JPH1035884A - 基板方向転換装置および基板端縁処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板搬送途中での蛇行や、方向転換時の基板
の位置ずれを防止する。 【解決手段】 上流側の基板端縁処理部２のノズルブロ
ック９，１０で所定処理が施された後に基板方向転換部
３で方向転換し、コロ部材３１で基板１の両端面を挾み
込むようにして基板１を整列させると共に、整列後は両
側のコロ部材３１をガイドにして基板１が搬送されるこ
とで、方向転換時の基板１の位置ずれが補正され、基板
搬送途中の基板１の蛇行もないため、下流側の基板端縁
処理部４の搬送ローラ６の両側の鍔部５に乗り上げたり
蛇行したまま受け渡されたりすることなく、正しい基板
姿勢で搬送ローラ６に受け渡されて下流側の基板端縁処
理部４のノズルブロック９，１０を通過することにな
る。これによって、所定処理済みの両端縁部に直交する
残る両端縁部に対してもノズルブロック９，１０で所定
の処理液が所定位置に正確に供給されて確実なる所定処
理をする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置および液晶表示基板製造装置などに用いられ、特
に、フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カ
ラーフィルタ用の染色剤などの薄膜が表面に形成された
液晶表示器用ガラス基板などの基板を搬送する途中で基
板の方向を所定の方向に転換する基板方向転換装置、お
よび、この基板方向転換装置を用いて角形基板の方向を
転換しつつ、基板の端縁に所定の処理液を供給して上記
薄膜を部分的に取り除くなどの所定の処理を施す基板端
縁処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体装置や液晶表示装置の製造
工程においては、液晶表示器用ガラス基板などの基板上
に、例えば所定のレジスト液を塗布して薄膜を形成した
薄膜形成工程の後、基板の端縁部に付着した不要な薄膜
を処理液で除去する端縁処理が行われている。さらに、
この基板に乾燥処理を施した乾燥工程の後に露光する露
光工程を経て、さらに現像液を供給する現像処理で薄膜
に所定形状のパターンを形成させるパターニングが行わ
れている。

【０００３】このような端縁処理などが行われる従来の
基板端縁処理装置は、基板の表面に乾燥固化したレジス
ト膜などの薄膜を有する基板の端縁に所定の処理液を供
給して所定処理を施していた。

【０００４】例えば、特開平７−１４２３８０号公報に
開示される基板端縁処理装置は、処理液吐出ノズルが設
けられたノズルデッキを、支持台上に装着された基板の
端縁に沿って移動させるようにしているため、露光処理
後の乾燥工程から導出された基板を、端縁処理装置の支
持台に一旦装着し、この支持台上の基板に対してノズル
デッキを移動させることによる端縁処理を施した後、装
着されている基板を支持台から取り外し、次の現像工程
に送り込むという処理を行わなければならず、連続処理
が一旦中断されることで、基板の生産性が低いものにな
っていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような低い生産性
を解消させるべく、本出願人は、図５（ａ）〜図５
（ｄ）に示すような基板端縁処理装置を先の出願で提案
している。

【０００６】図５は、基板方向転換装置が組込まれた基
板端縁処理装置の概略構成を示す斜視図であり、（ａ）
は基板が上流処理域を移動している状態を示し、（ｂ）
は基板方向転換装置上に到達した基板が上昇している状
態を示し、（ｃ）は基板が９０度回動した状態を示し、
（ｄ）は基板が下流処理域を移動している状態を示しい
る。

【０００７】図５（ａ）において、上流側の工程から基
板端縁処理部の上流側処理域５１に送り込まれた基板５
２は、基板５２の短辺側が基板搬送方向に平行になる状
態で、搬送ローラ５３によって基板５２の裏面が支持さ
れて水平に下流側に搬送される。このとき、基板５２の
短辺側の両端縁がそれぞれ、一対のノズルブロック５
４，５５に形成された基板嵌挿溝５６，５７にそれぞれ
嵌挿され、これらの基板嵌挿溝５６，５７内でそれぞれ
供給される処理液によって基板５２の基板端縁部の不要
な薄膜が溶解処理される。このようにして、基板５２の
両端縁部がそれぞれ、ノズルブロック５４の基板嵌挿溝
５６およびノズルブロック５５の基板嵌挿溝５７をそれ
ぞれ通過した時点でその両端縁部の不要な薄膜がそれぞ
れ除去された状態になっている。

【０００８】次に、基板５２が基板方向転換装部５８の
チャック円盤５９上に到達すると、図５（ｂ）に示すよ
うに、基板５２を所定の位置で停止させて、基板５２の
裏面にチャック円盤６５を吸着させた後、基板５２と共
にチャック円盤５９を搬送ローラ６０の上方に位置さ
せ、基板５２と共にチャック円盤５９を９０度回動させ
て基板５２の方向転換をする。その後、基板５２と共に
チャック円盤５９を下降させて、図５（ｃ）に示すよう
に基板５２を搬送ローラ６０上に再び載置する。

