JPH1037024A - コイル状炭素繊維の製造方法及び製造装置 - Google Patents
コイル状炭素繊維の製造方法及び製造装置Info
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Abstract
法及びその製造装置を提供する。 【解決手段】遷移金属の酸化物、炭化物、硫化物、リン
化物、炭酸化物、炭硫化物よりなる群から選ばれた1種
または複数の触媒の存在下、微量のチオフェンなどの硫
黄系化合物あるいは三塩化リンなどのリン系化合物を含
有するアセチレンガスを600〜850℃の温度範囲で
気相熱分解させることを特徴とするコイル状炭素繊維の
製造方法である。
Description
材、電磁波吸着材、ミクロメカニカル素子、ミクロスイ
ッチング素子、ミクロセンサー、ミクロフィルター、吸
着剤などの材料として適用しうるコイル状炭素繊維の製
造方法及び製造装置に関する。
を原料とし、これを不融化、炭化、黒鉛化などの処理を
行って得られる炭素繊維、例えばポリアクリロニトリル
繊維から得られるPAN系炭素繊維、ピッチ系繊維から
得られるピッチ系炭素繊維などの他に、最近開発された
炭化水素の気相熱分解によって得られる気相成長炭素繊
維がある。気相成長炭素繊維は、グラファイトの網面が
同心円状に巻いており、高強度で、金属的から半導体的
導電性までの巾広い特性を持ち、機能性材料としての応
用が期待されている。気相成長炭素繊維の製造方法とし
て、ベンゼンなどの炭化水素とキャリアガスとの混合ガ
スを、1000℃以上の温度に保持され金属粉末触媒を
担持させた反応管内で、先ず100〜1500cm/分
の流速で繊維成長の核を形成させ、次いで流速を10〜
30cm/分として繊維を成長させる方法が開示されて
いる(特公昭51−33210号公報参照)。この他、
気相成長炭素繊維を製造するに、種々の触媒金属粉末及
び種々の製造方法が提案されている。しかしこれらの方
法ではコイル状の炭素繊維は全く得られない。コイル状
炭素繊維の製造方法としては、本発明者らは先に遷移金
属及び第V族もしくは第VI族の化合物が存在する系内
で、炭化水素系ガスまたは一酸化炭素を含むガスを30
0〜1000℃で気相熱分解させる方法を提案した(特
開平4−222228号公報参照)。
メーカー、貯蔵条件、前処理条件などによりコイル収率
が著しく変化し、コイルが全く得られないこともある。
金属表面は通常薄い酸化膜で覆われており、この酸化膜
がコイル成長に大きな影響を及ぼす可能性がある。一
方、金属触媒は、反応中イオウ(又は燐)及び炭素種を
含む高温の反応性ガス中に晒されている。したがって、
金属触媒はイオウ(又は燐)及び炭素、あるいはイオウ
と炭素との化合物あるいはそれらとの固溶体となってい
る可能性があり、これらが実際の触媒作用を示すものと
考えられる。一方、上記の実験室規模の方法で得られる
コイル状炭素繊維の量は極めて少なく100mgオーダ
ーである。しかし、コイル状炭素繊維の特性を評価し、
実用化するためには、さらに有効な触媒の探索と共に、
大量合成のための合成装置の開発やそのスケールアップ
が必要である。
は、コイル状炭素繊維の新しい合成用触媒の探索及び大
量合成のための新しい装置の開発やスケールアップにつ
いて検討した結果、本発明を完成させたものある。本発
明の目的は、コイル状炭素繊維の大量合成に有効な触媒
及び合成装置を提供することである。
属の酸化物、炭化物、硫化物、リン化物、炭酸化物、炭
硫化物よりなる群から選ばれた1種又は複数の触媒の存
在下、微量のチオフェンなどの硫黄系化合物あるいは三
塩化リンなどのリン系化合物を含有するアセチレンガス
を600〜850℃の温度範囲で気相熱分解させること
を特徴とするコイル状炭素繊維の製造方法である。ま
た、その装置として、原料ガス導入口と、これに対向す
る位置に廃ガス排出口とを有する反応容器内に、無端ベ
ルトを設け、該無端ベルト上に触媒を塗布した基板ある
いは金属板(触媒兼基板)を設置し、原料ガス導入口よ
り導入された原料ガス流と基板とがほぼ直交するように
し、且つ、原料ガス導入口と基板との距離を1〜20m
mに保つようにしたことを特徴とするコイル状炭素繊維
製造装置である。即ち、本発明はコイル状炭素繊維の製
造方法における、触媒、不純物ガス、熱分解条件、装置
