JPH10500421A - ベンゾピラン化合物の製造方法 - Google Patents

ベンゾピラン化合物の製造方法

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JPH10500421A
JPH10500421A JP7530052A JP53005295A JPH10500421A JP H10500421 A JPH10500421 A JP H10500421A JP 7530052 A JP7530052 A JP 7530052A JP 53005295 A JP53005295 A JP 53005295A JP H10500421 A JPH10500421 A JP H10500421A
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JP7530052A
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English (en)
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ヘイラー,ジョン・デイビッド
グリンター,トレバー・ジョン
ノバック,バンス
ルイス,ノーマン・ジョン
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スミスクライン・ビーチャム・パブリック・リミテッド・カンパニー
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D257/00Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D257/02Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07D405/02Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
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Abstract

(57)【要約】 ある種の置換ベンゾピラン化合物の製造方法が記載されている。

Description

【発明の詳細な説明】 ベンゾピラン化合物の製造方法 本発明は、治療薬として当該技術分野で知られている一群の置換ベンゾピラン 化合物の製造における中間体として有用なある種の置換ベンゾピラン化合物の製 造方法に関する。 置換ベンゾピラン化合物は、当該技術分野で知られている。例えば、EP 0 173 516−Aには、ロイコトリエン類および5−α−レダクターゼ阻害薬 としての活性を有し、かつ、ロイコトリエン類または5−α−レダクターゼ活性 によって生じるかまたは悪化する疾患の処置における治療において有用な化合物 として開示されている一群の置換ベンゾピラン化合物が開示されている。 本発明は、EP 0 173 516−Aに開示されている化合物の特定のサブ クラス、特に、構造式(A): [式中、 R1は、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、または構造 式: (各々、所望により炭素原子5個までが酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子 、 窒素原子、ベンゼン環、チオフェン環、ナフタレン環、炭素原子4〜7個の炭素 環式環、カルボニル基、カルボニルオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ア ジド基および/またはニトロ基によって置換されていてもよい、C1-20アルキル 、C2-20アルケニルまたはC2-20アルキニルから選択される1または2個の置換 基によって独立して置換されていてもよい) で示される基であり; R2は、水素またはC1-6アルキルであり; R3は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、ニトロ、一般式−COOR4(ここで、 R4は、水素またはC1-6アルキルを表す)で示される基、C1-6アルキル、C1-6 アルコキシまたはC1-6アルキルチオであり; Aは、単結合、または所望により1、2または3個のC1-10アルキルおよび/ またはフェニル基によって置換されていてもよいメチレン、エチレン、トリメチ レン、テトラメチレン、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン またはエチニレン基であり; Xは、酸素または硫黄である] で示される化合物の製造方法において用いられる重要な中間体の製造方法に関す る。 構造式(A)で示される化合物の公知の製造方法は、中間体(B)(Rがテトラゾ ール−5−イルである)を(C)のような活性化中間体と反応させて、所望の化合 物(A)を形成する最終工程反応を含む: 構造式(B)で示される化合物は、まず、ベンゾピラン環を形成し、次いで、標 準的な化学技術を用いて、Rがカルボン酸基である対応する化合物Bから、アミ ドおよびニトリル基を介する転換を介してテトラゾール環を製造する、EP 0 173 516−Aに開示されている方法により製造される。 本発明は、構造式(B)で示される中間体(および非常に関係する化合物)への 改良ルートを提供するものである。 したがって、第1の態様では、本発明は、構造式(II): [式中、XおよびYは、構造式(I)における定義と同じである] で示される化合物またはその塩を環化することを特徴とする構造式(I): [式中、 Yは、NO2、NH2または保護アミノ基であり; Xは、水素またはハロゲンである] で示される化合物の製造方法を提供するものである。 