【０００９】さらに、図５（ｄ）において、この基板方
向転換部５８から基板端縁処理部の下流側処理域６１の
搬送ローラ６２に搬送ローラ６０で送り込まれた基板５
２は、処理済みの短辺側に直交する長辺側の両端縁部が
それぞれ、上流側処理域５１のノズルブロック５４，５
５と同様に、ノズルブロック６３の基板嵌挿溝６５およ
びノズルブロック６４の基板嵌挿溝６６にそれぞれ嵌挿
されて所定処理が施された後、次の工程に搬送されるこ
とになる。このようにして、基板の端縁処理が迅速に行
われることになる。

【００１０】ところが、上記基板方向転換部５８におけ
る搬送ローラ６０では、長辺と短辺がある角形の基板５
２を方向転換した場合、基板搬送方向に直交する基板５
２の幅寸法が変化するため、基板５２の搬送方向に平行
な両端面をガイドすることができず、基板５２の裏面の
みを支持しつつ基板５２を搬送しているので、搬送途中
で基板５２が蛇行するという問題が発生する。また、基
板方向転換部５８で基板５２を正確に方向転換させるこ
とができず、方向転換した後の基板５２が所定位置より
もずれた場合において、その位置ずれを容易に修正する
ことができないという問題を有していた。さらに、基板
５２を蛇行や位置ずれした状態で搬送ローラ６０で搬送
して、下流側処理域６１の搬送ローラ６２上に乗り上げ
たり蛇行や位置ずれしたまま搬送ローラ６２に基板５２
を受け渡すと、基板５２の両端縁部の所定位置に処理液
を供給することができず確実なる処理を施すことができ
ないという問題を有していた。

【００１１】本発明は、上記問題を解決するもので、基
板搬送途中での蛇行や、方向転換時の基板の位置ずれを
補正することができる基板方向転換装置を提供すること
を目的とする。

【００１２】また、本発明は、上記問題を解決するもの
で、基板搬送途中での蛇行や、方向転換時の基板の位置
ずれがない基板方向転換装置を用いることで、基板の端
縁部に所定の処理液を正確に供給して確実なる所定処理
を施すことができる基板端縁処理装置を提供することを
目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の基板方向転換装
置は、角形の基板を搬送する途中で前記基板の方向を所
定の角度だけ転換する基板方向転換装置において、基板
搬送経路を介して対向してそれぞれ配設され、基板搬送
経路に対して進退自在に構成された基板整列部材を有
し、この基板整列部材は、基板方向転換後に、基板の搬
送方向と平行な基板の両端面を外側から挾み込むように
移動すると共に、その後の基板搬送時にも、この状態を
維持する構成としたことを特徴とするものである。

【００１４】この構成により、基板方向転換後に基板を
外側から挾み込むように整列させるので、方向転換時の
基板の位置ずれが補正される。また、その後の基板搬送
時にもこの基板整列状態を維持するようにガイドするの
で、基板搬送途中での基板の蛇行が防止可能となる。

【００１５】また、本発明の基板方向転換装置は、角形
の基板を搬送する途中で基板の方向を所定の角度だけ転
換する基板方向転換装置において、搬送されてくる基板
を基板方向転換位置で停止させる基板停止部材と、この
基板方向転換位置で停止した基板を保持する基板保持手
段と、この基板保持手段で保持する下方位置と上方位置
との間で基板保持手段を昇降する基板昇降部材と、上方
位置で基板保持手段を所定角度だけ回動させる基板回動
部材と、この基板回動部材によって回動させられ基板昇
降部材で下方位置に戻された基板を、基板搬送方向と平
行な両端面を外側から挾み込むようにして整列させると
共に、その後の基板搬送時にも、基板の整列状態を維持
する基板整列部材とを有することを特徴とするものであ
る。

【００１６】この構成により、基板方向転換位置で停止
した基板を基板保持手段で保持して基板昇降部材で上昇
させ、基板回動部材で基板保持手段と共に基板を所定角
度だけ回動させた後に基板昇降部材で下降させること
で、スムーズな基板の方向転換が可能となる。この基板
の方向転換時に位置ずれが生じたとしても、方向転換後
に下方位置に戻された基板を基板整列部材で外側から挾
み込むようにして整列させるので、方向転換時の基板の
位置ずれが補正される。また、その後の基板搬送時にも
この整列状態を維持してガイドするので、基板搬送途中
での基板の蛇行が防止可能となる。

