JPH1039281A - 液晶表示素子 - Google Patents
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- JPH1039281A JPH1039281A JP8209072A JP20907296A JPH1039281A JP H1039281 A JPH1039281 A JP H1039281A JP 8209072 A JP8209072 A JP 8209072A JP 20907296 A JP20907296 A JP 20907296A JP H1039281 A JPH1039281 A JP H1039281A
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133528—Polarisers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 PF−LCDのパネルに現れる色ムラを改良
した液晶表示素子の提供。 【解決手段】 一対のポリマーフィルム基板間に液晶、
および各基板の外側に一対の偏光板〔偏光子3+該偏光
子の両面の保護層2〕を少なくとも有する液晶表示素子
において、少なくとも一枚の基板が該基板の厚さD(μ
m)と偏光板の厚さL(μm)が、D=L±30μmと
いう要件を満足することを特徴とする液晶表示素子。
した液晶表示素子の提供。 【解決手段】 一対のポリマーフィルム基板間に液晶、
および各基板の外側に一対の偏光板〔偏光子3+該偏光
子の両面の保護層2〕を少なくとも有する液晶表示素子
において、少なくとも一枚の基板が該基板の厚さD(μ
m)と偏光板の厚さL(μm)が、D=L±30μmと
いう要件を満足することを特徴とする液晶表示素子。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、PF−LCD(ポリマ
ーフィルム液晶表示素子)に関する。
ーフィルム液晶表示素子)に関する。
【0002】
【従来技術】本発明は、PF−LCDのパネル色ムラを
改良するために、上下偏光板の膜厚や粘着剤層の厚さ等
を特定するものであるが、本出願前、PF−LCDの偏
光板の総厚を規定する本出願人の特許出願(特開平6−
67172)がある。しかし、前記特開平6−6717
2号の発明は、パネルの温湿度変化で発生するパネルの
変形を低減するためパネルの最外層にプラスチックフィ
ルムを補強板として少なくとも一層配置するものであっ
て、本発明とは目的も構成も異なるものである。
改良するために、上下偏光板の膜厚や粘着剤層の厚さ等
を特定するものであるが、本出願前、PF−LCDの偏
光板の総厚を規定する本出願人の特許出願(特開平6−
67172)がある。しかし、前記特開平6−6717
2号の発明は、パネルの温湿度変化で発生するパネルの
変形を低減するためパネルの最外層にプラスチックフィ
ルムを補強板として少なくとも一層配置するものであっ
て、本発明とは目的も構成も異なるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明はPF−LCD
のパネルに現れる色ムラを改良することを目的としてい
る。PF−LCDのパネルの色ムラは液晶のセルギャッ
プdがバラツキ、その結果Δn・d(Δn:液晶の屈折
率異方性)値が変化するために現れるものである。特
に、STNモードではわずかなΔn・d変化で色ムラが
発生するため、厳しいセルギャップコントロール技術が
要求される。求められるセルギャップ精度は、デューテ
ィー比によって異なるが、少なくとも±0.1μm以下
のバラツキにする必要がある。
のパネルに現れる色ムラを改良することを目的としてい
る。PF−LCDのパネルの色ムラは液晶のセルギャッ
プdがバラツキ、その結果Δn・d(Δn:液晶の屈折