の形状などの製造条件を検討した結果、遷移金属の酸化
物、炭化物、硫化物、リン化物、炭酸化物、炭硫化物よ
りなる群から選ばれた一種又は複数の混合物が触媒とし
て有効であり、さらに原料ガス中に微量のチオフエンな
どの硫黄系化合物あるいは三塩化リンなどのリン系化合
物が含まれている場合、特に高いコイル収率が得られる
のである。また、製造装置としては、原料ガス導入口
と、これに対向する位置に廃ガス排出口とを有する反応
器内に、無端ベルトを設け、該無端ベルト上に触媒を塗
布した基板或いは金属板(触媒兼基板)を設置し、原料
ガス導入口より導入された原料ガス流と基板とがほぼ直
交するようにし、両者の距離を1〜20mmに保つこと
により、コイルの大量合成を可能とした。
は、アセチレンに不純物として微量のチオフェンなどの
硫黄系化合物あるいは三塩化リンなどのリン系化合物が
含まれているものであって、好ましい不純物はチオフェ
ンである。原料ガス中にはキャリアガスとしてアルゴン
ガス、水素ガスが存在してもよく、反応器内へ導入する
原料ガスの好ましい流量比は、水素:アルゴン:アセチ
レン:チオフェン=7:4:3:0.05である。
属の酸化物、炭化物、硫化物、リン化物、炭酸化物、炭
硫化物よりなる群から選ばれた一種又は複数の混合物で
あり、好ましい触媒は、ニッケル、チタンおよびタング
ステンの酸素との固溶体または酸化物、炭化物、硫化
物、リン化物、炭酸化物、炭硫化物である。これらの触
媒は、あらかじめ固溶体或いは化合物となったものの
他、金属粉末或いは板を反応器内で反応前に所定条件で
酸化、炭化、硫化、リン化、炭酸化、炭硫化処理して得
たものでも使用できる。
よびTi化合物の他、ほとんどあらゆる遷移金属の上記
化合物が利用できる。例えば、4族のZr、Hf、5族
のV、Nb、Ta、6族のCr、Mo、W、7族のM
n、8族のFe、9族のCo、10族のNiなどの化合
物はいずれもコイル成長に対して触媒効果を示す。特
に、化合物中の酸素、イオウ、リン、炭素などの含有量
が比較的少なく、また非化学量論性の強い化合物が優れ
た触媒作用を示す。例えば、Ti酸化物の場合の好まし
い酸素含有量は、40〜62at.%であり、またTi
炭化物の場合の好ましい炭素含有量は15〜45at.
%である。そのような好ましいTi化合物の例として
は、Ti2C、Ti2O3、Ti3S4、Ti2P、TiCx
S1x(x<0.5)などがある。また、好ましいNi
化合物の例としては、Ni2O3、Ni3S2、NiSなど
がある。金属成分としては、単一成分のほか、2成分あ
るいはそれ以上の多元系合金も使用できる。
化物、炭硫化物、リン化物等の場合には不純物としてイ
オウ系あるいはリン系不純物を原料ガス中に添加しなく
てもある程度のコイルを得ることが出来る。
粉末状、金属板、粉末の焼結板などいずれでも良く、好
ましくは平均粒径が5ミクロン程度の微粉末状あるいは
これを焼結した焼結板である。粉末状触媒の場合、基板
上へ散布あるいは塗布しても良く、また原料ガス中に流
動状態で用いても良い。
素のみからなり、繊維直径は0.01〜1μm、コイル
外径は0.1〜10μm、コイルピッチは0.01〜5
μm、コイル長さは1〜3,000μmの範囲のマイク
ロコイル状の繊維である。このマイクロコイル状繊維
は、ほとんどの場合、2本のコイルが互いに巻き合いな
がら成長した二重コイルであり、元の長さの3倍前後ま
で完全弾性的に伸び縮みする。また、ほぼ直線状まで伸
ばすことができるが、この場合、歪みが残り元の長さま
で戻らない。
繊維が用いられている種々の用途に応用できるが、特に
そのコイル状という特異的形態からもたらされる種々特
性を利用して、FRPやFRMなどの三次元強化用繊
維、電磁波吸収材、ミクロメカニカル素子、ミクロスイ
ッチング素子、ミクロセンサー、ミクロフィルター、吸
着剤などの機能性材料として有用である。
る。図1は本発明にかかる製造装置の概念図である。図
1において、反応器1は、原料ガス導入口2と廃ガス排
出口3とが対向する位置に存在する。反応器1には、無
端ベルト4を設け、この無端ベルト4に触媒5を設置す
る。原料ガス導入管は、原料アセチレンの好ましくない
分解を防ぐため原料ガス導入口2の反応器中央に内部ヒ
ーター6と外部ヒーター7とを設ける。原料ガス導入管
に水冷却器8を設ける。原料ガス導入口と無端ベルト上