【００１７】また、好ましくは、本発明の基板方向転換
装置における基板整列部材は、基板搬送経路を介して対
向してそれぞれ配設され、鉛直軸回りに回転自在なコロ
部材、および、基板を受入れ可能な基板待機位置と前記
基板を挾み込む基板整列位置との間で基板搬送方向に直
角な方向に前記コロ部材を移動させる移動部材を有して
いることを特徴とする。

【００１８】この構成により、鉛直軸回りに回転自在な
コロ部材で基板の両端面を挾み込むようにして整列させ
ると共に、整列後は両側のコロ部材を基板の両端面のガ
イドにして基板が蛇行することなく搬送される。したが
って、基板の端面とコロ部材が擦れるように力が働いて
もコロ部材が回転するので、基板の端面とコロ部材は擦
れることなく基板の搬送がスムーズになると共にパーテ
ィクルの発生もなくなる。

【００１９】次に、本発明の基板端縁処理装置は、基板
の端縁に所定の処理液を供給して所定の処理を施す基板
端縁処理部材が基板搬送経路の上流側と下流側に配設さ
れ、上流側と下流側の基板端縁処理部材の間に、基板の
方向を所定の角度だけ転換する方向転換部材と、基板の
搬送方向と平行な基板の両端面を外側から挾み込むよう
にして基板を整列させると共に、その後の基板搬送時に
も、基板の整列状態を維持する基板整列部材とが配設さ
れていることを特徴とするものである。

【００２０】この構成により、上流側の基板端縁処理部
材で基板の両端縁部に所定の処理液が供給されて所定処
理が施された後に基板の方向を所定の角度だけ転換し、
基板整列部材で基板の両端面を挾み込むようにして整列
させると共に、整列後は両側の基板整列部材をガイドに
して基板が搬送されることで、方向転換時の基板の位置
ずれがなく、基板搬送途中での蛇行がないので、正しい
基板姿勢で下流側の基板端縁処理部材に受け渡すことが
可能となって、所定処理が施された両端縁部に直交する
両端縁部に対して下流側の基板端縁処理部材で所定の処
理液が所定位置に正確に供給されて確実なる所定処理が
なされる。

【００２１】また、本発明の基板端縁処理装置は、基板
の端縁に所定の処理液を供給して所定の処理を施す基板
端縁処理装置において、基板を支持しつつ基板を両側の
鍔で幅方向に規制して搬送する第１搬送ローラと、この
第１搬送ローラで搬送される基板の搬送方向と平行な基
板の両端縁部に処理液をそれぞれ供給する第１処理液供
給部材と、この第１処理液供給部材を通過して搬送され
てくる基板を基板方向転換位置で停止させる基板停止部
材と、この基板方向転換位置で停止した基板を保持する
基板保持手段と、この基板保持手段で保持する下方位置
と上方位置との間で基板を昇降させる基板昇降部材と、
上方位置で基板保持手段を所定角度だけ回動させる基板
回動部材と、この基板回動部材によって回動させられ基
板昇降部材で下方位置に戻された基板を、基板搬送方向
と平行な両端面を外側から挾み込むようにして整列させ
ると共に、その後の基板搬送時にも、基板の整列状態を
維持する基板整列部材と、この基板整列部材を通過して
搬送されてくる基板を支持しつつ基板を両側の鍔で幅方
向に規制して搬送する第２搬送ローラと、この第２搬送
ローラで搬送される基板の搬送方向と平行な基板の両端
縁部に処理液をそれぞれ供給する第２処理液供給部材と
を有することを特徴とするものである。

【００２２】この構成により、上流側の基板端縁処理部
材で基板の両端縁部に所定の処理液が供給されて所定処
理が施された後に基板の方向を所定の角度だけ転換し、
基板整列部材で基板の両端面を挾み込むようにして整列
させると共に、整列後は両側の基板整列部材をガイドに
して基板が搬送されることで、方向転換時の基板の位置
ずれがなく、基板搬送途中での蛇行がないので、第２搬
送ローラへの受渡し時に第２搬送ローラの両側の鍔に乗
り上げたり、また、傾いた基板姿勢のまま受け渡された
りすることなく、正しい基板姿勢で第２搬送ローラの両
側の鍔に受け渡されて下流側の基板端縁処理部材を通過
することになる。したがって、所定処理済みの両端縁部
に直交する両端縁部に対して下流側の基板端縁処理部材
で所定の処理液が所定位置に正確に供給されて確実なる
所定処理がなされることになる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板方向転換
装置を有する基板端縁処理装置の実施形態について図面
を参照して説明する。