好適には、該反応は、還流温度で、C1-4アルカノール溶媒中、好適な酸の存 在下で行われる。好ましくは、該反応は、還流温度で、溶媒としてメタノール中 、濃塩酸または濃硫酸の存在下で行われる。 好適なアミン保護基Yは、当業者に明らかであろうし、例えば、NHアセチル 、N(Bn)2、CO(Tet)が挙げられ、ここで、Tetは、テトラゾール−5−イル 基、 式(II)で示される化合物は、塩として、例えば、ナトリウム塩として存在する ことができると認識されるであろう。式(II)で示される化合物は、また、異なる 互変異性体形で存在することができる。式(II)で示される化合物の塩および互変 異性体形は、前記方法で用いられ、本発明の態様を形成することができる。 構造式(II)で示される化合物は、標準的な技術によって、または、別法として は、構造式(III): [式中、XおよびYは、構造式(I)における定義と同じである] で示される化合物の転位によって製造することができる。 当業者に明らかであるように、該化合物(III)の転位は、ベーカー−ベンカタ ラマン転位として知られている。 特に、本発明の反応は、YがNH2またはNO2であり、Xが水素である化合物 (I)の製造に有用である。もちろん、YがNO2である構造式(I)で示される化 合物は、標準的な方法によって、YがNH2である化合物(I)に転換することが できる。さらにまた、アミン保護基を用いた場合は、もちろん、当該技術分野で よく知られている技術を用いて除去することができる。さらに、転位反応は、Y である化合物(II)を形成することができる。次いで、1993年11月19日に 出願した同時係属中のPCT出願番号PCT/EP93/03257に開示され ている方法を用いて、かかる中間体を環化して、構造式(A)で示される所望の化 合物を得ることができる。 以下の実施例により、本発明を説明する。 実施例1 8−アミノ−4−オキソ−2−(テトラゾール−5−イル)−4H−1−ベン ゾピランの製造方法 方法A 窒素雰囲気下、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(6.8ml、6. 8当量)の無水THF(100ml)中溶液を−78℃に冷却した。次いで、得ら れた溶液を、温度を<−40℃に維持しつつ、2.5Mブチルリチウム(12.9 7ml、6.8当量)で滴下処理した。添加終了後、該溶液を室温に加温し、−7 8℃に再冷却した。次いで、該再冷却溶液を、温度を<−40℃に維持しつつ、 3−N−アセチルアミノ−2−ヒドロキシアセトフェノン(0.92g、1当量 )、テトラゾール−エステル(0.75g、1.1当量)の無水THF(10ml) 中溶液で処理した。添加終了後、該反応を室温に加温し、この温度で18時間撹 拌した。 次いで、該反応混合物を3M塩酸(100ml)中にクエンチし、真空下、残存 THFをストリッピングした。得られた水性層を酢酸エチル(2×100ml)で 逆洗し、この時、ベータ−ジケトンの微細な黄色沈殿物が水溶液中に形成され、 これを濾過により単離した。 次いで、得られた湿気のあるβ−ジケトン(2.02g)を濃塩酸(0.6ml) を含有する還流メタノール(50ml)中で2時間スラリー化することによって環 化して、8−アミノ−4−オキソ−2−(テトラゾール−5−イル)−4H−1 −ベンゾピランを得た。得られた黄色沈殿物を5℃に冷却し、濾過し、真空(3 00〜400mmHg)下、50℃で18時間乾燥させて、純粋な8−アミノ−4 −オキソ−2−(テトラゾール−5−イル)−4H−1−ベンゾピラン(0.4 5g、41.3%)を黄色粉末として得た。 融点:280℃以上で分解。 IR(ヌジョール):3450、3337、1631、1606、1597、 1583、1534、1496、1377、1365、1327、1066、8 80、866、806、751cm-1。 m/z=230[M+H]+、202、187、157、136、129、91 。 方法B テトラゾール−5−カルボン酸エチルのナトリウム塩(2.65g、16.1mmo l)のDMF(10ml)中溶液を3−アミノ−2−ヒドロキシアセトフェノン( 1.87g、12.4mmol)およびカリウムt−ブトキシド(6.96g、62.0m mol)のDMS(20ml)中混合物に添加した。該反応混合物を0〜5℃で40 分間撹拌した。メタノール(30ml)および濃塩酸(10ml)を添加し、該混合 物を還流させながら加熱した。90分後、該反応混合物を冷却し、濾過した。濾 過ケーキをメタノール−水(3:1)で、次いで、水で洗浄した。該生成物を2 0℃で乾燥させて、8−(カルボキシテトラゾール−5−イル)アミノ−4−オ キソ−2(テトラゾール−5−イル)−4H−1−ベンゾピラン(0.55g、1 4%)をオフホワイト色の固体として得た。m/z=326[M+H]+、270 、228、213、201、185、157。 濾液を水で約300mlに希釈し、18時間放置した後、黄色沈殿物が得られた 。該沈殿物を濾過し、水で洗浄し、20℃で乾燥させて、方法Aによって得られ た生成物と同一の8−アミノ−4−オキソ−2−(テトラゾール−5−イル)− 4H−1−ベンゾピラン(0.58g、20%)を得た。 m/z:230[M+H]+、202、187、157、136、129、91 。 実施例2 4−オキソ−8−[4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイルアミノ]−2− (テトラゾール−5−イル)−4H−1−ベンゾピランの製造方法 窒素ガスシール下、室温で、テトラゾール−5−カルボン酸二ナトリウム(5 .0g、1.4当量)のDMF(75ml)中撹拌懸濁液に塩化メタンスルホニル( 2.7ml、1.6当量)を添加した。