率異方性)値が変化するために現れるものである。特
に、STNモードではわずかなΔn・d変化で色ムラが
発生するため、厳しいセルギャップコントロール技術が
要求される。求められるセルギャップ精度は、デューテ
ィー比によって異なるが、少なくとも±0.1μm以下
のバラツキにする必要がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】現在、液晶表示装置は主
として、TN(ツイステッド・ネマチック)型とSTN
(スーパー・ツイステッド・ネマチック)型があるが、
いずれも液晶表示パネルの構成はほとんど同じであり、
セルの外側に一対の偏光板が積層されている。偏光板は
透過型偏光フィルム(図1)と半透過型・反射型偏光フ
ィルム(図2)があり、一般的にはトリアセテートセル
ロース(TAC)フィルムを用いているが、一般的にそ
の厚さは、粘着剤および/または接着剤と付加機能(反
射板、半透過板等)を除いた偏光板単体の厚さが120
μm、180μm、400μmの3種類あり、製品化さ
れている。この3種類の偏光板の厚さは保護層(TAC
フィルム)の厚さに依存している。20μmの厚さの偏
光子を用い、該偏光子の両面に保護層を形成した場合、
保護層が50μmのトリアセテートセルロースフィルム
を用いれば偏光板は120μm、80μmのトリアセテ
ートセルロースフィルムの時は180μm、190μm
のトリアセテートセルロースフィルムの時は400μm
となる。偏光子はいずれも20μmである。しかし、最
近保護層に一軸延伸PETを用いた偏光板が上市されて
おり、この偏光板は総厚が100μm程度のものがあ
る。また、PETフィルムを用いた偏光板は高信頼性で
あり、高温高湿時の偏光度低下、変化等を大幅に改善す
ることができる。一方、PF−LCDのプラスチックフ
ィルム基板は100μm〜400μmの厚さであるが、
偏光板(偏光子+保護層)の厚さD(μm)と基板の厚
さL(μm)の関係がD=L±30μmにあること、特
に前者の方が薄いことがパネルの色ムラを低減する上で
重要なことを本発明者らは見出し、本発明に至った。本
発明が前記のような効果を奏する理由としては、偏光板
の剛性がセルギャップに影響を及ぼすためと考える。す
なわち、偏光板を貼る前までは、セルギャップはギャッ
プ剤の粒径値と液晶注入量で決定され、液晶の表面張力
によって基板をセル内部に引きつける力が作用して、安
定している。しかしながら、偏光板が粘着剤により基板
に貼られることにより、基板+偏光板の剛性(セル外部
へ向かう力)が大きくなり、液晶の表面張力よりも大き
くなると、セルギャップが変化する。従って、偏光板の
剛性を小さくする方向、すなわち偏光板の厚さを薄くす
ることがパネルの色ムラを低減すると考える。しかし、
偏光板の厚さを薄くするため、保護層の厚さを薄くする
と偏光板の信頼性、特に高温高湿時の偏光度低下、変形
等の不具合が発生する。このようにパネルの色ムラと信
頼性はトレード・オフの関係になっていると考えられる
ため、偏光板の厚さはあまり薄くできない。従って、基
板厚とほぼ同等の厚さかあるいは薄い方が良いと言え
る。基板の厚さはLCDユニット仕様、プロセス適性、
パネル特性等を考慮して、決定されるが、一般的には1
00〜150μmであり、それにともなって偏光板厚も
変更されるべきであるが、上述したように、現在、偏光
板の厚さは120、180、400μmのものしか製品
化されていない。その中では120μm厚が最も好まし
いといえる。しかし、前述のように保護層材料を例えば
前記のようにPETに変更したり、保護層を例えば1層
にする等のように構成を変更することにより、偏光板の
厚さをさらに薄くすることも可能である。
として、TN(ツイステッド・ネマチック)型とSTN
(スーパー・ツイステッド・ネマチック)型があるが、
いずれも液晶表示パネルの構成はほとんど同じであり、