【００２４】図１は本発明の一実施形態における基板方
向転換装置を有する基板端縁処理装置の構成を示す平面
図であり、図２は図１の基板端縁処理装置のＡ−Ａ断面
図であり、図３は図１のノズルブロックの構成例を示す
断面図であり、図４は、図１の基板端縁処理装置におけ
る各種センサの検知後の動作を示す要部の平面図であっ
て、（ａ）は基板が上流処理域を移動している状態を示
す図、（ｂ）は基板方向転換装置上に到達した基板が減
速処理される状態を示す図、（ｃ）は基板方向転換装置
上の所定位置に基板が到達した状態を示す図、（ｄ）は
基板が９０度回動した状態を示す図、（ｅ）は上流側の
基板が基板方向転換部に入ってきた状態を示す図であ
る。

【００２５】図１〜図４において、基板１の搬送方向Ｂ
に平行な長辺側の両端縁に所定の処理を施す上流側の端
縁処理部２と、この端縁処理部２で処理された基板１が
搬送されて来る途中で基板１の方向を所定の角度（本実
施形態では９０度）だけ転換する基板方向転換部３と、
この基板方向転換部３で方向転換されて搬送されて来る
基板１の搬送方向に平行な短辺側の両端縁に所定の処理
を施す下流側の端縁処理部４とがこの順にそれぞれ配設
されている。ここで、所定の処理とは、基板１の端縁に
形成された不要なレジスト膜を有機溶剤などの処理液で
除去する基板端縁洗浄処理や、現像工程に先立って基板
１の端縁に形成されたレジスト膜に予め現像液を供給し
て現像を促進させる現像促進処理などである。

【００２６】この上流側の端縁処理部２には、左右位置
にそれぞれ配設されると共に、搬送方向Ｂに直角な方向
に所定ピッチ毎にそれぞれ配設され、基板１の裏面を支
持しつつ基板１を一方端の鍔部５で両側から幅方向に規
制して搬送する複数の搬送ローラ６と、これらの搬送ロ
ーラ６の他方端部にそれぞれ巻回され、駆動モータ７か
らの駆動力を各搬送ローラ６に伝達するベルト８と、こ
れらの搬送ローラ６で水平に搬送されてくる基板１の搬
送方向Ｂと平行な基板１の長辺側の両端縁部に処理液を
それぞれ供給する第１処理液供給部材としての一対のノ
ズルブロック９，１０とが配設されている。この一対の
ノズルブロック９，１０には、図３に示すように基板１
の長辺側の両端縁が嵌挿され得る基板嵌挿溝１１が形成
されている。これらの基板嵌挿溝１１内にはそれぞれ上
下位置に処理液ノズル１２，１３が配設され、処理液ノ
ズル１２，１３から基板１の端縁部に所定の処理液が供
給される。また、この基板嵌挿溝１１内にはそれぞれ上
下位置に気体ノズル１４，１５が外方に向けて配設さ
れ、気体ノズル１４，１５からの気体の噴射で処理液が
外方に吹き飛ばされるように構成されている。さらに、
これらの基板嵌挿溝１１の内部奥側には、噴射された気
体と共に吹き飛ばされた処理液などを吸引して排気する
排気路１６が配設されている。なお、所定の処理が基板
端縁洗浄処理ではなく現像促進処理の場合には、上記気
体ノズル１４，１５はなくてもよい。

【００２７】また、基板方向転換部３には、基板１の裏
面を支持して搬送する複数の搬送ローラ１７がそれぞ
れ、搬送経路の中央部を除く左右部にそれぞれ、所定の
ピッチ毎に基板搬送方向に直交する方向に平行に配設さ
れており、これらの搬送ローラ１７の他方端部にそれぞ
れ巻回され、駆動モータ１８からの駆動力を各搬送ロー
ラ１７に伝達するベルト１９が配設されている。また、
この搬送経路の中央部には基板方向転換装置２０が配設
されており、この基板方向転換装置２０は、基板方向転
換位置で停止した基板１を保持する基板保持部材として
のチャック円盤２１と、このチャック円盤２１の下方中
心部に設けられた回動軸２２を介して連結されチャック
円盤２１を所定角度（ここでは９０度）だけ回動させる
ロータリーアクチュエータ（シリンダ）などよりなる基
板回動部材２３と、この基板回動部材２３をベース部材
２４上に載置すると共に、このベース部材２４を基板回
動部材２３およびチャック円盤２１と一緒に昇降させる
基板昇降部材としてのエアーシリンダ２５とを有してい
る。

【００２８】このエアーシリンダ２５は取付部材２６に
固定されており、支柱部材２７を介してベース部材２４
と平行に配設された駆動部材２８の中央部にそのシリン
ダロッドが固定されている。また、この駆動部材２８に
は、シリンダロッドが固定された中央部から等距離にガ
イド部材２９，２９がそれぞれ上端が固定されて垂下さ
れており、これらのガイド部材２９，２９はそれぞれ、
取付部材２６に配設された案内部材３０の摺動孔をそれ
ぞれ貫通して駆動部材２８が上下方向に移動可能にガイ
ドされている。