該混合物を室温で2時間撹拌し、次いで、ピ リジン(10ml、5.7当量)、次いで、3−[4−(フェニルブトキシ)ベン ゾイル アミノ]−2−ヒドロキシアセトフェノン(9.0g、1.0当量)で処理した。 得られた反応混合物を2M塩酸水溶液でクエンチした。中間体フェニルエステル を酢酸エチル中に抽出し、有機層を洗浄し、乾燥させ、蒸発させて、転換率90 %(1H NMR分光学によって評価した)で粗製フェニルエステルを得た。窒素 ガスシール下、約5℃で、カリウムtert−ブトキシド(2.0g、4.0当量)の DMF(10ml)中撹拌溶液に粗製フェニルエステル(2.0g、1.0当量)の DMF(5ml)中溶液を滴下した。得られた混合物を約5℃で45分間撹拌し、 次いで、2M塩酸水溶液中にクエンチした。濾過により、所望のβ−ジケトンを 収率50%で単離し、水で洗浄し、真空乾燥させた。 粗製β−ジケトン(0.3g、1.0当量)をメタノール(3ml)に懸濁させ、 濃硫酸(0.2ml)で処理し、得られた混合物を還流させながら5時間加熱した 。該反応混合物を冷気役し、濾過し、洗浄し、固体を乾燥させて、4−オキソ− 8−[4−(4−フェニルブトキシ)ベンゾイルアミノ]−2−(テトラゾール −5−イル)−4H−1−ベンゾピランを収率77%で得た。該生成物を真正試 料とのHPLC比較によって同定した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グリンター,トレバー・ジョン イギリス、ティエヌ11・9エイエヌ、ケン ト、トンブリッジ、ニアー・リー、オール ド・パウダー・ミルズ(番地の表示なし) スミスクライン・ビーチャム・ファーマ シューティカルズ (72)発明者 ノバック,バンス アメリカ合衆国19406ペンシルベニア州 キング・オブ・プルシア、スウェードラン ド・ロード709番 スミスクライン・ビー チャム・ファーマシューティカルズ (72)発明者 ルイス,ノーマン・ジョン イギリス、ティエヌ11・9エイエヌ、ケン ト、トンブリッジ、ニアー・リー、オール ド・パウダー・ミルズ(番地の表示なし) スミスクライン・ビーチャム・ファーマ シューティカルズ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.構造式(II): [式中、XおよびYは、構造式(I)における定義と同じである] で示される化合物またはその塩を環化することを特徴とする構造式(I): [式中、 Yは、NO2、NH2または保護アミノ基であり; Xは、水素またはハロゲンである] で示される化合物の製造方法。 2.請求項1記載の構造式(II)で示される化合物。 3.構造式(III): [式中、XおよびYは、構造式(I)における定義と同じである] で示される化合物を転位させ、所望により、次いで、保護基を除去して、構造式 (II)で示される所望の化合物を形成することを特徴とする請求項1記載の構造式 (II)で示される化合物の製造方法。 4.請求項3記載の構造式(III)で示される化合物。 5.構造式(III): れる化合物を転位させることを特徴とする前記構造式(A)で示される化合物の製 造方法。
JP7530052A 1994-05-21 1995-05-18 ベンゾピラン化合物の製造方法 Pending JPH10500421A (ja)

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996000225A1 (fr) * 1994-06-23 1996-01-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Procede de production de 2-(tetrazol-5-yl)-4-oxo-4h-benzopyrannes
SG196776A1 (en) 2008-09-29 2014-02-13 Sirtris Pharmaceuticals Inc Quinazolinone, quinolone and related analogs as sirtuin modulators
CN102358737A (zh) * 2011-09-02 2012-02-22 中国中化股份有限公司 一种制备8-氨基-2-(1h-5-四唑)-4-苯并吡喃酮盐酸盐的方法
CN106854202B (zh) * 2016-12-05 2020-11-13 安徽峆一药业股份有限公司 一种制备高纯度哮喘药普仑司特的新方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4159273A (en) * 1974-11-30 1979-06-26 Fisons Limited Tricyclic mono-chromone-2-carboxylic acids
JPH0395144A (ja) * 1989-08-04 1991-04-19 Ono Pharmaceut Co Ltd アミノフェノール誘導体の製造方法
GB9224922D0 (en) * 1992-11-27 1993-01-13 Smithkline Beecham Plc Process
WO1996000225A1 (fr) * 1994-06-23 1996-01-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Procede de production de 2-(tetrazol-5-yl)-4-oxo-4h-benzopyrannes

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