セルの外側に一対の偏光板が積層されている。偏光板は
透過型偏光フィルム(図1)と半透過型・反射型偏光フ
ィルム(図2)があり、一般的にはトリアセテートセル
ロース(TAC)フィルムを用いているが、一般的にそ
の厚さは、粘着剤および/または接着剤と付加機能(反
射板、半透過板等)を除いた偏光板単体の厚さが120
μm、180μm、400μmの3種類あり、製品化さ
れている。この3種類の偏光板の厚さは保護層(TAC
フィルム)の厚さに依存している。20μmの厚さの偏
光子を用い、該偏光子の両面に保護層を形成した場合、
保護層が50μmのトリアセテートセルロースフィルム
を用いれば偏光板は120μm、80μmのトリアセテ
ートセルロースフィルムの時は180μm、190μm
のトリアセテートセルロースフィルムの時は400μm
となる。偏光子はいずれも20μmである。しかし、最
近保護層に一軸延伸PETを用いた偏光板が上市されて
おり、この偏光板は総厚が100μm程度のものがあ
る。また、PETフィルムを用いた偏光板は高信頼性で
あり、高温高湿時の偏光度低下、変化等を大幅に改善す
ることができる。一方、PF−LCDのプラスチックフ
ィルム基板は100μm〜400μmの厚さであるが、
偏光板(偏光子+保護層)の厚さD(μm)と基板の厚
さL(μm)の関係がD=L±30μmにあること、特
に前者の方が薄いことがパネルの色ムラを低減する上で
重要なことを本発明者らは見出し、本発明に至った。本
発明が前記のような効果を奏する理由としては、偏光板
の剛性がセルギャップに影響を及ぼすためと考える。す
なわち、偏光板を貼る前までは、セルギャップはギャッ
プ剤の粒径値と液晶注入量で決定され、液晶の表面張力
によって基板をセル内部に引きつける力が作用して、安
定している。しかしながら、偏光板が粘着剤により基板
に貼られることにより、基板+偏光板の剛性(セル外部
へ向かう力)が大きくなり、液晶の表面張力よりも大き
くなると、セルギャップが変化する。従って、偏光板の
剛性を小さくする方向、すなわち偏光板の厚さを薄くす
ることがパネルの色ムラを低減すると考える。しかし、
偏光板の厚さを薄くするため、保護層の厚さを薄くする
と偏光板の信頼性、特に高温高湿時の偏光度低下、変形
等の不具合が発生する。このようにパネルの色ムラと信
頼性はトレード・オフの関係になっていると考えられる
ため、偏光板の厚さはあまり薄くできない。従って、基
板厚とほぼ同等の厚さかあるいは薄い方が良いと言え
る。基板の厚さはLCDユニット仕様、プロセス適性、
パネル特性等を考慮して、決定されるが、一般的には1
00〜150μmであり、それにともなって偏光板厚も
変更されるべきであるが、上述したように、現在、偏光
板の厚さは120、180、400μmのものしか製品
化されていない。その中では120μm厚が最も好まし
いといえる。しかし、前述のように保護層材料を例えば
前記のようにPETに変更したり、保護層を例えば1層
にする等のように構成を変更することにより、偏光板の
厚さをさらに薄くすることも可能である。
【0005】パネル色ムラ発生要因として、偏光板の剛
性の他に偏光板、粘着剤層の表面性も考えられる。粘着
剤層を含む偏光板の表面平滑性は面内で±1μm以上あ
る。この表面凹凸がプラスチック基板に転写され、セル
ギャップ変化を引き起こす。要求される表面平滑性は±
0.1μm以下であるが、現在の偏光板の製法では非常
に困難である。仮に表面平滑性を達成したとしても製造
コストが高価になることが予想されるが、本発明による
と、偏光板の表面平滑性が悪くても、色ムラのでない、
しかも製造コストの安い技術を提供するものである。偏
光板の粘着剤としては、市販のアクリル系材料を用い、
粘着剤層の厚さは製造メーカーによって異なるが、20
〜30μmである。この程度の厚さでは偏光板の厚さム
ラを吸収することはできず、色ムラが発生しやすい。こ