【００２９】さらに、チャック円盤２１を挾んで対向す
るように基板整列部材としてのコロ部材３１がそれぞ
れ、基板搬送方向に平行な方向に２個ずつ板部材３２上
に立設されている。このコロ部材３１は、鉛直軸を中心
として回動自在な円筒部材が設けられており、この円筒
部材の外周面で基板１を両側から挾み込んで整列させる
構成となっている。この板部材３２が連結された整列機
構部３３はレール部材３４に案内されて基板搬送方向と
直交する方向に進退自在に構成されている。この整列機
構部３３にシリンダロッドの先端部が固定されたエアー
シリンダ３５はそれぞれ、整列機構部３３を板部材３２
およびコロ部材３１と共に整列位置Ｃと待機位置Ｄとの
間を進退させる構成であり、基板１の搬送方向と平行な
両端面を外側から挾み込むようにして整列させると共
に、その後の基板搬送時にも、基板１の両端面を外側か
ら挾み込む基板整列状態を維持する構成となっている。
この場合の整列位置Ｃとは、基板方向転換後に基板１が
位置ずれしたとしても、基板１を基板搬送方向に直交す
る方向の両側からコロ部材３１で押圧することによって
基板１を所定の方向に整列させる位置である。このと
き、エアーシリンダ３５のロッドが最大限延びたときに
コロ部材３１と基板１の端面とが約１ｍｍ程度の間隙を
有するように構成されており、このエアーシリンダ３５
の力で基板１が損傷するようなことがないようになって
いる。また、コロ部材３１と基板１の端面とが当接した
としても基板１の搬送に伴ってコロ部材３１の円筒部材
が回転してガイドするので、基板搬送がスムーズになる
と共に、互いの擦れによるパーティクルの発生を抑える
ことができる。また、待機位置Ｄとは、コロ部材３１と
基板１の端面とが互いに干渉しない程度の間隔だけ離間
して対向している位置である。

【００３０】さらに、チャック円盤２１の上流側には、
図４（ｄ）に示すように方向転換後に下降して来た基板
１ａを検知して、コロ部材３１による基板１ａの整列を
開始する開始タイミングとすると共に、図４（ｅ）に示
すように基板１ｂの下流側の端縁部が搬送されて来たこ
とを検知して、コロ部材３１による基板搬送時の基板１
ａのガイド状態を解除する解除タイミングとする入検知
センサ３６が配設されている。また、チャック円盤２１
の下流側には、図４（ｂ）に示すように基板１ａの下流
側の端縁部が搬送されてきたことを検知すると共に、こ
の検知タイミングで駆動モータ１８の回転速度を制御し
て基板搬送速度を減速させる減速センサ３７が配設され
ている。この減速センサ３７のさらに下流側には、図４
（ｃ）に示すように基板１ａの下流側の端縁部が搬送さ
れてきたことを検知すると共に、この検知タイミングで
駆動モータ１８の回転を停止させて基板１ａを所定の基
板方向転換位置で停止させ、かつ基板方向転換装置２０
による方向転換を開始する開始タイミングとする基板停
止部材としての停止センサ３８が配設されている。以上
の減速センサ３７の検知タイミングによる駆動モータ１
８の減速制御、停止センサ３８の検知タイミングによる
駆動モータ１８の停止制御、入検知センサ３６によるコ
ロ部材３１の基板ガイド解除制御、入検知センサ３６に
よるコロ部材３１の基板整列開始制御、チャック円盤２
１による基板保持制御、エアーシリンダ２５による基板
昇降制御、基板回動部材２３による基板回動制御、さら
には、エアーシリンダ３５による基板整列およびガイド
制御は、図示しない制御手段によって順次行われてい
る。

【００３１】この下流側の端縁処理部４には、上流側の
端縁処理部２と同様に、複数の搬送ローラ６で水平に搬
送されてくる基板１の搬送方向Ｂと平行な基板１の短辺
側の両端縁部に処理液をそれぞれ供給する第２処理液供
給部材としての一対のノズルブロック９，１０が配設さ
れている。この端縁処理部４における一対のノズルブロ
ック９，１０の構成も、上流側の端縁処理部２の場合と
同様である。

