 2003-07-08 | The Regents Of The University Of California | Technique to quantitatively measure magnetic properties of thin structures at <10 NM spatial resolution |
DE10003127A1 (de) * | 2000-01-26 | 2001-08-02 | Ceos Gmbh | Verfahren zur Ermittlung geometrisch optischer Abbildungsfehler |
JP3942363B2 (ja) * | 2001-02-09 | 2007-07-11 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡の位相板用レンズシステム、および透過電子顕微鏡 |
TWI285295B (en) * | 2001-02-23 | 2007-08-11 | Asml Netherlands Bv | Illumination optimization in lithography |
JP3645198B2 (ja) * | 2001-06-15 | 2005-05-11 | 独立行政法人理化学研究所 | 電子顕微鏡及びその焦点位置制御方法 |
JP2005538344A (ja) * | 2002-07-08 | 2005-12-15 | シデック テクノロジーズ アーベー | 画像化装置および方法 |
EP2518687B1 (en) * | 2011-04-26 | 2013-04-24 | FEI Company | Method for determining a reconstructed image using a particle-optical apparatus |
GB2491199A (en) * | 2011-05-27 | 2012-11-28 | Univ Antwerpen | Methods and systems for material characterization |
JP5885405B2 (ja) * | 2011-06-13 | 2016-03-15 | キヤノン株式会社 | 撮像装置、干渉縞解析プログラム及び干渉縞解析方法 |
US10679763B2 (en) * | 2012-10-30 | 2020-06-09 | California Institute Of Technology | Fourier ptychographic imaging systems, devices, and methods |
US11468557B2 (en) | 2014-03-13 | 2022-10-11 | California Institute Of Technology | Free orientation fourier camera |
CA2966926A1 (en) | 2014-12-22 | 2016-06-30 | California Institute Of Technology | Epi-illumination fourier ptychographic imaging for thick samples |
US10122946B2 (en) | 2015-11-11 | 2018-11-06 | Fei Company | Method for detecting particulate radiation |
US11092795B2 (en) | 2016-06-10 | 2021-08-17 | California Institute Of Technology | Systems and methods for coded-aperture-based correction of aberration obtained from Fourier ptychography |
US10755891B2 (en) * | 2018-04-13 | 2020-08-25 | Colorado School Of Mines | Systems and methods of aberration correction for atom probe tomography |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3829691A (en) * | 1969-09-22 | 1974-08-13 | Perkin Elmer Corp | Image signal enhancement system for a scanning electron microscope |
DE2655525C3 (de) * | 1976-12-08 | 1979-05-03 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6300 Lahn- Wetzlar | Verfahren zur Erweiterung des Schärfentiefebereiches fiber die durch die konventionelle Abbildung gegebene Grenze hinaus sowie Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
NL9001800A (nl) * | 1990-08-10 | 1992-03-02 | Philips Nv | Methode voor het direct verkrijgen van amplitude- en fase-informatie van een object met behulp van beelden van een hoge-resolutie elektronenmicroscoop. |
US5432347A (en) * | 1992-11-12 | 1995-07-11 | U.S. Philips Corporation | Method for image reconstruction in a high-resolution electron microscope, and electron microscope suitable for use of such a method |
BE1007465A3 (nl) * | 1993-09-03 | 1995-07-04 | Philips Electronics Nv | Additionele samenstelling van defocusseringsbeelden in een elektronenmicroscoop. |
-
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- 1996-02-15 EP EP96901465A patent/EP0760109B1/en not_active Expired - Lifetime
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016207651A (ja) * | 2015-04-15 | 2016-12-08 | エフ イー アイ カンパニFei Company | 荷電粒子顕微鏡によるトモグラフィックイメージングを実行する方法 |
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