の厚さを50μm以上にすることにより、偏光板貼付時
の色ムラ発生が防止できる。粘着剤層の厚さをあまり厚
くし過ぎるとパネル総厚が厚くなり、仕様を達成できな
くなる。また、作業性も悪くなるため、50μm以上1
50μm以下が好ましい。また、粘着剤層の厚さが20
〜30μmである場合に、粘着剤層を厚くするかわり
に、偏光板とセルの間にスペーサーを介在させ、偏光板
とセル間のギャップを30μm以上にすることによって
も色ムラを低減させることが可能である。スペーサーは
球状粒子、棒状粒子等のプラスチック、金属酸化物を用
いる。スペーサー径は30μm以上必要である。30μ
m以下の場合は色ムラはほとんど改良されない。この時
粘着剤層は20〜30μmの厚さで、粘着剤層+スペー
サーの厚さは、約50μm以上150μm以下となる。
本発明においては、前記各手段の1つでも採用すること
により、色ムラ低減の効果を達せられるが、前記各手段
の2つ以上を組合せることにより、さらに色ムラ低減の
効果を向上させることができる。
性の他に偏光板、粘着剤層の表面性も考えられる。粘着
剤層を含む偏光板の表面平滑性は面内で±1μm以上あ
る。この表面凹凸がプラスチック基板に転写され、セル
ギャップ変化を引き起こす。要求される表面平滑性は±
0.1μm以下であるが、現在の偏光板の製法では非常
に困難である。仮に表面平滑性を達成したとしても製造
コストが高価になることが予想されるが、本発明による
と、偏光板の表面平滑性が悪くても、色ムラのでない、
しかも製造コストの安い技術を提供するものである。偏
光板の粘着剤としては、市販のアクリル系材料を用い、
粘着剤層の厚さは製造メーカーによって異なるが、20
〜30μmである。この程度の厚さでは偏光板の厚さム
ラを吸収することはできず、色ムラが発生しやすい。こ
の厚さを50μm以上にすることにより、偏光板貼付時
の色ムラ発生が防止できる。粘着剤層の厚さをあまり厚
くし過ぎるとパネル総厚が厚くなり、仕様を達成できな
くなる。また、作業性も悪くなるため、50μm以上1
50μm以下が好ましい。また、粘着剤層の厚さが20
〜30μmである場合に、粘着剤層を厚くするかわり
に、偏光板とセルの間にスペーサーを介在させ、偏光板
とセル間のギャップを30μm以上にすることによって
も色ムラを低減させることが可能である。スペーサーは
球状粒子、棒状粒子等のプラスチック、金属酸化物を用
いる。スペーサー径は30μm以上必要である。30μ
m以下の場合は色ムラはほとんど改良されない。この時
粘着剤層は20〜30μmの厚さで、粘着剤層+スペー
サーの厚さは、約50μm以上150μm以下となる。
本発明においては、前記各手段の1つでも採用すること
により、色ムラ低減の効果を達せられるが、前記各手段
の2つ以上を組合せることにより、さらに色ムラ低減の
効果を向上させることができる。
【0006】
【実施例】以下、本発明の実施例を示す。
【0007】実施例1 厚さ100μmのキャスティング製法のポリカーボネー
トフィルム基板にガスバリヤー層やハードコート層等の
コーティング処理された総厚125μmのフィルム基板
に100Ω/□のITO電極が形成されたフィルム基板
を公知のフォトリソ法によりパターニング加工した。配
向剤は可溶性ポリイミド溶液(例えば、日本合成ゴム
製、AL3046)を用い、フレキソ印刷法により、厚
さ0.1μmを形成、100℃で焼成する。上下基板の
ツイスト角が240゜、プレチルト角が5゜になるよう
にラビング処理し、配向膜とする。ギャップ剤はCV値
2.2%の7.3μm粒径のプラスチックビーズ(例え
ば、ナトコペイント製XC−730S)を用い、300
〜400個/mm2の分散量で散布した。導電ペースト
と周辺シール剤を印刷し、上下基板を重ね合わせし、加
圧後60℃でキュアーした。得られたセルを120℃の
熱処理後、液晶注入した。液晶注入は真空注入で行っ