【００３２】上記構成により、図４（ａ）に示すように
上流側の工程から上流側の基板端縁処理部２に基板１
ａ，１ｂが順次搬送されて来る。この基板端縁処理部２
に送り込まれてきた基板１ａは、基板１ａの長辺側が基
板搬送方向Ｂに平行になる状態で、搬送ローラ６によっ
て基板１ａの裏面が支持されて水平に搬送される。この
とき、基板１ａの長辺側の両端縁がそれぞれ、一対のノ
ズルブロック９，１０に形成された基板嵌挿溝１１，１
１にそれぞれ嵌挿され、これらの基板嵌挿溝１１，１１
にそれぞれ配設された上下の処理液ノズル１２，１３か
ら供給される処理液によって基板１上の薄膜３９のうち
基板端縁部の不要な薄膜が溶解処理される。また、この
薄膜を溶解した処理液は、上下の気体ノズル１４，１５
からの気体の噴射によって基板１の外方（図３の左側）
に吹き飛ばされて、排気路１６内に吸引されることにな
る。このようにして、基板１の両端縁部がノズルブロッ
ク９の基板嵌挿溝１１およびノズルブロック１０の基板
嵌挿溝１１をそれぞれ通過した時点で両端縁部の不要な
薄膜が除去された状態になっている。なお、上記のよう
に所定の処理が基板端縁洗浄処理ではなく現像促進処理
の場合には、基板１ａが、一対のノズルブロック９，１
０に形成された基板嵌挿溝１１，１１にそれぞれ嵌挿さ
れ、これらの基板嵌挿溝１１，１１にそれぞれ配設され
た上下の処理液ノズル１２，１３から基板１ａの両端縁
上に供給された処理液としての現像液によって現像が促
進されることになる。

【００３３】次に、この基板１ａが基板方向転換装部３
に搬送されて来る。このとき、チャック円盤２１の上流
側にある入検知センサ３６は、基板１の端縁部がここに
搬送されて来たことを検知すると共に、この検知タイミ
ングで、後述するが、コロ部材３１による基板搬送時の
基板ガイド状態を解除する。さらに、チャック円盤２１
の下流側にある減速センサ３７は、図４（ｂ）に示すよ
うに基板１ａの下流側の端縁部がここに搬送されてきた
ことを検知すると共に、この検知タイミングで駆動モー
タ１８の回転速度を落して基板１ａの搬送速度を減速さ
せる。さらに、この減速センサ３７のさらに下流側にあ
る停止センサ３８は、図４（ｃ）に示すように基板１ａ
の下流側の端縁部が搬送されて来たことを検知すると共
に、この検知タイミングで駆動モータ１８の回転を停止
することで基板１ａを所定の基板方向転換位置で停止さ
せる。このように、基板１ａがチャック円盤２１上の中
央部に到達すると、その位置で基板１ａを停止させて、
チャック円盤２１を昇降用のシリンダ２５によって上昇
させつつ、基板１ａの裏面をチャック円盤２１に吸着さ
せる。その後、基板１ａと共にチャック円盤２１を昇降
用のシリンダ２５によって搬送ローラ１７の上方位置に
移動させ、基板回動部材２３で基板１ａと共にチャック
円盤２１を９０度回動させて基板１ａの方向を転換す
る。その後、図４（ｄ）に示すように昇降用のエアーシ
リンダ２５によって、方向転換された基板１ａと共にチ
ャック円盤２１を下降させて、基板１ａを搬送ローラ１
７上に再び載置する。

【００３４】このとき、入検知センサ３６は、方向転換
後に下降して来た基板１ａを検知して、コロ部材３１に
よる基板１ａの整列を開始する開始タイミングとする。
即ち、基板１ａの方向転換さらに搬送ローラ１７上への
基板１ａの載置が完了するまで両側のコロ部材３１は開
状態のままである。この開始タイミングによって、基板
搬送方向Ｂに平行な基板１ａの両端面を両側からコロ部
材３１で挾み込むように、位置ずれを補正すべく所定距
離だけ接近させて基板１ａを整列させる。その後、コロ
部材３１で両側からガイドした状態を維持しつつ基板１
ａを搬送ローラ１７でその裏面を支持して搬送する。

【００３５】さらに、図４（ｅ）に示すように、この基
板方向転換部３から下流側処理域に搬送ローラ１７で送
り込まれる基板１ａは、コロ部材３１で両側から規制さ
れてガイドされた状態で下流側処理域の搬送ローラ６に
正しい基板姿勢で受け渡されることになる。その後、基
板１ａの長辺側に直交する短辺側の両端縁部がそれぞ
れ、上流側処理域のノズルブロック９，１０と同様に、
下流側処理域の一対のノズルブロック９，１０の基板嵌
挿溝１１にそれぞれ嵌挿されて、ここで所定処理が施さ
れた後、次の工程に搬送されることになる。また、この
とき、図４（ｅ）に示すように、この基板１ａよりも上
流側に位置する基板１ｂの下流側の端縁部が入検知セン
サ３６の上方に達すると、この入検知センサ３６がこれ
を検出するタイミングで、コロ部材３１による基板搬送
時の基板ガイド状態を解除して両側のコロ部材３１が基
板１ｂを受入れ可能に開いて基板待機状態とする。