の触媒を担持した基板との距離を1〜20mmとする。
このような装置において内部ヒーター6と外部ヒーター
7とによって反応器内を所定の温度に加熱し、原料ガス
を原料ガス導入口2を通して反応器内に導入し、排出口
3より排出させる。このようなガス流に対してほぼ直交
するように無端ベルト4を移動させると無端ベルトの基
板上の触媒と原料ガスとが接触して反応が進行する。
面が円形状、楕円状、正方形、あるいは矩形などのいず
れでも良い。また反応器の材質としては、銅を含まず、
また高温で侵炭、侵硫、侵リン脆化あるいは腐食されな
い材料、たとえばステンレス、好ましくはインコネル製
が良い。反応器の大きさについては特に限定はなく、ま
た、反応器の大きさに関係なく原料ガス導入口と無端ベ
ルト上の触媒を担持した基板との距離を1〜20mm、
好ましくは、2〜7mmとする以外、特に限定はない。
チレンを触媒と接触するまでの間、長時間、400℃以
上に加熱すると分解反応が進行して粉末(アセチレンブ
ラック)あるいは直線状繊維が析出しやすく、コイル収
率は低下する。したがって、原料導入は外から冷却した
り、原料導入口の面積を小さくしてガスの線速度を上げ
たりすることにより、原料アセチレンの温度上昇を防
ぎ、できるだけ未分解の原料アセチレンを触媒と接触さ
せることが重要である。このような理由によって原料ガ
ス導入管を水冷却し、またガス導入口4と無端ベルト上
の触媒を担持した基板との距離を1〜20mmと限定す
る。
断面が200mm(高さ)×350mm(奥行き)の矩
形で、幅1500mmのインコネル製の箱型反応器内に
無端ベルトを装置し、これに30mm(幅)×300m
m(長さ)のグラファイト基板を10枚セットした。基
板と基板との距離は5mmとした。基板上には、酸化チ
タン(Ti2O3)粉末触媒を均一に散布した。原料ガス
導入口(上部)とガス排出口(下部)とは対向し、それ
ぞれ5mm(幅)×300mm(奥行き)の矩形とし
た。原料導入管は、外から水冷却した。
が、本発明はかかる実施例により限定されるものではな
い。 実施例1 内径が約23mm、長さ500mmの不透明石英管から
なる小型の熱CVD装置の中央部に、酸化チタン(Ti
2O3)粉末触媒を散布したグラファイト基板をセット
し、アルゴン中で775℃まで加熱した。その後、チオ
フェン不純物を1.51mol%含むアセチレンを30
cc/分、水素を70cc/分、アルゴンを40cc/
分で流し、常圧下で、15分間反応を行った。この時の
全ガスに対するチオフェンの含有量は、0.323mo
l%となる。析出物は0.45g得られ、その中にコイ
ルが0.30g含まれていた。これは、導入した原料ア
セチレン中の炭素量の62モル%(コイル収率62モル
%)に相当する。アセチレン中のチオフェン含有量が上
記値より少しでも減少あるいは増加するとコイル収率は
急激に低下し、0.2モル%以下あるいは8モル%以上
ではコイルは全く析出しなかった。
面酸化したものを触媒とし、他の条件は実施例1と同じ
とした場合、コイル収率は57%であった。この触媒表
面中には、約57at.%の酸素が含有されていた。 実施例3 市販のチタン粉末を予め、空気中850℃で30分間表
面酸化したものを触媒とし、他の条件は実施例1と同じ
とした場合、コイル収率は60%であった。この触媒表
面には、約60at.%の酸素が含有されていた。
い、他の条件は実施例1と同じとした場合、コイル収率
は40%であった。この触媒表面には、約40at.%
の酸素が含有されていた。 比較例1 市販のチタン金属板を予め#120のエメリー紙で研磨
し、その後50℃の濃塩酸中に60分浸して表面の酸化
物層を除去したものを触媒とし、他の条件は実施例1と
同じとした場合、コイルの成長はまったく認められなか
った。
表面酸化したものを触媒とし、他の条件は実施例1と同
じとした場合、コイル収率は65%であった。この触媒
表面には、約45at.%の酸素が含有されていた。 比較例2 市販のニッケル金属板を、予め#120のエメリー紙で
研磨し、その後50〜80℃の濃塩酸中に30〜60分
浸して表面の酸化物層を除去したものを触媒とし、他の
条件は実施例1と同じとした場合、コイルの成長はまっ
たく認められなかった。
とし、チオフェン不純物を1.67mol%含むアセチ
レンを30cc/分、水素を70cc/分、アルゴンを