た。上基板側に位相差フィルム(例えば、日東電工製N
RZ600)と厚さ120μmの偏光板(偏光子の両面
の保護層の厚さが50μm、例えば日東電工製NPF−
1205Du)を積層した。この時、上基板と位相差フ
ィルムの積層は厚さ25μmの粘着剤(例えば、日東電
工製、標準粘着剤)を用いて行った。下基板側には偏光
板の厚さが120μmの半透過板付き偏光板(保護層の
厚さ50μm、例えば、日東電工製NPF−F4205
P3)を積層した。この時、下基板と半透過板付き偏光
板の積層は、厚さ50μmの粘着剤(例えば、綜研化学
製、粘着剤)を用いて行った。このようにして得られた
1/16Dutyの白黒STNパネルはOFF時の正面
及びあらゆる視角方向からの微細な色ムラが消失され、
ON時の色ムラも全くない高品質な液晶表示素子であっ
た。
トフィルム基板にガスバリヤー層やハードコート層等の
コーティング処理された総厚125μmのフィルム基板
に100Ω/□のITO電極が形成されたフィルム基板
を公知のフォトリソ法によりパターニング加工した。配
向剤は可溶性ポリイミド溶液(例えば、日本合成ゴム
製、AL3046)を用い、フレキソ印刷法により、厚
さ0.1μmを形成、100℃で焼成する。上下基板の
ツイスト角が240゜、プレチルト角が5゜になるよう
にラビング処理し、配向膜とする。ギャップ剤はCV値
2.2%の7.3μm粒径のプラスチックビーズ(例え
ば、ナトコペイント製XC−730S)を用い、300
〜400個/mm2の分散量で散布した。導電ペースト
と周辺シール剤を印刷し、上下基板を重ね合わせし、加
圧後60℃でキュアーした。得られたセルを120℃の
熱処理後、液晶注入した。液晶注入は真空注入で行っ
た。上基板側に位相差フィルム(例えば、日東電工製N
RZ600)と厚さ120μmの偏光板(偏光子の両面
の保護層の厚さが50μm、例えば日東電工製NPF−
1205Du)を積層した。この時、上基板と位相差フ
ィルムの積層は厚さ25μmの粘着剤(例えば、日東電
工製、標準粘着剤)を用いて行った。下基板側には偏光
板の厚さが120μmの半透過板付き偏光板(保護層の
厚さ50μm、例えば、日東電工製NPF−F4205
P3)を積層した。この時、下基板と半透過板付き偏光
板の積層は、厚さ50μmの粘着剤(例えば、綜研化学
製、粘着剤)を用いて行った。このようにして得られた
1/16Dutyの白黒STNパネルはOFF時の正面
及びあらゆる視角方向からの微細な色ムラが消失され、
ON時の色ムラも全くない高品質な液晶表示素子であっ
た。
【0008】実施例2 厚さ125μmのキャスティング製法のポリカーボネー
トフィルム基板にガスバリヤー層やハードコート層等の
コーティング処理された総厚150μmのフィルム基板
に40Ω/□のITO電極が形成されたフィルム基板を
公知のフォトリソ法によりパターニング加工した。配向
剤は可溶性ポリイミド溶液(例えば、日本合成ゴム製、
AL3046)を用い、フレキソ印刷法により、厚さ
0.1μmを形成、100℃で焼成する。上下基板のツ
イスト角が240゜、プレチルト角が5゜になるように
ラビング処理し、配向膜とする。ギャップ剤はCV値
2.2%の6.2μm粒径のプラスチックビーズ(例え
ば、ナトコペイント製XC−620S)を用い、300
〜400個/mm2の分散量で散布した。周辺シール剤
を印刷し、上下基板を重ね合わせし、加圧後60℃でキ
ュアーした。得られたセルを120℃の熱処理後、液晶
注入した。液晶注入は真空注入で行った。上基板側に位
相差フィルム(例えば、日東電工製NRZ600)と厚
さ120μmの偏光板(偏光子の両面の保護層の厚さ5
0μm、例えば日東電工製NPF−1205Du)を積
層した。この時、上基板と位相差フィルムの積層は厚さ
50μmの粘着剤(例えば、日東電工製HJ−9150