【００３６】したがって、上流側の基板端縁処理部２の
ノズルブロック９，１０で基板１ａの搬送方向Ｂに平行
な両端縁部にそれぞれ所定の処理液が供給されて所定処
理が施された後に基板方向転換部３で方向転換し、コロ
部材３１で基板１ａの両端面を挾み込むようにして整列
させると共に、整列後は両側のコロ部材３１をガイドに
して基板１ａが搬送されることで、方向転換時の基板１
ａの位置ずれが補正され、基板搬送途中の基板１ａの蛇
行もないため、下流側の基板端縁処理部４の搬送ローラ
６の両側の鍔部５に乗り上げたり蛇行したまま受け渡さ
れたりすることなく、正しい基板姿勢で搬送ローラ６に
受け渡されて下流側の基板端縁処理部４のノズルブロッ
ク９，１０をその両端縁部がそれぞれ通過することにな
る。これによって、所定処理済みの両端縁部に直交する
残る両端縁部に対してもノズルブロック９，１０で所定
の処理液が所定位置に正確に供給されて確実なる所定処
理をすることができる。

【００３７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板方向
転換後に基板を外側から挾み込むようにして整列させる
ため、方向転換時の基板の位置ずれを補正することがで
きる。また、その後の基板搬送時にも両側の基板整列部
材をガイドとするため、基板搬送途中での基板の蛇行を
防止することができる。

【００３８】また、基板方向転換位置で停止した基板を
保持して上昇させ、基板を所定角度だけ回動させた後に
下降させて元の搬送位置である下方位置に戻すようにし
ているため、スムーズな基板の方向転換をすることがで
きる。この基板方向転換時に位置ずれが生じても、方向
転換後に下方位置に戻された基板を基板整列部材で外側
から挾み込むようにして整列させるため、方向転換時の
基板の位置ずれを補正することができる。また、その後
の基板搬送時にもこのガイド状態を維持しているため、
基板搬送途中での蛇行を防止することができる。

【００３９】さらに、基板整列部材の基板との当接部を
コロ部材で構成すれば、基板の端面とコロ部材が擦れて
もコロ部材が回転するため、基板搬送をスムーズにする
ことができると共にパーティクルの発生を防止すること
ができる。

【００４０】さらに、上流側の基板端縁処理部材で基板
の両端縁部に所定の処理液が供給されて所定処理が施さ
れた後に方向転換され、基板整列部材で基板の両端面を
挾み込むようにして整列させると共に、整列後は両側の
基板整列部材をガイドにして基板が蛇行することなく搬
送されることで、方向転換時の基板の位置ずれがなく、
基板搬送途中での蛇行がないため、正しい基板姿勢で下
流側の基板端縁処理部材に受け渡すことができて、所定
処理が施された両端縁部に直交する両端縁部に対して下
流側の基板端縁処理部材で所定の処理液が所定位置に正
確に供給されて確実なる所定処理をすることができる。

【００４１】さらに、上流側の基板端縁処理部材で基板
の両端縁部に所定の処理液が供給されて所定処理が施さ
れた後に方向転換され、基板整列部材で基板の両端面を
挾み込むようにして整列させると共に、整列後は両側の
基板整列部材をガイドにして基板が蛇行することなく搬
送されることで、方向転換時の基板の位置ずれがなく、
基板搬送途中での蛇行がないため、第２搬送ローラの両
側の鍔に乗り上げたり蛇行したまま受け渡されたりする
ことなく、正しい基板姿勢で第２搬送ローラに受け渡さ
れて下流側の基板端縁処理部材を通過することになっ
て、所定処理が施された両端縁部に直交する両端縁部に
対して下流側の基板端縁処理部材で所定の処理液が所定
位置に正確に供給されて確実なる所定処理をすることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における基板方向転換装置
を有する基板端縁処理装置の構成を示す平面図である。

【図２】図１の基板端縁処理装置のＡ−Ａ断面図であ
る。

【図３】図１のノズルブロックの構成例を示す断面図で
ある。

【図４】図１の基板端縁処理装置における各種センサの
検知後の動作を示す要部の平面図であって、（ａ）は基
板が上流処理域を移動している状態を示す図、（ｂ）は
基板方向転換装置上に到達した基板が減速処理される状
態を示す図、（ｃ）は基板方向転換装置上の所定位置に
基板が到達した状態を示す図、（ｄ）は基板が９０度回
動した状態を示す図、（ｅ）は上流側の基板が基板方向
転換部に入ってきた状態を示す図である。