40cc/分で流して15分間反応を行った。反応温度
とコイル収率との関係を図2に示す。750℃で最高収
率50%が得られ、この温度より低くあるいは高くなる
と、コイル収率は急激に低下した。また、アセチレン中
のチオフェン含有量が上記の値より低下あるいは上昇す
るとコイル収率は急激に低下した。例えば8%では、コ
イルは全く成長しなかった。不純物としてチオフェンを
添加しない場合のコイル収率は35%であった。
実施例1と同じとした場合、コイル収率は35%であっ
た。また、不純物としてチオフェンを添加しない場合の
コイル収率は25%であった。 実施例8 硫化モリブデン(Mo2S3)粉末を触媒とし、他の条件
は実施例1と同じとした場合、コイル収率は45%であ
った。また、不純物としてチオフェンを添加しない場合
のコイル収率は30%であった。
てチオフェンのかわりに三塩化リンを原料アセチレン中
に0.21モル%添加した以外は実施例1と同じとした
場合、コイル収率は45%であった。不純物として三塩
化リンを添加しない場合のコイル収率は30%であっ
た。 実施例10 図1に示した反応器上部の原料ガス導入口から、少量の
チオフェンを含んだアセチレン水素およびアルゴンの混
合ガスを導入し、導入口直下約3mmの位置にセットし
た基板上の触媒と接触させて反応を行った。触媒として
実施例8の硫化モリブデン(Mo2S3)を使用した。基
板温度は750℃、一枚の基板当たりの反応時間は15
分、反応圧力は常圧とした。また、それぞれのガス流量
は、以下の通りとした。チオフェン;50cc/分、水
素1,000cc/分、アルゴン1,500cc/分、
一枚の基板上に2.1gのコイル状炭素繊維が析出し
た。これはコイル収率約50%に相当する。
行った後これを移動し、次の基板を原料ガス導入口直下
に移動して反応を15分間行った。この操作を10枚の
基板について繰り返した。10枚の基板上に析出したコ
イルの総量は、約21.0gであった。これはコイル収
率約50%に相当する。 実施例12 実施例10において原料導入口と基板との距離を5mm
とし、一枚の基板を用い、他の条件は実施例11と同じ
で反応を行った場合、コイル収率は60%であった。
mとし、他の条件は実施例9と同じで反応を行った場
合、コイル収率は20%であった。 比較例3 実施例10において原料導入口と基板との距離を30m
mとし、一枚の基板を用い、他の条件は実施例11と同
じで反応を行った場合、コイルは全く得られなかった。
実施例13に於いて、原料導入口を水冷却しない場合、
コイル収率は20%に低下した。また原料導入口の幅を
実施例13の2倍(10mm)とした場合、コイル収率
は15%に低下した。
することによってコイル状炭素繊維を高収率で得ること
ができ、特に本発明の製造装置を使用すると、容易にス
ケールアップすることができる等の効果を奏する。
の反応温度に対するコイル収率を示す。
排出口 4 無端ベルト 5 触媒 6 内部ヒータ
ー 7 外部ヒーター 8 水冷部
Claims (2)
- 【請求項1】 遷移金属の酸化物、炭化物、硫化物、リ
ン化物、炭酸化物、炭硫化物よりなる群から選ばれた1
種又は複数の触媒の存在下、微量のチオフェンなどの硫
黄系化合物あるいは三塩化リンなどのリン系化合物を含
有するアセチレンガスを600〜850℃の温度範囲で
気相熱分解させることを特徴とするコイル状炭素繊維の
製造方法。 - 【請求項2】 原料ガス導入口と、これに対向する位置
に廃ガス排出口とを有する反応容器内に、無端ベルトを
設け、該無端ベルト上に触媒を塗布した基板あるいは金
属板(触媒兼基板)を設置し、原料ガス導入口より導入
された原料ガス流と基板とがほぼ直交するようにし、且
つ、原料ガス導入口と基板との距離を1〜20mmに保
つようにしたことを特徴とするコイル状炭素繊維製造装
置。
Priority Applications (1)
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JP18606496A JP3817703B2 (ja) | 1996-07-16 | 1996-07-16 | コイル状炭素繊維の製造方法及び製造装置 |
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