J)を用いた。下基板側には偏光板の厚さが120μm
の半透過板(保護層の厚さ50μm、例えば、日東電工
製NPF−F4205P3)を積層した。この時、下基
板と位相差フィルムの積層は、厚さ50μmの粘着剤
(例えば、日東電工製HJ−9150J)を用いた。こ
のようにして得られた240×320(dots)の白
黒STNパネルはOFF時の正面及びあらゆる視角方向
からの微細な色ムラが消失され、ON時の色ムラも全く
ない高品質な液晶表示素子であった。
トフィルム基板にガスバリヤー層やハードコート層等の
コーティング処理された総厚150μmのフィルム基板
に40Ω/□のITO電極が形成されたフィルム基板を
公知のフォトリソ法によりパターニング加工した。配向
剤は可溶性ポリイミド溶液(例えば、日本合成ゴム製、
AL3046)を用い、フレキソ印刷法により、厚さ
0.1μmを形成、100℃で焼成する。上下基板のツ
イスト角が240゜、プレチルト角が5゜になるように
ラビング処理し、配向膜とする。ギャップ剤はCV値
2.2%の6.2μm粒径のプラスチックビーズ(例え
ば、ナトコペイント製XC−620S)を用い、300
〜400個/mm2の分散量で散布した。周辺シール剤
を印刷し、上下基板を重ね合わせし、加圧後60℃でキ
ュアーした。得られたセルを120℃の熱処理後、液晶
注入した。液晶注入は真空注入で行った。上基板側に位
相差フィルム(例えば、日東電工製NRZ600)と厚
さ120μmの偏光板(偏光子の両面の保護層の厚さ5
0μm、例えば日東電工製NPF−1205Du)を積
層した。この時、上基板と位相差フィルムの積層は厚さ
50μmの粘着剤(例えば、日東電工製HJ−9150
J)を用いた。下基板側には偏光板の厚さが120μm
の半透過板(保護層の厚さ50μm、例えば、日東電工
製NPF−F4205P3)を積層した。この時、下基
板と位相差フィルムの積層は、厚さ50μmの粘着剤
(例えば、日東電工製HJ−9150J)を用いた。こ
のようにして得られた240×320(dots)の白
黒STNパネルはOFF時の正面及びあらゆる視角方向
からの微細な色ムラが消失され、ON時の色ムラも全く
ない高品質な液晶表示素子であった。
【0009】
【効果】本発明により、パネルの色ムラを改良した、高
品質なPF−LCDを得ることができた。
品質なPF−LCDを得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】透過型偏光フィルムの斜視図である。
【図2】半透過型・反射型偏光フィルムの斜視図であ
る。
る。
1 表面保護フィルム 2 保護層 3 偏光子 4 粘着剤 5 離型フィルム 6 反射板
Claims (4)
- 【請求項1】 一対のポリマーフィルム基板間に液晶、
および各基板の外側に一対の偏光板〔偏光子+該偏光子
の両面の保護層〕を少なくとも有する液晶表示素子にお
いて、少なくとも一枚の基板が該基板の厚さD(μm)
と偏光板の厚さL(μm)が、D=L±30μmという
要件を満足することを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項2】 偏光子の各保護層の厚さが50μm以下
および偏光板の厚さが120μm以下である請求項1記
載の液晶表示素子。 - 【請求項3】 一対のポリマーフィルム基板間に液晶、
および各基板の外側に粘着剤で粘着された一対の偏光板
〔偏光子+該偏光子の両面の保護層〕を少なくとも有す
る液晶表示素子において、各粘着剤層の厚さが50μm
以上であることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項4】 基板と偏光板の間に30μm以上のスペ
ーサーが介在している請求項3記載の液晶表示素子。
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