【図５】基板方向転換装置が組込まれた基板端縁処理装
置の概略構成を示す斜視図であり、（ａ）は基板が上流
処理域を移動している状態を示す図、（ｂ）は基板方向
転換装置上に到達した基板が上昇している状態を示す
図、（ｃ）は基板が９０度回動した状態を示す図、
（ｄ）は基板が下流処理域を移動している状態を示す図
である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 上流側端縁処理部 ３ 基板方向転換部 ４ 下流側端縁処理部 ６ 搬送ローラ ９，１０ ノズルブロック １１ 基板嵌挿溝 １２，１３ 処理液ノズル １７ 搬送ローラ ２０ 基板方向転換装置 ２１ チャック円盤 ２３ 基板回動部材 ２５ エアーシリンダ（基板昇降部材） ３１ コロ部材 ３５ エアーシリンダ ３６ 入検知センサ ３７ 減速センサ ３８ 停止センサ ３９，３９ａ 薄膜 Ｂ 搬送方向 Ｃ 整列位置 Ｄ 待機位置

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 角形の基板を搬送する途中で前記基板の
   方向を所定の角度だけ転換する基板方向転換装置におい
   て、 基板搬送経路を介してそれぞれ配設され、前記基板搬送
   経路に対して進退自在に構成された基板整列部材を有
   し、この基板整列部材は、基板方向転換後に、前記基板
   の搬送方向と平行な前記基板の両端面を外側から挾み込
   むように移動すると共に、その後の基板搬送時にも、こ
   の状態を維持する構成としたことを特徴とする基板方向
   転換装置。
2. 【請求項２】 角形の基板を搬送する途中で前記基板の
   方向を所定の角度だけ転換する基板方向転換装置におい
   て、 搬送されてくる前記基板を基板方向転換位置で停止させ
   る基板停止部材と、この基板方向転換位置で停止した基
   板を保持する基板保持手段と、この基板保持手段で保持
   する下方位置と上方位置との間で前記基板保持手段を昇
   降する基板昇降部材と、前記上方位置で前記基板保持手
   段を所定角度だけ回動させる基板回動部材と、この基板
   回動部材によって回動させられ前記基板昇降部材で前記
   下方位置に戻された基板を、基板搬送方向と平行な両端
   面を外側から挾み込むようにして整列させると共に、そ
   の後の基板搬送時にも、前記基板の整列状態を維持する
   基板整列部材とを有することを特徴とする基板方向転換
   装置。
3. 【請求項３】 前記基板整列部材は、基板搬送経路を介
   してそれぞれ配設され、鉛直軸回りに回転自在なコロ部
   材、および、基板を受入れ可能な基板待機位置と前記基
   板を挾み込む基板整列位置との間で基板搬送方向に直角
   な方向に前記コロ部材を移動させる移動部材を有してい
   ることを特徴とする請求項１または２記載の基板方向転
   換装置。
4. 【請求項４】 基板の端縁に所定の処理液を供給して所
   定の処理を施す基板端縁処理部材が基板搬送経路の上流
   側と下流側に配設され、 前記上流側と下流側の基板端縁処理部材の間に、前記基
   板の方向を所定の角度だけ転換する方向転換部材と、前
   記基板の搬送方向と平行な前記基板の両端面を外側から
   挾み込むようにして前記基板を整列させると共に、その
   後の基板搬送時にも、前記基板の整列状態を維持する基
   板整列部材とが配設されていることを特徴とする基板端
   縁処理装置。
5. 【請求項５】 基板の端縁に所定の処理液を供給して所
   定の処理を施す基板端縁処理装置において、 前記基板を支持しつつ前記基板を両側の鍔で幅方向に規
   制して搬送する第１搬送ローラと、この第１搬送ローラ
   で搬送される前記基板の搬送方向と平行な前記基板の両
   端縁部に処理液をそれぞれ供給する第１処理液供給部材
   と、 この第１処理液供給部材を通過して搬送されてくる前記
   基板を基板方向転換位置で停止させる基板停止部材と、
   この基板方向転換位置で停止した基板を保持する基板保
   持手段と、この基板保持手段で保持する下方位置と上方
   位置との間で前記基板を昇降させる基板昇降部材と、前
   記上方位置で前記基板保持手段を所定角度だけ回動させ
   る基板回動部材と、この基板回動部材によって回動させ
   られ前記基板昇降部材で前記下方位置に戻された基板
   を、基板搬送方向と平行な両端面を外側から挾み込むよ
   うにして整列させると共に、その後の基板搬送時にも、
   前記基板の整列状態を維持する基板整列部材と、 この基板整列部材を通過して搬送されてくる前記基板を
   支持しつつ前記基板を両側の鍔で幅方向に規制して搬送
   する第２搬送ローラと、この第２搬送ローラで搬送され
   る前記基板の搬送方向と平行な前記基板の両端縁部に処
   理液をそれぞれ供給する第２処理液供給部材と、 を有することを特徴とする基板端縁処理装置。